真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册

真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册
真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册

《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》作者:李云奇

出版社:化学工业出版

开本:16开精装

册数:全三册 +1张光盘

定价:798 元

优惠价:360 元

《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》目录

第一篇真空镀膜技术概论

第一章真空镀膜技术及其应用

第二章真空镀膜基础知识

第三章真空镀膜常用塑料

第四章真空镀膜常用涂料

第二篇真空技术

第一章真空基本知识

第二章真空泵

第三章真空系统

第四章真空测量

第五章真空检漏

第三篇真空镀膜材料

第一章薄膜材料的基本理论和特性

第二章金属薄膜材料

第三章介质和半导体薄膜材料

第四章光学性能可变换的薄膜材料

第四篇真空蒸发镀膜技术

第一章真空蒸发镀膜原理

第二章蒸发源

第三章蒸发源的蒸发特性及其膜厚分布第四章某些特定材料的蒸发技术

第五章间歇式真空蒸发镀膜机

第六章半连续式真空蒸发镀膜机

第五篇真空溅射镀膜技术

第一章溅射技术

第二章直流溅射镀膜

第三章磁控溅射镀膜

第四章射频溅射镀膜

第五章反应溅射镀膜

第六章磁场计算

第七章水冷系统的设计与计算

第八章膜厚均匀度

第六篇真空离子镀膜和束流沉积技术第一章真空离子镀膜

第二章离子束沉积技术

第三章分子束外延技术

第七篇化学气相沉积技术

第一章化学气相沉积技术概论

第二章化学气相沉积方法

第三章低压化学气相沉积技术

第四章等离子增强化学气相沉积技术第五章其它化学气相沉积法

第八篇真空离子注入技术

第一章真空离子注入技术概论

第二章几种离子注入的新方法

第三章离子注入装置

第四章离子注入及离子束混合的应用第九篇薄膜微细加工技术

第一章薄膜微细加工技术概论

第二章离子束刻蚀

第三章t糠酸溅射刻蚀

第四章等离子体反应刻蚀

第五章反应离子刻蚀

第十篇薄膜厚度的测量与监控

第一章电学测量法

第二章光学测量法

第三章机械测量法

第十一篇真空镀膜设备设计安装与操作维护

第一章真空镀膜设备构件设计

第二章卷绕式真空镀膜机

第三章间歇式真空镀膜机

第四章真空镀膜设备安装调试与操作维修

第十二篇真空镀膜技术在塑料薄膜和制成品上的应用第一章真空镀膜技术在塑料薄膜上的应用

第二章真空镀膜技术在塑料成型品上应用

PVD真空镀膜设备行业分析

目录 (一)PVD真空镀膜技术 (1) (二)真空镀膜技术具体应用领域 (2) (三)行业现状分析 (4) (四)行业市场表现分析 (5) (五)行业竞争格局分析 (6) (六)行业与上下游的关系 (6) (七)行业周期性、区域性、季节性特征 (9) (八)进入本行业的主要障碍 (9) (九)影响行业发展的有利因素和不利因素 (10) (十)行业发展方向 (11) (十一)总结 (12)

PVD真空镀膜机设备行业分析

(一)PVD真空镀膜技术 PVD真空镀膜技术,PVD是Physical Vapor Deposition的缩写,意思是“物理气相沉积”,指在真空条件下,用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜,三种主要的真空镀膜技术可以满足常生产、生活领域的所有常见基材(塑料、玻璃、金属、薄膜、陶瓷等)的镀膜需要。近十多年来,真空离子镀技术发展最快,已经成为当代最先进的表面处理方法之一。 PVD镀膜技术种类表 类型介绍 蒸发镀膜加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 溅射镀膜利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。 离子镀膜离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术,将各种气体放电方式引入到气相沉积领域,整个气相沉积过程都是在等离 子体中进行。 其他如真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术,以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。 需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材,基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。溅射类镀膜,可以理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术,将各种气体放电方式引入到气相沉积领域,整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量,可以获得更优异性能的膜层,扩大了“薄膜”的应用领域,是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲,离子镀膜的特点是:镀膜时,工件(基片)带负偏压,工件始终受高能离子的轰击,形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕

设备维护保养工作规程范文

设备维护保养工作规程 第1章总则 第1条为规范公司设备维护保养的管理行为,确保设备的长期平稳运行,并延长设备的使用寿命,特制定本规程。 第2条本规程适用于对公司所有设备进行维护保养时的相关事宜。 第2章设备维护保养职责 第3条公司设备的维护保养所涉及到的主要人员为设备管理员、设备保养专员与设备操作人员。 第4条设备管理员的职责如下。 (1)根据相关资料制订设备维护保养计划。 (2)培训设备操作人员设备维护保养方面的知识。 (3)监督设备维护保养计划的落实与执行。 (4)定期检查设备的维护保养工作并进行评比。 第5条设备保养专员的职责如下。 (1)掌握设备的运行状况。 (2)负责设备的二级维护保养工作。 (3)督导设备操作人员的设备维护保养工作。 (4)检查设备的维护保养记录,并定期收集、整理、分析。 (5)负责备用设备的维护保养工作。 第6条设备操作人员的职责如下。 (1)严格执行设备的操作规范,做好设备维护保养的记录。 (2)负责设备的清理、清扫工作。 (3)监测设备的运行,发现问题应及时上报。 第3章设备维护保养的准备工作 第7条设备管理员应编制维护保养方案,将设备的保养工作落实到具体的人员,并制定相应的考核方案。 第8条设备保养专员应提前制作好设备的各种维护保养记录表单,并准备好设备养护的工具及用品。 第9条设备维护保养人员应在设备的周边制作设备维护保养看板,看板上应有设备维护保养的基本要点及程序示意图。

第10条设备管理员应在操作人员上岗前对其进行技术培训,使其掌握设备的结构、性能、操作、保养规定等,达到“三懂”(懂结构、懂原理、懂性能)、“四会”(会使用、会检查、会维护、会排除故障)的要求。 第11条在设备使用前,设备保养维护人员应会同设备维修人员及技术部相关人员对设备的精度、性能、安全、控制等进行全面的检查与核对,确保无误后方可进行使用。 第12条设备操作人员在上岗前必须取得上岗证,确定岗位的同时需要确定所操作的设备,不得随意调换。 第4章设备维护保养实施 第13条设备保养的日常工作由设备操作人员负责,设备操作人员必须按照设备的保养规范进行设备的维护保养工作。 第14条每日下班前,设备操作人员应详细填写设备完整的维护保养记录,并说明设备的运行状况,此项工作由设备保养专员对其进行检查。 第15条设备保养专员应定期收集设备的维护保养资料,并进行整理、分析,编制设备维修保养报告。 第16条设备管理员应认真审阅设备维修保养报告,检查设备的维护保养记录,根据记录在必要时更改设备的维修保养规范,使设备的维护保养方式更加合理化。 第5章设备维护保养规范 第17条设备的维护保养分为日常维护保养、一级维护保养与二级维护保养三个级别。其中日常维护保养又分为每班保养与节假日保养。 第18条设备的每班保养的规范。 (1)设备操作者在上班前应对设备进行点检,查看有无异状并检查上个班组的设备运行记录。 (2)设备操作人员应在设备启动前按照设备润滑图标的规定对设备进行润滑处理。 (3)设备操作人员在确保设备无误后进行设备的空车运转,待设备的各个部分运转正常后方可进行工作。 (4)设备操作人员在设备的运行过程中要来回巡检,发现设备异常立即进行停机处理,并及时通知设备保养专员。 (5)每日下班前,设备操作人员应检查设备运行记录是否填制完整,并用20分钟左右的时间清理设备、清理工作场地,确保设备的干净、整洁。 第19条遇公司的节假日,设备操作人员应花费一个半小时左右的时间彻底地清洗设备、

动设备操作及维护安全注意事项

运转设备操作及维护的安全注意事项为规范运转设备操作及维护,保证员工安全,公司特制订运转设备操作及维护的安全注意事项: 1.设备维护人员劳保齐全,穿戴规范(衣服下摆、扣子和袖口扣子扣紧,防止卷入);禁止带手套进行运转设备的擦洗。 2.女员工要求短发或将长发盘在安全帽内,禁止梳辫子或披散在背部;禁止带项链、手镯进行转动设备的操作和维护。清理设备卫生首先要查看清楚设备是否运转,设备或附属管线包含介质,温度等,防止发生烫伤等危害,禁止戴深紫色眼镜清理设备卫生。 3.清理运转设备不能用纱布,擦洗布要完整,不能有拖拉线头之类。擦洗布不能缠在手上清理。 4.进行操作维护前,应将随身携带的易掉落物品取出,泵座上不准放置维修工具和任何物体。保持电机接地线完好,清扫时注意不要将水喷洒在电机上。 5.操作维护时,严禁用棉纱、毛巾擦拭设备转动部位周围100mm 以内的区域(基本以轴承压盖外缘为界,各运行部安排用油漆标画黄色警戒线)。电机防护罩端部为吸风口,为防止毛巾等吸入,要求用毛刷等工具进行维护。擦拭设备时,毛巾要团紧,避免线头被卷进转动部位,造成设备事故或人身伤害。 6.操作维护带联锁设备前,必须与装置管理人员和内操进行确

认,摘除联锁后,才能进行作业,对于不能摘除联锁的运转设备禁止维护清理;清理设备操作柱时,应远离操作开关。 7.严禁用水冲洗电机部位;未经批准严禁使用溶剂油、汽油等油品擦洗设备;清理运转设备时,头部禁止正对转动部位,禁止打开防护罩清理。 8.设备及其附属设备(附属管线、阀门,驱动设备主体,设备台座、联轴器护罩、油杯、视窗等)不能存在油污、积垢、积灰;设备基础周围2米内不能有积水、污物、杂物,设备平台上不能有污物、杂物、油污等。 9.停用、备用设备的驱动电机进风口不能存在油污、积垢、积灰。 10.设备周围地沟保持清洁、地漏畅通、地漏篦子齐全并且放到位。 11.设备检修后卫生应由维修单位清理干净,属地人员负责监督清理。 各运行部根据属地内设备、人员情况对公司要求进行细化,制定运行部内部管理办法,并对员工进行宣贯、培训。

(精选文档)设备操作使用维护规程

安徽昊源化工集团有限公司 污染源在线监控系统仪器设备操作维护规程 为加强污染源自动监控系统仪器设备的使用管理,保障设备运行正常,提高在线监测数据的有效性,提高设备的完好率和使用率,特制定本规程: 一、专人负责污染源自动监控系统的运行管理。 二、操作使用、维护保养仪器设备时,要认真阅读使用说明书,熟悉技术指标、工作性能、使用方法、注意事项,严格遵照仪器设备使用说明书的规定步骤进行操作。 三、自动监控设备的操作人员应当按国家相关规定,经培训考核合格、持证上岗,具备相应的素质和能力。 四、仪器设备通电前,确保供电电压符合仪器设备规定输入电压值,配有三线电源插头的仪器设备,必须插入带有保护接地插座中,保证安全。 五、污染源自动监控仪器设备不宜在磁场或电场中操作使用,必须采取屏蔽、接地措施,防止仪器设备损坏或降低测量精度。 六、在线监控仪器设备不准随意停电、闲置、拆改或解体使用。 七、严格按相关技术规范进行仪器设备的维护、保养: 1、水污染源在线监测系统 (1)每日10:00 前远程检查仪器运行状态, 检查数据传输系统是否正常,检查数据捕获率, 如发现数,据有持续异常情况,应立即前往站点进行检查。 (2)每48 小时自动进行CODCr、 NH3-N自动分析仪零点和量程校正。 (3)每周一至二次对监测系统进行现场维护,现场维护内容包括: a、检查各台分析仪器及辅助设备的运行状态和主要技术参数,判断运行是否正常。 b、检查自来水供应、泵取水情况,检查内部管路是否通畅,仪器自动清洗装置是否运行正常,检查各分析仪器的进样水管和排水管是否清洁,必要时清洗。

定期清洗水泵和过滤网。

真空镀膜机操作指导

真空镀膜实验指导 真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。本实验通过介绍蒸发镀膜原理,掌握蒸发镀膜的操作方法。真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。 1真空镀膜原理: 1.1蒸发镀膜机理 蒸发镀膜是真空镀膜的一种,它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态,沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面,形成一层或多层膜的方法。凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。 蒸发原子的成膜过程比较复杂,这里只能粗略描述如下:溅落原子首先被固体表面吸附,当表面温度低于某一临界温度时,原子开始“核化”——部分原子凝聚成团,出现若干“岛”,然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大,众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。蒸发镀膜的条件主要有两个,分别介绍如下: 1.2高真空 我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面,这样,蒸发镀膜的速度高,成膜质量也好。相反,如果真空度低,有大量的空气分子存在,一方面,蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞,阻碍了膜材分子的扩散,降低了蒸镀的速度,影响了膜的均匀性,另一方面,空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高,必然要加大加热功率;更有甚者,空气的存在可能使膜材的某些成分氧化,引起成分变性;在连接着抽气机的情况下,若不能很快完成镀膜,膜料将被抽走。因此,蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。当然,真空度也不需要绝对地高。事实上,只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果膜材到基底的距离为10 --20cm,根据自由程公式 (d是分子的直径,n是分子数密度) 不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。 1.3材料洁净 材料的洁净包括膜料的洁净和基底材料的洁净。这一要求似乎是不言而喻的。如果材料中混有颗粒状或纤维状的杂质,将直接影响膜的均匀性和牢固度;如果混有可融的化学成分,将影响膜的物理性质,如亮度、表面张力、电导率等等。所以,膜材和基底的清洗工作必须认真对待。 2真空技术

真空镀膜技术

真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射,可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法,具体有: 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用,但在最近30年迅速发展,成为一门极具广阔应用前景的新技术。,并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今,在钟表行业,尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有,真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等。发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下,使金属、金属合金或化合物蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,高频感应加热,电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历史上,真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下,使氩气进行辉光放电,这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+),氩离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电,称直流(Qc)溅射,射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下,用引弧针引弧,使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电,阴极表面快速移动着多个阴极弧斑,不断迅速蒸发甚至“异华”镀料,使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体,并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑,所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤: (1)镀料的气化:即使镀料蒸发,异华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

炼钢设备操作、维护、检修规程

XX钢铁(集团)XX炼钢厂炼钢设备操作、维护、检修规程 (第一册) 提出单位:炼钢厂 编写: 审查: 审核: 批准: 日期:2011年11月18日

编制说明 合理的规章制度是客观规律的反映,是长期生产实践经验的归纳总结,是企业组织生产,进行科学经管的主要依据,为了对设备进行科学经管,正确地操作、维护、检修,根据冶金工业部关于编写设备规程基本要求和我厂设备现状,编写本规程。 本规程的内容与上级规定的有抵触时,一律以上级文件为准。 本规程的内容与安全规程相抵触的,以执行安全规程的有关条款为准。 本规程适用于炼钢厂从事一炼钢炼钢设备操作、维护、检修及经管的工程技术人员使用。 本规程解释权归炼钢厂设备经管室。

目录 第一章总则 (1) 第一节设备操作工人“三好四会”内容细则 (1) 第一章转炉系统 (2) 第一节设备性能参数 (2) 第二节转炉系统操作规程 (6) 第三节转炉系统维护规程 (10) 第四节转炉系统检修规程 (12) 第二章吹氧系统 (18) 第一节设备性能参数 (18) 第二节吹氧系统操作规程 (19) 第三节吹氧系统维护规程 (21) 第四节吹氧系统检修规程 (21) 第三章烟气净化及回收系统 (22) 第一节设备性能和参数 (22) 第二节烟气净化系统及回收操作规程 (29) 第三节转炉烟气净化系统及回收维护规程 (41) 第四节转炉烟气净化系及回收检修规程 (44) 第四章原料系统 (47) 第一节设备性能参数 (47) 第二节原料系统操作规程 (49) 第三节原料系统维护规程 (51) 第四节原料系统检修规程 (54) 第五章地面车辆 (61) 第一节设备性能参数 (61) 第二节地面车辆操作规程 (63) 第三节地面车辆维护规程 (65) 第四节地面车辆检修规程 (67) 第六章混铁炉 (70) 第一节设备性能参数 (70) 第二节混铁炉操作规程 (71) 第三节混铁炉维护规程 (72)

真空镀膜设备项目规划方案

真空镀膜设备项目规划方案 规划设计/投资分析/产业运营

摘要说明— 真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料),属于物理气相沉积工艺(PVD)。因为镀层常为金属薄膜,故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。 该真空镀膜设备项目计划总投资12622.67万元,其中:固定资产投资10101.82万元,占项目总投资的80.03%;流动资金2520.85万元,占项目总投资的19.97%。 达产年营业收入20048.00万元,总成本费用15985.14万元,税金及附加203.63万元,利润总额4062.86万元,利税总额4826.88万元,税后净利润3047.14万元,达产年纳税总额1779.74万元;达产年投资利润率32.19%,投资利税率38.24%,投资回报率24.14%,全部投资回收期5.64年,提供就业职位294个。 报告内容:项目总论、建设背景、产业分析、产品规划方案、项目选址、土建工程、工艺先进性、环境影响分析、生产安全、风险性分析、节能评估、项目进度方案、投资估算与资金筹措、项目经营效益分析、项目评价等。 规划设计/投资分析/产业运营

真空镀膜设备项目规划方案目录 第一章项目总论 第二章建设背景 第三章产品规划方案 第四章项目选址 第五章土建工程 第六章工艺先进性 第七章环境影响分析 第八章生产安全 第九章风险性分析 第十章节能评估 第十一章项目进度方案 第十二章投资估算与资金筹措第十三章项目经营效益分析 第十四章招标方案 第十五章项目评价

设备使用维护规程(标准版)

When the lives of employees or national property are endangered, production activities are stopped to rectify and eliminate dangerous factors. (安全管理) 单位:___________________ 姓名:___________________ 日期:___________________ 设备使用维护规程(标准版)

设备使用维护规程(标准版) 导语:生产有了安全保障,才能持续、稳定发展。生产活动中事故层出不穷,生产势必陷于混乱、甚至瘫痪状态。当生产与安全发生矛盾、危及职工生命或国家财产时,生产活动停下来整治、消除危险因素以后,生产形势会变得更好。"安全第一"的提法,决非把安全摆到生产之上;忽视安全自然是一种错误。 设备使用维护规程 一、主要设备技术参数: 1、型号:RDLO600-705A 2、水泵机组结构示意图 3、设备主要的性能参数 1、水泵 额定转速(r/min) 993 转速变化范围(r/min) 496.5~993 变频 运行 设计扬程(m) n=0.012

~49.16 n=0.010 ~47.36 设计点流量(m3/s)、效率1.2;89.0 工频 运行 设计扬程(m) n=0.012 ~63.06 n=0.010 ~59.05 设计流量(m3/s) n=0.012 ~1.40 n=0.010 ~1.53 水泵轴心安装高程(m)

15.9 水泵最大轴功率(KW)0.88 7 额定效率 >95.4% 8 额定转速 993r/min 9 起动电流/额定电流 ≤7A 10 额定频率 50HZ 11 调频范围 20HZ~50HZ

真空蒸发镀膜原理

A、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Torr程度进行(1Torr=1公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~0、2微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr<!——[if !supportFoot<!--[en dif]——>l〈!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]—-〉v#W?n8D<!-—[if !supportFootnotes]——〉[1]