一维周期势垒中粒子的隧道效应的计算及应用

一维周期势垒中粒子的隧道效应的计算及应用
一维周期势垒中粒子的隧道效应的计算及应用

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本科生毕业论文(设计)题目:一维周期势垒中粒子的隧道效应的计算及应用

作者单位:物理学与信息技术学院

作者姓名:王乐

专业班级:物理学(2)班

指导教师(职称):张林(副教授)

论文完成时间:二〇〇八年五月

一维周期势垒中粒子的隧道效应的计算及应用

王乐

(陕西师范大学物理学信息技术学院 物理系 陕西 西安710062) 摘 要:隧道效应是经典物理学中不能理解的量子现象。本文进一步对一维势垒遂穿问题进行了详细讨论,考察了一维势垒遂穿在隧道扫描显微镜上的应用。论文最后利用传递矩阵的方法对双势垒和多层势垒的隧道效应问题进行了讨论,给出了n 个势垒遂穿的严格结果。 关键词:势垒,隧道效应,双势垒

1 引言

隧道效应是微观世界独特的现象,它发生的机制,前人虽然已经做了很好的分析和完美的解释,但隧道效应真正的产生机制还不是很清楚,例如粒子在势垒中究竟如何隧穿,粒子隧穿的渡越时间,隧穿共振的机制等。人们从量子力学的理论发现无论粒子的能量是E > U 还是E < U ,粒子都会既有反射又有透射:R ≠0,D ≠0,而且根据几率守恒有R+D=1。虽然这个问题的解答从物理上并不令人满意,但1982年,Binning 和Rohrer 依据隧道效应原理却成功制造出扫瞄隧道显微镜,使人类直接观察和操纵原子成为现实。

隧道效应是应用非常广泛的重要效应,它在集成电路,冷电子发射,核衰变,超灵敏电磁探测器等方面都有一定的应用。近来又发现了隧道效应中的超光速现象,如果能加以应用,将极大的提高信号传递的速度。可见隧道效应在微观世界是极为普遍的现象,其在实际应用中有重要价值。近年来,人们发现一些宏观量,如微颗粒的磁化强度、量子相干器件中的磁通量等也具有隧道效应。宏观量子效应的研究对基础研究及实用都有着重要意义,它限定了磁带、磁盘进行信息存储的时间极限和器件进一步微型化的极限。

为了更为清晰地认识隧道效应在各种势垒中的隧穿行为,我将从薛定谔方程出发,进一步讨论此类问题。

2 一维矩形势垒中粒子的隧道效应

对于一维矩形势垒,其势场函数可以表示为:

??

???><≤≤=),0(,0)

0(,)(0a x x a x U x U

如图1所示。具有一定能量E 的粒子由

方形势垒左方(1区)向右运动,粒子波函数所满足的薛定谔方程是

22

120k x ψψ?+=?(x<0,x>a )

其中1k =22

220k x ψψ?+=? (0< x

其中2k =2.1 当E>0U 时

在x<0的区域内,波函数 1ψ=1A 1ik x e +1B 1ik x e - 在0

e

- (1)

在x>a 的区域内,波函数 3ψ=2A 1ik x e +2B 1ik x e -

易看出此三个波函数右边第一项表示右行波,第二项是左行波,由于在x>a 的区域内,无左行波,则2B =0。 利用波函数的连续性可得: 在x=0处:1A +1B = C +D

1k 1A —1k 1B =2k C —2k D (2)

在x=a 处:C 2ik a e +D 2ik a e =2A 1ik a e

2k C 2ik a e —2k D 2ik a e -=1k 2A 1ik a e (3) 解上式可得:

1221221

2212124()()ik a ik a ik a k k e A A k k e k k e

--=+-- 2222

122

112212122()sin ()()ik a ik a

i k k ak B A k k e k k e --=--+

则透射系数为:

222

212

22222

112212

||4||()sin 4A k k D A k k ak k k ==-+ (4) 反射系数为:

22222112222222

112212

||()sin ||()sin 4B k k k a R A k k k a k k -==-+=1—D (5) 现在我们从粒子几率流来探讨这个问题。

由连续性原理我们可以知道:

=

?

?

+

?

?

J

t

ω

(6)

()*

*

2

ψ

ψ

ψ

ψ

μ

?

-

?

-

=

i

J(7)将(1)代入(7)中有:

在x<0的区域内:

1

||

J

=22

1

11

(||||)

k

A B

μ

-

在0

2

||

J

=22

2(||||)

k

C D

μ

-

(8)

在x>a的区域内:

3

||

J

=2

1

2

||

k

A

μ

由连续性应有

1

||

J

=

2

||

J

=

3

||

J

22

11

||||

A B

-=2

2

||

A

22

21

(||||)

k C D k

-=2

2

||

A(9) 即有

2

2

2

1

||

||

A

A

+

2

1

2

1

||

||

B

A

=1 ?R+D=1

2.2当E<

U

对于上的两种方法,也同样适用。此时

2

k是虚数,可令

2

k=i

3

k,3

k

1

13

21

22

133133

2

()2

ik a

ik k e

A A

k k shk a ik k chk a

-

=

-+

(10)

22

13

222222

13313

4

()4

k k

D

k k sh k a k k

=

++

(11)

如果粒子的能量E很小,以至

3

k a>>1,则3k a

e>>3k a

e-,2

3

sh k a可以近似的用3

2

1

4

k a

e代替。故(11)可以改写为:

3

2

2

3

1

21

4

1

(4

4

k a

D

k

k

e

k k

=

++

1k 和3k 同数量级,3k a>>1时32k a e >>4

∴ D=0D 32k a

e

-=0

D e

其中,0D 是数量级接近1的常数。

如此一来,在考察任意形状的势垒()x U 时(如图2),我们可以把势垒看作是许多方形势垒组成的,每个方形势垒的宽为dx ,高为()x U ,粒子从x=a 处入射,从x=b 处射出。整个透射系数为:

D=0

D 2a

e

-?

2.3 用矩阵形式来解一维单势垒粒子隧道效应

有了前面两种方法的解,我们现在再来用矩阵的形式来解这个问题,由(2)式可知:

1A +1B =C+D

i 1k 1A —i 1k 1B =i 2k C —i 2k D , (12) 将(12)式改写成矩阵形式,有:

111,1,ik ik ??

??

-??

11A B ??????=1,1,ββ????-??

C D ??

????

(13) 其中,β=i 2k ,同时,记1111,1,M ik ik ??=??-??,21,1,M ββ??

=??-??

同样,在x=a 处,有 2342A C M M B D ????=???????? (14) 其中:3exp(),exp()exp(),exp()a a M a a ββββββ-??=??

--??,1141111exp(),exp()exp(),exp()ik a ik a M ik ik a ik ik a -??=??--??

由(13)(14)式得: 其中2B =0,1P 为变换矩阵,由下式确定:1P =111234M M M M -- 运算得1P 的表达式:

12112A A P B B ????

=??????

??

1P =11111ch()(),()()112()(),()()i a i sh a sh a ch a k k i ch a i sh a sh a ch a k k ββββββββββββ??

+--??????--+????

1

11111exp(),exp()exp(),exp()ik a ik a ik ik a ik ik a -?????--??

我们可以看到,透射系数2

221||||A D A = 1A =2A 1N

其中1N 是1P 第一行第一列处的元素。

反射系数2

12

1||||B R A = 1111

S B A N = 其中1S 是1P 第二行第一列处的元素。 2.4 对一维粒子隧穿的讨论:

按照经典力学观点,在E>0U 情况下,粒子应畅通无阻地全部通过势垒,而不会在势垒壁上发生反射。而在微观粒子的情形,却会部分地发生反射。也就是说对粒子能量大于势垒的情况下,粒子总有几率会无法通过势垒。这在经典世界是无法想象的,但在量子世界却可以从实验上观测到这类现象。这种特征从几率波的角度来看表现了粒子的波动性,粒子碰到势垒无论其能量多大,粒子都在势垒上被反

射,波函数中出现了向左的几率波,离子被一定的概率反射回来,具体由第(5)式子决定。

另一方面,在E<0U 的情况下(如图3),从解薛定谔方程的结果来看,在势垒内部存在波函数2ψ。即在势垒内部找出粒子的概率不为零,同时,在x>a 区域也存在波函数,所以粒子还可能穿过势垒进入x>a 区域,这也是经典世界所不能解释的物理现象。由透射系数的表达式D=0

D e

可知:势垒高度0

U 越低(或E 越大)、势垒宽a 度越小,则粒子穿过势垒的概率就越大。如果a 或μ为宏观大小时,D →0 ,粒子实际上将不能穿过势垒。当0U -E=5eV 时,势垒的宽度约50nm 以上时,贯穿系数会小六个数量级以上。隧道效应在实际上已经没有意义了,量子概念过渡到经典了。但是当势垒的宽度小到原子线度(几个埃)时,原子的投射系数就变得相当大了,可见隧道效应在微观世界中才有明显的表现。

3 一维势垒的应用:扫描隧道显微镜(STM )

扫描隧道显微镜就是利用了电子隧道效应的方法制造的。它用一个金属针尖在样品表面扫描。当针尖和样品表面距离很近时(1nm以下),针尖和样品表面之间会产生电压。当针尖沿X和Y方向在样品表面扫描时,就会在针尖和样品表面第一层电子之间产生电子隧道。该显微镜设计的沿Z字形扫描,可保持电流的恒定(如图4)。因此,针尖的移动是隧道电流的作用,并且可以反映在荧光幕上。连续的扫描可以建立起原子级分辨率的表面像。

其基本原理是:在两块导电物体之间夹一层绝缘体,若在两个导体之间加上一定的电压,通常是不会有电流从一个导体穿过绝缘层流向另一导体的。两个导体之间存在着势垒,像隔着一座山一样,如图5示。

假如这层势垒的厚度很窄只有几个纳米时,由于电子在空间的运动呈现波性,根据第一节的讨论,电子将穿过,而不是越过这层势垒,从而形成电流。

STM就是用一非常细小的针尖和被研究物质的表面作为两个导体,形成两个电极,当针尖和样品表面非常接近,一般小于一个纳米时,在针尖与样品表面施加一定电压后,电子即会穿过两个电极之间的绝缘层流向另一个电极,此绝缘层一般为空气或液体。这正是上面所述的隧道效应,其产生的电流则称为隧道电流.隧道电流的大小强烈地依赖于针尖到样品表面之间的距离。测量时让针尖在样品表面作二维扫描,即沿平面坐标X和Y两个方向顺次扫描。通常人们采用恒流扫描模式,即控制隧道电流不变。这样就要求针尖随着样品表面的高低起伏,

相应地作高低起伏的运动,以使针尖与样品之间的距离保持不变。针尖的三维运动可通过计算机系统在计算机屏幕直接显示,或在记录纸上打印出来,可见STM 所获得的信息正是样品表面的三维立体信息。这种恒流扫描模式应用广泛。获取的信息全面,显微图像质量高,可用于显示导电材料表面的原子排列情况。

STM的出现,使人类第一次能够立体显示单个原子在物质表面的排列状态。和其它表面分析技术相比,STM具有以下独特优点:

(1)高分辨率。STM在样品表面的横向分辨率可达0.1纳米,纵向分辨率可达0.01纳米,可分辨出单个原子。

(2)实空间测量。利用X射线或电子波的衍射看到的图像不直观,不是实空间图像,而是投影图像,通过数据处理后才能了解物质内部的结构,而利用STM 可得到原子尺度下的实空间中表面结构的三维图像。

(3)可进行单层局部研究。我们可以观察表面一层原子的局部表面结构。

4 扫描隧道显微镜中的隧道效应:梯形势垒隧道效应及偏压影响

扫描隧道显微镜种样品和针尖之间电子的势垒关系如图6隧道效应电子穿过势垒由针尖流向样品,从而形成电流

s

I。

与此同时,样品上的电子也有几乎相同的概率穿过势垒到达针尖。也就是

说,如果不加偏压的话,观测到的

s

I应该为0。但是,由于偏压的存在,实际s

I不是0。我们现在就偏压的影响展开讨论。

4.1模型理想化计算

将图6势垒图进一步简化得到图7 粒子波函数所满足的薛定谔方程是:22

2[()]

2

V x E m x

ψ

ψ?

=-

?

势垒的表达式为:

?

?

?

?

?

>

<

<

<

=

a

x

a

x

x

eV

x

V

b

,0

,

,

)

由上述一维隧道效应的讨论,很快得到:

1

ψ=

1

A1ik x

e+

1

A'1ik x

e-

1

k=(x<0)

2

ψ=

1

B2ik x

e+

1

B'2ik x

e-,

2

k=(0

ψ=3

1

ik x

C e,

3

k=(x>a)

由ψ,ψ'的连续性,可以算得:

22

22

12

12222222

21321232

4

||||

()()()sin

k k

C A

k k k k k k k k a

=

++--

(16)

又U>>E>e

b

V,因此

2

k是虚数。令

2

k=i

2

k',则

2

k'是实数。故(16)式可写为:

22

22

12

12222222

21321232

4

||||

()()()s

k k

C A

k k k k k k k h k a

'

''''

=

++++

2

2

sh k a'≈

1

4

2

2k a

e'>>1,故有:

22

22

12

12222

2123

16

||exp[]||

()()

k k

C A

k k k k

'

''

=

++

=

C2

exp[]||A

同理

22

22

32

22

2222

2321

16

||exp[]||

()()

p p

A C

p p p p

'

''

=

++

′′

=2

02

exp[]||

A C′

由于偏压的存在, 使得E='E+ e

b

V,由于e

b

V<

A≈

C。隧道电流可以表示为:

s

I∝

22

12

2'2

12

||||

||||

C A

A C

-

∝exp[]exp[]

-

4.2 对梯形隧道效应的讨论

从上面的推导可以看出, 保持针尖与样品间距不变时, 它们之间的隧道电流与偏压是成正比的(偏压不太大) 。计算显示出: 偏压的作用主要是提高了针尖上电子的能量, 使针尖上的电子比样品上的电子更容易越过势垒, 从而形成隧道电流。

5 一维双势垒结构的隧穿效应

前面我们都是讨论的单层势垒的隧道效应,这种隧穿情况在实际应用中是过于理想的情况。实际的粒子(如电子)实际都是在很大尺度的材料中运动,这些材料都是由多种不同介质构成的(如多层膜),在多层不同材料(对应于多种势垒)中的隧穿与单层膜的单势垒隧穿是不同的,主要的不同在于不同势垒间的隧穿几率干涉会造成尖锐的共振隧穿区和宽的截至区,这与电子在周期势场中形成的导带和禁带是类似的。所以讨论电子在多层膜中的隧穿,是具有实际意义的。首先考虑一维双势垒的隧道效应,研究对象仍然选择电子。当电子接连隧穿过靠得很近的两个势垒时,我们把这个效应叫谐振隧穿效应。此时,隧穿几率随入射

电子能量的变化会出现数个极大值。虽然电子对单个势垒隧穿几率可能很小,但在谐振发生时,电子对双势垒的隧穿几率(最大隧穿几率)可以很大。发生谐振隧穿的物理机制也可以解释为来自两个势垒之间的势阱内电子能量的量子化,当入射电子能量等于势阱中电子的量子化能级时,共振现象就会发生。

如图8所示,

在x<0的区域内,波函数

1ψ=1A 1ik x e +1B 1ik x e - 在0

e

- 在a

Ee Fe

ψ-=+

在a+L

Ge He

ψ-=+

在x>2a+L 的区域内,波函数 5ψ=2A 1ik x e +2B 1ik x e - 5.1 矩阵方法的计算

由第一节2.3中一维单势垒中矩阵的方法可以得到:

11A B ??????= 222A P B ??

???

? (17) 2P = 111112345678M M M M M M M M ----,1234M M M M 与单个势垒相同。而

11511exp[()],exp[()]exp[()],exp[()]ik a L ik a L M ik ik a L ik ik a L +-+??=??

+--+??

6exp[()],exp[()]exp[()],exp[()]a L a L M a L a L ββββββ+-+??=??+--+?? 7exp[(2)],exp[(2)]exp[(2)],exp[(2)]a L a L M a L a L ββββββ+-+??

=??

+--+??

118111exp[(2)],exp[(2)]exp[(2)],exp[(2)]ik a L ik a L M ik ik a L ik ik a L +-+??=??+--+?? 代入(17)得:

123M M -=167M M -,

145M M -=11111

11sin()cos(),sin(),cos()k a k a k k k a k a ?

-???????,114567M M M M --=1234,,C C C C ??????, 其中:

1C =111

cos()()sin()()k L ch L k L sh L k β

ββ+

2C =111

1

1

cos()()sin()()k L sh L k L ch L k βββ

-

-

3C =111sin()()cos()()k k L ch L k L sh L βββ- 4C =1

11sin()()cos()()k k L sh L k L ch L βββ

-

+

最后得到

2P =11123M M M --1234,,C C C C ??

???

?111111exp[(2)],

exp[(2)]exp[(2)],exp[(2)]ik a L ik a L ik ik a L ik ik a L +-+????+--+??

(18)

同样,透射系数2

22

1||||A D A = (19) 其中1A =2A 2N ,2N 是2P 第一行第一列处的元素。

反射系数2

12

1||||B R A = 211

2S B A N = 其中2S 是2P 第二行第一列处的元素。 5.2 对一维双势垒结构的隧穿效应的讨论

对于给定的势垒,投射系数D 很显然依赖于入射粒子的能量E 。我们现在根据(19)式的结果做出D —E 图。

如图9中出现的峰状结构,这种现象称为共振透射。峰处的能量max E 称为共振能级。进一步观察可发现:在发生共振透射时D=1,无反射波。这种峰叫完全透射峰。但是,这仅仅只是一种理想情况,实际中散射是不可以避免的。

6 粒子在多个一维等高方势垒中的共振隧穿

通过前面对通过对粒子在单个、两个一维方势垒中的隧穿公式的推导, 我们现在归纳出粒子在多个一维方势垒中的隧穿公式。

6.1 矩阵方法的计算

对于3个方势垒,如图10所示:

同样有:

11A B ??????=232A P B ?????

? 其中

3P =111111123456789101112M M M M M M M M M M M M ------

1M 到8M 与双势垒相同,

1191111exp[(22)],exp[(22)]exp[(22)],exp[(22)]ik a L ik a L M ik ik a L ik ik a L +-+??=??+--+?? 10exp[(22)],exp[(22)]exp[(22)],exp[(22)]a L a L M a L a L ββββββ+-+??

=??

+--+?? 11M =exp[(32)],exp[(32)]exp[(32)],exp[(32)]a L a L a L a L ββββββ+-+????+--+??

12M =11111exp[(32)],exp[(32)]exp[(32)],exp[(32)]ik a L ik a L ik ik a L ik ik a L +-+??

??

+--+?? 由3M 到11M 的表达式可以得到:

123M M -=167M M -=11011M M - 145M M -=189M M -

114567M M M M --=11891011M M M M -- 得到

3P =11

123

M M M --2

1234,,C C C C ??????11111exp[(32)],exp[(32)]exp[(32)],exp[(32)]ik a L ik a L ik ik a L ik ik a L +-+??

??

+--+??

(20) 由上面推导过程不难看出,势垒个数n 每增加1,在变换矩阵中将增加一个矩阵因

子1234,,C C C C ?????

?,则对于n 个一维等高、等宽、等间距方势垒,其变换矩阵n P 为: n P =11123

M M M --1

1234,,n C C C C -??

???

??

{}{}{}{}111

11exp [(1)],exp [(1)]exp [(1)],exp [(1)]ik na n L ik na n L ik ik na n L ik ik na n L ?+--+-???+---+-??, n=1, 2, 3 (21)

同样,透射系数2

22

1||||

A D A = 其中1A =2A n N ,n N 是n P 第一行第一列处的元素。

反射系数2

12

1||||B R A = 11

n n S B A N = 其中n S 是n P 第二行第一列处的元素。

6.2 多个一维等高方势垒中的共振隧穿的讨论

采用传递矩阵的方式,我们就得到了粒子在n 个等间距等宽度的势垒中的遂穿公式,该公式给出了入射系数与出射系数的关系,根据最后的矩阵元,我们就可以算出投射系数和反射系数,从公式可知投射系数是大量的余弦函数或余割函数的乘积形式,这样共振遂穿就会形成更加尖锐更加密集的峰。当n 很大时,随着E 的增加,共振能级形成能带结构。完全透射峰和在E >0U 时出现的峰分别相应于一些分离的能带。随着更多的势垒加到体系中(如:无限晶体点阵情况) ,分离能带现象将更加明显,而且随着能带间低透射区域的加深, 将会在能带之间形成能量禁戒区——带隙。

7结论和讨论

本文主要利用了传递矩阵方法计算了一维定态薛定谔方程和电子穿过矩形势垒的透射系数,并把利用结果推导了隧道扫描显微镜的遂穿系数(电流)和偏压的关系,给出了偏压在隧道电流形成中的作用。计算结果表明:随着入射电子能量的增加 ,垒高越低, 垒宽越大 ,透射系数趋于1的速度越快。这些结论不仅有利于人们合理选择入射电子能量,得到所需的透射系数,而且有利于隧道二极管等现代半导体器件的制备及其他相互作用的能级分布分析。

而对于电子穿过多势垒的情形,通过上述的讨论,我们可以发现,电子在周期性的势垒贯穿种形成的能级带状结构是量子干涉效应的直接结果,它对于理解固态物质的许多基本性质是很重要的,而且在金属导电的量子理论中必不可少。

所以说,研究隧道效应不仅有助于了解微观世界,而且对于实际应用有重要价值。

【参考文献】

[1] 曾谨言.量子力学教程[M].北京:科学出版社,2003.28. [2] 周世勋.量子力学教程[M].北京:高等教育出版社.1979.44.

[3] 郑碧华,熊正烨.偏压在隧道效应中的作用[J] .大学物理,2005,7:16~18. [4] 桑田.对隧道效应的新认识[J].黔南民族师范学院学报,2000.2:5~8

[5] 李存志,刘云鹏,罗恩泽,梁昌洪. 粒子在n 个一维方势垒中的共振隧穿[J]. 西安电子科技大学学报,1997(2):261~266

One-dimensional potential field of particle effects and the risk of the

tunnel flow

WANG Le

(Department of Physics, School of Physics and Information Technology, Shaanxi Normal University, Xi’an, 710062, Shaanxi, China)

Abstract:Tunnel effect is a pure quantum effect, which cannot be interpreted in the framework of classical physics. In this paper, a one-dimensional multi-barrier tunneling effect was intensively investigated. First, the tunneling probability is calculated on a single barrier and the application on scanning tunneling microscope (STM) is discussed. Then a double symmetric one-dimensional barrier is considered further by using the transfer matrix method. Finally, a rigid result of tunneling on n uniform multi-barrier is given and some discussions are included in the last section of this paper.

Keywords:Barrier,Tunneling effect,Double-barrier

致谢

四年的大学生活将结束,心情只有用一个字来形容,那就是依依不舍。四年前的我,带着一份中学生的稚气,以及对知识的渴望和未来的憧憬踏进了陕西师范大学。而现在,大学的时光即将逝去,我们在一起生活学习的同学也将各奔东西,突然之间才发现,原来大学的生活是如此的美好,这也让我们更加珍惜即将结束的大学生活。

在大学生活即将结束得时候,能在张林老师的指导下完成我的毕业论文,我感到非常得荣幸。感谢他的辛勤指导。张老师治学严谨、知识渊博、平易近人,在写作前期,给我们定下目标,让我们明白该写些什么,写什么内容,该怎么写。并指导我们查阅与论文有关的各种资料及搜索各种文献,让我们有了进一步探索的兴趣与渴望。在写作的过程中,张老师让我们充分发挥自己的想象,提出自己的看法,并对其中的问题和不足之处一一做了补充纠正,并不时的给我们一些好的建议。初稿完成后,张老师又在百忙之中抽出宝贵时间审阅论文,对其中的不足之处一一做了修改。在此,我真诚地向张老师说声“谢谢!”

大学四年,老师们教给我们的不仅仅是科学知识和专业技能,他们那严谨的治学态度和做人风范更让我们受益匪浅。对此,我谨向尊敬的老师和母校表示衷心的感谢!

1973年诺贝尔物理学奖——隧道现象和约瑟夫森效应的发现

1973年诺贝尔物理学奖——隧道现象和约瑟夫森效应的发现 1973年诺贝尔物理学奖一半授予美国纽约州约克城高地(YorktownHeights)IBM瓦森研究中心的江崎玲於奈(Leo Esaki,1925—),美国纽约州斯琴奈克塔迪(Schenectady)通用电器公司的贾埃沃(IvarGiaever,1929—),以表彰他们分别在有关半导体和超导体中的隧道现象的实验发现;另一半授予英国剑桥大学的约瑟夫森(BrianJosephson,1940—),以表彰他对穿过隧道壁垒的超导电流所作的理论预言,特别是关于普遍称为约瑟夫森效应的那些现象。 江崎玲於奈1925年3月12日出生于日本大阪的一个建筑师家庭里,1938年,江崎进入同志社中学,三年后父亲去世。江崎自幼就表现出对科学的浓厚兴趣,喜欢阅读科学家传记故事,立志要作像爱迪生和马可尼那样的发明家,小时自己动手制作电动火车和汽车模型。1940年,他以优异成绩越级进入京都第三高等学校。1944年初提前毕业。同年10月,江崎进入东京帝国大学攻读实验物理。在大学期间,为维持生计勤工俭学,做晚间家庭教师。他认真学习了数学和物理课程,并自学物理学专著。 1947年,江崎获硕士学位,有机会进入神户工业股份有限公司研究真空管热电子发射现象。他由此接触到固体表面物理化学性质和真空管材料技术。由于这项研究与强外电场作用下的冷金属表面电子发射现象有关,他对固体中的隧道效应发生了兴趣。1950年,他转入对半导体材料和晶体管的研究。这时,晶体管刚刚发明。1956年江崎辞去神户公司的工作转入索尼公司。在索尼公司领导了一个小组对半导体二极管内电场发射机理进行研究。这项研究主要考查窄宽度p-n结的导电机制。p-n结中内电场分布取决于杂质的分布。当时许多研究者都把提取含杂质少的高纯半导体材料当作目标,而江崎选择了相反的路线,他尝试制备高掺杂的锗p-n结器件。 1957年初江崎首先获得了掺有高浓度杂质的锗精制单晶体做成了薄p-n结。他发现这种薄p-n结的正向电阻特性没有变化,但反向电阻却呈直线下降趋势。随后,江崎增大了掺杂浓度,使结宽进一步变窄。当浓度达到1018cm-3以上时,p-n结的施主和受主浓度都高到使结两侧呈简并态,费米能量完全占据了整个导带或价带内部。江崎发现,在这种隧穿路程极短的情况下,所有温度条件下都可以观察到负阻现象。 负阻现象所对应的电压远低于人们熟知的击穿电压。江崎用量子力学理论令人信服地证明了这正是人们长期以来所寻找的隧道效应,这项研究确立了隧道效应在半导体材料中的存在。接着,江崎利用这种半导体p-n结中的隧道效应研制出一种新型半导体器件——隧道二极管。这种二极管具有独特而优异的反向负阻特性,可在开关电路、振荡电路、微波电路以及各种高速电路中获得广泛应用,成为现代电子技术中最重要的器件之一。正是这项贡献使江崎于1973年获得诺贝尔物理学奖。 1958年,江崎进一步研究了硅、锑化铟、砷化镓、砷化铟、碲化铅、碳化硅等金属氧化物半导体材料的p-n结,证实它们也有类似的负阻特性。用这些材料制成了多种隧道二极管。70年代,江崎在研究砷化镓等材料的周期性超晶格结构时,指出这些材料的负阻效应的工作频率上限远高于当时已知的任何半导体器件,为后来微波、毫米波、亚毫米波电子学发展提供了制作器件的切实依据。 江崎研究硅隧道二极管时,精确分析了隧穿电流,揭示了材料的电子状态,说明了隧穿电子与势垒中的声子、光子、等离子体量子甚至分子类振动模式之间的相互作用。这些对隧穿物理机制的研究,开创了一门新兴学科——隧穿波谱学。 1959年,日本东京大学授予江崎理学博士学位。1960年,江崎迁居美国,任国际商用机器公司(IBM)中央研究所研究员。

隧道工程作业完整版

绪论 思考题 1.什么是隧道? 2.隧道的种类有哪些? 3.隧道设计包括的内容有哪些? 4.和地面结构相比,隧道工程有哪些特点? 5.试从隧道的广泛用途上论述学习、研究与发展隧道技术的重要意义。 6.你认为隧道工程需要解决的难题有哪些? 第二章 思考题 1、隧道工程地质调查与勘测的内容有哪些? 2、施工地质超前预报的内容有哪些? 3、简述岩石与岩体的区别。 4、岩体的工程性质有哪些? 5、围岩的定义,围岩分级的目的? 6、围岩分级的基本因素有哪些? 7、影响围岩稳定性的主要因素有哪些? 8、简述我国铁路隧道设计规范的围岩分级方法。 第三章 思考题: 1、影响隧道位置选择的因素有哪些? 2、越岭隧道与河谷隧道有何区别?它们在位置的选择上采取什么原则? 3、地质条件对隧道位置选择有哪些影响? 4、隧道洞口位置的选择遵循哪些原则?确定洞口位置考虑哪些因素? 5、什么是隧道净空? 6、铁路隧道的横断面是根据什么设计的? 7、简述曲线铁路隧道加宽的原因和方法。 8、曲线铁路隧道和直线隧道衔接的方法是什么?向直线方向延长13m和22m的理由是 什么? 9、公路隧道建筑限界包含哪些内容? 10、隧道衬砌断面设计的原则是什么? 计算题 1、某隧道位于半径R=800m的圆曲线上,通过三级围岩地段,设计为直墙式衬砌,曲线加宽 40cm,中线偏移值d=12.5cm,外轨超高值E=9.5cm,隧道竣工后,测得DK23+15、DK23+20、DK23+25各起拱线处内外侧宽值如表1所示,试按隧限—2A计算各点侵限情况。 表1 2、某单线铁路隧道位于圆曲线半径R=1000m,缓和曲线长Lc=100m的曲线上,曲线全长

双势垒中的隧道效应及其应用-王鑫

双抛物线势场中的隧道效应 王 鑫 (陕西理工学院 物理系2007级物理学3 班 ,陕西 汉中 723000) 指导老师:王剑华 [摘要]量子力学中的隧道效应是一种重要的物理现象,有着非常广泛的应用. 本文从薜定谔方程出发, 讨论了求解双抛物线势场中的隧道效应,给出了相应的透射系数和反射系数,并对其进行讨论,研究其应用。 [关键词] 薜定谔方程与遂道效应;双抛物线势场中粒子的透射系数;双抛物线势场中粒子的透射系数;隧道效应及其应用 引言 在量子力学发展初期,德布罗意根据光的波粒二象性,提出了物质波假说,即认为微观粒子(电子、质子、中子等)也具有波动性。由于微观粒子具有波动性因而它在能量E 小于势垒高度时仍能贯穿势垒,这种现象称为隧道效应,隧道效应完全是由于微观粒子具有波动的性质而来的。1957年,江崎制成了隧道二极管,第一次令人信服地证实了固体中的电子隧道效应的存在。1960年贾埃弗利用隧道效应测量了超导能隙,验证了超导理论。1982年德国的宾尼等研制成功第一台扫描隧道显微镜,把隧道效应的应用推向一个新的阶段。近几 年来,人们十分关注分子和半导体量子阱中双势的隧道效应问题研究[4-8] ,氨分子作为一个典型的三角锥形模型,早在1927年Hund 就提出量子隧道效应会对三角锥形分子的内部结构 有很大的调整作用[1] 。适当选择外部条件便可在不同程度上控制分子结构的稳定性。近几年 来在介观尺度的隧道效应和光子隧道效应方面的研究日益成为热点[1-9] ,如在超导技术及纳 米技术方面的应用发展较为明显[3]。本文就双抛物线的隧道效应问题求解并进行讨论[2-3] 。 1 薛定谔方程与隧道效应 在量子力学中,微观体系的运动状态是用一个波函数来描写的,反映微观粒子运动规律的微分方程是()t r , ψ对时间的一阶微分方程,即: ψ+ψ?-=?ψ?)(22 2r U t i μ (1.1) 我们称它为薛定谔方程(Schr?dinger equation),式中)r (U 是表征力场的函数。 如果作用在粒子上的力场是不随时间改变的,即力场是以势能)(r U 表征的,它不显含时间,这时

复习题集案例隧道工程工期计算

问题1:1C400000《铁路工程管理与实务》(第二版)教材P171-173案例1C420031-2 背景: 某新建铁路的控制性工程是新河隧道,长8949m,围岩级别是Ⅲ、Ⅳ、Ⅴ级,设置2座斜井,1座

横洞。 设计文件要求:施工准备工期3个月,明洞及进口段3个月,1号斜井7个月,2号斜井6个月,横洞3个月。隧道围岩分布如图1C420031-2所示。 围岩长度(m )围岩级别 222+235隧道进口 2#斜井 225+820 1#斜井 227+230 230+930 横洞隧道出口231+184 围岩级别 围岩长 度(m )300Ⅳ 200Ⅳ Ⅳ Ⅴ Ⅲ Ⅴ Ⅳ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅲ Ⅳ Ⅴ 203550159260030015304002002140766168 明洞8m 图1C420031-2 隧道围岩分布图 根据设计要求横洞只向小里程方向进行一个作业面施工,斜井进行两个作业面施工。 隧道按设计超前地质预报纳入工序,Ⅴ级围岩设计小导管超支护,其他为锚喷支护,Ⅲ级围岩采用全断面开挖,Ⅳ级围岩采用台阶法,Ⅴ级围岩采用短台阶预留核心土法开挖。 问题: 1. 根据你的经验,确定隧道各级围岩的进度指标。 2. 计算隧道掘进工期(含施工准备时间)。 解答: 1. 隧道掘进循环时间、进度指标计算见表1C420031-2。 隧道掘进循环时间、进度指标计算表 表1C420031-2 2. 掘进工期计算如下: 根据计算的各级围岩指标,确定隧道各段的贯通点和各施工作业面围岩长度:

横洞至1号斜井段隧道洞身段开挖时间计算: 2220÷160+1080÷120+400÷60=(个月) (2220是横洞至1号斜井段隧道洞身段III 级围岩长度;1080是横洞至1号斜井段隧道洞身段IV 级围岩长度;400是横洞至1号斜井段隧道洞身段V 级围岩长度。围岩长度计算见后附表) 由于1号斜井工期7个月,横洞3个月,横洞作业面比斜井作业面早施工4个月。 横洞作业面施工时间:÷2+(7-3)÷2=个月 横洞至斜井段施工工期为:施工准备+横洞时间+掘进时间=3+3+=个月。 其他各段计算同上。 经计算隧道进口与2号斜井之间所用掘进时间最长,为24个月,所以本隧道的掘进工期为:24个月。 分析: 施工现场考虑各种因素,在计算工期不超过要求工期的情况下,分界点的设置可适当进行调整,各段均衡施工,同其他作业配合,利于设备、人员的充分利用。 如[案例1C420031-2],横洞作业面施工距离较长,施工通风的难度加大,洞内作业条件差,在不影响工期的条件下进行调整,更符合工程施工实际。如图1C420031-3所示: 横洞 1#斜井 2#斜井A B C D E F G 231+184 230+930 228+500 227+230 226+500 225+820 224+550 222+235 隧道出口隧道进口图示 施工单元 围岩长度(m ) III IV V 86168 1730680 470400400 73068070600600 1562550195 分界点分界点分界点明洞8 m 图 1C420031-3 隧道施工分界里程示意图 工期计算见表1C420031-3: 隧道工期计算表 表1C420031-3

隧道工程计算题

计算题 【围岩等级确定】参见书本P.96-99 例题:某公路隧道初步设计资料如下 (1)岩石饱和抗压极限强度为62MPa (2)岩石弹性波速度为4.2km/s (3)岩体弹性波速度为2.4km/s (4)岩体所处地应力场中与工程主轴垂直的最大主应力σmax=9.5Mpa (5)岩体中主要结构面倾角20°,岩体处于潮湿状态 求该围岩类别为?(来源:隧道工程课件例题) 解:1.岩体的完整性系数Kv Kv=(Vpm/Vpr)2=(2.4/4.2) 2=0.33 岩体为破碎。 2.岩体的基本质量指标BQ (1)90 Kv+30=90*0.33+30=59.7 Rc=62>59.7 取Rc=59.7 (2)0.04Rc+0.4=2.79 Kv =0.33>2.79 取Kv =0.33 (3)BQ=90+3Rc+250 Kv=90+3*59.7+250*0.33=351.6 3.岩体的基本质量分级 由BQ=351.6可初步确定岩体基本质量分级为III级 4.基本质量指标的修正 (1)地下水影响修正系数K1 岩体处于潮湿状态,BQ=351.6,因此取K1=0.1 (2)主要软弱面结构面产状修正系数K2 因为主要软弱结构面倾角为20,故取K2=0.3 (3)初始应力状态影响修正系数K3 Rc/σmax=62/9.5=6.53 岩体应力情况为高应力区 由BQ=351.6查得高应力初始状态修正系数K3=0.5 (4)基本质量指标的修正值[BQ] [BQ]=BQ-100(K1+K2+K3)=351.6-100(0.1+0.3+0.5)=261.6 5.岩体的最终定级 因为修正后的基本质量指标[BQ]=261.6,所以该岩体的级别确定为IV级。

隧道结构计算

一.基本资料 惠家庙公路隧道,结构断面尺寸如下图,内轮廓半径为 6.12m ,二衬 厚度为 0.45m 。围岩为 V 级,重度为19.2kN/m3,围岩弹性抗力系数为 1.6×105kN/m3,二衬材料为 C25 混凝土,弹性模量为 28.5GPa ,重度 为 23kN/m 3。考虑到初支和二衬分别承担部分荷载,二衬作为安全储备,对其围岩压力进行折减,对本隧道按照 60%进行折减。求二衬内力,作出内力图,偏心距分布图。 1)V1级围岩,二衬为素混凝土,做出安全系数分布图,对二衬安全性进行验算。 2)V2级围岩,二衬为钢筋混凝土,混凝土保护层厚度 0.035m ,按结构设计原理对其进行配筋设计。 二.荷载确定 1.围岩竖向均布压力:q=0.6×0.45?1 2-S γω 式中: S —围岩级别,此处S=5; γ--围岩重度,此处γ=19.2KN/3m ; ω--跨度影响系数,ω=1+i (m l -5),毛洞跨度m l =13.14+2?0.06=13.26m ,其中0.06m 为一侧平均超挖量,m l =5—15m 时,i=0.1,此处ω=1+0.1?(13.26-5)=1.826。 所以,有:q=0.6×0.451 -52 ??19.2?1.826=151.456(kPa )

此处超挖回填层重忽略不计。 2.围岩水平均布压力:e=0.4q=0.4?151.456=60.582(kPa ) 三.衬砌几何要素 5. 3.1 衬砌几何尺寸 内轮廓线半径126.12m , 8.62m r r == 内径12,r r 所画圆曲线的终点截面与竖直轴的夹角1290,98.996942φφ=?=?; 拱顶截面厚度00.45m,d = 墙底截面厚度n 0.45m d = 此处墙底截面为自内轮廓半径2r 的圆心向内轮廓墙底做连线并延长至与外轮廓相交,其交点到内轮廓墙底间的连线。 外轮廓线半径: 110 6.57m R r d =+= 2209.07m R r d =+= 拱轴线半径: '1200.5 6.345m r r d =+= '2200.58.845m r r d =+= 拱轴线各段圆弧中心角: 1290,8.996942θθ=?=? 5.3.2 半拱轴线长度S 及分段轴长S ? 分段轴线长度: '1 1190π 3.14 6.3459.9667027m 180180S r θ? = = ??=?? '2228.996942π 3.148.845 1.3888973m 180180S r θ?==??=?? 半拱线长度: 1211.3556000m S S S =+= 将半拱轴线等分为8段,每段轴长为: 11.3556 1.4194500m 88 S S ?= ==

comsol案例——肖特基接触

肖特基接触 本篇模拟了由沉积在硅晶片上得钨触点制成得理想肖特基势垒二极管得行为。将从正向偏压下得模型获得得所得J-V(电流密度与施加电压)曲线与文献中发现得实验测量进行比较 介绍 当金属与半导体接触时,在接触处形成势垒。这主要就是金属与半导体之间功函数差异得结果。 在该模型中,理想得肖特基接触用于对简单得肖特基势垒二极管得行为进行建模。使用“理想”这个词意味着在这里,表面状态,图像力降低,隧道与扩散效在界面处计算半导体与金属之间传输得电流应被忽略。 注意,理想得肖特基接触得特征在于热离子电流,其主要取决于施加得金属 - 半导体接触得偏压与势垒高度。这些接触通常发生在室温下掺杂浓度小于1×1016 cm-3得非简并半导体中。 模型定义 该模型模拟钨 - 半导体肖特基势垒二极管得行为。图1显示了建模设备得几何形状。它由n个掺杂得硅晶片(Nd = 1E16cm-3)组成,其上沉积有钨触点。该模型计算在正向偏压(0至0、25V)下获得得电流密度,并将所得到得J-V曲线与参考文献中给出得实验测量进行比较。该模型使用默认得硅材料属性以及一个理想得势垒高度由下列因素定义: ΦB=Φm-χ0 (1) 其中ΦB就是势垒高度,Φm就是金属功函数,χ0就是半导体得电子亲与力。选择钨触点得功函数为 Φm = 4,72V (2) 其中势垒高度为ΦB= 0、67V。 结果与讨论 图2显示了使用我们得模型(实线)在正向偏压下获得得电流密度,并将其与参考文献中给出得实验测量进行比较ref、 1(圆)。

建模说明 从文件菜单中,选择新建NEW。 N E W 1在“新建”窗口中,单击“模型向导”。 MODEL WIZARD 1 在模型向导窗口,选择2D轴对称 22在选择物理树中,选择半导体>半导体(semi)。 3单击添加。 4点击研究。 5在“选择”树中,选择“预设研究”>“稳态”。 6单击完成。 D E F I N I T I O N S 参数 1在“模型”工具栏上,单击“参数”。 2在“参数”得“设置”窗口中,找到“参数”部分。3在表格中,输入以下设置: 选择um做长度单位

欧姆接触与肖特基接触

欧姆接触 欧姆接触是指金属与半导体的接触,而其接触面的电阻值远小于半导体本身的电阻,使得组件操作时,大部分的电压降在活动区(Active region)而不在接触面。欧姆接触在金属处理中应用广泛,实现的主要措施是在半导体表面层进行高掺杂或者引入大量复合中心。 欧姆接触指的是它不产生明显的附加阻抗,而且不会使半导体内部的平衡载流子浓度发生显著的改变。 条件 欲形成好的欧姆接触,有二个先决条件: (1)金属与半导体间有低的势垒高度(Barrier Height) (2)半导体有高浓度的杂质掺入(N ≧10EXP12 cm-3) 区别 前者可使界面电流中热激发部分(Thermionic Emission)增加;后者则使半导体耗尽区变窄,电子有更多的机会直接穿透(Tunneling),而同时使Rc阻值降低。 若半导体不是硅晶,而是其它能量间隙(Energy Gap)较大的半导体(如GaAs),则较难形成欧姆接触 (无适当的金属可用),必须于半导体表面掺杂高浓度杂质,形成Metal-n+-n or Metal-p+-p等结构。 理论 任何两种相接触的固体的费米能级(Fermi level)(或者严格意义上,化学势)必须相等。费米能级和真空能级的差值称作工函数。接触金属和半导体具有不同的工函,分别记为φM和φS。当两种材料相接触时,电子将会从低工函一边流向另一边直到费米能级相平衡。从而,低工函的材料将带有少量正电荷而高工函材料则会变得具有少量电负性。最终得到的静电势称为内建场记为Vbi。这种接触电势将会在任何两种固体间出现并且是诸如二极管整流现象和温差电效应等的潜在原因。内建场是导致半导体连接处能带弯曲的原因。明显的能带弯曲在金属中不会出现因为他们很短的屏蔽长度意味着任何电场只在接触面间无限小距离内存在。 欧姆接触或肖特基势垒形成于金属与n型半导体相接触。 欧姆接触或肖特基势垒形成于金属与p型半导体相接触。在经典物理图像中,为了克服势垒,半导体载流子必须获得足够的能量才能从费米能

隧道工程练习题

《隧道工程》习题 第一章隧道工程勘测设计 1.隧道选址与线路选线有什么关系? 2.确定洞口位置的原则是什么?请解释其工程含义。 3.在按地质条件选择隧道位置时,所需要的地质资料有哪些?如何考虑地形条件对隧道位置的影响? 第二章隧道主体建筑结构 1.某新建铁路非电化曲线隧道,已知圆曲线半径R=1200m,缓和曲线长l=50m,远期行车速度 V=160km/h,隧道里程为:进口DK150+310;出口DK150+810;ZH点DK150+320;YH点DK151+000。 试求:各段加宽值与隧道中线偏移值。要求按教材P32图2-7所示,表示清楚,并注明不同加宽的分段里程。 ( 注:超高值以0.5cm取整,最大采用15cm;加宽值取为10cm的整数倍;偏移值取至小数点后2位) 2. 为什么说台阶式洞门能降低边仰坡开挖高度? 第三章隧道附属建筑 1.什么是避车洞?避车洞的设置间距是多少?在布置避车洞时应该避开哪些地方? 2.营运隧道的通风方式有哪些?什么是风流中性点?它与通风方式的关系怎样? 3.为什么公路隧道要设置不同的照明亮度段?它们各自的作用是什么? 第四章隧道围岩分类与围岩压力 1.影响围岩稳定性的主要因素有哪些?围岩分级主要考虑什么因素?围岩分级的基本要素是哪几 种?我国铁路隧道围岩分级主要考虑哪些因素?已知某隧道所处围岩节理发育,R b=26MPa,试问这是属于哪一级围岩? 2. 某隧道内空净宽6.4m,净高8m,Ⅳ级围岩。已知:围岩容重γ=20KN/m3,围岩似摩擦角φ=530,摩擦角θ=300,试求埋深为3m、7m,15m处的围岩压力。 第五章隧道衬砌结构计算 1.已知作用在衬砌基底面上的轴力N=870KN,弯矩M=43.5KN.m,墙底厚度h=0.6m,围岩抗力系数为150MPa/m。试求墙底中心的下沉量及墙底发生的转角。 2.什么情况下将围岩抗力弹簧径向设置?试推导径向设置的围岩抗力单元刚度矩阵。(注:抗力方向以挤压围岩为正)

扫描隧道显微镜(STM)的原理和应用

扫描隧道显微镜(STM)的原理和应用 【摘要】: 本实验主要学习扫描隧道显微镜的工作原理,了解STM的基本仪器结构,掌握 用电化学腐蚀方法制作STM探针,熟悉STM的数据采集并获取石墨的原子分 辨像,分析所得扫描图像计算x、y方向压电陶瓷的电压灵敏度分别为14.53、 15.6。 关键词: 扫描隧道显微镜隧道效应石墨晶体 一、实验引言: 随着材料科学的不断进步,人们能够复制改良设计合成很多种材料。为了能够探测到一些材料的表面形态,在20世纪80年代基于量子隧道效应,IBM公司的Binning博士、Rohrer博士及其同事研制成功了扫描隧道显微镜(scanning tunneling microscopy,简称STM)。两位发明者因此于1986年获得诺贝尔物理学奖。STM技术的诞生使在纳米尺度范围探测材料的表面特性成为可能,这是因为STM 能够一个原子一个原子地将表面的几何结构和电子结构联系起来,实时地观察单个原子在物质表面的排列状态及与表面电子行为有关的物理、化学性质。 STM技术的最大优势在于可获得原子级的分辨率,通常它的分辨率在平行于表面的方向可达0.1纳米,在垂直于表面的方向可达0.01纳米,此外,STM还可实时地获得材料表面实空间的三维图像;可以观察单个原子层的局部表面结构,而不是整个表面的平均性质;配合扫描隧道谱STS可以得到有关表面电子结构的信息,例如表面不同层次的态密度、表面电子势阱等。在STM之后衍生出了原子力显微镜、磁力显微镜、近场光学显微镜等一系列新型非接触表面探针技术显微镜,使探针显微镜技术日趋完善,并在纳米科技领域中得到越来越广泛的应用。 二、实验原理: 1、量子隧道效应

金属掺杂对肖特基势垒高度的调制以及它在肖特基势垒源漏MOSFET中的应用

A Study of Schottky Barrier Height Modulation by Metal Insertion and Its Application to SB-MOSFETs 金属掺杂对肖特基势垒高度的调制以及它在肖特基势垒源漏MOSFET中的应用 第一章介绍 1.1研究背景 The reduction of the size of MOSFETs is commonly referred to as scaling.Types:(1)Full Scaling 等比例缩小规律(2)Constant Voltage Scaling恒场按比例缩小规律 削弱短沟道效应的方法之一,是当MOSFET的沟道长度缩短时,要求器件的其他各种横向和纵向尺寸(栅绝缘层厚度,结深等),以及电压也按一定比例缩小,衬底掺杂浓度按比例增加(减小耗尽层宽度),使缩小后的MOSFET的内部电场仍与未缩小的MOSFET相同。к是大于1的无量纲缩小因子。表1.1是器件参数和电路性能因素按比例缩小的规律。掺杂浓度必须按比例κ增加为了保持缩小尺寸后器件泊松方程的不变。 如图,MOSFET的沟道长度越来越窄。随着器件尺寸的不断缩小,IC集成电路的性能越来越取决于源-漏极和它们之间连接的串联寄生电阻。

1.2下一代超大规模集成电路中晶体管所存在的问题 现在,最大的问题是栅氧化层的缩小。缩小栅氧化层厚度对于改善MOSFET性能是必需的。但目前几nm的二氧化硅栅氧化层不能抑制栅极漏电流。二氧化硅的最小厚度是1.2-1.5nm。针对此问题,最新研究用高k电介质(k值比传统二氧化硅高)来替代二氧化硅。如果我们使用材料k值是二氧化硅的5倍,得到相同电容,而物理氧化层厚度仅是原来的1/5。高k材料做栅极,要求满足k是大于10,禁带宽度大于1EV,热稳定性好,单结晶或无定形,小的缺陷密度。随着栅极氧化缩小,就不能忽视电容。它是沟道表面的反转电容和多晶硅栅电极的耗尽层电导。反演电容不能被忽略。而栅极的高掺杂浓度控制栅极耗尽层电容。然。措施是,使用多晶硅栅极代替金属栅。比例缩小造成了源极和漏极结深都很浅薄。但浅结测面有很高的阻抗。源和漏高浓度掺杂使阻抗降低。 1.3肖特基势垒MOSFET 过去四十多年硅集成电路的发展主要集中体现在MOSFET特征尺寸的减小上。通过减小MOSFET的特征尺寸,晶元上的元件个数逐渐增加,集成度大幅度提高。目前己有一些公司宣称器件研制水平达到45nm,65nm可以小批量生产,90nm已经可以投入市场。随着MOSFET特征尺寸的减小,芯片制造的复杂性和难度加大,原有的常规MOSFET的理论基础、器件结构、关键工艺、集成技术等一系列问题成为器件设计和制备者的巨大挑战。 对于常规MOSFET而言,随着沟道长度的减小沟道电势两维分布的影响逐渐显著,缓变沟道近似不再成立,短沟效应越来越明显,阻碍了器件尺寸进一步按比例缩小。理论上有效沟道长度只能降至70nm。为了抑制短沟效应,要求源、漏扩散区的结深也随之缩小,同时为保证器

隧道工程试题及答案

隧道工程》试题 一、名词解释题 1.特长公路隧道 2.平导 3.系统锚杆 4.斜眼掏槽 6.围岩弹性区 7.超前小导管 二、填空题: 1.铁路隧道净空是指所包围的空间;而隧道建筑限界是由限界所决定。 2.帘幕是配合式通风的设施;而沿隧道全长纵向间隔设置的称为风机。 3.非电爆破主要器材包括雷管、管、索。 4.隧道围岩分级的工程目的是为、和提供依据。 5.在各种辅助坑道的条件都具备的前提下,应优先采用隧道辅助坑道是。 6.为直眼掏槽炮眼提供临空面的是眼;楔形掏槽炮眼属于掏槽方式。 7.不设端墙且以明洞为主要结构的洞门称为洞门。 8.铁路曲线隧道不同加宽断面分为两段,它们是断面和断面。 9.依长度不同分类,长的铁路隧道称为隧道,而同样长的公路隧道称为隧

道。 10.隧道结构最常见的两类病害是病害和病害。 三、选择题: 1.对于浅埋隧道,围岩自然拱[ ] A.能形成 B.支护及时则能形成 C.让围岩充分变形则能形成 D.不能形成 2.隧道衬砌结构直刚法计算中,形成结构刚度矩阵的条件是[ ] A.变形谐调条件、静力平衡条件 B.变形谐调条件、静力平衡条件、边界条件 C.变形谐调条件 D.静力平衡条件 3.应该将钢筋网设置于[ ] A.喷层之中 B.二次衬砌之中 C.焊接于格栅钢拱架上

D.喷层与岩壁之间 4.隧道开挖后,一般来说,根据应力状况周围岩体将会呈现3 种区域,从洞内往岩层深处,依次分别是[ ] A.原始应力区、弹性区、塑性区 B.弹性区、塑性区、原始应力区 C.塑性区、原始应力区、弹性区 D.塑性区、弹性区、原始应力区 5.双跨连拱隧道最关键的部位是衬砌结构的[ ] A.拱圈 B.中隔墙 C.边墙 D.仰拱 6.短台阶法是应用广泛的一种施工方法,但在下列哪种条件下不适合用[ ] A.双线铁路隧道 B.小型施工机械配备 C.围岩条件很差,且对地表沉陷有较高要求 D.大跨公路隧道 A.岩石强度较高时,可保留欠挖,以节省圬工。 B.可以保留不大于规定值的欠挖量 7.对于隧道开挖时形成的欠挖,应该[ ]

扫描隧道显微术及其应用

STM的历史 1982年,国际商业机器公司苏黎世实验室的葛·宾尼(Gred Binning)博士和海·罗雷尔(Heinrich Rohrer)博士及其同事们共同研制成功了世界上第一台扫描隧道显微镜。它使人类第一次能够实时地观察单个原子在物质表面的排列状态和与表面电子行为有关的物理,化学性质,在表面科学、材料科学、生命科学等领域的研究中有着重大的意义和广阔的应用前景,Gred Binning和Heinrich Rohrer也因此荣获1986年诺贝尔物理学奖。 STM与其它表面分析技术相比所具有的独特优点: 1.具有原子级的高分辨率。STM在平行于和垂直于样品表面方向的分 辨率分别可达0.1nm和0.01nm。 2.可实时的得到在实空间中表面的三维图象,可用于具有周期性或 不具有周期性的表面结构研究。这种可实时的观测的性能可用于表面扩散等动态过程的研究。 3.可观察单个原子层的局部表面结构,而不是体相或整个表面的平 均性质。因而可直接观察到表面缺陷、表面重构、表面吸附体的形态和位置,以及由吸附体引起的表面重构。 4.可在真空、大气、常温等不同环境下工作,甚至可将样品浸在水 或其它溶液中,而不需要特别的制样技术,并且探测过程对样品无损伤。这些特点特别适于研究生物样品和在不同实验条件下对样品表面的评价,例如对于多相催化机理、超导机制、电化学反应过程中对电极表面变化的监测等。

5.配合扫描隧道谱STS(Scanning Tunneling Spectroscopy)可以得 到有关表面电子结构的信息,例如表面不同层次的态密度,表面电子阱、电荷密度波、表面势垒的变化和能隙结构等。 透射电镜与扫描电镜 参见有关该章节资料 场粒子显微镜 场粒子显微镜(FIM)是美国宾夕法尼亚大学的E.W.Muller教授在1951年发明的一种具有高放大倍数、高分辨率、并能直接观察表面 ,He)在带正高压的针尖原子的研究装置。它利用成像气体原子(H 2 样品的附近被场离子化,然后受电场加速,并沿着电场方向飞行到阴极荧光屏,在荧光屏上得到一个对应于针尖表面原子排列的所谓“场

肖特基的工作原理及特点

肖特基二极管的工作原理和特点 肖特基二极管(SBD)是一种低功耗、大电流、超高速半导体器件。其显著的特点为反向恢复时间极短(可以小到几纳秒),正向导通压降仅0.4V左右,而整流电流却可达到几千安培。肖特基二极管多用作高频、低压、大电流整流二极管、续流二极管、保护二极管,也有用在微波通信等电路中作整流二极管、小信号检波二极管使用。常用在彩电的二次电源 整流,高频电源整流中。 肖特基二极管是以其发明人肖特基博士(Schottky)命名的,SBD是肖特基势垒二极管(SchottkyBarrierDiode,缩写成SBD)的简称。SBD不是利用P型半导体与N型半导体接触形成PN结原理制作的,而是利用金属与半导体接触形成的金属-半导体结原理制作的。因此,SBD也称为金属-半导体(接触)二极管或表面势垒二极管,它是一种热载流子二极 管。 肖特基二极管是贵金属(金、银、铝、铂等)A为正极,以N型半导体B为负极,利用二者接触面上形成的势垒具有整流特性而制成的多属-半导体器件。因为N型半导体中存在着大量的电子,贵金属中仅有极少量的自由电子,所以电子便从浓度高的B中向浓度低的A中扩散。显然,金属A中没有空穴,也就不存在空穴自A向B的扩散运动。随着电子不断从B扩散到A,B表面电子浓度表面逐渐降轻工业部,表面电中性被破坏,于是就形成势垒,其电场方向为B→A。但在该电场作用之下,A中的电子也会产生从A→B的漂移运动,从而消弱了由于扩散运动而形成的电场。当建立起一定宽度的空间电荷区后,电场引起的电子漂移运动和浓度不同引起的电子扩散运动达到相对的平衡,便形成了肖特基势垒。 基本原理是:在金属和N型硅片的接触面上,用金属与半导体接触所形成的势垒对电流进行控制。肖特基与PN结的整流作用原理有根本性的差异。其耐压程度只有40V左右,大多不高于60V,以致于限制了其应用范围。其特长是:开关速度非常快:反向恢复时间特别地短。因此,能制作开关二极和低压大电流整流二极管。 肖特基二极管(SBD)的主要特点: 1)正向压降低:由于肖特基势垒高度低于PN结势垒高度,故其正向导通门限电压和 正向压降都比PN结二极管低(约低0.2V)。 2)反向恢复时间快:由于SBD是一种多数载流子导电器件,不存在少数载流子寿命和反向恢复问题。SBD的反向恢复时间只是肖特基势垒电容的充、放电时间,完全不同于PN 结二极管的反向恢复时间。由于SBD的反向恢复电荷非常少,故开关速度非常快,开关损 耗也特别小,尤其适合于高频应用。 3)工作频率高:由于肖特基二极管中少数载流子的存贮效应甚微,所以其频率响仅为RC时间常数限制,因而,它是高频和快速开关的理想器件。其工作频率可达100GHz。 4)反向耐压低:由于SBD的反向势垒较薄,并且在其表面极易发生击穿,所以反向击穿电压比较低。由于SBD比PN结二极管更容易受热击穿,反向漏电流比PN结二极管大。 SBD的结构及特点使其适合于在低压、大电流输出场合用作高频整流,在非常高的频率下(如X波段、C波段、S波段和Ku波段)用于检波和混频,在高速逻辑电路中用作箝

隧道工程计算题

隧道工程计算题 SANY标准化小组 #QS8QHH-HHGX8Q8-GNHHJ8-HHMHGN#

计算题 【围岩等级确定】参见书本 例题:某公路隧道初步设计资料如下 (1)岩石饱和抗压极限强度为62MPa (2)岩石弹性波速度为s (3)岩体弹性波速度为s (4)岩体所处地应力场中与工程主轴垂直的最大主应力σmax= (5)岩体中主要结构面倾角20°,岩体处于潮湿状态 求该围岩类别为(来源:隧道工程课件例题) 解:1.岩体的完整性系数Kv Kv=(Vpm/Vpr)2= 2= 岩体为破碎。 2.岩体的基本质量指标BQ (1)90 Kv+30=90*+30= Rc=62> 取Rc= (2)+= Kv => 取Kv = (3)BQ=90+3Rc+250 Kv=90+3*+250*= 3.岩体的基本质量分级 由BQ=可初步确定岩体基本质量分级为III级 4.基本质量指标的修正 (1)地下水影响修正系数K1 岩体处于潮湿状态,BQ=,因此取K1= (2)主要软弱面结构面产状修正系数K2 因为主要软弱结构面倾角为20,故取K2=

(3)初始应力状态影响修正系数K3 Rc/σmax=62/= 岩体应力情况为高应力区 由BQ=查得高应力初始状态修正系数K3= (4)基本质量指标的修正值[BQ] [BQ]=BQ-100(K1+K2+K3)=++= 5.岩体的最终定级 因为修正后的基本质量指标[BQ]=,所以该岩体的级别确定为IV 级。 【围岩压力计算】参见书本 某隧道内空净宽,净高8m ,Ⅳ级围岩。已知:围岩容重γ=20KN/m 3 ,围岩似摩擦角φ=530,摩擦角θ=300 ,试求埋深为3m 、7m 、15m 处的围岩压力。( 来源:网络) 解: 14.1)54.6(1.01=-+=ω 坍塌高度:h=1 s 2 45.0-?x ω=14.1845.0??=m 104.4 垂直均布压力:08.8214.120845.0245.01 4=???=???=-ωγq Kn/m2 荷载等效高度:m q h q 104.420 08 .82== = γ 浅埋隧道分界深度:m h H q q )() 26.10~208.8104.45.2~2()5.2~2(=?== 1、 当埋深H=15m 时,H 》q H ,属于深埋。 垂直均布压力:h q γ=== Kn/m2 ; 水平均布压力:e=(~)q =(~)=~ Kn/m2 2、当埋深H=3m 时,H 《q h ,属于浅埋。 垂直均布压力:q=γ H = 20x3= 60 Kn/m2, 侧向压力:e=)245(tan )21(002φγ-+ t H H = 20x(3+1/2x8))2 53 45(tan 02-=m2;

公路隧道设计规范

公路隧道设计规范(JTG D70-2004) 1 总则 (1) 2 主要术语与符号 (2) 3 隧道调查及围岩分级 (5) 4 总体设计 (11) 5 建筑材料 (17) 6 荷载 (22) 7 洞口及洞门 (25) 8 衬砌结构设计 (27) 9 结构计算 (33) 10 防水与排水 (40) 11 小净距及连拱隧道 (42) 12 辅助通道 (44) 13 辅助工程措施 (48) 14 特殊地质地段 (51) 15 隧道内路基与路面 (54) 16 机电及其它设施…………………………………………………………………68 附录A围岩分级有关规定 (60) 附录B隧道标准内轮廓 (63) 附录C型钢特性参数表 (65) 附录D释放荷载的计算方法 (69) 附录E浅埋隧道荷载的计算方法 (71) 附录F偏压隧道衬砌荷载的计算方法 (74) 附录G明洞设计荷载的计算方法 (75) 附录H洞门土压力荷载的计算方法 (77) 附录I荷载结构法 (78) 附录J地层结构法 (80) 附录K钢筋混凝土受弯和受压构件配筋量计算方法 (88) 附录L本规范用词说明 (94) 在编制过程中,编制组对全国已建和在建的公路隧道进行了较广泛的调查研究,搜集并分析了大量设计文件、工程报告、营运管理报告,就有关专题进行了研究,并听取了全国有关设计院和专家的意见。考虑到我国公路隧道技术起步较晚,其经验和基础性工作不足,因此在我国经验的基础上又采用或借鉴了国外公路隧道的成功经验和先进技术。 本次修订中,充分考虑了与其它相关标准、规范的协调性,并保持一致。同时,在全面修订的原则下,尽量按原《规范》的风格编排撰写。本次修订的重点为调查、围岩分类、总体设计、锚喷支护与衬砌、洞口段工程、结构计算、特殊构造设计、特殊地质地段设计等,并增加了三车道隧道、连拱隧道和小净距隧道等内容。 关于强制性条款 《公路隧道设计规范》(JTG D70-2004)中第1.0.3、1.0.5、1.0.6、1.0.7、3.1.1、3.1.3、7.1.2、8.1.2、10.1.1、15.1.1、15.1.2、16.1.1条为强制性条款,必须 按照国家有关工程建设标准强制性条文的有关规定严 格执行。《工程建设标准强制性条文》(公路工程部

肖特基接触与欧姆接触

欧姆接触 是指金属与半导体的接触,而其接触面的电阻值远小于半导体本身的电阻,使得组件操作时,大部分的电压降在活动区(Active region)而不在接触面。 欲形成好的欧姆接触,有二个先决条件: (1)金属与半导体间有低的势垒高度(Barrier Height) (2)半导体有高浓度的杂质掺入(N ≧10EXP12 cm-3) 前者可使界面电流中热激发部分(Thermionic Emission)增加;后者则使半导体耗尽区变窄,电子有更多的机会直接穿透(Tunneling),而同时使Rc阻值降低。 若半导体不是硅晶,而是其它能量间隙(Energy Cap)较大的半导体(如GaAs),则较难形成欧姆接触(无适当的金属可用),必须于半导体表面掺杂高浓度杂质,形成Metal-n+-n or Met al-p+-p等结构。 理论 任何两种相接触的固体的费米能级(Fermi level)(或者严格意义上,化学势)必须相等。费米能级和真空能级的差值称作工函。接触金属和半导体具有不同的工函,分别记为φM和φS。当两种材料相接触时,电子将会从低工函一边流向另一边直到费米能级相平衡。从而,低工函的材料将带有少量正电荷而高工函材料则会变得具有少量电负性。最终得到的静电势称为内建场记为Vbi。这种接触电势将会在任何两种固体间出现并且是诸如二极管整流现象和温差电效应等的潜在原因。内建场是导致半导体连接处能带弯曲的原因。明显的能带弯曲在金属中不会出现因为他们很短的屏蔽长度意味着任何电场只在接触面间无限小距离内存在。 欧姆接触或肖特基势垒形成于金属与n型半导体相接触。 欧姆接触或肖特基势垒形成于金属与p型半导体相接触。在经典物理图像中,为了克服势垒,半导体载流子必须获得足够的能量才能从费米能级跳到弯曲的导带顶。穿越势垒所需的能量φB是内建势及费米能级与导带间偏移的总和。同样对于n型半导体,φB = φM ? χS当中χS是半导体的电子亲合能(electron affinity),定义为真空能级和导带(CB)能级的差。对于p型半导体,φB = Eg ? (φM ? χS)其中Eg是禁带宽度。当穿越势垒的激发是热力学的,这一过程称为热发射。真实的接触中一个同等重要的过程既即为量子力学隧穿。WKB近似描述了最简单的包括势垒穿透几率与势垒高度和厚度的乘积指数相关的隧穿图像。对于电接触的情形,耗尽区宽度决定了厚度,其和内建场穿透入半导体内部长度同量级。耗尽层宽度W可以通过解泊松方程以及考虑半导体内存在的掺杂来计算: 在MKS单位制ρ 是净电荷密度而ε是介电常数。几何结构是一维的因为界面被假设为平面的。对方程作一次积分,我们得到 积分常数根据耗尽层定义为界面完全被屏蔽的长度。就有 其中V(0) = Vbi被用于调整剩下的积分常数。这一V(x)方程描述了插图右手边蓝色的断点曲线。耗尽宽度可以通过设置V(W) = 0来决定,结果为

隧道与地下工程复习题

《隧道与地下工程》复习思考题 1.隧道工程的调查包括哪些内容?其中地形地质调查的内容是什么?各勘察阶段采用什么勘察方法? (1)包括施工前调查和施工中调查。其中施工前调查包括地形地貌及地质调查、气象调查、环境调查、施工条件调查以及与工程有关的政策法规调查等。 施工中调查是在隧道建设过程中,随着开挖掘进的进行,对开挖暴露出的地质体进行实际勘察。(2)地形地质调查分为初勘和详勘两个阶段。初勘是查明工程论证区域的地形地貌条件、地质体的物质组成、地质构造特征、物理化学地质现象等地质背景,以及与工程建设的关系。详勘除了包括初勘的内容外,还应详细调查工程部位岩体的结构特征,如岩体的完整性,节理裂隙的发育及分布特征等,为技术设计中的围岩分级提供依据。 (3)初勘采用实地踏勘、测绘,并开展必要的勘探工作。详勘采用大比例尺工程地质测绘、钻探、工程物探以及必要的测试和实验等多种方法进行综合分析。 2.隧道工程总体设计的基本原则是什么?总体设计都包括哪些内容? (1)在各项调查基础上综合分析对比隧道各线路方案,提出优化设计方案。在复杂不良地质条件下,长大隧道尽量避开不良地质地段,中短隧道可服从道路总体路线走向。在满足隧道功能和结构受力良好的前提下确定经济合理的断面形状。隧道的平、纵线型应与两端衔接的引线道路线型相协调。选择合理通风、照明方式。对隧道内外防排水系统、消防给水系统、辅助通道、管理设施等作全面综合考虑。当隧道工程建设与周围建筑物互有影响时,应在设计和施工中采取必要的措施。 (2)总体设计包括隧道定位设计,洞口位置选择,隧道平面线形设计,隧道纵断面线形设计,隧道净空及建筑限界。 3.在隧道选线设计中,是不是线路越短越好?为什么? (1)不是,路线短的地方往往是沟谷地方,地质条件差,通常有断层破碎带或软弱岩层发育,也会有地下水汇集,作为隧道的围岩其稳定性往往较差。 4.隧道轴线方向的确定(选择)应考虑哪些问题?应如何选择洞口的位置? (1)地应力场和地质结构面,从地应力角度看,当隧道轴线与最大主应力方向水平投影的夹角为15°~30°时,稳定性较好,且隧道轴线设计应尽量垂直最发育的结构面,即最大主应变面。 (2)不宜设在垭口沟谷的中心或沟底低洼处。避开不良地质地段。不破坏或少破坏山体坡面。 进出口洞口线路宜与地形等高线正交。洞口标高应高于洪水位家波浪高度。边坡和仰坡均不宜开挖过高。隧道穿过悬崖陡壁时要注意岩壁的稳定性。洞口附近遇有水沟或水渠横跨线路时,设置桥梁或涵洞。可利用弃渣有计划有目的的改造洞口场地。洞口地段埋深较浅,应考虑附近地面建筑物、地下埋设物对隧道的影响及对策。 根据地形地质条件,考虑边坡仰坡的稳定,结合洞外有关工程及施工难易程度,本着早进晚

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