集成光学器件

集成光学器件
集成光学器件

一、光纤陀螺用集成光学芯片(Y波导调制器)

1.1 芯片结构:

1.2 工作原理:

光纤陀螺用Y波导集成光学器件在光纤陀螺系统中作信号处理用,经光源发出的光由器件的Y分支波导分成两束光,分别沿顺时针和逆时针方向通过光纤线圈后,又由Y分支波导合束为一束光,最后达光电探测器。当线圈静止不动时,两束光到达Y 分支合束器时的光相位相等,当线圈转动时,两束光之间将产生一个与线圈转速成比例的相位差,即塞格纳克效应。在推挽电极上上施加调制电压,利用衬底材料的电光效应改变光波导的折射率,从而改变两束光在光波导中传播的光程,引入一个相位差,补偿效应,于是通过外加调制信号可以检测相位差,从而检测光纤线圈的转速。

1.3 应用领域:

用于飞机、轮船、导弹、汽车等运动物体姿态控制的光纤陀螺系统中;

电流传感系统中,利用法拉第效应测量通过光纤环路的电流大小。

1.5 产品实物图与外形尺寸:

1.6 使用方法与注意事项

a 该器件工作于单偏振状态,入光的偏振态必须与器件保持一致。

b为了防止器件的电损伤,调制器的电极电压应低于30V。

c 注意事项

d 光纤施力过大易断裂,不宜拉扯,扭折,弯曲半径不得小于30mm。

e 管壳与光纤间不允许施加过大应力。使用时,应同时拿起管壳与光纤,切勿使管壳与光纤交接处发生弯曲,以防光纤断裂影响器件性能。

f 存储器件环境湿度低于50%,且不含有对器件有害的材料。

g 应避免使器件承受强烈的热冲击,避免使器件受热不均匀。

h 光纤连接回路的连接处应避免施加应力。

1.7 发展方向:

进一步降低损耗(≤4dB(典型值 3.5dB),拓宽工作温度到-65?C~+85?C,提高批量化生产能力达5000只/年。提高集成度:在同一芯片上制作多个Y波导调制器。

1.8 特点:

低损耗、低电压、单偏振、宽工作温度范围、高稳定性。

二、光通信用集成光学强度调制器

2.1 芯片结构:

2.2工作原理:

集成光学强度调制器在LiNbO3衬底上利用质子交换与退火工艺制备“M-Z”干涉型光波导,然后在“M-Z”光波导的分支两臂上制备行波调电调极,采用稳定可靠的耦合技术将光波导和光纤耦合而成。在偏置电极上加偏置电压使器件工作在所需的工作点上,然后在行波电极上施加调制信号,由于LiNbO3材料的电光效应,干涉仪的分支两臂上的传导光产生相位差,从而干涉仪输出端产生干涉光强输出,输出光的强度随外加调制信号幅度而变化,形成强度调制,从而将调制信号加载到光波上进行传输或变换。

2.3 应用领域:

用于宽带光纤通信系统,将信号波加载到强度调制器的调制输出波形上,实现信号的载波调制;

用于电场传感系统中,感应外界空间的电场分布,转换为调制器的输出波形,从而测量电场分布。

用于雷达系统中作宽带高速信号传输。

2.4 技术指标:

2.5 实物图与外形尺寸:

2.6 使用方法与注意事项

a 若器件工作于单偏振状态,入光的偏振态必须与器件保持一致。

b 为了防止器件的电损伤,调制器的电极电压应低于30V 。

c 注意事项

d 光纤施力过大易断裂,不宜拉扯,扭折,弯曲半径不得小于30mm 。

e 管壳与光纤间不允许施加过大应力。使用时,应同时拿起管壳与光纤,切勿使管壳与光纤交接处发生弯曲,以防光纤断裂影响器件性能。

f 存储器件环境湿度低于50%,且不含有对器件有害的材料。

g 应避免使器件承受强烈的热冲击,避免使器件受热不均匀。

h 光纤连接回路的连接处应避免施加应力。 2.7 发展方向:

目前正在进行18GHz 强度调制器技术攻关,将向40GHz 的调制带宽发展。 2.8特点:

单偏振或偏振无关、宽带、高速、低压。 三、GC1120S 型高消光比集成光学强度调制器 3.1芯片结构:

3.2工作原理:

在衬底上利用质子交换与退火工艺制备两个相互串联的“M -Z”干涉型光波导,然后在每个“M -Z”光波导的分支两臂上制备行波调制电极,然后将光波导和光纤耦合而成。在行波电极上施加调制信号,由于材料的电光效应,干涉仪的分支两臂上的传导光产生相位差,从而干涉仪输出端产生干涉光强输出,输出光的强度随外加调制信号幅度而变化,形成强度调制。器件将两个“M -Z”强度调制器串联,经过第一个强度调制器的一级调制消光后,其最小输出干涉光强再由第二个强度调制器进行二级调制消光,从而得到高消光比

3.3应用领域:

在核爆模拟激光驱动器系统中作激光脉冲信号电光变换与信号传输用,以及用于光

纤水听器。 3.4

3.5实物图与外形尺寸:

表1 外形尺寸 mm

3.6 使用注意事项

a 若器件工作于单偏振状态,入光的偏振态必须与器件保持一致。

b为了防止器件的电损伤,调制器的电极电压应低于30V。

c 注意事项

d 光纤施力过大易断裂,不宜拉扯,扭折,弯曲半径不得小于30mm。

e 管壳与光纤间不允许施加过大应力。使用时,应同时拿起管壳与光纤,切勿使管壳与光纤交接处发生弯曲,以防光纤断裂影响器件性能。

f 存储器件环境湿度低于50%,且不含有对器件有害的材料。

g 应避免使器件承受强烈的热冲击,避免使器件受热不均匀。

h 光纤连接回路的连接处应避免施加应力。

3.7发展方向:

降低损耗和半波电压,提高稳定性,提高成品率。

3.8特点:

高消光比,单偏振工作

四相位调制器

4.1芯片结构:

4.2 工作原理:

集成光学相位调制器是在LiNbO3衬底上利用质子交换与退火工艺制备条形光波导,然后在光波导的两边制备行波调制电极,在行波电极上施加调制信号,利用LiNbO3材料的电光效应,改变光波导区的折射率,从而改变传导光的相位,具有一定的相位调制系数。4.3应用领域:

在核爆模拟系统中进行边带调制脉冲展宽,线性调频。

在光纤通信和光纤传感系统中进行相位载波,脉冲编码。

在量子通信系统中进行脉冲编码。

4.4技术指标:

4.5实物图与外形尺寸:

4.6 使用注意事项

a 若器件工作于单偏振状态,入光的偏振态必须与器件保持一致。

b 为了防止器件的电损伤,调制器的电极电压应低于30V 。

c 注意事项

d 光纤施力过大易断裂,不宜拉扯,扭折,弯曲半径不得小于30mm

e 管壳与光纤间不允许施加过大应力。使用时,应同时拿起管壳与光纤,切勿使管壳与光纤交接处发生弯曲,以防光纤断裂影响器件性能。

f 存储器件环境湿度低于50%,且不含有对器件有害的材料。

g 应避免使器件承受强烈的热冲击,避免使器件受热不均匀。

h 光纤连接回路的连接处应避免施加应力。 4.7发展方向:

降低损耗,降低半波电压,提高带宽。 4.8特点:

单偏振或偏振无关、低压、低损耗、调制带宽宽 五、光开关

1?2 1?4 1?8

5.1工作原理:

(1)1?2或2?2开关单元:设计定向耦合器的两个波导完全对称、相互靠近,波导长度L满足KL=(2q+1)π/2(q为整数,K为耦合系数)时,两个波导间可以产生完全的功率转换。在两波导上做一对调制电极,则构成电光波导定向耦合器,当电极施加电压后,两个波导内产生大小相等方向相反的电场Ez,使一个波导的传播常数增加,另一个减小,出现相位失配,通过两波导间的消逝场耦合实现波导间功率转换,从而对光波进行开关调制。

(2)1?4光开关:可由多个1?2开关单元构成:

分别对开关电极1、2、3加开关电压,可以使输入光选择不同的光路传输。

(3)可以采用两个1?4和一个1?2构成1?8光开关等

5.2 应用领域:

用于光控相控阵雷达、光纤延迟线、波分复用、光纤通信路由选择等系统中。

5.4 特点:

开关时间短,因而开关速度快。

六、分路器

光分路器与光开关光分路一样,由多个3dB Y形分束器通过级联方式组成多路分

路器

6.1技术指标:

工作波长:1.3um/1.55um

插入损耗:≤4dB(1?2)

功率分配不均匀性(1?2:3%),1?4:6%,

1?8:10%,1?16:10%)

尾纤偏振串音:≤-20dB

6.2特点:

单偏振或偏振无关,多路分束.

第13课带有衍射光学元件的激光扩束器

第13课.带有衍射光学元件的激光扩束器 在第11课中,您了解了如何使用普通球面透镜设计激光扩束器,并了解到需要多个透镜元件才能获得良好的性能。第12课采用相同的设计,使用两个非球面元件,效果极佳。本课程将证明您可以使用DOE(衍射光学元件)。 to within10%.目标是将腰半径为0.35mm的HeNe激光器转换成直径为10mm且均匀至10%以内的光束 这是我们初始的输入文件: RLE!Beginning of lens input file.。 ID KINOFORM BEAM SHAPER WA1.6328!Single wavelength UNI MM!Lens is in millimeters OBG.351!Gaussian object;waist radius-.35mm;define full aperture=1/e**2point. 1TH22!Surface2is22mm from the waist. 2RD-2TH2GTB S!Guess some reasonable lens parameters;use glass type SF6from Schott catalog SF6 3TH20!Surface3is a kinoform on side2of the first element 3USS16!Defined as Unusual Surface Shape16(simple DOE) CWAV.6328!Zones are defined as one wave phase change at this wavelengt HIN1.798855!Assume the zones are machined into the lens.You can also apply!a film of a different index. RNORM1 4TH2GTB S SF6 4USS16 CWAV.6328 HIN1.798855 RNORM1!The first side of the second element is also a DOE 5CV0TH50!Start with a flat surface 7!Surfaces6and7exist AFOCAL!because they are required for AFOCAL output. END!End of lens input file. 我们给第2个表面指定了一个合理RD值。这是现阶段还没有DOE的非球面系数的系统:

集成光学讨论题

聚合物电光波导调制器的研究 一.概述 聚合物电光调制器具有卓越的性能和潜在的巨大应用前景,因此自上世纪九十年代以来就开始受到人们的广泛关注。迄今,由于材料研究方面的进展,聚合物调制研究已经取得了巨大进步,但是仍然存在诸如器件稳定性问题和高损耗问题。 在学习了《集成光学》这门课程之后,受到老师和其他上台演示的同学的启发,我对聚合物电光调制器产生了浓厚的兴趣,思考如何能解决器件损耗的问题,在查阅了大量的资料后发现,有一种“包层调制”的方法可以降低器件损耗,即高损耗的电光聚合物材料被用于波导的包层,而其芯层则使用低损耗的非电光的有机或无机材料,由于线性电光效应,信号电场在包层中与其中的光导模消逝场发生耦合,将信号场的能量搭载到光载波上,从而实现信号调制。由于包层中弱的导模功率,因此可以预期包层调制下的材料光损耗是可以降低的,通过优化设计与分析发现适当降低波导芯层的尺寸可以弥补因包层调制引起的调制效率的下降。本文将简单介绍聚合物电光波导调制器的发展、研究、应用以及“包层调制”的基本概念。 二.光调制的基本概念和调制器的种类 1.光调制的一些基本概念 光调制就是将电信号加载到光波上并使得光波的可观测量,如位相、频率、振幅偏偏振,发生变化的过程。最简单直接的调制就是激光光源的内调制,它是利用调制信号直接控制激光器的振荡参数,使输出光特性随信号而变。在直接调制半导体激光二极管的过程中,不仅输出光强度随调制电流发生变化,而且输出光的频率也会发生波动,也就是说在幅度调制的同时还受到频率调制,特别是在信号频率进入微波时的高速调制情况下,这个现象称为“啁啾”特性。由于啁啾的存在,不仅使单个纵模的线宽展宽,而且在单模光纤中传播时,在色散的作用下将使信号的非线性失真加剧,从而限制了通讯系统的中继距离一般小于 80km。与内调制相对照,还存在另一种调制方式--外调制。所谓外调制,就是在激光器的外部设置调制器,利用调制信号作用于调制元件时所产生的物理效应(如电光、声光或磁光等),使通过调制器的激光束的某一参量随信号变化。相比于内调制,外调制方法不仅调制速率高,带宽大,而且无频率啁啾,因此成为当今大容量、长中继的WDM光纤通讯系统和高速光处理系统的标准方法。 调制时光波的任何一个特性参数(位相、频率、振幅、偏振)都可以被调制,相应地,光调制方式可以分为相位调制、振幅调制、频率调制、偏振调制。由于通常的光探测器的输出信号直接与入射光波的强度有关,探测器可以直接从强度调制波还原出调制信号。而相位调制或频率调制等必须采用外差接收来解调,在技术上比较复杂和困难,所以强度调制用的多。 2.光调制器的种类 按照调制器的工作原理,光调制器可以分为电光调制器、声光调制器、磁光调制器、电致吸收调制器。 电光调制器是利用介质的线性电光效应(Electro-optic Effect, EO )来工作的。由于电光效应,介质的折射率变化随信号电压线性改变,介质折射

Optics 光学元件

Optics 光学元件 Optical lenses 透镜 Optical mirror 反射镜 Windows or diffusers 窗口片或扩散片 Prisms 棱镜 Polarizer 偏振镜 Deamsplitter 分束镜 Diffracting grating 衍射光栅 Optic assemblies 光学装配件 UV(ultraviolet) or IR(infrared radiation) optics 光学产品 Laser optics 激光片 Fresnel Reflection 菲涅尔反射 Refractive index 折射率 Optical components 光学元件 使用偏光滤镜,刚可以一定程度上消除反射、提高对比度;调整偏光滤镜直到得到您想要的效果。 Use a polarizing filter to eliminate some of the reflection and increase contrast; rotate it until you have the effect you want. Contrast ratio 对比度 Spectral range 光谱范围 Coating 镀膜 band pass filters(BPF) 带通滤波器 edge filters 截止滤光器(边缘滤光器) beam splitters(BS) 分光器(光束分离器)dichroic color filters 二色性颜色滤光器 anti reflection(AR)coatings 防反(射)涂层 mirrors(R-max coatings) 反射镜(反射最大化涂层) special coatings 特殊涂层optical designs 光学设计 optical modules 光学模块(组件) precision tooling(Dicing&Centering)精密工具(划片和定中心用) wavelength shift 波长位移波长偏移 laser diode 二极管

衍射光学元件

Top Hat Beam Shaper-高帽光束整形 HOLO/OR几十年来服务于堆栈高帽元件模拟,可以很好地 定义高斯光束,将其在工作平台上转换为均匀强度光斑。 应用领域:激光切割,激光焊接,激光显示,激光医学和审 美激光应用 Beam Splitter/Multispot-分束器/多场 分束器元件为衍射光学元件,用于将一束激光光束分离为几束,每束光都有最初那束光的特性,这些特性不包括光能量大小和传播角度。多束光方向可以形成一维或二维光图像。 应用领域:激光打孔,医疗表面处理,并行处理,并行激光扫描 Homogenizer/Diffuser-均化器/扩散器 HOLO/OR有多样且广泛的工业衍射光元件,允 许在合理的价格范围内提供解决方案。 应用领域:允许任何光束类型,小扩散角,自定 义角度,各种波长和尺寸,自定义形状 Beam Sampler-光束采样器 HOLO/RO介绍一种新的ED匀化器,由纯石英 玻璃或硒化锌材料组成,可选择在这两种材料表 面进行高功率ARV-镀膜,有利于给出解决方案, 显著减少0.2% 的后向反射。(每个面0.1%) 应用领域:直插式功率,嵌入式光束分析

Dual Wavelength-双波长产生器 衍射光学给出了一个独特的构想,可以只影响 一个波长。在多波长光束中,双波长光束组合 器是衍射光学元件,用于将两束入射光以不同 的波长组合到相同焦点上,为在所需观察面上 获得一个强光斑,就必须在激光光束射向光斑 的路径上放置一个透明的衍射光学元件。 应用领域:外科手术激光系统,工业二氧化碳激光系统 Vortex lens-涡旋透镜 Holo-Or介绍了VL系列涡旋微透镜,由纯石英 玻璃或硒化锌材料组成,可选择在这两种材料 表面进行高功率ARV-镀膜,有利于给出解决方 案,显著减少0.2% 的后向反射。(每个面0.1%) 应用领域:天文学,光学镊子,加密术 Lenslet arrays-微透镜阵列 微透镜阵列基底由微衍射透镜覆盖,微透镜阵 列作为扩散器,或者作为局部焦点和采样点。 衍射微透镜阵列的优势在于其占空因子为 100%,高于折射微透镜阵列。可以很容易地进 行设计和成像,并修正微透镜成像系统像差。 应用领域:光束扫描仪,焦平面阵列光传感器 Multifocal Lenses-多焦点透镜 衍射光学可以从一个入射光产生多个输出光束,而不是典型的折射透镜,沿着光轴由一个焦点获得多个焦点,并都处于焦平面,这样的透镜被称为多焦微透镜,它们对于并行放大系统,光传感,视觉应用等十分重要。同时,这些透镜也可以应用于准长焦点元件,在材料处理上有效创建长深度焦点。

衍射光学元件示意图,衍射元件应用原理图

衍射光学元件示意图 经过多年发展,海纳光学已经成为国内极具权威的衍射光学元件供应商。衍射光学元件主要分为光束整形器、分束器、多焦点DOE、长焦深DOE、衍射锥镜、螺旋相位片、匀化片和其它图案的衍射元件DOE。这里我们挑选较常用的整形镜、分束器、多焦点DOE,专门给出了这些衍射光学元件的示意图,衍射元件应用原理图,让用户能够对衍射元件的使用、安装位置和衍射过程一目了然。 一、光束整形器,整形镜,Beam Shaper, Top hat beam shaper 平顶光束整形器的作用是把高斯光束转换为平顶光束,即高斯整平顶。平顶光斑具有效率高、光斑小、能量均匀性好等特点,顶部能量绝对均匀,边缘陡峭,无高级次衍射,也称为平顶帽式光斑。光束整形器又称为整形镜,高斯整平顶DOE,平顶光整形器,平顶帽式整形镜,平顶光DOE,是最具代表性的衍射光学元件之一。 下面图片可以清晰地看到整形镜获得平顶光斑的过程,整形镜得到的平顶光斑的尺寸为衍射极限的1.5倍~几百倍,要求入射的高斯光束为TEM00的单模光。一般整形镜的衍射效率>93%,均匀性>95% (多台阶整形镜),对安装精度要求较高。

整形镜不仅可以把入射光整形成圆形、正方形,还可以整形成直线、长方形、六边形等其它用户需要的形状。下图是把高斯光整形成直线光斑的示意图,这里我们用到一个模组而不是单独的镜片,这个模组成为Leanline,其克服了整形镜的工作距离限制,能够在一定工作距离范围内保持光束整形的效果。 二、匀化器、匀化镜、均匀光斑DOE、扩散片,Homogenizer, Diffuser 激光匀化器的作用是把入射激光转换成能量均匀分布的光斑,这里的光斑尺寸一般较大,形状可以为圆形、正方形、线性、六边形和其它任意用户想要定制的形状。入射激光可以为单模或多模,衍射效率70%~90%不等。 下图清晰地给出了匀化器的匀化过程,一般的结构是激光通过匀化器和聚焦系统后即可匀化,但这里还配合了一个激光扩束缩束镜,通过调节这个扩束缩束镜就可以直接调节输出光斑的大小。

光电子与微电子器件及集成重点专项2019年度项目申报

附件4 “光电子与微电子器件及集成”重点专项 2019年度项目申报指南 为落实《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006—2020年)》《2006—2020年国家信息化发展战略》提出的任务,国家重点研发计划启动实施“光电子与微电子器件及集成”重点专项(以下简称“本重点专项”)。根据本重点专项实施方案的部署,现提出2019年度项目申报指南。 本重点专项的总体目标是:发展信息传输、处理与感知的光电子与微电子集成芯片、器件与模块技术,构建全链条光电子与微电子器件研发体系,推动信息领域中的核心芯片与器件研发取得重大突破,支撑通信网络、高性能计算、物联网等应用领域的快速发展,满足国家发展战略需求。 本重点专项按照硅基光子集成技术、混合光子集成技术、微波光子集成技术、集成电路与系统芯片、集成电路设计方法学和器件工艺技术6个创新链(技术方向),共部署49个重点研究任务。专项实施周期为5年(2018—2022年)。 2019年度项目申报指南在核心光电子芯片、光电子芯片共性支撑技术、集成电路与系统芯片、集成电路设计方法学和器件工 —1—

艺技术5个技术方向启动19个研究任务,拟安排国拨总经费概算6.75亿元。凡企业牵头的项目须自筹配套经费,配套经费总额与专项经费总额比例不低于1:1。 各研究任务要求以项目为单元整体组织申报,项目须覆盖所申报指南方向二级标题(例如:1.1)下的所有研究内容并实现对应的研究目标。除特殊说明外,拟支持项目数均为1~2项。指南任务方向“1.核心光电子芯片”和“2.光电子芯片共性支撑技术”所属任务的项目实施周期不超过3年;指南任务方向“3.集成电路与系统芯片”、“4.集成电路设计方法学”和“5.器件与工艺技术”所属任务的项目实施周期为4年。基础研究类项目,下设课题数不超过4个,参研单位总数不超过6个;共性关键技术类和应用示范类项目,下设课题数不超过5个,参与单位总数不超过10个。项目设1名项目负责人,项目中每个课题设1名课题负责人。 指南中“拟支持项目数为1~2项”是指:在同一研究方向下,当出现申报项目评审结果前两位评分评价相近、技术路线明显不同的情况时,可同时支持这2个项目。2个项目将采取分两个阶段支持的方式。建立动态调整机制,第一阶段完成后将对2个项目执行情况进行评估,根据评估结果确定后续支持方式。 1.核心光电子芯片 1.1多层交叉结构的光子集成芯片(基础研究类) 研究内容:聚焦基于硅基多维度交叉结构的光子集成芯片,—2—

超精密光学元器件制造装备与工艺

超精密光学元器件制造装备与工艺 1、任务概述 超精密光学元器件制造装备与工艺的研究,目的就是为了给国家重大专项所建设的大型激光装置提供合格的大口径、高品质的光学元件,保证工程的圆满按期完成;通过项目的执行,有效推进相关领域的元件检测、脆性材料制造工艺、表面处理等关键技术的进步;通过对知识产权的拥有,来提升民族产业的技术水平和竞争力。所谓的光学元件的超精密加工指的是加工精度达到亚微米或纳米精密的光学加工与制造,这相当于一根人的头发丝的1/20~1/100的精微尺度,如果在1m的天文望远镜主镜上达到这个加工精度,做一个同比例的比喻,相当于一公里长度的铁轨其长度误差只有0.5mm。以至于光学元件的超精密制造技术是一项技术难度非常大,且涉及新进加工、数控、仿真、精密计量等诸多方面的综合技术。 2、战略意义 在我国中长期科技发展规划中,与激光科学工程相关的国家重大专项涵盖了很多重要技术领域,这些领域与上海的2006-2020发展纲要是密切相关的。该专项的实施对于我国未来清洁能源、先进制造、光通讯、国防安全等领域的技术革新和长远发展具有重要的战略意义。 超精密光学元器件对这些大型激光装置来说,就如同砖、瓦、钢筋水泥对建筑高楼大厦一样重要。元器件的制造装备与工艺决定了元

器件的性能和品质,直接影响装置最终的输出性能和输出状态。对于传统光学仪器,如显微镜和望远镜无限制的扩大了人们的视野,是人的眼睛得意“更远、更精、更大”,而光学元件器正是这些光学仪器的器官。因此上海在此时适时布局和规划有关超精密光学元器件的制造与工艺研究具有非常重要的战略意义。 3、国内外现状 无论国内还是国际对于超精密光学元器件制备与工艺技术的驱动均来自于军事、航天、天文及大型民用项目,在美国最大的激光装置是本世纪初刚刚建成的NIF“国家点火工程”其共有光路192路,其中高精度大口径光学元件达7000余片。在国际上类似的装置还有法国的LMJ (Laser Mega Joule)装置。在中国最大的激光装置是建设中的神光III装置。受到大能量和高功率激光驱动装置方面的建设的驱动,各国在大尺寸光学元件的精密加工方面都开展了大量的投入和研究。其中具有代表性的是NIF装置驱动下美国光学加工的发展。据报道,NIF从1995年就开始了对激光材料加工技术技术的筹备和研究,整体工程包含的光学元件总量达到7360片,包括激光玻璃放大片、反射镜、腔镜、窗口、光栅和晶体,其中仅激光玻璃放大片为3072片。这些光学元件的技术指标要求都比常规光学元件的要求要高出许多,NIF的加工指标要求见下表 表错误!文档中没有指定样式的文字。NIF光学元件加工技术指标要求

常见光学仿真设计软件

1.APSS.v 2.1.Winall.Cracked 光子学设计软件,可用于光材料、器件、波导和光路等的设计 2.ASAP.v7.14/7.5/8.0.Winall.cracked/Full 世界各地的光学工程师都公认ASAPTM(Advanced Systems Analysis Program,高级系统分析程序)为光学系统定量分析的业界标准。 注:另附9张光源库 3.Pics3d.v200 4.1.28.winall.cracked 电子.光学激光2D/3D有限元分析及模形化装置软件 https://www.360docs.net/doc/e85871418.html,stip.v2004.1.28.winall.cracked 半导体激光装置2D模拟软件 5.Apsys.2D/3D.v2004.1.28.winall.cracked 激光二极管3D模拟器 6.PROCOM.v2004.1.2.winall.cracked 化合物半导体模拟软件 7.Zemax.v2003.winall.cracked/EE ZEMAX 是一套综合性的光学设计仿真软件,它将实际光学系统的设计概念、优化、分析、公差以及报表集成在一起。 8.ZEBASE Zemax镜头数据库 9.OSLO.v6.24.winall.licensed/Premium OSLO 是一套处理光学系统的布局和优化的代表性光学设计软件。最主要的,它是用来决定光学系统中最佳的组件大小和外型,例如照相机、客户产品、通讯系统、军事 /外太空应用以及科学仪器等。除此之外,它也常用于仿真光学系统性能以及发展出一套对光学设计、测试和制造的专门软件工具。 10.TracePro.v324.winall.licensed/Expert TracePro 是一套能进行常规光学分析、设计照明系统、分析辐射度和亮度的软件。它是第一套以符合工业标准的ACIS(固体模型绘图软件)为核心所发展出来的光学软件,是一个结合真实固体模型、强大光学分析功能、信息转换能力强及易上手的使用界面的仿真软件,它可将真实立体模型及光学分析紧紧结合起来,其绘图界面非常地简单易学。 11.Lensview.UPS.winall.cracked LensVIEW 为搜集在美国以及日本专利局申请有案的光学设计的数据库,囊括超过 18,000个多样化的光学设计实例,支持Zemax,OSLO,Code V等光学设计软件。 12.Code V.v940.winall.licensed CODE V是美国著名的Optical Research Associates公司研制的具有国际领先水平的大型光学工程软件。 13.LightTools.v4.0/sr1.winall.cracked LightTools是一个全新的具有光学精度的交互式三维实体建模软件体系,提供最现代化的手段直接描述光学系统中

集成光学考试总结讲解学习

集成光学考试总结

第一章 1. 集成光学的分类: ?按集成的方式划分:个数集成和功能集成 ?按集成的类型划分:光子集成回路(PIC)和光电子集成回路(OEIC) ?按集成的技术途径划分:单片集成和混合集成 ?按研究内容划分:导波光学和集成光路 2. 集成光学的定义 (1)集成光学是在光电子学和微电子学基础上,采用集成方法研究和发展光学器件和混合光学-电子学器件系统的一门新的学科。 (2)集成光学是研究介质薄膜中的光学现象,以及光学元器件集成化的一门学科。 (3)集成光学是研究集成光路的特性和制造技术以及与微电子学相结合的学科。 3. 集成光学的主要应用 光纤通信,光子计算机,光纤传感 4. 集成光学系统有什么优点? 1)集成光学系统与离散光学器件系统的比较 (1)光波在光波导中传播,光波容易控制和保持其能量。 (2)集成化带来的稳固定位。 (3)器件尺寸和相互作用长度缩短;相关的电子器件的工作电压也较低。 (4)功率密度高。沿波导传输的光被限制在狭小的局部空间,导致较高的功率密度,容易达到必 要的器件工作阈值和利用非线性效应工作。 (5)体积小,重量轻。集成光学器件一般集成在厘米尺度的衬底上,其体积小,重量轻。 2)集成光路与集成电路的比较

把激光器、调制器、探测器等有源器件集成在同一衬底上,并用光波导、隔离器、耦合器和滤波器等无源器件连接起来构成的光学系统称为集成光路,以实现光学系统的薄膜化、微型化和集成化。 用集成光路代替集成电路的优点包括带宽增加,波分复用,多路开关。耦合损耗小,尺寸小,重量轻,功耗小,成批制备经济性好,可靠性高等。由于光和物质的多种相互作用,还可以在集成光路的构成中,利用诸如光电效应、电光效应、声光效应、磁光效应、热光效应等多种物理效应,实现新型的器件功能。 第二章 1. 光波导的分类 (a)平板波导(slab waveguide) (b)条形波导(strip waveguide) (c)圆柱波导(cylindrical waveguide) 2. 会利用射线光学方法分析平板波导的覆盖层辐射波、衬底层辐射波和传导波的形成条件。

第六章 晶体光学器件

第6章晶体光学器件 双折射晶体在光无源器件中有着广泛的应用,可以制成光隔离器、光环行器、偏振光合束器和光学梳状滤波器等多种光器件。光学梳状滤波器同时隶属波分复用器件的范畴,将在第七章介绍。本章重点介绍基于双折射晶体的光隔离器、光环行器和偏振光合束器。 6.1 晶体光学基础 光无源器件中常用的双折射晶体一般是单轴的,此处从应用的角度,先对单轴晶体的光学特性作一些简单的介绍。 6.1.1 单轴晶体中的双折射现象 在各向同性介质中,光能量的传播方向(即光线方向S)与光波的传播方向(即波法线方向K)总是保持一致的。而在各向异性的双折射晶体中,存在两种光波:一种是寻常光(o光),其光线方向与波法线方向保持一致;另一种是非寻常光(e光),其光线方向偏离波法线方向。一般情况下,o光与e光在双折射晶体中的折射率不一样,因此传播速度也不相同。 在双折射晶体中,存在一些特殊的方向,沿此方向传输的光波,o光与e光的光线完全重合,并且传播速度也完全相同,或者说只有o光而没有e光,这些特殊方向称为晶体的光轴。 单轴晶体只存在一个光轴,其折射率椭球如图6.1所示,o光折射率小于e光折射率的晶体称为正单轴晶体,其折射率椭球为橄榄状的长椭球形;o光折射率大于e光折

射率的晶体称为负单轴晶体,其折射率椭球为飞碟状的扁椭球形。 图6.1 单轴晶体的折射率椭球 折射率椭球的物理意义可由图6.2解释,图中所示为正单轴晶体,o光和e光的波法线分别为K o和K e,过原点并垂直波法线作折射率椭球之截面,对o光和e光各得到一个椭圆形截面,每个椭圆均有长轴和短轴两条轴线,对o光取位于水平面内的轴线长度n o为其折射率,对e光则取非位于水平面内的轴线长度n2为其折射率。

集成光器件

硅基光电子集成芯片(Si OEIC) 主要应用于光通信或微电子电路的光互连。硅基光子学通过将光学器件和电子回路(IC)集成到一块普通芯片上降低了光学系统成本,或者从长远来讲,在高性能芯片中引入光学部件增强IC的性能。 我们正处在一个将电子领域和光子领域二者合为一体的黄金时期。作为电子材料,硅基微电子学已经显示出巨大的威力;现在,作为光子材料,硅基光子学将再 次发挥威力,其潜在的高性能器件和广泛应用将在硅中延伸。 用成熟的CMOS工艺,在 硅衬底上制作光学器件, 例如发射器,调制器,探 测器,波导,光纤耦合器 MUX/DEMUX等无源器件。 最终目的是在一块硅芯片 上实现CMOS IC,射频和 所有光学模块的的集成。 当然每一种集成都需耗费 大量的人力和资源进行器 件改良和工艺研究。

硅基光电子集成芯片 有源 无源:发射器:(L D ,L E D ) 调制器:(马赫泽德干涉仪) 探测器: (锗探测器) 只有I I I -V 族解决方案,硅材料目前为止显得无 能为力。芯片集成的最终可能解决方案应该是:h y b r i d S i O E I C c h i p ,即光源部分由I I I -V 族制作,并通过f l i p -c h i p 或者其他办法与硅芯片封装到一起,其他光学部分和I C 部分全部由硅工艺完成。 通过结构参数优化和工艺改进,我们已经拥有制作高速(10 G H z )硅光学调制器的一整套设计方案和工艺集成方案,在8英寸0.13微米工艺线上,芯片成品率达到90%以上。在硅表面外延高质量单晶锗,我们可以制造出高速率,高响应度,高灵敏度的红外探测器(波段为0.8u m -1.6u m ),其性能完全可以跟市场上I I I -V 族探测器媲美。在8英寸0.13微米工艺线上,芯片成品率达到90%以上。产品形式可以有:P I N 锗探测器,锗硅雪崩二极管探测器,波导型锗探测器(集成类产品) 在硅基上已经实现,并且达到可应用的程度 主要为波导类器件,包括直波导,弯曲波导,交叉波导,滤波 器,谐振器,阵列波导光栅等等

集成光学考试总结

第一章 1. 集成光学的分类: ?按集成的方式划分:个数集成和功能集成 ?按集成的类型划分:光子集成回路(PIC)和光电子集成回路(OEIC) ?按集成的技术途径划分:单片集成和混合集成 ?按研究内容划分:导波光学和集成光路 2. 集成光学的定义 (1)集成光学是在光电子学和微电子学基础上,采用集成方法研究和发展光学器件和混合光学-电子学器件系统的一门新的学科。 (2)集成光学是研究介质薄膜中的光学现象,以及光学元器件集成化的一门学科。 (3)集成光学是研究集成光路的特性和制造技术以及与微电子学相结合的学科。 3. 集成光学的主要应用 光纤通信,光子计算机,光纤传感 4. 集成光学系统有什么优点? 1)集成光学系统与离散光学器件系统的比较 (1)光波在光波导中传播,光波容易控制和保持其能量。 (2)集成化带来的稳固定位。 (3)器件尺寸和相互作用长度缩短;相关的电子器件的工作电压也较低。 (4)功率密度高。沿波导传输的光被限制在狭小的局部空间,导致较高的功率密度,容易达到必要的器件工作阈值和利用非线性效应工作。 (5)体积小,重量轻。集成光学器件一般集成在厘米尺度的衬底上,其体积小,重量轻。 2)集成光路与集成电路的比较 把激光器、调制器、探测器等有源器件集成在同一衬底上,并用光波导、隔离器、耦合器和滤波器等无源器件连接起来构成的光学系统称为集成光路,以实现光学系统的薄膜化、微型化和集成化。 用集成光路代替集成电路的优点包括带宽增加,波分复用,多路开关。耦合损耗小,尺寸小,重量轻,功耗小,成批制备经济性好,可靠性高等。由于光和物质的多种相互作用,还可以在集成光路的构成中,利用诸如光电效应、电光效应、声光效应、磁光效应、热光效应等多种物理效应,实现新型的器件功能。 第二章 1. 光波导的分类 (a)平板波导(slab waveguide) (b)条形波导(strip waveguide) (c)圆柱波导(cylindrical waveguide) 2. 会利用射线光学方法分析平板波导的覆盖层辐射波、衬底层辐射波和传导波的形成条件。

光学系统集成

Integration of Optical Systems These application notes are relevant to both off-the-shelf and custom integration for imaging, as well as non-imaging systems. Please feel free to discuss any of the content in these notes or any other integration questions with our Applications Engineers. DEFINING THE APPLICATION The first step to solving any optical problem is to assess the application. What am I trying to accomplish? For an optical system it is important to first determine whether you need an imaging system or non-imaging system because the performance requirements are different for each type. Imaging System Imaging systems transfer a representation of the object to a detector, such as a camera or your eye. Some examples of imaging systems are: electronic imaging for inspection, image projection systems and relay systems. The goal of an imaging system is to provide sufficient image quality to enable extraction of desired information about the object from the image. Note that what may be adequate image quality for one application may prove inadequate in another. Some of the components of imaging quality are resolution, image contrast, perspective errors, geometric errors (such as distortion) and depth of field. Non-Imaging System Non-imaging systems collect, disperse, resize, focus, or collimate light. Some examples of non-imaging systems are: illumination projection, fiber coupling and laser projection. The performance of a non-imaging system can be quantified by its throughput, field efficiency, spot size (focusing systems) and angular resolution. Throughput is a measure of the energy transmitted through the lens system. Field efficiency is the system's ability to accommodate a large detector area or source size. Angular resolution is generally used to specify the minimum angular separation needed between two objects in order for the lens system to resolve them. Spot size is used to evaluate a focusing lens's performance. The next step is to determine the primary parameters of your system. Then, you can begin a design form for your application. Below are the primary parameters defined. Conjugate Distances The distance from the lens to the object/source (object distance) and the distance from the lens to the detector/image (image distance). For example, in an infinite conjugate design one of these distances approaches infinity. Conjugate Sizes

平面光学元件的加工技术

平面光学元件的加工技术 浙江大学光电系曹天宁 宁波华光精密仪器公司周柳云 光学平面零件包括棱镜、平行平面板、平面反光镜、平晶、光楔、光盘片基、滤光片、波片、倍频器等等。其大小从φ1mm到φ1000mm,材料主要是光学玻璃,有时是光学晶体,为了达到高精度与高效率,采用技术方法很多,有铣磨、精磨、研磨、抛光、分离器抛光、环抛、水中抛光、单点金刚石飞切(SPDFC)、计算机机控制小工具抛修(CCP) 、离子抛光等等。 从机理上考察,可以归纳为三类基本方法 一、范成法形成平面 特点是依靠机床的精确运动形成平面包络面,对机床精度要求高.如用筒状金刚石磨轮铣磨平面,按正弦公式当α=0时,R=∞范成了片面(生产上为了排屑排冷却液方便, α有一个小量,表面微凹)。单点金刚石飞切也是依靠高速旋转的轴与飞刀作直线运动的工作台垂直而范成了平面.工具与工件的加工接触为线接触。 二、轮廓复印法或母板复制法 这种复制法与光栅复制法不一样,在复制过程有磨削研磨、抛光过程。采用精磨模、抛光模(固着磨料抛光模与柏油抛光磨)加工的均属于这一类.工具与工件的接触为面接触。 三、小工具修磨法 计算机控制抛光(CCP)离子束抛光与手修属于这一类,逐点抛修,边检边修,精度可以很高,对局部修正非常方便.工具与工件的接触为点接触。 (一) 、铣磨成型光学平面元件 我国QM30、PM500、XM260研磨机直到NVG-750THD型双轴超精密平面磨床等大型平面铣磨机利用范成法原理高效铣磨出平面,而且可以采用适当的金属夹具,将角度修磨变为平行平面的铣磨.机床磨轮轴与工件的平行度、轴向经向跳动影响棱镜的角度精度.铣磨成型是光学平面元件毛胚加工的主要技术方法之一。 图一就是PM500铣磨平面的范成运动,图二就是改进的QM30铣削平面的范成运动。

微纳光学器件的研究进展

龙源期刊网 https://www.360docs.net/doc/e85871418.html, 微纳光学器件的研究进展 作者:田泽安白爱芳 来源:《贵州大学学报(自然科学版)》2018年第06期 文章编号1000-5269(2018)06-0020-07DOI:https://www.360docs.net/doc/e85871418.html,ki.gdxbzrb.2018.06.03 摘要:工作在亚波长尺度的微纳光子学器件,具有良好的光子集成性和光学性能优势,广泛用于图像显示、遥感技术和传感应用等方面。根据国内外的研究进展,本文系统地介绍了各类微纳光学器件近十年以来的研究成果,简要阐述了基于特殊微纳结构的颜色滤光片、基于金属表面等离子体效应的滤光片、基于导模共振光栅滤光片、基于光栅结构的滤波偏振分束器和微纳结构宽波段吸收器等五种光子学器件的发展现状,提出有待进一步研究的问题,对未来的研究内容和发展方向进行了展望。 关键词:微纳结构;等离子体效应;导模共振光栅;光栅结构;颜色滤光片;宽波段吸收器;偏振分束器;吸收器 中图分类号:TN27;O438; 文献标识码: A 凡是对光波具有选择性的光学器件在可见光入射下,透射或反射光将呈现不同颜色,逻辑上这种光学器件过滤了白光的部分成分,因此本文称此类光学器件为颜色滤光片;尤其是红绿蓝三基色的颜色滤光片在显微系统和通信等方面广泛应用。随着微纳米制造技术的不断发展,彩色滤光片的研究已成为微纳光学领域的热点,目前,常用的颜色滤光片分为吸收型和干涉型两种。 吸收型颜色滤光片。早在1600年前,古罗马人使用金属离子吸收法,将金和银等金属掺杂到双层玻璃制备有色玻璃。在不同的入射角下,这种玻璃呈现不同的颜色。根据不同的掺杂材料(如金属,有机染料等)选择性吸收不同波长的入射光,呈现特定颜色的原理,使用现代工艺设计的颜色滤光片成本低,适合推广使用。但吸收型颜色滤光片的制备过程消耗大量的水电资源,对环境产生很大的污染;而且有机染料的化学性质容易发生变化,出现褪色现象,甚至颜色消失。 干涉型滤光片。利用干涉、衍射和散射产生的同频率多光束的干涉效应制备的颜色滤光片,寿命长、无污染、颜色稳定(在材料的尺寸和折射率不发生变化时,颜色不会发生变化),因而被广泛采用。但光程差依赖入射角,所产生的颜色会随入射角发生变化。由此,干涉型滤光片对入射角非常敏感,角度不敏感颜色滤光片成为研究的重点。 本文将总结近十多年來特殊微纳结构颜色滤光片、金属表面等离子体效应滤光片、导模共振光栅滤光片、光栅结构的滤波偏振分束器和微纳结构宽波段吸收器等微纳光学器件的研究成

二元光学元件的设计理论

二元光学元件的设计理论、特殊工艺与应用分析 摘要:二元光学自从80年代提出以来,由于其具有衍射效率高,色散性能好,以及具有传统光学不具有的独特的光学性能,而获得了迅速的发展。本文介绍了二元光学的发展历程、加工方法、特殊工艺,并阐述了常用二元光学器件的具体应用,及其发展方向。为同类元器件的研制与推广提供参考。 关键词:微光学、二元光学、衍射、光刻工艺 1、前言 传统光学元件是基于折反射原理的器件,如透镜、棱镜等都是用机械或手工的方法进行加工,不仅制造工艺复杂、而且元件尺寸大、重量大,已不能适应现代光学设备小型化、阵列化的趋势。80年代中期,美国MIT林肯实验室的威尔得坎普率先提出了“二元光学”的概念,二元光学有别于传统光学元件制造方法,基于衍射光学的原理,元件表面采用浮雕结构,制造上可以采用现有集成电路生产方法,由于采用二元掩模故称为二元光学。关于二元光学的准确定义,至今还没有统一的看法,但目前的共识是二元光学基于光波衍射理论,利用计算机辅助设计、并采用超大规模集成电路制造工艺在元件表面蚀刻产生不同台阶深度的浮雕结构,形成具有极高衍射效率的衍射光学元件,是光学与微电子学相互渗透交叉的前沿学科[1]。它的出现将给传统光学设计和加工工艺带来新的革命。 2、二元光学元件研究进展 2.1 设计理论 二元光学元件的设计类似于传统的光学元件的设计方法,已知入射光的光场分布,以及所要达到的输出平面的光场分布,如何计算中间光学元件的参数,使得入射光经过光学系统后光场分布符合设计要求。但是它们之间不同之处在于传统光学设计软件采用的是光线追击以及传递函数的设计方法,而二元光学采用的是衍射理论及傅立叶光学的分析方法。但是在设计方法上仍有其共同点:如修正算法、模拟退火法、二元搜索法等也同样适合于二元光学元件的设计。由于在许多情况下,二元光学元件的特征尺寸在波长量级或亚波长量级,故标量衍射理论已不在适用,因此必须发展描述光偏振特性和不同偏振光之间相互作用的矢量衍射理论[2]。 2.2 加工工艺 二元光学元件基本制作工艺采用类似超大规模集成电路中微电子加工技术,而二元光学元件采用表面三维浮雕结构,需同时控制平面尺寸及纵向深度,其加工难度更大。近年

衍射光学元件上课讲义

衍射光学元件

?-高帽光束整形 HOLO/OR几十年来服务于堆栈高帽元件模拟,可以很好 地定义高斯光束,将其在工作平台上转换为均匀强度光 斑。 应用领域:激光切割,激光焊接,激光显示,激光医学和审 美激光应用 ?Beam Splitter/Multispot-分束器/多场 分束器元件为衍射光学元件,用于将一束激光光束分离为几束,每束光都有最初那束光的特性,这些特性不包括光能量大小和传播角度。多束光方向可以形成一维或二维光图像。 应用领域:激光打孔,医疗表面处理,并行处理,并行激光扫描 ?Homogenizer/Diffuser-均化器/扩散器 HOLO/OR有多样且广泛的工业衍射光元件,允 许在合理的价格范围内提供解决方案。 应用领域:允许任何光束类型,小扩散角,自定 义角度,各种波长和尺寸,自定义形状 ?Beam Sampler-光束采样器

HOLO/RO介绍一种新的ED匀化器,由纯石英玻璃或硒化锌材料组成,可选择在这两种材料表面进行高功率ARV-镀膜,有利于给出解决方案,显著减少0.2% 的后向反射。(每个面0.1%) 应用领域:直插式功率,嵌入式光束分析 ?Dual Wavelength-双波长产生器 衍射光学给出了一个独特的构想,可以只影响 一个波长。在多波长光束中,双波长光束组合 器是衍射光学元件,用于将两束入射光以不同 的波长组合到相同焦点上,为在所需观察面上 获得一个强光斑,就必须在激光光束射向光斑 的路径上放置一个透明的衍射光学元件。 应用领域:外科手术激光系统,工业二氧化碳激光系统 ?Vortex lens-涡旋透镜 Holo-Or介绍了VL系列涡旋微透镜,由纯石 英玻璃或硒化锌材料组成,可选择在这两种材 料表面进行高功率ARV-镀膜,有利于给出解 决方案,显著减少0.2% 的后向反射。(每个 面0.1%) 应用领域:天文学,光学镊子,加密术 ?Lenslet arrays-微透镜阵列 微透镜阵列基底由微衍射透镜覆盖,微透镜阵 列作为扩散器,或者作为局部焦点和采样点。 衍射微透镜阵列的优势在于其占空因子为 100%,高于折射微透镜阵列。可以很容易地 进行设计和成像,并修正微透镜成像系统像 差。 应用领域:光束扫描仪,焦平面阵列光传感器

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