薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法

薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法
薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法

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薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法

项目完成单位:国家建筑材料测试中心 项目完成人:刘元新

鲍亚楠 孙宏娟 王廷籍

摘 要 本文提出薄膜厚度和消光系数的标准曲线测量法,论述了方法的测量原理和测量程序。该法的膜厚的测量范围为~80nm 到2000nm ;膜厚的测量误差大约为±13nm 。 关键词 薄膜、厚度、消光

自洁净玻璃的自洁净性能、低幅射玻璃的低幅射性能都与其膜层的厚度、折射率和消光系数有着密切的关系[1]。近代微电子学装置,如成像传感器、太阳能电池、薄膜器件等都需要这些参数[2] 。这些参数的数据是薄膜材料、薄膜器件设计的必不可少的基础性数据。

通常都是单独测量这些参数,薄膜厚度用原子力显微镜、石英震荡器、台阶仪、椭偏仪、干涉法来测量。薄膜折射率的测量就比较麻烦,因为它是波长的函数,它可以用基于干涉、反射原理的方法测量。从薄膜的吸收谱就可测量其消光系数。显然,取得这些数据是很麻烦、很费时、成本也很高,特别是对于纳米级薄膜。

2000年,美国Princeton 等大学提出[2] ,从物理角度建立透射光谱模型,调整模型中的未知的参数,即薄膜厚度、折射率、消光系数,使透射光谱的理论曲线同实验曲线重合,这就同时取得薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。他们用这种方法同时测量了“玻璃-薄膜” 系统的薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。显然,这是取得这些数据的简便、快速、低成本的方法,是这领域的一个发展趋势。

镀膜玻璃的透射光谱既包含玻璃参数的信息,也包含薄膜参数的信息,如果能从中解析出薄膜参数的信息,也就得到了薄膜参数的测量值,这就是透过光谱法测量薄膜参数的基本思路。本文基于这个基本思路提出测量薄膜参数的另一方法,姑且称为标准曲线法,方法的原理是基于这样的实验现象,即薄膜的吸收越强,镀膜玻璃的透过率越低;在薄膜吸收的光谱区内,薄膜越厚,镀膜玻璃的透过率也越低;这就是说,镀膜玻璃在指定波长λ处的透过率T 是薄膜厚度t 和薄膜消光系数κ的函数,

),,(λκt T T =

但镀膜玻璃透过率和薄膜参数有什么函数关系?这就是本文要研究的问题。知道这函数关系之后,如何利用这函数关系测量薄膜参数?这也是本文要研究的问题。

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1. “薄膜-玻璃” 系统

这就是单面镀膜玻璃,这个系统有空气-薄膜、薄膜-玻璃、玻璃-空气等3个界面,空气、薄膜、玻璃、空气等4个区域(图1)。强度为0I 的光正入射到放置在空气中的镀膜玻璃片的镀膜面上,它首先在空气-薄膜界面上发生反射而折射进入薄膜,反射光强度为

R 1I 1,折射光强度为:

)1(1120R I I -=

这里的R 1为空气-薄膜界面的反射率:

2

22

21)1()1(κ

κ+++-=n n R (1)

其中n 、κ分别是薄膜的折射率和消光系数。

进入薄膜的光,通过厚度为t 、吸收系数为α的薄膜时将被吸收,因此光通过薄膜后的强度则

从I 20减少为:

)exp(202t I I α-= )exp()1(112t R I I α--=

通过薄膜后的光将遇到薄膜-玻璃介面,在此被反

射之后而折射进入玻璃片,反射光强度为R 2I 2,折射光强度则为:

)1(2230R I I -=

)exp()1)(1(21130t R R I I α---= 其中:R 2为薄膜-玻璃界面的反射率;

2

22

22)

()()()(G G G G n n n n R κκκκ+++-+-= (2)

G n 、G κ分别为玻璃的折射率和消光系数。

进入玻璃的光波,通过厚度为t G 、吸收系数为αG 的玻璃时将被吸收,因此通过玻璃片的光的强度将从I 30降低为:

)exp(303G G t I I α-=

)exp()1)(1(2113G G t t R R I I αα----=

通过玻璃片的光将在玻璃-空气介面发生反射和折射进入空气,反射光强度为R 3I 3,折射光强度则为:

)1(3340R I I -=

264

)

exp()1)(1)(1(321140G G t t R R R I I αα--?---=

其中:R 为玻璃-空气界面的反射系数:

2

2

223)

1()1()1()1(+++-+-=

G G G G n n R κκ (3)

因此,单面镀膜玻璃的透过率等于:

140/I I T =

)

exp()1)(1)(1(321G G t t R R R T αα--?---= (4)

这就是所要寻找的单面镀膜玻璃的透过率和薄膜参数的函数关系,从这关系看出,在薄膜有吸收的波长区域,即α≠0的波长区域,薄膜厚度的增加将降低镀膜玻璃的透过率,并且“薄膜-玻璃” 系统的透过率随薄膜厚度、薄膜吸收的增加而降低,这符合我们的日常经验。为了用这函数关系来测量薄膜参数,需要把此关系做数学处理,即取对数,

11log b t T +=γ

(5) e log 1αγ-=

(6)

e

t R R R b G G log )]

1)(1)(1log[(3211α----=

公式(5) 指明:单面镀膜玻璃的透过率的对数和薄膜厚度存在直线关系,而此直线的斜率正比于薄膜的吸收系数,因此,可以用已知薄膜厚度的单面镀膜玻璃来绘制透过率对数和薄膜厚度的关系曲线,这就是标准曲线,然后测量未知薄膜参数的镀膜玻璃的透过率,再从这标准曲线上查找其对应的薄膜厚度。薄膜的吸收系数和消光系数可从标准曲线的斜率得到,具体的作法见后面。

2. “薄膜-玻璃-薄膜”系统

Sol-gel 浸渍法制作的双面镀膜玻璃就属于这系统,这系统有4个界面5个区域,光线在这4个界面上发生反射、折射,而在这5个区域内则发生吸收,通过这系统的光强则依赖于这些反射、折射和吸收,类似地计算出这系统的透过率,具体的参考我们的以前的工作[3] ,

)2exp()1()1(2221G G t t R R T αα----= (7) 由此可以得到这系统的标准曲线方程:

b t T +=γlog

(8) e log 2αγ-=

(9)

e t R R b G G log )]1)(1log[(221α---=

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3. 实验

3.1. 实验样品

为了验证以上的计算结果,我们用Sol-gel 浸渍法在2mm 玻璃片的两面制作了厚度不同的导电聚苯胺高分子聚合物薄膜,即两面镀膜玻璃。图2是这些薄膜厚度不同的两面镀膜玻璃的透过率光谱。

从图2可以看出导电聚苯胺高分子聚合物在

可见近红外区存在吸收,即α≠0,因此其透过率随薄膜厚度的增加而减小,这符合公式(7) 。

3.2. 标准曲线

标准曲线测量法的精度依赖于其斜率γ;斜率越大,标准曲线法的测量精度越高;公式(8) 指明,薄膜的吸收系数α越大,标准曲线的斜率γ也越大,测量精度也越高;而薄膜的吸收随着照射光波长的增加而增加(图2)。从图2可以看出,薄膜在波长~2μm 附近的吸收又大又平稳,因此我

们选择波长~2μm 附近的系统透过率T 作为薄膜厚度的表征参数。

薄膜厚度t 用台阶仪测量,然后绘制系统透过率对数和薄膜厚度的关系曲线,即:标准曲线logT-t(图3) 。从图3看出:标准曲线接近于一直线,这符合公式(7) 的预测。

3.3 消光系数测量

测量标准曲线斜率γ,利用公式(8) 即可以计

算出薄膜的吸收系数α,

e

log 2γ

α-

=

知道了薄膜的吸收系数α和照射光波长λ,即

可利用以下公式计算薄膜的消光系数κ[3] ,

π

αλκ4=

(10)

或者用以下公式直接从标准曲线的斜率计算出薄膜的消光系数:

e

log 8πγλ

κ-

= (11)

对于本文所用的导电聚苯胺高分子聚合物薄膜,它在波长λ ≈ 2 μm 附近的标准曲线

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(图3)的斜率近似等于:

117380738.0---=-≈cm m μγ

因此,导电聚苯胺高分子聚合物薄膜在波长~2μm 附近的吸收系数α和消光系数 κ 大约为:18497-≈cm α 135.0≈κ

3.4 薄膜厚度测量

用图3的标准曲线测量4个两面镀膜玻璃的膜层厚度,其测量结果列于表1。表1的第2列是这些玻璃样品的透过率T ,这些透过率的对数在标准曲线上对应的薄膜厚度t 列于表1的第3列,这就是这些玻璃样品薄膜厚度的标准曲线法的测量值。表1的最后1列是这些玻璃样品的薄膜厚度的台阶仪测量结果。从表1可以看出,这两种方法的测量结果是吻合的,它们之间的差别不超过10%。

从标准曲线可以看出这个方法测量薄膜厚度的范围大约在80nm 和2000nm 之间。

从标准曲线方程(7) 可以估计标准曲线法测

量薄膜厚度的误差:

t T

T

γδδ= T

T

t δγδ1=

由此可见,标准曲线法的测量薄膜厚度的误差依赖于标准曲线的斜率和透过率的相对测量误差,从表1看出,透过率的有效数是3位,因此本文透过率的相对测量误差不大于1%,而斜率大约为0.738μm -1,因此薄膜厚度的测量误差大约为

nm

m m

t 130135.001.0738.01

1

≈≈?≈

-μμδ 3.5标准曲线法

从以上看出标准曲线法的测量程序:(1) 用台阶仪选择薄膜厚度t 不同的3个或多个镀膜样品;(2) 测量其透射光谱;(3) 在没有玻璃吸收的光谱区域内,选择需要波长λ处的透过率T ;(4) 绘制透过率对数log T 和薄膜厚度t 曲线,即标准曲线log T -t ;(5) 测量标准曲线斜率γ;(6) 利用公式(8)和公式(10)计算薄膜的吸收系数α和消光系数κ;(7) 测量待测样品的透过率T ,在标准曲线上求得样品透过率对数logT 所对应的薄膜厚度t ,这就是待测样品的薄膜厚度。

单面镀膜玻璃的实验程序和实验结果完全类似于两面镀膜玻璃,也和理论预测一致

,本文就不再叙述。

4.结论

标准曲线法可以测量镀膜玻璃的薄膜厚度和消光系数;薄膜厚度的测量范围为~80nm 到2000nm;薄膜厚度的测量误差大约为 13nm。

5.致谢

本文采用的镀膜玻璃样品及其透射光谱数据由中国耀华玻璃集团苑同锁付总经理和董淑娟高工提供,对此表示感谢。

6.参考文献

[1] PPG Ohio Inc (US), “Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same”, US

Patent Number: US6027766

[2] M.Mulato, I. Chambouleyron, E.G. Birgin, and J.M. Martinez, “Determination of thickness and optical

constants of amorphous silicon films from transmittance data”, Applied Physics Letters, 77 [14] 2133-35 (2000)

[3] T.S. Yuan, Y. Huang, S.J. Dong, T.J. Wang, and M.G. Xie, “Infrared re flection of conducting polyaniline polymer coatings”, Polymer Testing, 21 [6] 641-46 (2002)

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椭偏仪测量薄膜厚度与折射率

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。 在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折射率,干涉法测膜。另外,还有称重法、X 射线法、电容法、椭偏法等等。其中,椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。因为椭偏法具有测量精度高,灵敏度高,非破坏性等优点,已广泛用于各种薄膜的光学参数测量,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。 实验目的 了解椭圆偏振测量的基本原理,并掌握一些偏振光学实验技术。 实验原理 光是一种电磁波,是横波。电场强度E 、磁场强度H 和光的传播方向构成一个右旋的正交三矢族。光矢量存在着各种方位值。与光的强度、频率、位相等参量一样,偏振态也是光的基本量之一。 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n 1、n 2、n 3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉。 这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中222cos /dn δπφλ=,用r 1p 、 r 1s 表示光线的p 分量、s 分量在界面1、2间的反射系数, 用r 2p 、r 2s 表示光线的p 分量、s 分量在界面2、3间的反射系数。 由多光束干涉的复振幅计算可知: 2122121i p p rp ip i p p r r e E E r r e ?δ --+= + (1) 2122121i s s rs is i s s r r e E E r r e ? δ --+=+ (2) 其中E ip 和E is 分别代表入射光波电矢量的p 分量和s 分量,E rp 和E rs 分别代表反射光波电矢量的p 分量和s 分量。现将上述E ip 、E is 、E rp 、E rs 四个量写成一个量G ,即:

台阶仪测试薄膜厚度实验

东南大学材料科学与工程 实验报告 学生姓名班级学号实验日期2014.9.5 批改教师 课程名称电子信息材料专业方向大型实验批改日期 实验名称台阶仪测试薄膜厚度实验报告成绩 一、实验目的: 掌握测试薄膜厚度原理和方法,了解台阶仪操作技术。 二、实验原理: LVDT是线性差动变压器的缩写,为机电转换器的一种。利用细探针扫描样品表面,当检测到一个高度差别则探针做上下起伏之变化,此变化在仪器内部的螺旋管先圈内造成磁通量的变化,再有内部电子电路转换成电压讯号,进而求出膜厚。LVDT线性位置感应器,可测量的位移量小到几万分之一英寸至几英寸。 LVDT的工作原理是由振荡器产生一高频的参考电磁场,并内建一支可动的铁磁主轴以及两组感应线圈,当主轴移动造成强度改变由感应线圈感应出两电压值,相比较后即可推算出移动量。三、实验步骤: (1)开机准备 (2)放置样品 (3)参数设置 (4)扫描结果分析 (5)数据保存 四、实验内容: Si基底上沉积金属Cr薄膜的厚度的测量 五、实验结果与分析: 样品:硅片上镀铬薄膜; 实验参数:长度1000μm;持续时间40s;针压力3mg;表面轮廓是Hills and Valleys.

由实验曲线及数据,可得薄膜厚度约为(868.8-617.0)=251.8μm。 六、思考题: 1、对于用台阶仪对非完美薄膜的厚度测量,Step Hight的M和R Cursor点 的选择? 两个点分别选在图线中的拐点处,这样倾斜的曲线会水平,比较容易得到薄膜的厚度 2、怎么样才能得到一个比较shape的台阶? 在制备时在衬底上覆盖一个形状规则比如长方形的陪片,且覆盖片要尽量薄,边缘应整齐,这样产生的台阶才会陡峭,方便测量

薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法

薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法 项目完成单位:国家建筑材料测试中心 项目完成人:刘元新 鲍亚楠 孙宏娟 王廷籍 摘 要 本文提出薄膜厚度和消光系数的标准曲线测量法,论述了方法的测量原理和测量程序。该法的膜厚的测量范围为~80nm 到2000nm ;膜厚的测量误差大约为13nm 。 关键词 薄膜、厚度、消光 自洁净玻璃的自洁净性能、低幅射玻璃的低幅射性能都与其膜层的厚度、折射率和消光系数有着密切的关系[1]。近代微电子学装置,如成像传感器、太阳能电池、薄膜器件等都需要这些参数[2] 。这些参数的数据是薄膜材料、薄膜器件设计的必不可少的基础性数据。 通常都是单独测量这些参数,薄膜厚度用原子力显微镜、石英震荡器、台阶仪、椭偏仪、干涉法来测量。薄膜折射率的测量就比较麻烦,因为它是波长的函数,它可以用基于干涉、反射原理的方法测量。从薄膜的吸收谱就可测量其消光系数。显然,取得这些数据是很麻烦、很费时、成本也很高,特别是对于纳米级薄膜。 2000年,美国Princeton 等大学提出[2] ,从物理角度建立透射光谱模型,调整模型中的未知的参数,即薄膜厚度、折射率、消光系数,使透射光谱的理论曲线同实验曲线重合,这就同时取得薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。他们用这种方法同时测量了“玻璃-薄膜” 系统的薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。显然,这是取得这些数据的简便、快速、低成本的方法,是这领域的一个发展趋势。 镀膜玻璃的透射光谱既包含玻璃参数的信息,也包含薄膜参数的信息,如果能从中解析出薄膜参数的信息,也就得到了薄膜参数的测量值,这就是透过光谱法测量薄膜参数的基本思路。本文基于这个基本思路提出测量薄膜参数的另一方法,姑且称为标准曲线法,方法的原理是基于这样的实验现象,即薄膜的吸收越强,镀膜玻璃的透过率越低;在薄膜吸收的光谱区内,薄膜越厚,镀膜玻璃的透过率也越低;这就是说,镀膜玻璃在指定波长处的透过率T 是薄膜厚度t 和薄膜消光系数 的函数, ),,(λκt T T = 但镀膜玻璃透过率和薄膜参数有什么函数关系?这就是本文要研究的问题。知道这函数关系之后,如何利用这函数关系测量薄膜参数?这也是本文要研究的问题。

椭偏仪测折射率和薄膜厚度

物理实验报告 实验名称:椭偏仪测折射率和薄膜厚度 学院:xx 学院专业班级:xxx 学号:xxx 学生姓名:xxx 实验成绩 预习题(一空一分,共10 分) 1.(单选题)起偏器和检偏器的刻度范围为多少?(B) A.0 ° ~180° B.0 ° ~360° 2.(单选题)黑色反光镜在仪器调整中起什么作用?

实验预习题成绩: (B) A. 确定起偏器的方位 B. 确定检偏器的方位 C.确定波片的方位 3.(单选题)在椭偏仪实验中坐标系是选在待测薄膜的(B)上。 A 入射面 B 表面 4.(单选题)椭偏仪的数据处理方法有三种,即查图法、查表 法、迭代法解非线性超越方程,本实验中使用(B) A 查图法 B 查表法 5.(填空题))调整椭偏仪光路的步骤是,首先使激光光线与分光计仪器主轴垂直,并通过载物台中心,然后确定(C)的0 刻度位置,这要利用(A)的布鲁斯特角特性,然后再确定(B)0 刻度位置,最后调整1/4 波片,使其快轴与(C)成± 45° 选择答案: A 黑色反光镜 B 检偏器 C 起偏器

6.(填空题)将起偏器套在平行光管上,使0°位置朝上,从载物台上取下黑色反射镜,将检偏器管转到共轴位置,整体调节起偏器使检流计(A),固定起偏器螺钉。此时起偏器与检偏器通光方向(C)。选择答案: A 光强最小 B 光强最大 C 平行 D 垂直

原始数据记录 成绩: 1/4 玻片起偏器角度检偏器角度+45°(> 90°)103.4 91.7 +45°(< 90°)21.2 51.6 -45 °(> 90°)106.5 98.6 -45 °(< 90°)21.2 51.6 薄膜厚度: 110.0000 折射率: 1.4800

薄膜厚度的测量

薄膜厚度的测量 ——台阶仪安装操作说明 一、台阶仪的安装 1、硬件的安装 1)打开电脑机箱盖,将台阶仪自带的电视卡插入PCI扩展槽,插好后将电脑机箱盖合上; 2)接上台阶仪电源线,将台阶仪上的USB线和视频线与电脑箱连接; 2、软件的安装 1)打开电脑机箱和显示器,将台阶仪自带的光盘插入电脑光驱; 2)将光盘上所有的内容都复制到电脑C盘根目录下; 3)安装光盘中的两个驱动程序,安装完成后重启计算机; 4)计算机重启后将拷入C盘中的注册表文件导入,导入成功后将台阶仪操作软件图标发送到桌面; 二、台阶仪的操作 1、台阶仪的标定 1)打开电脑机箱和显示器,打开台阶仪电源,等待10秒后将电脑桌面上的操作软件打开,几秒后自动弹出两个对话框,点击确认后进入操作界面; 2)拿出标定用的标准样品,拿出样品后立即合上盒盖,防止灰尘进入;

3)打开台阶仪保护盖,将标准样品贴紧样品台滑到台中央; 4)调节样品台位置,使标样在探针正下方; 5)点击操作软件上的“Setup”按键,设置扫描参数,将Speed设置为0.07mm/sec,Length设置为0.6mm,Range设置为10microns,Stylus Force设置为1mg,Filter Level设置为4,点击OK进行确认; 6)点击Engage,观察标准样品与探针所处的位置,如果样品台阶中央不在探针下方,点击Z+将探针升高,通过调节样品台使标准样品处于探针的正下方,合上保护盖,点击Engage,继续观察标准样品与探针的位置,如此反复操作,直到标准样品的台阶在探针的正下方;7)点击Scan,并点击确认扫描对话框,台阶仪自动进行扫描,扫描结束后,探针自动复位,测出的数据会自动弹出来; 8)用鼠标引动R,M光标,(R为参照光标,M为测量光标)到台阶的两侧,点击Level Date将台阶的曲线调平; 9)在曲线图窗口中点击鼠标右键,选择Size Cursors,将R,M光标线进行展开到适合宽度,然后点击鼠标右键将M光标移动到台阶上,窗口的右上角就会显示出台阶的平均高度; 10)重复7-9的步骤,反复测量几次,带测量数据稳定后,在曲线图窗口点击右键,选择Calibrate Height,在弹出的对话框中填写1063?,点击确定; 11)重复7-9的步骤,将测量出的台阶数据和标准样品给出的数据对比,一般来说只有几个?的差别; 12)台阶仪标定完成;

薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法

262 薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法 项目完成单位:国家建筑材料测试中心 项目完成人:刘元新 鲍亚楠 孙宏娟 王廷籍 摘 要 本文提出薄膜厚度和消光系数的标准曲线测量法,论述了方法的测量原理和测量程序。该法的膜厚的测量范围为~80nm 到2000nm ;膜厚的测量误差大约为±13nm 。 关键词 薄膜、厚度、消光 自洁净玻璃的自洁净性能、低幅射玻璃的低幅射性能都与其膜层的厚度、折射率和消光系数有着密切的关系[1]。近代微电子学装置,如成像传感器、太阳能电池、薄膜器件等都需要这些参数[2] 。这些参数的数据是薄膜材料、薄膜器件设计的必不可少的基础性数据。 通常都是单独测量这些参数,薄膜厚度用原子力显微镜、石英震荡器、台阶仪、椭偏仪、干涉法来测量。薄膜折射率的测量就比较麻烦,因为它是波长的函数,它可以用基于干涉、反射原理的方法测量。从薄膜的吸收谱就可测量其消光系数。显然,取得这些数据是很麻烦、很费时、成本也很高,特别是对于纳米级薄膜。 2000年,美国Princeton 等大学提出[2] ,从物理角度建立透射光谱模型,调整模型中的未知的参数,即薄膜厚度、折射率、消光系数,使透射光谱的理论曲线同实验曲线重合,这就同时取得薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。他们用这种方法同时测量了“玻璃-薄膜” 系统的薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。显然,这是取得这些数据的简便、快速、低成本的方法,是这领域的一个发展趋势。 镀膜玻璃的透射光谱既包含玻璃参数的信息,也包含薄膜参数的信息,如果能从中解析出薄膜参数的信息,也就得到了薄膜参数的测量值,这就是透过光谱法测量薄膜参数的基本思路。本文基于这个基本思路提出测量薄膜参数的另一方法,姑且称为标准曲线法,方法的原理是基于这样的实验现象,即薄膜的吸收越强,镀膜玻璃的透过率越低;在薄膜吸收的光谱区内,薄膜越厚,镀膜玻璃的透过率也越低;这就是说,镀膜玻璃在指定波长λ处的透过率T 是薄膜厚度t 和薄膜消光系数κ的函数, ),,(λκt T T = 但镀膜玻璃透过率和薄膜参数有什么函数关系?这就是本文要研究的问题。知道这函数关系之后,如何利用这函数关系测量薄膜参数?这也是本文要研究的问题。

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 □实验背景介绍 椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。 □实验原理 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1) 图(1-1) 这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中δ=2πdn2cosφ2/λ ,用r1p、r1s 表示光线的p分量、s分量在界面1、2间的反射系数,用r2p 、r2s表示光线的p分、s分量在界面2、3间的反射系数。由多光束干涉的复振幅计算可知:其中Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量的p分量和s分量,Erp和Ers分别代表反射光波电矢量的p分量和s分量。现将上述Eip、Eis 、Erp、Ers四个量写成一个量G,即: 我们定义G为反射系数比,它应为一个复数,可用tgψ和Δ表示它的模和幅角。上述公式的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出: G是变量n1、n2、n3、d、λ、φ1的函数(φ2 、φ3可用φ1表示) ,即ψ=tg-1f,Δ=arg| f |,称ψ和Δ为椭偏参数,上述复数方程表示两个等式方程: [tgψe iΔ]的实数部分= 的实数部分 [tgψe iΔ]的虚数部分= 的虚数部分 若能从实验测出ψ和Δ的话,原则上可以解出n2和d (n1、n3、λ、φ1已知),根据公式(4)~(9),推导出ψ和Δ与r1p、r1s、r2p、r2s、和δ的关系: 由上式经计算机运算,可制作数表或计算程序。这就是椭偏仪测量薄膜的基本原理。若d是已知,n2为复数的话,也可求出n2的实部和虚部。那么,在实验中是如何测定ψ和Δ的呢?现用复数形式表示入射光和反射光:

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 【引言】 椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。 【实验目的】 掌握椭偏仪的原理与操作方法; 学会利用椭偏仪进行相关物理量的测量。 【实验仪器】 椭偏仪、待测样品、电脑 WJZ-II椭偏仪结构如图1所示: 1、半导体激光器 2、平行光管 3、起偏器读数头(与6可换用) 4、1/4波片读数头 5、氧化锆标准样板 6、检偏器读数头 7、望远镜筒 8、半反目镜 9、光电探头 10、信号线 11、分光计 12、数字式检流计 图 1 半导体激光器出厂时已调好,应满足以下二点: (1)激光光斑在距激光器约45cm处最小,如发现偏离较远,可将激光器从其座中取出,调节其前端的会聚透镜即可。

(2) 激光与平行光管共轴,如发现已破坏,请按第8页“光路调整”中所 述方法进行调整,一旦调好,轻易不要将其破坏。 主要技术性能及规格 1. 测量透明薄膜厚度范围0-300nm ,折射率1.30- 2.49。 2. 起偏器、检偏器、1/4波片刻度范围0°-360°,游标读数0.1°。 3. 测量精度:±2nm 。 4. 入射角ψ1=70°,K9玻璃折射率n =1.515。 5. 消光系数:0,空气折射率1。 6. *JGQ -250氦氖激光器波长λ=632.8nm (用软件处理数据时,该波长值已 内嵌,无须输入)。 *半导体激光器波长λ=635nm (用软件处理数据时,该波长值未内嵌,须输入,并需重新设置消光系数“0”) 7. 椭圆偏振仪的简介: 随着科学和技术的快速发展,椭偏仪的光路调节和测量数据的处理越来越完 善快捷。这里介绍常用的手动型椭圆偏振测厚仪(TP-77型)和自动型椭圆偏振测厚仪(SGC-2型)。手动型椭圆偏振仪采用632.8nm 波长的氦氖激光器作为单色光源,入射角和反射角均可在90度内自由调节,样品台可绕纵轴转动,其高度和水平可以调节,样平台可绕纵轴转动,其高度和水平可以调节。检偏器旁边有一个观察窗,窗下的旋钮用以改变经检偏器出射的光或者射向光电倍增管。为了保护光电倍增管,该旋钮的位置应该经常放在观察窗位置。SGC-2型自动椭偏仪,其自动化程度高,光路调试完毕后只要装上待测样品,点击计算机上的相应菜单,输入相应的参数,即可自动完成起偏器,检偏器的调节,找出消光点,并直接给出待测样品的d 和2n 的值。该仪器也有会出),(?ψ~),(2n d 曲线和),(?ψ~),(2n d 表格的功能,测出ψ和?值后,可在曲线上或表中查出对应的最佳的2n 和d 值。仪器还适用于测量厚度超过一个周期以上的薄膜样品。测量方法是利用“双角度”功能,设置好二次测量的角度,点击菜单,就可以得出样品的周期数以及样品的总厚度值。对于厚度超过一个周期的薄膜,相应的光程差引起的相位差超过了一个周期360度,这时所得的δ数据应该加上对应的周期数,在计算d 的值。 【实验原理】 椭圆偏振测量(椭偏术)是研究光在两媒质界面发生的现象及介质特性的一 种光学方法,其原理是利用偏振光在界面反射或透射时发生的偏振态的改变。 椭圆偏振测量的应用范围很广,如研究半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等光学性质,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。 光学材料镀上各向同性的单层介质膜后,介质层的折射率为n1、n2、n3, φ1为入射角,则在1、2介质交界面1和2、3介质交界面2会产生反射光和折射光的多光束干涉,如下图:

薄膜厚度检测原理及系统

薄膜厚度检测原理及系统 摘要:本文对目前常用的薄膜厚度光学测量方法进行了深入的研究和讨论,总结并归纳了每一种测量方法的优缺点、以及使用条件。基于原子力显微镜的薄膜厚度检测系统,该系统得到薄膜厚度,能够精确测量各种不同性质的薄膜的厚度。关键词:薄膜厚度;测量;原子力显微镜 Abstract: In this paper, the advantage and disadvantage, usable condition of many usually used optical measurement methods of thin film thickness which are analyzed and discussed in detail ,are been summarized. A measuring system of film thickness based on atomic force microscope has been developed, based on this system could measure the thickness of various films. Key words:film thickness ; measurement; AFM 1引言 随着科技的发展以及精密仪器等技术的迅速发展,薄膜技术的应用变得更为广泛,不仅在光学领域,也被广泛地应用于微电子技术、通讯、宇航工程等各种不同的领域。薄膜的厚度很大程度上决定了薄膜的力学性能,电磁性能,光电性能和光学性能,薄膜厚度又是薄膜设计和工艺制造的关键参数之一,为了制备出合乎要求的薄膜也离不开高精度的薄膜厚度检测,因此薄膜厚度的测量一直是人们密切关注和不断研究改进的课题。 在众多类检测方法当中,由于光学检测方法具有非接触性、高灵敏度性、高精度性、快速、准确、不损伤薄膜等优点,成为目前被应用最广泛的方法。在对薄膜厚度检测的理论中,按照测量方法所依据的光学原理进行分类,可分为干涉、衍射、透射、反射、偏振等方法,也可根据光源分为激光测量和白光测量[1]。目前,光谱法、椭圆偏振法和干涉法是人们讨论最多和应用最广泛的测量方法。随着光学薄膜的材料和制备技术的不断提高,传统的薄膜厚度的测量方法己经不能

椭偏仪测薄膜参数实验讲义

实验十四 椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率 在近代科学技术的许多部门中对各种薄膜的研究和应用日益广泛.因此,更加精确和迅速地测定一给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要.在实际工作中虽然可以利用各种传统的方法测定光学参数(如布儒斯特角法测介质膜的折射率、干涉法测膜厚等),但椭圆偏振法(简称椭偏法)具有独特的优点,是一种较灵敏(可探测生长中的薄膜小于0.1nm 的厚度变化)、精度较高(比一般的干涉法高一至二个数量级)、并且是非破坏性测量.是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法.它能同时测定膜的厚度和折射率(以及吸收系数).因而,目前椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用.这个方法的原理几十年前就已被提出,但由于计算过程太复杂,一般很难直接从测量值求得方程的解析解.直到广泛应用计算机以后,才使该方法具有了新的活力.目前,该方法的应用仍处在不断的发展中. 实 验目 的 (1) 了解椭圆偏振法测量薄膜参数的基本原理; (2) 初步掌握椭圆偏振仪的使用方法,并对薄膜厚度和折射率进行测量. 实 验原 理 椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光.根据偏振光在反射前后的偏振状态变化,包括振幅和相位的变化,便可以确定样品表面的许多光学特性. 图1 光在薄膜中的多次反射和折射情况 图1所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜.它有两个平行的界面,通常,上部是折射率为n 1的空气(或真空).中间是一层厚度为d 折射率为n 2的介质薄膜,下层是折射率为n 3的衬底,介质薄膜均匀地附在衬底上,当一束光射到膜面上时,在界面1和界面2上形成多次反射和折射,并且各反射光和折射光分别产生多光束干涉.其干涉结果反映了膜的光学特性. 设φ1表示光的入射角,φ2和φ3分别为在界面1和2上的折射角.根据折射定律有 n 1sin φ1=n 2sin φ2=n 3sin φ 3 (1) 光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P 分量和垂直于入射面振动的s 分量.若用E ip 和E is 分别代表入射光的p 和s 分量,用E rp 及E rs 分别代表各束反射光K 0,K 1,K 2,…中电矢量的p 分量之和及s 分量之和,则膜对两个分量的总

南京大学-椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率 (南京大学物理学院江苏南京 210000) 摘要:椭圆偏振测量法,即椭偏光法,是将一束偏振光非垂直地投射到被测样品表面,观察反射光或透射光的偏振状态变化来推知样品的光学特性,如薄膜的厚度,材料的负折射率等。本实验用椭偏仪,根据椭偏光法测量薄膜样品的厚度和折射率。 关键词:椭偏光法;椭偏仪;椭圆偏振方程;椭偏参数 一、实验目的 1. 了解椭偏光发测量原理和实验方法。 2. 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法。 3. 测量介质薄膜样品的厚度和折射率,以及硅的消光系数和负折射率。 二、实验原理 1.椭圆偏振方程 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图1 图1 薄膜系统的光路示意图 这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中δ=2πdn2cosφ2/λ,用r1p、r1s表示光线的p 分量、s分量在界面1、2间的反射系数,用r2p 、r2s表示光线的p分、s分量在界面2、3间的反射系数。由多光束干涉的复振幅计算可知:

其中Eip和Eis分别代表入射光波电矢量的p分量和s分量,Erp和Ers分别代表反射光波电矢量的p分量和s分量。现将上述Eip、Eis、Erp、Ers四个量写成一个量G,即: 我们定义G为反射系数比,它应为一个复数,可用tgψ和Δ表示它的模和幅角。上述公式的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出: G是变量n1、n2、n3、d、λ、φ1的函数(φ2 、φ3可用φ1表示) ,即ψ=tg-1f,Δ=arg| f |,称ψ和Δ为椭偏参数,上述复数方程表示两个等式方程: [tgψe iΔ]的实数部分= 的实数部分 [tgψe iΔ]的虚数部分= 的虚数部分 若能从实验测出ψ和Δ的话,原则上可以解出n2和d (n1、n3、λ、φ1已知),根据公式(4)~(9),推导出ψ和Δ与r1p、r1s、r2p、r2s、和δ的关系: 由上式经计算机运算,可制作数表或计算程序。这就是椭偏仪测量薄膜的基本原理。若d是已

薄膜厚度的在线和非在线测量方法

薄膜厚度的在线和非在线测量方法 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于复合薄膜,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,每一层树脂的厚度才可能均匀。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1. 各种在线和非在线测厚技术发展快速 包装材料厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是非在线测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2. 在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术和近红外技术。 2.1 β射线技术 β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术,在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵,Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2 X射线技术 这种技术极少为塑料薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,一般可用2-3年,更换费用在50 00美元左右,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。 2.3 近红外技术 近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度相对较低。 2.4 在线测厚设备的应用情况 在线测厚能够以最快的速度获取厚度测试数据,通过数据分析,及时调整生产线的参数,缩短开车时间。但是在线测厚设备必须配备与生产线相匹配的扫描架,这在一定程度上限制了在线测厚设备的重复利用。而且由于薄膜生产线往往需要长期连续工作,因此相应的在线测厚设备也就必须长期连续工作。在设备的价格上,在线测试设备一般要比非在线测试设备贵很多,而且前者的运行费用与维护费用也比较高。 3. 非在线测厚 非在线测厚技术主要有—接触式测量法和非接触式测量法两类,接触式测量法主要是机械测量法,非接触

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验报告

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验报告 组别:69组 院系:0611 姓名:林盛 学号:PB06210445 实验题目:椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 实验目的:了解椭偏仪测量薄膜参数的原理,初步掌握反射型椭偏仪的使用 方法。 实验原理: 椭圆偏振光经薄膜系统反射后,偏振状态的变化量与薄膜的厚度和折 射率有关,因此只要测量出偏振状态的变化量,就能利用计算机程序多次 逼近定出膜厚和折射率。参数?描述椭圆偏振光的P 波和S 波间的相位差 经薄膜系统关系后发生的变化,ψ描述椭圆偏振光相对振幅的衰减。有超 越方程: tan pr pi sr si E E E E ψ???? = ? ? ???? ()()pr sr pi si ββββ?=--- 为简化方程,将线偏光通过方位角±45?的1 4波片后,就以等幅椭圆 偏振光出射,pi si E E =;改变起偏器方位角?就能使反射光以线偏振光出 射,()0pr sr ββπ? ?=-=或,公式化简为: tan pr sr E E ψ= ()pi si ββ?=-- 这时需测四个量,即分别测入射光中的两分量振幅比和相位差及 反射光中的两分量振幅比和相位差,如设法使入射光为等幅椭偏光, 1/=is ip E E ,则=ψtg rs rp E E /;对于相位角,有: )()(is ip rs rp ββββ---=? ? =-+?is ip ββrs rp ββ- 因为入射光is ip ββ-连续可调,调整仪器,使反射光成为线偏光,即 rs rp ββ-=0或(π),则)(is ip ββ--=?或)(is ip ββπ--=?,可见?只与

塑料薄膜厚度的常用测量方法

塑料薄膜厚度的常用测量方法 塑料薄膜厚度的常用测量方法 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于薄膜管件,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,它的抗爆破能力才能提高,另外,对产品的厚度采取合理的控制,不但提高产品质量,还能降低材料的消耗,提高生产效率。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1.塑料薄膜厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是实验室测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2.在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术,电容测量和近红外技术。 2.1 β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的,它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵,Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2 X射线技术这种技术极少为薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。 2.3近红外技术近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度相对较低。 2.4在线测厚设备的应用情况在线测厚能够以最快的速度获取厚度测试数据,通过数据分析,及时调整生产线的参数,缩短开车时间。但是在线测厚设备必须配备与生产线相匹配的扫描架,这在一定程度上限制了在线测厚设备的重复利用。而且由于薄膜生产线往往需要长期连续工作,因此相应的在线测厚设备也就必须长期工作。在设备的价格上,在线测试设备一般要比非在线测试设备贵很多,而且前者的运行费用与维护费用也比较高。 3.非在线测厚非在线测厚技术主要有—接触式测量法和非接触式测量法两类,接触式测量法主要是机械测量法,非接触式测量法包括光学测量法、电涡流测量法、超声波测量法等。由于非在线测厚设备价格便宜、体积小等原因,应用领域广阔。 3.1涡流测厚仪和磁性测厚仪涡流测厚仪和磁性测厚仪一般都是小型便携式设备,分别利用了电涡流原理和电磁感应原理。专用于各种特定涂层厚度的测量,用于测量薄膜、纸张的厚度时有出现误差的可能。

塑料薄膜厚度的在线和非在线测量方法

塑料薄膜厚度的在线和非在线测量方法 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于复合薄膜,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,每一层树脂的厚度才可能均匀。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1.各种在线和非在线测厚技术发展快速 包装材料厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是非在线测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2.在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术和近红外技术。 2.1β射线技术 β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术,在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵,Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2X射线技术 这种技术极少为塑料薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,一般可用2-3年,更换费用在5000美元左右,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。 2.3近红外技术 近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度

塑料薄膜测厚仪CHY-CA型号的测试原理与应用介绍

塑料薄膜测厚仪CHY-CA型号的测试原理与应用介绍

塑料薄膜测厚仪CHY-CA型号的测试原理与应用介绍 CHY-CA塑料薄膜测厚仪由Labthink兰光自主研发生产,是兰光最新一代智能双模式全自动电子测厚仪,设备采用机械式面接触的测量方法,可以不受测量材料的限制,测量分辨率高达0.1微米,广泛适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、纸张、硅片等各种材料厚度的精确测量。仪器支持手动、自动双重测量模式,自动模式可进行进样间距、测量点数和进样速度等参数的设置,更好地满足用户的统计分析需求。专业的测试软件拥有直观的操作界面、实时数据显示及构图功能,可进行数据起伏曲线、偏差图和圆形坐标图三种模式显示,实时数据显示包括最大值、最小值、平均值和统计偏差,试验过程及结果一目了然。 塑料薄膜测厚仪CHY-CA测试原理: CHY-CA测厚仪采用机械面接触式测试原理。

设备应用:

Labthink兰光,专业致力于为包装、食品、医药、日化、印刷、胶粘剂、汽车、石化、生物、建筑及新能源等领域客户提供行业咨询、产品销售、售后服务、风险控制解决方案。Labthink兰光目前生产销售的设备百余款,检测仪器涉及包装材料的阻隔性能检测、厚度检测、物理机械性能检测、包装容器的密封性能检测等方面,致力于为客户提供全面、专业、精湛的包装安全解决方案,帮助客户从风险控制入手,提高企业质量安全意识,减少企业成本流失。Labthink兰光检测设备有:纸箱耐压试验机、透氧仪、电子剥离试验机、雾化试验仪、透光率雾度测定仪、薄膜厚度仪、包装顶空分析仪、薄膜热收缩率测试仪、透气度测试仪、透湿性测试仪、揉搓试验仪、瓶盖扭力测试仪、热封性能测试仪、包装透气性测试仪、墨层耐磨试验仪、蒸发残渣恒重仪、光泽度仪、落镖冲击测试仪、水蒸气透过率测试仪、高温蒸煮锅、落球冲击测试仪、持粘性试验仪、摩擦系数测定仪、初粘性试验仪、摆锤冲击试验仪、密封性测试仪、纸张撕裂度仪、气相色谱仪、标准光源箱、油墨耐摩擦试验机、热粘拉力试验仪等。如需了解更多检测仪器的详细信息与操作方法,可直接登录济南兰光公司网站或致电咨询!济南兰光机电技术有限公司愿借此与行业中的企事业单位增进技术交流与合作。

薄膜厚度和折射率测量实验讲义

薄膜厚度和折射率测量 实验讲义 一、前言 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于复合薄膜,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,每一层树脂的厚度才可能均匀。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1. 包装材料厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是非在线测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2. 在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术和近红外技术。 2.1 β射线技术β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术,在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵, Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2 X射线技术这种技术极少为薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,一般可用2-3年,更换费用在5000美元左右,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。 2.3 近红外技术近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度相对较低。 2.4 在线测厚设备的应用情况在线测厚能够以最快的速度获取厚度测试数据,通过数据分析,及时调整生产线的参数,缩短开车时间。但是在线测厚设备必须配备与生产线相匹配的扫描架,这在一定程度上限制了在线测厚设备的重复利用。而且由于薄膜生产线往往需要长期连续工作,因此相应的在线测厚设备也就必须长期工作。在设备的价格上,在线测试设备一般要比非在线测试设备贵很多,而且前者的运行费用与维护费用也比较高。

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率

实验背景介绍 椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。 实验原理 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1) 图(1-1) 这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中δ=2πdn2cosφ2/λ ,用r1p、r1s 表示光线的p分量、s分量在界面1、2间的反射系数,用r2p、r2s表示光线的p分、s分量在界面2、3间的反射系数。由多光束干涉的复振幅计算可知:

其中E ip和E is分别代表入射光波电矢量的p分量和s分量,E rp和E rs分别代表反射光波电矢量的p分量和s分量。现将上述E ip、E is、E rp、E rs四个量写成一个量G,即: 我们定义G为反射系数比,它应为一个复数,可用tgψ和Δ表示它的模和幅角。上述公式的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出: G是变量n1、n2、n3、d、λ、φ1的函数(φ2、φ3可用φ1表示) ,即ψ=tg-1f,Δ=arg| f |,称ψ和Δ为椭偏参数,上述复数方程表示两个等式方程:[tgψe iΔ]的实数部分= 的实数部分 [tgψe iΔ]的虚数部分=

膜厚度测量的椭偏仪法原理分析

第12卷第3期大 学 物 理 实 验 Vol.12 No.3 1999年9月出版PHYSICAL EXPERIMEN T OF COLL EGE Sep.1999 膜厚度测量的椭偏仪法原理分析 陈 篮 周 岩 (解放军广州通信学院,广州,510502) 摘 要 薄膜厚度的测量通常有多种方法,但对超薄的膜厚,要达到较高精确度,且测 量手段又较为简洁的,则椭偏仪法是理想的选择。本文对这种测量材料膜厚的光学方 法从基本原理、仪器特点、测量过程、样品状态等方面,均作了全面的分析。 关键词 光学;椭偏仪;薄膜;厚度 1 引言 薄膜材料的厚度测量有许多方法,大致可分为两大类:光学方法和非光学方法。其中,非光学方法一般只适于较厚的薄膜的测量。在大学物理实验中,测量膜厚通常采用光学干涉法,但此法对薄膜厚度有限制,当厚度(几百至几十埃)远远小于单色光波长时此法失效。采用另一类光学方法———椭偏仪法,则可精确测定超薄薄膜的厚度。椭偏仪一般分为三种类型:反射型、透射型和散射型。近代物理实验中,通常采用反射椭偏仪测量薄膜材料的厚度。 2 基本原理 实际薄膜的结构是很复杂的。实验中,作为有效近似,通常采用理想的单层模模型计算。 211 单层膜膜型 所谓理想的单层模模型,是指满足下列条件的薄膜: (1)薄膜二侧的介质均为半无限大,折射率分别为n1和n3; (2)薄膜的上下表面均为理想的光滑表面; (3)三种介质(n1、n2和n3)都是均匀和各向同性的。 实际薄膜中,介质1指周围的环境,如真空或空气;介质3为衬底材料。 212 光波的反射系数 单层膜表面光波的反射和折射情形如图1。 收稿日期:1998-12-21

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