实验薄膜厚度折射率
实验15椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率

实验15 椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率在近代科学技术的许多部门中对各种薄膜的研究和应用日益广泛.因此,更加精确和迅速地测定一给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要.在实际工作中虽然可以利用各种传统的方法测定光学参数(如布儒斯特角法测介质膜的折射率、干涉法测膜厚等),但椭圆偏振法(简称椭偏法)具有独特的优点,是一种较灵敏(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)、精度较高(比一般的干涉法高一至二个数量级)、并且是非破坏性测量.是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法.它能同时测定膜的厚度和折射率(以及吸收系数).因而,目前椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用.这个方法的原理几十年前就已被提出,但由于计算过程太复杂,一般很难直接从测量值求得方程的解析解.直到广泛应用计算机以后,才使该方法具有了新的活力.目前,该方法的应用仍处在不断的发展中.实验目的(1)(1)了解椭圆偏振法测量薄膜参数的基本原理;(2)(2)初步掌握椭圆偏振仪的使用方法,并对薄膜厚度和折射率进行测量.实验原理椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光.根据偏振光在反射前后的偏振状态变化,包括振幅和相位的变化,便可以确定样品表面的许多光学特性.1 椭偏方程与薄膜折射率和厚度的测量图15.1图15.1所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜.它有两个平行的界面,通常,上部是折射率为n1的空气(或真空).中间是一层厚度为d折射率为n2的介质薄膜,下层是折射率为n3的衬底,介质薄膜均匀地附在衬底上,当一束光射到膜面上时,在界面1和界面2上形成多次反射和折射,并且各反射光和折射光分别产生多光束干涉.其干涉结果反映了膜的光学特性.设φ1表示光的入射角,φ2和φ3分别为在界面1和2上的折射角.根据折射定律有n1sinφ1=n2sinφ2=n3sinφ3(15.1)光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P分量和垂直于入射面振动的s分量.若用E ip和E is分别代表入射光的p和s分量,用E rp及E rs分别代表各束反射光K0,K1,K2,…中电矢量的p分量之和及s分量之和,则膜对两个分量的总反射系数R p和R s定义为R P=E rp/E ip , R s=E rs/E is(15.2)经计算可得式中,r1p或r1s和r2p或r2s分别为p或s分量在界面1和界面2上一次反射的反射系数.2δ为任意相邻两束反射光之间的位相差.根据电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,可以证明r1p=tan(φ1-φ2)/ tan(φ1+φ2), r1s=-sin (φ1-φ2)/ sin(φ1+φ2);r2p=tan(φ2-φ3)/tan(φ2+φ3), r2s =-sin (φ2-φ3)/sin(φ2+φ3). (15.4)式(15.4)即著名的菲涅尔(Fresnel)反射系数公式.由相邻两反射光束间的程差,不难算出. (15.5)式中,λ为真空中的波长,d和n2为介质膜的厚度和折射率.在椭圆偏振法测量中,为了简便,通常引入另外两个物理量ψ和Δ来描述反射光偏振态的变化.它们与总反射系数的关系定义为上式简称为椭偏方程,其中的ψ和Δ称为椭偏参数(由于具有角度量纲也称椭偏角).由式(15.1),式( 15.4),式( 15.5)和上式可以看出,参数ψ和Δ是n1,n2,n3,λ和d的函数.其中n1,n2,λ和φ1可以是已知量,如果能从实验中测出ψ和Δ的值,原则上就可以算出薄膜的折射率n2和厚度d.这就是椭圆偏振法测量的基本原理.实际上,究竟ψ和Δ的具体物理意义是什么,如何测出它们,以及测出后又如何得到n2和d,均须作进一步的讨论.2 ψ和Δ的物理意义用复数形式表示入射光和反射光的p和s分量E ip=|E ip|exp(iθip),E is=|E is|exp(iθis);E rp=|E rp|exp(iθrp) ,E rs=|E rs|exp(iθrs).(15.6)式中各绝对值为相应电矢量的振幅,各θ值为相应界面处的位相.由式(15.6),式(15.2)和式(15.7)式可以得到.(1 5.7)比较等式两端即可得tanψ=|E rp||E is|╱|E rs||E ip| (15.8)Δ=(θrp–θrs)- (θip–θis) (15.9)式(15.8)表明,参量ψ与反射前后p和s分量的振幅比有关.而(15.9)式表明,参量Δ与反射前后p和s分量的位相差有关.可见,ψ和Δ直接反映了光在反射前后偏振态的变化.一般规定,ψ和Δ的变化范围分别为0≤ψ<π /2和0≤Δ<2π.当入射光为椭圆偏振光时,反射后一般为偏振态(指椭圆的形状和方位)发生了变化的椭圆偏振光(除开ψ<π/4且Δ=0的情况).为了能直接测得ψ和Δ,须将实验条件作某些限制以使问题简化.也就是要求入射光和反射光满足以下两个条件:(1)要求入射在膜面上的光为等幅椭圆偏振光(即P和S 二分量的振幅相等).这时,|E ip|/|E is|=1,式(15.9)则简化为tanψ=|E rp|/|E rs| .(15.10)(2)要求反射光为一线偏振光.也就是要求θrp–θrs=0(或π),式(15.9)则简化为(15.15)满足后一条件并不困难.因为对某图 15.2一特定的膜,总反射系数比R p/R s是一定值.式(15.6)决定了⊿也是某一定值.根据(15.9)式可知,只要改变入射光二分量的位相差(θip–θis),直到其大小为一适当值(具体方法见后面的叙述),就可以使(θip–θis)=0(或π),从而使反射光变成一线偏振光.利用一检偏器可以检验此条件是否已满足.以上两条件都得到满足时,式(15.10)表明,tan ψ恰好是反射光的p和s分量的幅值比,ψ是反射光线偏振方向与s方向间的夹角,如图15.2所示.式(15.15)则表明,Δ恰好是在膜面上的入射光中s和s分量间的位相差.3 ψ和Δ的测量实现椭圆偏振法测量的仪器称为椭圆偏振仪(简称椭偏仪).它的光路原理如图15.3所示.氦氖激光管发出的波长为 632. 8 nm的自然光,先后通过起偏器Q,1/4波片C入射在待测薄膜F上,反射光通过检偏器R射入光电接收器T.如前所述,p和s分别代表平行和垂直于入射面的二个方向.快轴方向f,对于负是指平行于光轴的方向,对于正晶体是图15.3 从Q,C和R用虚线引下的三个插图都是迎光线看去的指垂直于光轴的方向.t代表Q的偏振方向,f代表C的快轴方向,t r 代表R的偏振方向.慢轴方向l,对于负晶体是指垂直于光轴方向,对于正晶体是指平等于光轴方向.无论起偏器的方位如何,经过它获得的线偏振光再经过1/4波片后一般成为椭圆偏振光.为了在膜面上获得p和s二分量等幅的椭圆偏振光,只须转动1/4波片,使其快轴方向f与s方向的夹角α=土π/4即可(参看后面).为了进一步使反射光变成为一线偏振光E,可转动起偏器,使它的偏振方向t与s方向间的夹角P1为某些特定值.这时,如果转动检偏器R使它的偏振方向t r与E r垂直,则仪器处于消光状态,光电接收器T接收到的光强最小,检流计的示值也最小.本实验中所使用的椭偏仪,可以直接测出消光状态下的起偏角P1和检偏方位角ψ.从式(15.15)可见,要求出Δ,还必须求出P1与(θip–θis)的关系.下面就上述的等幅椭圆偏振光的获得及P1与Δ的关系作进一步的说明.如图15.4所示,设已将1/4波片置于其快轴方向f与s方向间夹角为π/4的方位.E0为通过起偏器后的电矢量,P1 为E0与s方向间的夹角(以下简称起偏角).令γ表示椭圆的开口角(即两对角线间的夹角).由晶体光学可知,通过1/4波片后,E0沿快轴的分量E f与沿慢轴的分量E l比较,位相上超前π/2.用数学式可以表达成.(15.12).(15.13)从它们在p和s两个方向的投影可得到p和s的电矢量分别为:图15.4.(15.14).(15.15)由式(15.14)和式(15.15)看出,当1/4波片放置在+π/4角位置时,的确在p和s二方向上得到了幅值均为E0/2的椭圆偏振入射光.p和s的位相差为θip–θis =π/2-2P1.(15.16)另一方面,从图15.4上的几何关系可以得出,开口角γ与起偏角P1的关系为γ/2=π/4-P1γ=π/2-2P1 (15.17)则(15.16)式变为θip–θis=γ(15.18)由式(15.15)可得Δ=—(θip -θis)= -γ(15.19)至于检偏方位角ψ,可以在消光状态下直接读出.在测量中,为了提高测量的准确性,常常不是只测一次消光状态所对应的P1和ψ1值,而是将四种(或二种)消光位置所对应的四组(P1,ψ1)),(P2,ψ2),(P3,ψ3)和(P4,ψ4)值测出,经处理后再算出Δ和ψ值.其中,(P1,ψ1)和(P2,ψ2)所对应的是1/4波片快轴相对于S方向置+π/4时的两个消光位置(反射后P和S光的位相差为0或为π时均能合成线偏振光).而(P3,ψ3)和(P4,ψ4)对应的是1/4波片快轴相对于s方向置-π/4的两个消光位置.另外,还可以证明下列关系成立:|p1-p2|=90˚,ψ2=-ψ1.|p3-p4|=90˚,ψ4=-ψ3.求Δ和ψ的方法如下所述.(1) 计算Δ值.将P1,P2,P3和P4中大于π/2的减去π/2,不大于π/2的保持原值,并分别记为< P1>,< P2>,< P3>和< P4>,然后分别求平均.计算中,令和, (15.20)而椭圆开口角γ与和的关系为. (15.21) 由式(15.22)算得ψ后,再按表15.1求得⊿值.利用类似于图15.4的作图方法,分别画出起偏角P1在表15.1所指范围内的椭圆偏振光图,由图上的几何关系求出与公式(15.18)类似的γ与P1的关系式,再利用式(15.20)就可以得出表15.1中全部Δ与γ的对应关系.1(2)(2)计算ψ值:应按公式(15.22)进行计算. (15.22) 4折射率n2和膜厚d的计算尽管在原则上由ψ和Δ能算出n2和d,但实际上要直接解出(n2,d)和(Δ,ψ)的函数关系式是很困难的.一般在n1和n2均为实数(即为透明介质的),并且已知衬底折射率n3(可以为复数)的情况下,将(n2,d)和(Δ,ψ)的关系制成数值表或列线图而求得n2和d值.编制数值表的工作通常由计算机来完成.制作的方法是,先测量(或已知)衬底的折射率n2,取定一个入射角φ1,设一个n2的初始值,令δ从0变到180°(变化步长可取π/180,π/90,…等),利用式(15.4),式(15.5)和式(15.6),便可分别算出d,Δ和ψ值.然后将n2增加一个小量进行类似计算.如此继续下去便可得到(n2,d)~(Δ,ψ)的数值表.为了使用方便,常将数值表绘制成列线图.用这种查表(或查图)求n2和d的方法,虽然比较简单方便,但误差较大,故目前日益广泛地采用计算机直接处理数据.另外,求厚度d时还需要说明一点:当n1和n2为实数时,式(15.4)中的φ2为实数,两相邻反射光线间的位相差“亦为实数,其周期为2π.2δ可能随着d的变化而处于不同的周期中.若令2δ=2π时对应的膜层厚度为第一个周期厚度d0,由(15.4)式可以得到由数值表,列线图或计算机算出的d值均是第一周期内的数值.若膜厚大于d0,可用其它方法(如干涉法)确定所在的周期数j,则总膜厚是D = (j -1) d0+d.5金属复折射率的测量以上讨论的主要是透明介质膜光学参数的测量,膜对光的吸收可以忽略不计,因而折射率为实数.金属是导电媒质,电磁波在导电媒质中传播要衰减.故各种导电媒质中都存在不同程度的吸收.理论表明,金属的介电常数是复数,其折射率也是复数.现表示为=n2 -iκ式中的实部n2并不相当于透明介质的折射率.换句话说,n2的物理意义不对应于光在真空中速度与介质中速度的比值,所以也不能从它导出折射定律.式中κ称为吸收系数.这里有必要说明的是,当为复数时,一般φ1和φ2也为复数.折射定律在形式上仍然成立,前述的菲涅尔反射系数公式和椭偏方程也成立.这时仍然可以通过椭偏法求得参量d,n2和k,但计算过程却要繁复得多.本实验仅测厚金属铝的复折射率.为使计算简化,将式(15.25)改写成以下形式=n2-i nκ由于待测厚金属铝的厚度d与光的穿透深度相比大得多,在膜层第二个界面上的反射光可以忽略不计,因而可以直接引用单界面反射的菲涅尔反射系数公式(15.4).经推算后得公式中的n1,φ1和κ的意义均与透明介质情况下相同.实验内容关于椭偏仪的具体结构和使用方法,请参看仪器说明书.实验时为了减小测量误差,不但应将样品台调水平,还应尽量保证入射角φ1放置的准确性,保证消光状态的灵敏判别.另外,以下的测量均是在波长为632.8nm时的参数.而且,所有测量均是光从空气介质入射到膜面.1 测厚铝膜的复折射率取入射角φ1=π/3.按已述方法测得Δ和ψ.由式(15.26)和式(15.27)式算出n和κ值,并写出折射率的实部和虚部. 2 测硅衬底上二氧化硅膜的折射率和厚度已知衬底硅的复折射率为n3=3.85-i0.02,取入射角φ1=7π/18.二氧化硅膜只有实部.膜厚在第一周期内.测出Δ和ψ后,利用列线图(或数值表)和计算机求出n2和d,将两种方法的结果进行对比.并计算膜的一个周期厚度值d0.3 测量κ0玻璃衬底上氟化镁(MgF2)膜层的折射率和厚度 (1) 测κ0玻璃的折射率首先测出无膜时K0玻璃的Δ和ψ值,然后代入n3=n3(Δ,ψ,φ1)的关系式中算出n3值,测量时入射角φ1取7π/18.关于n3与三个参量的关系式,根据式(15.1),式(15.4),式(15.5)和式(15.6),并令膜厚d=0,便可以算出n3的实部n0的平方值和n3的虚部κ值为(15.28)(15.29)(2)测透明介质膜氟化镁的折射率和厚度仍取入射角φ1=7π/18.膜厚在第一周期内.测出Δ和ψ后也用列线图和计算机求出结果.思考题(1) 用椭偏仪测薄膜的厚度和折射率时,对薄膜有何要求?(2) 在测量时,如何保证φ1较准确?(3) 试证明:|P1-P2| =π/2,|P3-P4| =π/2.(4) 若须同时测定单层膜的三个参数(折射率n2,厚度d 和吸收系数κ),应如何利用椭偏方程?。
用椭偏仪测薄膜厚度与折射率

103实验十二 用椭偏仪测薄膜厚度与折射率随着半导体和大规模集成电路工艺的飞速发展,薄膜技术的应用也越加广泛。
因此,精确地测量薄膜厚度与其光学常数就是一种重要的物理测量技术。
目前测量薄膜厚度的方法很多。
如称重法、比色法、干涉法、椭圆偏振法等。
其中,椭圆偏振法成为主要的测试手段,广泛地应用在光学、材料、生物、医学等各个领域。
而测量薄膜材料的厚度、折射率和消光系数是椭圆偏振法最基本,也是非常重要的应用之一。
实验原理由于薄膜的光学参量强烈地依赖于制备方法的工艺条件,并表现出明显的离散性,因此,如何准确、快速测量给定样品的光学参量一直是薄膜研究中一个重要的问题。
椭圆偏振法由于无须测定光强的绝对值,因而具有较高的精度和灵敏度,而且测试方便,对样品无损伤,所以在光学薄膜和薄膜材料研究中受到极大的关注。
椭圆偏振法是利用椭圆偏振光入射到样品表面,观察反射光的偏振状态(振幅和位相)的变化,进而得出样品表面膜的厚度及折射率。
氦氖激光器发出激光束波长为632.8nm 的单色自然光,经平行光管变成单色平行光束,再经起偏器P 变成线偏振光,其振动方向由起偏器方位角决定,转动起偏器,可以改变线偏振光的振动方向,线偏振光经1/4波片后,由于双折射现象,寻常光和非寻常光产生π/2的位相差,两者的振动方向相互垂直,变为椭圆偏振光,其长、短轴沿着1/4波片的快、慢轴。
椭圆的形状由起偏器的方位角来决定。
椭圆偏振光以一定的角度入射到样品的表面,反射后偏振状态发生改变,一般仍为椭圆偏振光,但椭圆的方位和形状改变了。
从物理光学原理可以知道,这种改变与样品表面膜层厚度及其光学常数有关。
因而可以根据反射光的特性来确定膜层的厚度和折射率。
图1为基本原理光路。
图2为入射光由环境媒质入射到单层薄膜上,并在环境媒质——薄膜——衬底的两个界面上发生多次折射和反射。
此时,折射角满足菲涅尔折射定律332211sin sin sin ϕϕϕN N N ==(1)104 其中N 1,N 2和N 3分别是环境媒质、= n – i k );ϕ1为入射角、 ϕ2 和ϕ3分别为薄膜和衬底的折射角。
椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验报告

椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验报告实验名称:椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验目的:利用椭圆偏振法测量薄膜的厚度和折射率,掌握椭圆偏振法的基本原理和实验操作方法。
实验原理:椭圆偏振法是一种常用的测量薄膜光学性质的方法。
当偏振光通过具有一定折射率的薄膜时,会发生透射和反射,经过反射和透射之后的光束会发生干涉现象。
当入射光是偏振光时,通过表层膜的透射光经过增偏器后变为线偏振光,其振动方向决定于表层膜的光学性质以及入射角。
通过调节增偏器的方向和旋转其角度,使得通过增偏器的振动方向与振动椭圆的长轴平行,此时称之为白光不通过表层膜,反射线偏振光与透射线偏振光的相位差为0. 形成一个相干叠加的椭圆偏振光。
根据椭圆偏振光的特性,可以通过测量椭圆偏振光的特性参数(主轴角度、椭圆离心率等)来确定薄膜的厚度和折射率。
实验装置:椭圆偏振仪、光源、待测试薄膜样品。
实验步骤:1. 启动椭圆偏振仪,调整光源使其达到合适的亮度和稳定性。
2. 将待测薄膜样品放置在椭圆偏振仪的样品台上,并通过对焦镜调整样品的焦距。
3. 调整增偏器的方向,使通过增偏器的线偏振光振动方向与椭圆的长轴平行。
4. 调整旋转台上的角度,使反射线偏振光与透射线偏振光的相位差为0,此时形成相干的椭圆偏振光。
5. 在椭圆偏振仪上的读数器上记录椭圆偏振光的主轴角度、椭圆离心率等参数。
6. 重复上述操作,测量多组数据,以提高测量准确度。
7. 根据测量得到的参数计算薄膜的厚度和折射率。
实验结果:通过测量多组数据,记录椭圆偏振光的主轴角度和椭圆离心率等参数,得到一组薄膜的厚度和折射率。
注意保留合适的有效数字。
实验讨论:1. 实验中应确保光源的稳定性和一致性,以获得准确的测量结果。
2. 实验中可以通过调整增偏器和旋转台的角度,使椭圆偏振光的参数达到最佳值,以提高测量精度。
3. 实验中应注意测量时的环境条件,避免与外部环境光的干扰。
实验结论:通过椭圆偏振法测量薄膜的厚度和折射率,可以得到薄膜的光学性质参数。
椭圆偏振法测量薄膜厚度及折射率

椭圆偏振法测量薄膜厚度及折射率实验目的:1、利用椭偏仪测量硅衬底薄膜的折射率和厚度;提高物理推理与判别处理能力。
2、用自动椭偏仪再测量进行对比;分析不同实验仪器两种方式的测量。
提高误差分析与分配能力。
教学安排手动测量记录P、A 2学时自动测量并计算n、d 1学时对比研究1学时原理综述:椭圆偏振法简称椭偏法,是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法,椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难,直到上世纪40年代计算机出现以后才发展起来,椭偏法的测量经过几十年来的不断改进,已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测,极大地促进了纳米技术的发展,椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级),测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。
利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率,也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。
因此,椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
通过实验,读者应了解椭偏法的基本原理,学会用椭偏法测量纳米级薄膜的厚度和折射率,以及金属的复折射率。
一、实验原理椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光。
根据偏振光在反射前后的偏振状态变化(包括振幅和相位的变化),便可以确定样品表面的许多光学特性。
设待测样品是均匀涂镀在衬底上的透明同性膜层。
如图3.5.1所示,n1,n2和n3分别为环境介质、薄膜和衬底的折射率,d是薄膜的厚度,入射光束在膜层上的入射角为φ1,在薄膜及衬底中的折射角分别为φ2和φ3。
按照折射定律有错误!未找到引用源。
(3.5.1)光的电矢量分解为两个分量,即在入射面内的P分量及垂直于入射面的S分量。
根据折射定律及菲涅尔反射公式,可求得P分量和S分量在第一界面上的复振幅反射率分别为而在第二个界面处则有从图3.5.1可以看出,入射光在两个界面上会有很多次的反射和折射,总反射光束将是许多反射光束干涉的结果,利用多光束干涉的理论,得p分量和s 分量的总反射系数其中是相邻反射光束之间的相位差,而λ为光在真空中的波长。
03.01.椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率1. 实验目的(1) 了解椭偏光法测量原理和实验方法; (2) 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法; (3) 测量介质薄膜样品的厚度和折射率。
2. 实验原理本实验介绍反射型椭偏光测量方法。
其基本原理是用一束椭偏光照射到薄膜样品上,光在介质膜的交界面发生多次的反射和折射,反射光的振幅和位相将发生变化,这些变化与薄膜的厚度和光学参数(折射率、消光系数等)有关,因此,只要测出反射偏振状态的变化,就可以推出膜厚度和折射率等。
2.1 椭圆偏振方程图1所示为均匀、各向同性的薄膜系统,它有两个平行的界面。
介质1为折射率为n 1的空气,介质2为一层厚度为d 的复折射率为n 2的薄膜,它均匀地附在复折射率为n 3的衬底材料上。
φ1为光的入射角,φ2和φ3分别为薄膜中和衬底中的折射角。
光波的电场矢量可分解为平行于入射面的电场分量(p 波)和垂直于入射面的电场分量(s 波)。
用(I p )i 和(I s )i 分别代表入射光的p 分量和s 分量,用(I p )r 和(I s )r 分别代表各反射光O p ,I p ,II p ···中电矢量的p 分量之和及各束反射光s 分量之和。
定义反射率(反射系数)r 为反射光电矢量的振幅与入射光电矢量的振幅之比。
则由菲涅耳公式,有 对空气-薄膜界面I :r 1p =n 2cosφ1−n 1cosφ2n 2cosφ1+n 1cosφ2(1)r 1s =n 1cosφ1−n 2cosφ2n 1cosφ1+n 2cosφ2(2)对薄膜-衬底界面II :r 2p =n 3cosφ2−n 2cosφ3n 3cosφ2+n 2cosφ3(3)r 2s =n 2cosφ2−n 3cosφ3n 2cosφ2+n 3cosφ3图1 薄膜系统的光路示意图I pO pI pII p根据折射定律,有n1sinφ1=n2sinφ2=n3sinφ3(5) 由图1,可算出任意两相邻反射光之间的光程差为l=2n2dcosφ2相应的相位差为2δ=360°λl于是可得δ=360°λd(n22−n12sin2φ1)12⁄(6)另一方面,由多束光干涉原理来考察空气-薄膜-衬底作为一个整体系统的总反射系数,以R p 和R s分别表示这个系统对p波和s波的总反射系数,则由图1可知,对p波,R p由O p,I p,II p···各级反射光叠加合成。
椭偏仪测量薄膜厚度和折射率

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率【引言】椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。
椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。
结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。
【实验目的】掌握椭偏仪的原理与操作方法;学会利用椭偏仪进行相关物理量的测量。
【实验仪器】椭偏仪、待测样品、电脑WJZ-II椭偏仪结构如图1所示:1、半导体激光器2、平行光管3、起偏器读数头(与6可换用)4、1/4波片读数头5、氧化锆标准样板6、检偏器读数头7、望远镜筒8、半反目镜9、光电探头10、信号线11、分光计12、数字式检流计图 1半导体激光器出厂时已调好,应满足以下二点:(1)激光光斑在距激光器约45cm处最小,如发现偏离较远,可将激光器从其座中取出,调节其前端的会聚透镜即可。
(2) 激光与平行光管共轴,如发现已破坏,请按第8页“光路调整”中所述方法进行调整,一旦调好,轻易不要将其破坏。
主要技术性能及规格 1. 测量透明薄膜厚度范围0-300nm ,折射率1.30-2.49。
2. 起偏器、检偏器、1/4波片刻度范围0°-360°,游标读数0.1°。
3. 测量精度:±2nm 。
4. 入射角ψ1=70°,K9玻璃折射率n =1.515。
5. 消光系数:0,空气折射率1。
6. *JGQ -250氦氖激光器波长λ=632.8nm (用软件处理数据时,该波长值已内嵌,无须输入)。
*半导体激光器波长λ=635nm (用软件处理数据时,该波长值未内嵌,须输入,并需重新设置消光系数“0”) 7. 椭圆偏振仪的简介:随着科学和技术的快速发展,椭偏仪的光路调节和测量数据的处理越来越完善快捷。
椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

其中:这时需测四个量,即分别测入射光中的两分量振幅比和相位差及反射光中的两分量振幅比和相位差,如设法使入射光为等幅椭偏光,/ = 1,则tg ψ=|/|;对于相位角ip E is E rp E rs E ,有:∆因为入射光-连续可调,调整仪器,使反射光成为线偏光,即-=0或π,则ip βis βrp βrs βΔ=-(-)或Δ=π-(-),可见Δ只与反射光的p 波和s 波的相位差有关,可从ip βis βip βis β起偏器的方位角算出。
对于特定的膜,Δ是定值,只要改变入射光两分量的相位差(-ip β),肯定会找到特定值使反射光成线偏光,-=0或π。
is βrp βrs β2.椭偏法测量和的实验光路∆ψ1)等幅椭圆偏振光的获得,如图1-2。
2)平面偏振光通过四分之一波片,使得具有±π/4相位差。
3)使入射光的振动平面和四分之一波片的主截面成45°。
图 1-2反射光的检测将四分之一波片置于其快轴方向f 与x 方向的夹角α为π/4的方位,E0为通过起偏器后的电矢量,P 为E0与x 方向间的夹角。
,通过四分之一波片后,E0沿快轴的分量与沿慢轴的分量比较,相位上超前π/2。
在x 轴、y 轴上的分量为:由于x 轴在入射面内,而y 轴与入射面垂直,故就是,就是。
x E ip E y E is E图 1-3由此可见,当α=π/4时,入射光的两分量的振幅均为E0 / √2,它们之间的相位差为2P-π/2,改变P 的数值可得到相位差连续可变的等幅椭圆偏振光。
这一结果写成:实验仪器:本实验使用多功能激光椭圆偏振仪,由JJY型1'分光计和激光椭圆偏振装置两部分组成,仪器安装调试后如图19.6所示,其各部件功能如下:光源:包括激光管和激光电源。
激光管装在激光器座上,可以作水平、高低方位角调节和上下升降调节,发射632.8nm的单色光1.He-Ne激光管2.小孔光闸3.平行光管4.起偏器5.1/4 波片6.被测样品7.载物台8.光孔盘9.检偏器10.塑远镜筒11.白屏镜小孔光闸:保证激光器发出的激光束垂直照射在起偏器中心。
实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率

实验:椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率随着现代科技的快速发展,薄膜材料的研究和应用受到越来越多的关注。
如何快速准确的测量薄膜材料的厚度和折射率等光学参数成为急需解决的问题之一。
椭圆偏振法是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法,这种方法测量灵敏度高(可探测小于0.1nm的厚度变化)、精度较好(比干涉法高一到两个数量级)、对待测样品无损伤并且能同时测量薄膜的厚度和折射率。
因而,目前椭圆偏振法已经在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用。
实验目的:1.了解椭圆偏振测量的基本原理,掌握利用椭偏仪测量薄膜厚度和折射率的基本方法。
2.学会组装椭圆偏振仪,熟悉椭圆偏振仪使用。
实验原理:椭圆偏振法测量的基本思路是,经由起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后获得等幅椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光.根据偏振光在反射前后的偏振状态变化,包括振幅和相位的变化,便可以确定样品表面的许多光学特性。
图1光在薄膜和衬底系统上的反射和折射图1所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜.它有两个平行的界面,通常,上部是折射率为n1的空气(或真空).中间是一层厚度为d折射率为n2的介质薄膜,下层是折射率为n3的衬底,介质薄膜均匀地附在衬底上,当一束光射到膜面上时,在界面1和界面2上形成多次反射和折射,并且各反射光和折射光分别产生多光束干涉.其干涉结果反映了膜的光学特性。
设φ1表示光的入射角,φ2和φ3分别为在界面1和2上的折射角.根据折射定律有:n 1sin φ1=n 2sin φ2=n 3sin φ3(1) 光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P 分量和垂直于入射面振动的s 分量。
用r 1p 、r 1s 表示光线的p 分量、s 分量在界面1的反射系数,用r 2p 、r 2s 表示光线的p 分量、s 分量在界面2的反射系数。
用E ip 、E is 表示入射光波电矢量的p 分量和s 分量,用E rp 、E rs 分别表示各束反射光电矢量的p 分量和s 分量的和。
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单波长椭偏法测试分析薄膜的厚度与折射率一、实验目的掌握椭偏法的基本原理,学会使用单波长椭偏仪测硅衬底上透明膜厚度和折射率。
二、实验原理1、偏振光的分类偏振是各种矢量波共有的一种性质。
对各种矢量波来说,偏振是指用一个常矢量来描述空间某一个固定点所观测到的矢量波(电场、应变、自旋)随时间变化的特性。
光波是一种电磁波,电磁场中的电矢量就是光波的振动矢量,其振动方向与传播方向相垂直。
电矢量在与光传播方向垂直的平面内按一定的规律呈现非对称的择优振动取向,这种偏于某一方向电场振动较强的现象,被称为光偏振。
正对着光的传播方向观察,电矢量的方向不随时间变化,其大小随着相位有规律地变化的光为线偏振光或者称为平面偏振光,在与光的传播方向相垂直的平面上,其轨迹为一条直线;若电矢量的大小始终不变,方向随时间规则变化,其端点轨迹为圆形,则为圆偏振光;若电矢量的大小和方向都随时间规则变化,其端点轨迹呈椭圆形,则为椭圆偏振光。
如果光呈现出各方向振福相等的特征,并不在某一方向的择优振动,将这种光称为自然光;将自然光与线偏振光混合时,呈现沿某一方向电场振幅较大,而与其正交的方向电场振幅较弱但不为零的特性,这种光为部分偏振光。
2、偏振光的产生用于产生线偏振光的元件叫起偏器。
用于检验和分析光的偏振状态的元件叫检偏器。
虽然两者的名称不同,但起偏器和检偏器大都具有相同的物理结构和光学特性,在使用中可互换,仅根据其在光学系统中所扮演的角色而被赋予了不同的名称。
3、反射式椭圆偏振光谱测量的基本原理(1) 偏振光学系统在椭偏仪中,偏振光束是通过一系列能产生特定偏振状态的光学元件来进行传播的。
在这方面,椭偏仪是属于这样一类光学系统,其中光的偏振表示了经过此系统内的光学元件处理过的光波的基本性质。
我们把这类光学系统称为偏振系统,以区别于其他类型的光学系统,即在其它许多系统中,受影响的是光波的某种性质但不是它的偏振状态。
例如,在成象光学系统中,置放在光路中的光学元件对光波播前的振幅(强度)进行变换。
不同类型的光学系统内的装置有很大的不同,成象光学系统主要由透镜和空间滤光片构成。
而偏振光学系统则由起偏器、延迟器和旋光器组成。
虽然按照光学系统所能处理的光波的基本性质来划分光学系统的方法是十分吸引人的,但是,对于同时能使光波的一种以上性质发生显著变化的光学系统来说,一般的描述办法就有些困难了。
(2)椭偏仪装置的测量理论和分析椭偏学一般可定义为对偏振矢量波的偏振态进行测量和分析的方法和系统。
虽然光波偏振态的测量本身就具有重要意义,但利用椭偏测量的原理和方法,通常可获得偏振态发生变化的“某光学系统”的有关信息。
我们在椭偏学研究中所采取的一般方法是,作为探针的偏振光波能够有控制地与待测光学系统发生相互作用。
这种相互作用将改变光波的偏振态(也十分可能引起其他性质变化)。
测量偏振的初态和终态,或反复测量适当数目的不同初态,例如利用系统的琼斯或米勒矩阵,便可确定所研究的系统对偏振光的变换规律。
光学系统的琼斯或米勒矩阵传递了该光学系统的有关信息,为了取得更基本的信息,就必须利用光的电磁学理论来研究该系统内光与物质的相互作用。
换句话说,要求研究偏振态变化的内部过程,以弄清由琼斯或米勒矩阵所描述的光学系统的性质变化究竟来源于哪些内部机理。
通用椭偏仪的工作布局图如图1所示。
来自合适的光源L的准直性能优良的单色光或准单色光,经可调起偏器P产生已知的偏振态可控的光束。
这束光与待测光学系统(S)相互作用,从而使光束偏振态发生变化。
利用其后连有探测器D的可调检偏器A,来检测系统输出端的偏振态的变化。
图4普通椭偏仪的工作布局。
L、P、S、A和D分别代表光源、可调起偏器、待测光学系统、可调检偏器和光电探测器。
现在假定光波与光学系统间的相互作用是线性的,并且无频率变化,光学系统可通过下面的一种或几种过程而是作为探针的光波偏振态发生变化: (1). 反射或折射:当光波在两个不同的光学媒质界面上发生反射或折射时,偏振态会发生突变。
这种变化的原因是,对于与入射面相平行(p)和垂直(s)的两种线偏振光分别有不同的菲涅耳反射或透射系数。
(2). 透射:当一束光通过一各向异性媒质(折射率、吸收率或两者,均存在各向异性)时,其偏振态将连续变化。
(3). 散射:当光波穿过因存在散射中心而其折射率具有空间不均匀性的媒质时,便发生散射,就像在气旋体与乳状液中那样。
反射和透射并不明显影响原光束的准直性,但散射不同于它们,通常伴随着散射能量在一大的立体角范围内重作分布现象。
根据改变光波的偏振态的作用方式,可将椭偏测量方法分为: (i) 反射或表面椭偏测量法 (ii) 透射椭偏测量法(偏振测量法)。
图1 普通椭偏仪的工作布局。
L、P、S、A和D分别代表光源、可调起偏器、待测光学系统、可调检偏器和光电探测器。
现在假定光波与光学系统间的相互作用是线性的,并且无频率变化,光学系统可通过下面的一种或几种过程而是作为探针的光波偏振态发生变化: (1). 反射或折射:当光波在两个不同的光学媒质界面上发生反射或折射时,偏振态会发生突变。
这种变化的原因是,对于与入射面相平行(p)和垂直(s)的两种线偏振光分别有不同的菲涅耳反射或透射系数。
(2). 透射:当一束光通过一各向异性媒质(折射率、吸收率或两者,均存在各向异性)时,其偏振态将连续变化。
(3). 散射:当光波穿过因存在散射中心而其折射率具有空间不均匀性的媒质时,便发生散射,就像在气旋体与乳状液中那样。
反射和透射并不明显影响原光束的准直性,但散射不同于它们,通常伴随着散射能量在一大的立体角范围内重作分布现象。
根据改变光波的偏振态的作用方式,可将椭偏测量方法分为: (i) 反射或表面椭偏测量法 (ii) 透射椭偏测量法(偏振测量法)(iii) 散射椭偏测量法。
值得指出是,虽然许多测量方法的基本原理都相同,但上述分类却对应于三种性质各异的研究领域,它们彼此之间存在着很大的差别。
利用探测光随偏振态(方位角、相位延迟或入射角)变化的规律建立了光度椭偏测量法。
由光度椭偏仪得到的原始数据包括在预定条件下取得的光强度(光流)信号。
光度椭偏仪分成静态光度椭偏仪和动态光度椭偏仪。
对于静态光度椭偏仪,待测信号(通常是直流信号,除非用斩光器切断光源光束)是在椭偏仪各元件的预定位置处被记录下来,即在P、C、A与的特定值下记录。
使用动态光度椭偏仪,则让参量P、C、A与中的一个或几个随时间作周期变化,而后对待测信号作傅里叶分析。
(3)反射式光度型椭圆偏振光谱测量的基本原理菲涅尔公式表明,对于两种光学各向异性的均匀媒质构成的理想光学界面(如图2所示),当入射光在该界面发生反射或折射时,其反射波或透射波的偏振态会发生改变。
这种变化的根本原因在于:与入射面平行和垂直的两个线偏振光分别有不同的菲涅尔反射或透射系数。
这就是椭圆偏振光学测量的物理依据。
图2. 光束在两介质界面的反射和折射图设两个复反射系数和分别代表s和p方向上的反射和入射光束的电场矢量复振幅之比,即:~s R ~p R s i s is rss e r E E R δ==~ (1) p i s ip p e r E E R δ==~ (2)式中r为反射波的电矢量(rp E )振幅和入射波电矢量(i E )振幅之比,δ则为经过反射后电矢量产生的相移,其中下s和p分别表示垂直(S)和平行(P)入射面的两个分量。
如果入射波的偏振态是任意的(即偏振态包含S、P 两个偏振成分),则反射波的合成偏振态将不同于入射波的偏振态,这是S和P两个偏振分量具有不同菲涅尔反射系数的缘故。
基于这一原理,反射法测量椭圆偏振光是通过测量入射波和反射波的偏振态改变而求出P偏振和S偏振的菲涅尔反射系数的比值ρ,由(1)和(2)两式可得:()s p i s p s pe r r R R δδρ−==~~ (3)我们也可以将ρ改写为:∆Ψ=i e tan ρ (4)即:s p s pr r δδ−=∆=Ψtan (5)式(5)中()π20≤Ψ≤Ψ与()π20≤∆≤∆即为通常所说的椭偏参数,此式可看作是对椭偏参数的定义。
Ψ和∆分别反映了光与物质相互作用后,和震动分量的振幅和相位发生的变化,它们是实验上可被测量的物理量,其数值可通过测量和分析椭圆偏振光强的变化得到。
需要说明的是,实际光学系统的相对反射率ρ不仅取决于被研究材料自身的光学性质,而且还依赖于实验条件,如入射光的波长和入射角、样品表面的粗糙度等条件,式(5)将系数与实验上可直接测量的量Ψ和Δ联系起来,从原理上讲,在已知被研究系统本身的物理参数和实验条件后,该系统的Ψ和Δ可以被确定。
然而,椭偏参数与所需确定的光学常数之间的联系还依赖于材料的结构和所采用的反射式光学系统的模型。
通常,当实验测量的数据与数值计算的结果吻合得较好时,便认为所选择的模型是较合适的。
在椭圆偏振实验测量中,先精确测量出椭偏参数Ψ和Δ,然后按照由理想的光学各向异性样品与透明环境媒质组成的两相模型,按下式来确定样品的复介电常数: ~ε()()⎪⎭⎪⎬⎫⎪⎩⎪⎨⎧⎥⎦⎤⎢⎣⎡+−+=2222~~11tan sin sin ρρφφφεεa (6) 上式中ρ由式(6)决定,和φ分别为环境媒质的复介电常数和探测光束的入射角。
由此可见,在椭圆偏振测量实验中,通过测量椭偏参数Ψ和Δ,由式(5)计算出系统的相对反射率ρ,然后由式(6)式求出复介电常数,最后再通过其与固体宏观光学常数之间的关系求出其他光学常数,这样就可以在实验上对固体样品的光学性质进行分析。
这就是采用椭圆偏振光学方法研究固体材料的光学性质的基本原理。
a ~ε图3为本实验所采用的反射式椭圆偏振光谱仪的原理图。
其中:P 0、P和A是偏振器件。
P 0为固定起偏器,其作用是使入射光的初始偏振态被固定在s方向振动,可有效克服来自光源偏振性的影响。
P和A分别为可旋转的起偏器和检偏器,它们的初始偏振方位角均沿s 方向。
A 的转速是的两倍。
从起偏器P出射的光经过样品表面反射后透过检偏器A进入探测器,φ是入射角。
光的入射面与s方向垂直。
图3. 反射式椭圆偏振光谱实验测量的工作原理示意图三、实验仪器设备单波长椭圆偏振光谱仪器四、重要注意事项:z 如果中间某步骤未完成,可能导致转臂与仪器其它部件相碰,使损坏仪器。
请严格按照“实验方法、步骤”进行实验,不得擅自改变实验步骤。
z请认真观察实验过程中转臂转动情况,如操作失误,务必在转臂与仪器其它部件相碰之前关闭椭偏仪器电源,以免损坏仪器。
五、实验方法、步骤一、打开半导体激光器电源开关。
二、打开计算机进入Windows 98 操作系统。
三、放上样品。
注意不要触碰待测样品表面,以免影响测量结果。
四、检查椭圆偏振光谱仪各部件的连接。