焦磷酸铜

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焦磷酸铜密度-概述说明以及解释

焦磷酸铜密度-概述说明以及解释

焦磷酸铜密度-概述说明以及解释1.引言1.1 概述焦磷酸铜是一种重要的化学物质,具有多种独特的性质和广泛的应用。

它是由铜离子和焦磷酸根离子(PO3-4)组成的盐类化合物。

焦磷酸铜的化学式为Cu3(PO4)2,是一种绿色的晶体固体。

焦磷酸铜具有较高的密度,这是指单位体积内所含质量的大小。

根据实验测定,焦磷酸铜的密度约为4.14克/立方厘米。

这意味着在相同体积的空间内,焦磷酸铜所含的质量要比水、空气等其他物质更大。

焦磷酸铜密度的大小与其化学结构以及原子间的相互作用有关。

焦磷酸铜晶体的结构中含有铜离子和焦磷酸根离子之间的离子键以及晶格间的范德华力,这些相互作用力使得焦磷酸铜具有较高的密度。

焦磷酸铜密度的研究对于深入了解该物质的性质和应用具有重要意义。

通过测定焦磷酸铜的密度,可以揭示其分子结构以及原子之间的排列方式。

此外,密度数据还可以为焦磷酸铜的应用提供参考,例如在材料科学领域中,可以根据焦磷酸铜密度的特性选择合适的应用场景。

综上所述,焦磷酸铜具有较高的密度,其密度值为4.14克/立方厘米。

焦磷酸铜密度的研究对于了解其性质以及拓展其应用具有重要意义。

下文将从焦磷酸铜的制备方法、密度特性以及应用前景等方面展开详细讨论。

1.2 文章结构文章结构部分的内容可以包括以下内容:文章结构:本文分为以下几个部分进行讨论:引言、正文和结论。

1. 引言:引言部分将概述本文所讨论的焦磷酸铜密度的相关内容。

首先,介绍焦磷酸铜的基本概念和性质,包括其化学特性、物理性质等方面的基本信息。

然后,说明本文的目的,即探究焦磷酸铜的密度特性以及其在实际应用中的前景。

2. 正文:正文部分将详细介绍焦磷酸铜的密度相关内容。

首先,给出焦磷酸铜密度的定义,即单位体积内焦磷酸铜的质量。

随后,探讨焦磷酸铜密度的测量方法和常见的实验操作。

进一步,比较不同方法测得的焦磷酸铜密度数据,并进行数据分析和讨论。

此外,还会探究焦磷酸铜密度与其它物理性质的相关性,如温度、压力等因素对密度的影响。

焦磷酸盐镀铜:常见故障及其排除方法

焦磷酸盐镀铜:常见故障及其排除方法

焦磷酸盐镀铜:常见故障及其排除方法(1)镀层粗糙、毛刺和结瘤基体金属或预镀层粗糙,镀液中有“铜粉”或其他固体悬浮粒子,镀液中有机杂质过多,铅等异金属杂质过多或被CN一沾污,镀液pH过高,温度偏高,电流密度过大,阳极溶解不正常,铜含量过高或焦磷酸钾含量过低等都会引起镀层粗糙、毛刺和结瘤。

分析这类故障时,首先应确定故障的起源,用良好的前处理和良好的预镀后直接进行焦磷酸盐镀铜,或者用铜零件(或铜片)经手工擦刷除油和活化后直接进行焦磷酸盐镀铜。

假使这样试验所得的镀层不粗糙,那么粗糙起源于镀前,否则就起源于镀铜液中。

假使经过试验,确定故障起源于镀铜液中,那么最好进行烧杯试验。

先取1L镀液,不经任何处理做一块样板,作为空白对比,在这块样板上,一定要能观察到镀层粗糙的现象,然后用不同的方法处理镀液后做试验。

例如:单纯地过滤镀液后做试验,看看粗糙是否是镀液中悬浮的固体微粒造成的;将镀液用双氧水处理,试验粗糙是否是由CN一引起的;用双氧水一活性炭处理镀液,观察粗糙是否是由有机杂质的影响等。

反复试验,就可以找出镀层粗糙的原因,从而就可以针对性地处理镀液,排除故障。

下述几种情况都会引起镀层粗糙和毛刺。

①基体金属粗糙。

应改善抛光和研磨工序的质量。

②清洗不良。

避免使用有硅酸盐的清洗剂,如水玻璃之类物质,其水洗性不好。

零件表面留有硅酸盐后,遇酸后易变成不溶于水的另一种物质,更不易清洗,往往引起镀层粗糙,严重时影响结合力。

③预镀液不干净,预镀层已经粗糙。

④添加物料不慎。

没有完全溶解,或溶解时因搅拌沉渣浮现,未经充分沉淀就进行电镀。

加料前,应将所加材料在另一容器内先溶解完毕,然后加入镀液,并搅拌均匀。

⑤擦洗导电棒或挂钩时不注意,有腐蚀物落入槽内。

电镀中切勿用研磨材料来擦洗接触点,否则镀层很易产生粗糙、毛刺现象。

⑥氨的浓度偏低。

氨的浓度过低后,阳极会出现疏松的薄膜,这些疏松的薄膜进入镀液就会使镀层发生粗糙。

处理时,可增加氨的浓度直到阳极表面不存在疏松的薄膜。

氧化铜和石灰水反应

氧化铜和石灰水反应

氧化铜和石灰水反应
铜和石灰水的反应是一个常见的化学反应。

该反应的基本概念是:将铜片放入
石灰水中,可以产生铜离子,通过这些离子和石灰离子的作用,能(形成粘土类似物质)将石灰水变稠。

在铜与石灰水反应过程中,首先,石灰水中的氨基酸与铜合成复杂的化学物质。

其中一种叫氰酸铜,它与石灰离子中的磷酸根离子反应,形成一种新物质叫焦磷酸铜,其结构式为Cu2P2O7·2H2O,以及一种胶状物,即磷酸铜,其结构式为
Cu3(PO4)2。

两者的反应形成的是一种类似于粘土的物质,这种物质可以增加滋养
液的粘度,也可以形成离子析出物质。

此外,当铜与石灰水反应时,也会触发物理和化学过程,从而产生气体(二氧
化碳)和液体(氫氧化铜),这些气体和液体又将引发一些新的反应,从而影响反应的过程。

最后,在铜和石灰水反应的过程中,物质会互相牵引,发生反应,从而形成新
的物质,如在铜和石墨水中就可以观察到一层膜,这层膜是由反应产生的产物形成的。

综述来看,铜和石灰水反应就是氨基酸与铜离子形成反应物,接着,反应物又
与石灰离子的磷酸根离子反应,最终形成磷酸铜和焦磷酸铜,也会有一定的物理和化学过程,给石灰水带来变稠及形成诸多物质。

焦磷酸铜 热膨胀

焦磷酸铜 热膨胀

焦磷酸铜的热膨胀系数因温度和材料不同而有所差异。

在150℃到100℃之间,焦磷酸铜展现出强烈的负热膨胀性质,其体积热膨胀系数为21.33×10.100℃。

不过,在800℃烧结后,该材料体积热膨胀系数会有所下降。

此外,实际温度起伏可能会造成铜层应力变大或开裂,但通过采取预防措施,如增加正磷酸根的浓度来减少溶液的分散能力和沉淀效率,并降低铜层延展性,可以有效地避免此类开裂问题。

如需更多与焦磷酸铜热膨胀相关的信息,建议阅读相关论文或咨询材料学专家获取。

槽液各成分分析方法

槽液各成分分析方法

温州鸿升集团有限公司电镀各槽液分析方法编制:温在亮鸿升集团化验室为确保电镀产品质量达到要求,需要定期对电镀槽液进行维护以达到工艺要求。

相关人员定期对电镀槽液进行化验分析,及时补充不足的成分,维持槽液性能稳定。

电镀车间综合线:氰化镀铜、焦磷酸铜、打底镍槽、冲击镍槽、光亮酸铜槽、半光镍槽、光亮镍槽、三价铬槽、六价铬槽。

电镀车间自动线:预镀镍、半光亮镍、全光亮镍、镍封以及六价铬槽。

电镀槽液每周分析一次,做好相关记录,并及时上报品保部门。

Cu : ①取氰化镀铜槽液2.0ml 于250ml 锥形瓶②+100ml O H 2③+1g 8224O S NH )(④加热至澄清,溶液呈浅蓝色⑤+10ml1:1O H NH 23⑥+5滴PAN 指示剂⑦用0.1N EDTA 滴定,溶液由深蓝转为绿色到达终点。

CuCN :△×4.48 g/L—CN :①取氰化镀铜槽液10.0ml 于250ml 锥形瓶②+50ml O H 2③+10ml10%KI④用0.1N 3g NO A 滴定,溶液由清澈至刚出现浑浊到达终点。

游离NaCN :△×0.981 g/L722u O P C :①取焦磷酸铜槽液2.0ml 于250ml 锥形瓶②+100ml O H 2③加热至50℃④+10ml1:1O H NH 23⋅⑤+5滴PAN 指示剂⑥用0.1N EDTA 滴定,溶液由紫色转为绿色到达终点。

722u O P C :△×7.53 g/L-472O P : ①取焦磷酸铜槽液1.0ml 于250ml 锥形瓶②+100ml O H 2③+8~10ml1N COOH CH 3 调节PH 至3.8~4.0④+25ml0.2N n )(23Z COO CH⑤加热煮沸3min ,冷却后转移至250ml 容量瓶,加水至刻度线。

⑥过滤,静置后取滤液100ml 至250ml 锥形瓶⑦+10~15ml PH=10缓冲溶液⑧+5滴PAN 指示剂⑨用0.1N EDTA 溶液滴定,溶液由紫色转为黄绿色到达终点。

焦磷酸盐镀铜工艺研究

焦磷酸盐镀铜工艺研究

毕业论文题目:焦磷酸盐镀铜工艺研究学院:化学化工学院专业:应用化学班级: 0701学号:************学生姓名:***导师姓名:肖鑫完成日期:2011年6月10日目录摘要 (Ⅰ)Abstract (Ⅱ)0前言 (3)1焦磷酸盐镀铜的机理探讨 (4)2实验材料与仪器 (5)2.1药品及材料 (5)2.2仪器 (5)3实验研究部分 (5)3.1工艺流程 (5)3.1.1碱性脱脂 (5)3.1.2酸洗除锈 (5)3.1.3阴极电解脱脂 (6)3.1.4 超声波脱脂 (6)3.1.5化学镀镍 (6)3.2镀液性能检测 (7)3.2.1沉积速度的测定 (7)3.2.2结合力的测定 (7)3.2.3深度能力的测定 (7)3.2.4分散能力的测定 (7)3.2.5阴极电流效率的测定 (8)4实验结果与讨论 (8)4.1 基础配方的确定 (8)4.2 主要功能成分的作用与影响 (9)4.2.1焦磷酸铜 (9)4.2.2焦磷酸钾 (9)4.2.3 PL光亮剂 (10)4.2.4 PL开缸剂 (11)4.2.5 氨水 (11)4.3工艺参数的影响 (12)4.3.1 P比的影响 (12)4.3.2 pH的影响 (13)4.3.3 温度的影响 (13)4.3.4 电流密度的影响 (13)4.4杂质离子的影响 (14)4.4.1 Cr6+对镀液的影响 (15)4.4.2 Pb2+的影响 (15)4.4.3 Fe3+的影响 (15)4.4.4 CN-的影响 (16)4.5 性能检测 (17)4.5.1 沉积速度 (17)4.5.2 深镀能力 (17)4.5.3 分散能力 (18)4.5.4 阴极电流效率 (18)4.6 镀液维护 (18)5结论 (20)参考文献 (20)致谢 (21)0前言铜是玫瑰红色富有延展性的金属。

原子量为63.54,比重8.9、熔点1083℃。

一价铜的电化当量为2.372g/安培小时,二价铜的电化当量为1.186g/安培小时[1]。

PYROLUME PL_焦磷酸铜电镀工艺_ds_v1

PYROLUME PL_焦磷酸铜电镀工艺_ds_v1

装饰性电镀产品说明书PYROLUME PL焦磷酸铜电镀工艺 焦磷酸铜电镀工艺版本: 01文件编号: 2019-CNIMDS 编号:页: 1 / 6内容特点 (2)设备 (2)工作参数 (3)镀液配制 (3)配制步骤 (4)补充及维护 (4)注意事項 (5)分析方法 (5)PYROLUME PL焦磷酸铜电镀工艺 焦磷酸铜电镀工艺版本: 01文件编号:2019-CN 页: 2 / 6特点1. 镀液呈微碱性,具极佳的深镀能力,特别适用于形状复杂的锌合金压铸件。2. 镀液不含有害的氰化物。3.镀层光亮平滑,电流密度范围宽阔。4.可作滚镀或挂镀使用。5.锌合金压铸件镀焦磷酸铜前,需要预镀氰化铜以防止发生置换反应。设备槽体材料 柔钢槽内衬合适的橡胶、聚氯乙烯或聚丙烯。

阳极 建议使用OFHC无氧高导电铜阳极。

加热器材料 可采用钛、石英、聚四氟乙烯(PTFE)等电热笔加热。

阳极袋 不需要。

循环过滤 建议连续过滤,过滤泵最少能在1小时内将镀液过滤4次。

空气搅拌 所需的空气由附有过滤器的低压无油气泵供应,所需气量约为12–20立方米/小时/每平方米液面。

打气管距槽底约30–80毫米,摆放方向与阴极铜棒平行。

气管需钻有两排直径3毫米的小孔,45 度角向槽底,两排小孔应相对交错,每边间距80–100毫米,小孔交错间距40–50毫米。

镀槽最好设置两根或以上的打气管,气管采用聚氯乙烯或聚乙烯等材料,内径约20–40毫米,两管距离150–250 毫米。

PYROLUME PL焦磷酸铜电镀工艺 焦磷酸铜电镀工艺版本: 01文件编号:2019-CN 页: 3 / 6工作参数pH 8.6 - 9.2用pH计测量镀液的pH值。

应使用稀硫酸或10%氢氧化钠调整镀液之酸碱度。

温度 50 - 55 o C电圧 3 - 12V电流密度 阴极阳极2.5 (1.6 - 3.3) 安培/平方分米 4 (1 - 6) 安培/平方分米沉积速度 10.0安培/平方分米电流密度下, 每分钟沉积约0.15 – 0.25微米。镀液配制镀液配制所需材料 建议使用量纯水 700 毫升/升焦磷酸钾(K4P2O7) 270 克/升焦磷酸铜(Cu2P2O7·4H2O) 70 克/升氨水 (比重 0.9克/立方厘米) 3 毫升/升焦铜开缸剂PYROLUME MAKE UP2 毫升/升焦铜光亮剂PYROLUME BRIGHTENER0.2 毫升/升PYROLUME PL焦磷酸铜电镀工艺 焦磷酸铜电镀工艺版本: 01文件编号:2019-CN 页: 4 / 6配制步骤1.注入三份之二的纯水于代用槽或备用槽中,加热至50°C。

焦磷酸盐镀铜

焦磷酸盐镀铜

焦磷酸盐镀铜焦磷酸盐镀铜由于分散能力较好,镀层结晶细致,而又可以避开有毒的氰化物,是镀铜中用常用的镀种之一,只是在酸性光亮镀铜技术开发出来之后,才渐渐较少采用,但在电子电镀中还占有一定比例。

其缺点实际上也是一个环境问题,就是强络合剂在水体中使金属离子不易提取而造成二次污染。

另外,正磷酸盐的积累也会给镀液的维护带来一些问题。

(1)焦磷酸盐镀铜工艺焦磷酸铜70~l00g/L温度30~50℃焦磷酸钾300~400g/L阴极电流密度0.8~1.5A/dm2柠檬酸铵20~25g/L阴极移动25~30次/minpH值8~9(2)镀液维护和注意事项焦磷酸镀铜维护的一个重要参数是焦磷酸钾与铜离子的比值,简称P比。

通常要保证焦磷酸根离子与铜离子的比值在7~8之间,对于分散能力有较高要求时;要保持在8~9之间。

低了阳极溶解不正常,高了则电流效率下降。

阳极采用电解铜板,最好经过压延加工,有时也会有铜粉产生,可加入双氧永消除。

杂质对焦磷酸盐镀铜有较大影响,所以要严防杂质的带入。

一、铜粉”的产生及其排除焦磷酸盐镀铜溶液在生产过程中很容易产生“铜粉”(主要是氧化亚铜)。

有如下三种可能的原因。

①铜阳极的不完全氧化:Cu——Cu++e②铜阳极与镀液中的二价铜离子接触时产生一价铜离子:Cu+Cu2+——2Cu+③二价铜离子被铁还原:2Cu2++Fe——2Cu++Fe2+通过上面三个反应所产生的一价铜离子与氢氧根作用生成氧化亚铜(“铜粉”):2Cu++20H一一2CuOH——Cu20↓+H20镀液中产生“铜粉”后,如果过滤不净便会附在镀件上,使铜镀层粗糙或产生毛刺,影响镀层质量。

发现这种情况可以加强过滤,或加人30%的双氧水使一价铜氧化成二价铜,后者再与焦磷酸根络合:2Cu++H202+2H+一2Cu2++2H20Cu2++2 P2074-一—[Cu(P207)2]6一二、常见故障及其排除方法(1)镀层粗糙、毛刺和结瘤基体金属或预镀层粗糙,镀液中有“铜粉”或其他固体悬浮粒子,镀液中有机杂质过多,铅等异金属杂质过多或被CN一沾污,镀液pH过高,温度偏高,电流密度过大,阳极溶解不正常,铜含量过高或焦磷酸钾含量过低等都会引起镀层粗糙、毛刺和结瘤。

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不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响
关键词:品质,焦磷酸盐,电镀铜,影响
作者:
内容:
摘要:采用赫尔槽试验、哈林阴极法、贴滤纸法及稳态阴极极
化测量,研究了分别由ACTl和普通国产焦磷酸盐配制的镀铜液的性能差别,采用络合能力指数(CAI)对不同品质焦磷酸钾的络合能力进行评价。

结果表明,采用络合能力指数高的ACTl焦磷酸盐配制的镀铜液,其分散能力、络合能力和镀层致密性、孔隙率均优于以络合能力指数低的普通焦磷酸盐配制的镀铜液。

杂质正磷酸根离子严重影响ACTl焦磷酸盐镀铜液的极化性能:随着其质量浓度增大,槽电压升高,镀液的络合能力降低。

三聚磷酸根离子对ACTl
焦磷酸盐镀铜液的极化性能影响不大。

关键词:电镀铜;焦磷酸盐;络合能力指数;分散能力;阴极
极化;金相组织;孔隙率
中图分类号:TQl53.14 文献标志码:A
文章编号:1004—227X(2009)02—0008—04
Effect of pyrophosphate quanty on copper electroplating //SUN Song-hua*,WANG Jun,CAO Hua—zhen,ZHENG Gu0—qu
Abstract:The performance differences between the Cu plating baths prepared respectively with ACTI and ordinary China—made pyrophosphates were studied by Hull cell test,Haring cell method,filter paper method and steady—state cathodic polarization measurement.The complexing capabilities of potassium pyrophosphates of different qualities were evaluated by determination of complexing capability index fCAI).The results showed that the CU plating
bath prepared with ACTI pyrophosphate has higher throwing power and complexing capability than that prepared with ordinary pyrophosphate,producing Cu deposits with better compactness and less porosity.Orthophosphate ions,as impurities,greatly affect the polarization of ACTI pyrophosphate Cu plating bath.The increase in the mass concentration of orthophosphate results in an increased cell voltage and a decreased complexing capability of the bath.Tripolyphosphate ions have a slight effect on the polarization of ACTI pyrophosphate Cu plating bath.
Keywords:copper electroplatin9;pyrophosphate;complexing capability index;throwing power;cathodic polarization;metallographic structure;porosity
First-author’S address:Home Office of American ChemTech Inc.in Asia,Hangzhou 3 1 1 200,China
1 前言
铜镀层广泛用于钢铁件多层镀覆以及镀锡、镀金、镀银等的“底”层,以提高基体金属与镀层的结合力。

当铜镀层无孔时,可大大提高表面镀层的抗蚀性。

目前,工业上最普遍的电镀铜方法是使用含氰化物盐类的镀液[1-3]。

氰化镀液最大的缺点是具有毒性,在使用
过程中对环境带来危害。

采用低毒或无毒的镀铜方法是电镀行业的发展趋势。

焦磷酸盐镀铜工艺成分简单,镀液稳定,电流效率高,均镀能
力和深镀能力较好,镀层结晶细致,镀速快,电镀过程中没有刺激性气体逸出,是一种低毒、性能优异的镀铜方法[4-6]。

焦磷酸盐镀
液的主要成分是供给铜离子的焦磷酸铜和作为络合剂的焦磷酸钾,此两者能相互作用而生成络盐焦磷酸铜钾。

焦磷酸钾除了与铜生成络盐外,还有一部分游离于镀液中,它不仅可使络盐稳定,而且可
提高镀液的均镀能力和深镀能力。

本文根据焦磷酸盐镀铜方法,比较了不同品质的焦磷酸铜和焦磷酸钾对镀液及镀层性能的影响,并分析了杂质正磷酸根离子和三聚磷酸根离子对电镀液的影响。

2 实验
2.1材料
ACTl焦磷酸钾K
4P
2
7
和ACTl焦磷酸铜Cu
2
P
2
7
·4H
2
0均由美国化
学技术公司提供,并分别采用ACTl 2156-2002及ACTl 2157-2002标准检测(以离子交换柱色谱法分离样品中的焦磷酸盐、正磷酸盐、三聚磷酸盐、三偏磷酸盐和多聚磷酸盐后,采用磷钼酸喹啉重量法
测定);普通焦磷酸钾K
4P
2
7
和焦磷酸铜Cu
2
P
2
7
·3H
2
0为市场采购,
分别采用化工行业标准HG/T 3591—1999《电镀用焦磷酸钾》(硫酸锌沉淀法测定焦磷酸钾)和HG/T 3593—1999《电镀用焦磷酸铜》(碘量法测定铜)进行检测。

其主成分及杂质含量见表1。

表 1 ACTl和普通国产焦磷酸盐的主成分及杂质含量Table l Contents of major constituent and impurities of ACTI and ardinal'v China.made nvronhosnhates
2.2电镀铜工艺
镀铜工艺流程为:工件一除油一水洗一酸洗一水洗一活化预镀一焦磷酸盐镀铜一水洗一吹干。

活化预镀液:0.3 g/L焦磷酸铜(ACTl或普通),100 g/L 焦磷酸钾(ACTl或普通),60 g/L碳酸钠,40 g/L磷酸氢二钠,pH l0.5~1 1.5,电流密度1.5 A/dm2,温度40 ℃,时间60 S。

焦磷酸盐镀液:60 g/L焦磷酸铜(ACTl或普通),300 g/L焦磷酸钾(ACTl或普通),25 g/L柠檬酸铵,3 mL/L氨水,pH 8.2~8.8,电流密度1.0 A/dm2,温度40 ℃,时间30 min。

2.3测试方法
2.3.1 赫尔槽试验[7]1019
采用250 mL赫尔槽,阴极铜板尺寸为100 mm×70 mm,电流 1 A,试验时间10 min。

2.3.2镀液分散能力的测定[7]1012
根据哈林阴极法,在试验槽中放2个尺寸相同的金属平板作为阴极,近、远阴极距阳极的比例采用1/2。

阴极采用碳钢标准试片,试片背面及侧面绝缘,经前处理后烘干称重。

试验30 min后清洗阴极,并烘干称重,计算增重。

按下式计算分散能力:
T=(K一△m近/△m远)/(K一1)×100%
其中T-分散能力(%),K-远阴极离阳极的距离与近阴极离阳极的距离之比,△m
一电镀后近阴极的增重(g),Am远一电镀后远阴极的近
增重(g)。

2.3.3 孔隙率的测定[7]967
采用贴滤纸法,在碳钢试片(面积l2.5 cm2)上采用2.2所
述工艺镀铜,将浸润了10 g/L铁氰化钾+20 g/L氯化钠混合溶液的滤纸紧贴在被测试样表面,滤纸与试样间不得有气泡残留,20 min 后揭下滤纸,试样以蒸馏水小心冲洗,晾干,计算试样上呈现的蓝色斑点数量。

2.3.4 极化曲线的测定
采用CHl650电化学工作站,在传统的三电极电解槽内,以普通碳钢(面积l.13 cm2)作为工作电极,铂电极为辅助电极,饱和
甘汞电极(SCE)为参比电极,测定稳态阴极极化曲线,扫描速率0.5 mV/s。

2.3.5 金相组织的观察
镀件经过镶嵌和打磨后,在金相显微镜下观察。

2.3.6 络合能力指数的测定
称量1.000 g焦磷酸钾,用蒸馏水溶解后定容至100 mL,配制成0.01 g/mL的焦磷酸钾溶液100 mL,往该l00 mL焦磷酸钾溶液中滴入0.01 g/mL硝酸银溶液,搅拌至产生的白色沉淀不能被完全络合为止,记录滴加O.01 g/mL硝酸银溶液的量(mL)即为焦磷酸钾的络合能力指数(CAI)。

CAl越高,则焦磷酸钾的络合能力越强。

不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结果与讨论(一)
不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结果与讨论(二)
不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结果与讨论(三)
不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结果与讨论(四)
不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结果与讨论(五)
不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结果与讨论(六)
不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结果与讨论(七)
不同品质的焦磷酸盐对电镀铜的影响:结论。

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