MOS管基础知识
mos管符号及工作原理
mos管符号及工作原理MOS（金属-氧化物-半导体）管是一种主要用于放大和开关电流的半导体器件。
它是现代集成电路中最常用的技术之一，具有很高的集成度和性能。
MOS管的符号是由两个垂直线段表示，上面有一个圆圈，类似于电容器的符号。
这个圆圈表示氧化物层。
下面的直线代表半导体材料，悬空地在两个金属电极上，这些金属电极被称为源极和漏极，在符号中以S和D 表示。
当电压施加在源极和漏极之间时，MOS管的特性会改变，从而导致电流的流动和控制。
要理解MOS管的工作原理，首先需要了解一些基本概念。
1.氧化层：MOS管中的氧化层是由氧化铝或氧化硅等材料形成的绝缘层。
它起到了绝缘、保护和隔离半导体材料的作用。
2.主导区域：主导区域是位于源极和漏极之间的半导体材料，通常是硅。
这个区域可以通过施加电压来控制电流的流动。
3.栅极：栅极是位于氧化层上方的金属电极，通常是铝或钨。
栅极的作用是控制主导区域中的电子流。
MOS管的工作原理如下：1.假设栅极与源极之间没有电压，主导区域中没有电流流动。
这是因为氧化层是绝缘物质，不允许电子流通过。
这种状态称为截止状态。
2.当向栅极施加正电压时，它与主导区域之间会形成一个电势差。
这个电势差会吸引主导区域中的自由电子向栅极靠近。
这样就在主导区域形成了一个负电荷层，称为沉积层。
受到栅极的控制，沉积层的深度和形状可以调整。
3.当栅极施加的电压增加到一些阈值（也称为“临界电压”）以上时，大量的电子会进入沉积层，并与源极之间的电子相遇。
这会导致沉积层中的电子和源极之间出现电流，称为漏极电流。
同时，主导区域的电荷密度减小，导致主导区域中的电子流减少。
4.当漏极电流不再随栅极电压的增加而继续增加时，称为饱和状态。
此时，栅极对主导区域中的电荷密度的控制已经达到最大限度。
通过控制栅极电压，可以在MOS管中实现放大电流和开关电流的功能。
这使得MOS管广泛应用于数字电路、放大器、开关电源等各种电子设备中。
总结起来，MOS管的工作原理是通过在栅极和源极之间施加电压，控制主导区域中电子流的流动。
MOS管原理非常详细
MOS管原理非常详细金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）是一种重要的电子器件，广泛应用于集成电路和功率电子设备中。
它具有高度的控制性能和低功耗特性，因此在现代电子技术中占有重要地位。
本文将从MOSFET的基本结构、工作原理和应用等方面详细介绍MOSFET。
1.MOSFET基本结构MOSFET通常由一个PN结和一个MIS结构组成。
PN结由n型或p型半导体形成的两个不同掺杂区域组成，可以分为源区、漏区和栅区。
MIS结是由金属-氧化物-半导体三层组成的结构，在栅区上部有一层绝缘层，常用的是二氧化硅。
MIS结中的金属电极称为栅电极，MOSFET的控制信号通过栅电极加电压来控制。
2.MOSFET工作原理当栅电极施加一个正电压时，新的自由载流子将从栅区进入半导体区，形成一个导电通道。
这个导电通道连接了源极和漏极，当源极施加正向电压时，电流可以从源极流向漏极。
这时，MOSFET被称为处于增强状态。
反之，当栅电极施加负电压时，将形成一个势垒，使导电通道断开，电流无法流过。
这时，MOSFET被称为处于阻断状态。
因此，MOSFET的导电特性由栅电压决定，即栅极电压与源极电压之间的压差。
3.MOSFET类型根据PN结的类型，MOSFET可以分为两类：n型MOSFET（NMOS）和p型MOSFET（PMOS）。
NMOS的源漏区掺入n型硅，栅极施加正压时导通，PMOS则是源漏区掺入p型硅，栅极施加负压时导通。
另外，还有一种类型的MOSFET是双极性MOSFET（CMOS），它由NMOS和PMOS组成，可以实现更高的性能和更低的功耗。
4.MOSFET应用MOSFET广泛应用于各种电子设备中，其中最重要的应用之一是集成电路。
MOSFET的小尺寸和低功耗特性使其成为现代集成电路中的主要构建模块。
另外，MOSFET的高频特性和功率特性使其在通信和射频领域得到广泛应用。
此外，MOSFET还常用于功率电子器件中，如电源开关设备和功率放大器等。
场效应管知识点
场效应管知识点场效应管是一种重要的电子器件，广泛应用于各个领域，如通信、计算机、电子设备等。
它的工作原理是基于电场的调控作用，通过电场的控制来控制电流的流动，实现信号放大、开关控制等功能。
本文将从场效应管的基本结构、工作原理和应用等方面进行详细介绍。
一、场效应管的基本结构场效应管由栅极、漏极、源极和沟道四部分组成。
其中栅极是控制电流的输入端，漏极是电流的输出端，源极是电流的输入端，而沟道则连接源极和漏极。
栅极与源极之间的电压可以控制沟道中的电场分布，从而控制电流的流动。
栅极与漏极之间的电压被称为栅极电压，而漏极与源极之间的电压被称为漏极电压。
二、场效应管的工作原理1. N沟道MOSFETN沟道MOSFET是一种常见的场效应管，其沟道为N型材料。
当栅极电压为0V时，沟道中没有电子流动，处于截止状态；当栅极电压为正值时，形成栅极-沟道电场，使沟道中的N型材料中的电子被推向漏极，形成漏-源电流，处于导通状态。
2. P沟道MOSFETP沟道MOSFET是另一种常见的场效应管，其沟道为P型材料。
当栅极电压为0V时，沟道中没有空穴流动，处于截止状态；当栅极电压为负值时，形成栅极-沟道电场，使沟道中的P型材料中的空穴被推向漏极，形成漏-源电流，处于导通状态。
三、场效应管的应用场效应管具有很多优点，如高输入阻抗、低输出阻抗、功耗小、速度快等，因此在电子电路设计中有着广泛的应用。
以下是场效应管的几个常见应用场景。
1. 信号放大器场效应管可以通过控制栅极电压来调节漏极电流，从而实现信号的放大。
在放大器电路中，场效应管常常作为前置放大器，将输入信号放大后再输出给后续电路。
2. 开关控制场效应管可以作为开关来控制电流的通断。
当栅极电压为高电平时，场效应管处于导通状态，电流可以通过；当栅极电压为低电平时，场效应管处于截止状态，电流无法通过。
因此，场效应管常用于各种开关电路中。
3. 数字逻辑电路由于场效应管的特性，它可以作为数字逻辑门电路的基本单元。
运放和mos恒流电路原理
运放和mos恒流电路原理本文档将介绍运放和MOS恒流电路的原理和应用。
我们将从运放基础知识、MOS管基础知识、运放与MOS管结合、恒流电路原理、运放与MOS管在恒流电路中的应用、电路设计技巧、性能参数与优化以及实际应用与案例分析等方面进行详细阐述。
一、运放基础知识运算放大器（简称运放）是一种电压放大倍数很高的模拟放大器，其电压放大倍数可以达到几千倍甚至几十万倍。
运放具有很高的输入阻抗和很低的输出阻抗，因此在电路中常常被用作电压放大器。
二、MOS管基础知识MOS管即金属氧化物半导体场效应管，是一种电压控制型器件。
其优点包括输入阻抗高、驱动能力强、功耗低等。
根据导电沟道的类型，MOS管可以分为NMOS和PMOS两种。
三、运放与MOS管结合运放和MOS管在电路中常常被结合使用，以实现特定的功能。
例如，可以将运放用作电压跟随器或放大器，将MOS管用作开关或负载等。
四、恒流电路原理恒流电路是一种能够输出恒定电流的电路，其输出电流不受电压或负载变化的影响。
恒流电路通常由电阻、运放和MOS管等组成。
其原理是通过负反馈调节电阻上的电压，从而控制MOS管的导通电阻，实现恒流输出。
五、运放与MOS管在恒流电路中的应用在恒流电路中，运放可以作为比较器和放大器使用，将电流信号转换为电压信号，并通过负反馈调节电阻上的电压，实现恒流输出。
而MOS管则作为开关或负载使用，根据需要调整电流的大小。
六、电路设计技巧在恒流电路设计中，需要注意以下几点：首先，要选择合适的电阻和MOS 管型号，以实现所需的恒流精度和输出电流；其次，要设计合适的负反馈电路，以减小输出电流的波动；最后，要考虑到温度和电源电压等环境因素的影响，进行相应的补偿和调整。
七、性能参数与优化恒流电路的性能参数主要包括输出电流精度、稳定性、响应速度等。
为了优化性能参数，可以采取以下措施：首先，选择高精度的电阻和MOS管；其次，通过合理的电路设计和调整负反馈系数来提高稳定性；最后，采用适当的驱动电路来提高响应速度。
mos管基础知识
MOS管的基础知识什么是场效应管呢？场效应管式是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件，并以此命名。
由于它是靠半导体中的多数载流子导电，又称单极性晶体管。
它区别晶体管，晶体管是利用基极的小电流可以控制大的集电极电流。
又称双极性晶体管。
一, MOS管的种类，符号。
1JFET结型场效应管----利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制来改变导电沟道的宽度，从而控制漏极电流的大小。
结型场效应管一般是耗尽型的。
耗尽型的特点：a,PN结反向电压，这个怎么理解，就是栅极G,到漏极D和源极s有个PN吉, b,未加栅压的时候，器件已经导通。
要施加一定的负压才能使器件关闭。
C,从原理上讲，漏极D和源极S不区分，即漏极也可作源极，源极也可以做漏极。
漏源之间有导通电阻。
2IGFET绝缘栅极场效应管----利用栅源电压的大小来改变半导体表面感生电荷的多少，从而控制漏极电流的大小。
增强型效应管特点：A, 栅极和源极电压为0时，漏极电流为0的管子是增强型的。
B, 栅源电压，这个之间是个绝缘层，绝缘栅型一般用的是 SIO 2绝缘层。
耗尽型绝缘栅场效应晶体管 的性能特点是：当栅极电压U 0 =0时有一定的漏极电流。
对于N 沟道耗尽型绝缘栅场效应晶体管，漏极加正电压，栅极电压从 0 逐渐上升时漏极电流逐渐增大，栅极电压从 0逐渐下降时漏极电流逐渐减小直至 截止。
对于P 沟道耗尽型绝缘栅场效应晶体管，漏极加负电压，栅极电压从 0逐 渐下降时漏极电流逐渐增大，栅极电压从 0逐渐上升时漏极电流逐渐减小直至截 绝缘栅型场效应管： N 沟道增强型，P 沟道增强型，N 沟道耗尽型，P 沟道耗 尽型MOSFET増强型N 沟道 二，用数字万用表测量MO 管的方法 用数字万用表判断MOS 的管脚定义。
1， 判断结型场效应管的栅极的判断，我们以N 沟道为例，大家知道，结型场效应管在 VGS 之间不施加反向电压 的话，DS 之间是导通的，（沟道是以N 型半导体为导电沟道），有一定的 阻值，所以止01, 2, 按功率分类：A, 小信号管，一般指的是耗尽型场效应管。
MOS管基础知识
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什么是MOS管？
MOS管学名是场效应管，是金属-氧化物-半导体型场效应管，英文：MOSFET（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor），属于绝缘栅型。
MOS管结构示意图
等效电路图（P型）
D
G S
FET：把输入电压的变化转化为输出电流的变化
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6、MOS管
增强型NMOS的结构图如图，在参杂浓度较低的P型硅衬底上，制作两个高参杂浓度的N型沟槽。分别用 铝从两个N型沟槽中引出两个电极分别作为源极S和漏极D（此时的源极和漏极在结构上没有区别是可以 互换的）。然后在半导体的表面覆盖一层很薄的SiO2绝缘层。在漏源极间的绝缘层上再装上一个铝电 极；作为栅极G。另外在衬底上也引出一个电极B。
CJ2302( 新洁能)
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MOS管如何导电
在UGS=0时，无论UDS的大小和极性，都会使得2个GS和DG这两个PN结中一个正偏，另一个反偏。但是 由于两个N区之间被P衬底隔离，所以没有办法形成电流。
UGS＞0 ,栅极和衬底产生电场,衬底中空穴（多子）被排斥，剩下受主离子(负离子)，电子（少子）被 吸引到衬底表面。 UGS加大，电子在栅极附近的P衬底表面便形成一个N型薄层，且与两个N+区相连通，在漏-源极间形成 N型导电沟道，于是在DS之间就有电流可以通过了。
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1、本征半导体：
完全不含杂质且无晶格缺陷的纯净半导体称为本征半导体。主要常见代表有硅、锗这两 种元素的单晶体结构。硅、锗都是4价原子，在半导体内部形成相对稳定的共价键结构。
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2、空穴对
温度增高时，束缚电子获得足够能量后会脱离共价键形成自由电子。同时在原来共价键 的位置会留下一个空穴，空穴和自由电子的一定是成对出现的，于是称之为空穴对。
mos管的解析
MOS管的解析第一部分：介绍MOS管金属-氧化物-半导体场效应晶体管，通常称为MOS管，是一种关键的半导体器件，广泛应用于电子领域。
它在现代电子设备和集成电路中扮演着至关重要的角色。
为了更深入理解MOS管，我们将逐步探讨其结构、工作原理和应用领域。
1.1 结构MOS管通常由金属、氧化物和半导体材料构成。
其基本结构包括两个金属电极，分别被称为源极和漏极，它们与半导体材料之间通过一个绝缘层，即氧化物层，相隔开。
这个结构创造了一个场效应晶体管，通过改变栅极电压，可以控制源极和漏极之间的电流。
1.2 工作原理MOS管的工作原理基于栅极电压的控制。
当栅极施加正电压时，在氧化物层下形成一个电场，将半导体材料中的载流子排斥或吸引到接近漏极或源极的区域。
这种电场效应导致通道的形成或截断，从而控制了电流的流动。
MOS管有两种主要类型：N沟道MOS（NMOS）和P沟道MOS（PMOS），它们分别使用不同的载流子类型。
第二部分：MOS管的应用领域MOS管作为一种强大的电子器件，被广泛用于各种应用领域。
以下是一些主要领域的应用示例：2.1 集成电路MOS管在集成电路（ICs）中扮演着关键的角色。
ICs是现代电子设备的基础，包括计算机、智能手机、芯片卡等。
MOS管的微小尺寸和低功耗特性使其成为高度集成电路的理想选择。
2.2 数模转换MOS管用于模拟信号的数字到模拟转换（ADC）和模拟到数字转换（DAC）。
这些应用包括音频处理、通信系统和传感器技术。
2.3 逻辑电路MOS管用于数字逻辑电路，如门电路、触发器和寄存器。
它们用于执行各种计算和控制任务，是计算机处理和存储信息的核心。
2.4 放大器MOS管也被用作放大器，用于放大电信号，例如音频和射频信号。
这些放大器在音响系统、通信设备和射频通信中发挥着重要作用。
2.5 电源管理MOS管在电源管理电路中用于调整电压和电流，以满足不同设备的电能需求。
这对于延长电池寿命和提高设备效率至关重要。
场效应管的基础知识
场效应管的基础学问英文名称：MOSFET （简写：MOS ）中文名称：功率场效应晶体管（简称：场效应管）场效应晶体管简称场效应管，它是由半导体材料构成的。
与一般双极型相比，场效应管具有许多特点。
场效应管是一种单极型半导体（内部只有一种载流子一多子）分四类：N沟通增加型；P沟通增加型;N沟通耗尽型；P沟通耗尽型。
增加型MOS管的特性曲线场效应管有四个电极，栅极G、漏极D、源极S和衬底B ,通常字内部将衬底B与源极S相连。
这样，场效应管在外型上是一个三端电路元件场效管是一种压控电流源器件，即流入的漏极电流ID栅源电压UGS掌握。
1、转移特性曲线:应留意：①转移特性曲线反映掌握电压VGS与电流ID之间的关系。
②当VGS很小时,ID基本为零，管子截止;当VGS大于某一个电压VTN时ID随VGS的变化而变化，VTN称为开启电压，约为2V0③无论是在VGS2、输出特性曲线：输出特性是在给顶VGS的条件下，ID与VDS之间的关系。
可分三个区域。
①夹断区：VGS②可变电阻区：VGS>VTN且VDS值较小。
VGS值越大，则曲线越陡，D、S极之间的等效电阻RDS值就越小。
③恒流区：VGS>VTN且VDS值较大。
这时ID只取于VGS ,而与VDS无关。
3、MOS管开关条件和特点：管型状态,N-MOS , P-MOS特点截止VTN , RDS特别大，相当与开关断开导通VGS2VTN , VGS<VTN , RON很小，相当于开关闭合4、MOS场效应管的主要参数①直流参数a、开启电压VTN ,当VGS>UTN时，增加型NMOS管通道。
b、输入电阻RGS , 一般RGS值为109〜1012。
高值②极限参数最大漏极电流IDSM击穿电压V(RB)GS , V(RB)DS最大允许耗散功率PDSM5、场效应的电极判别用RxlK挡，将黑表笔接管子的一个电极，用红表笔分别接此外两个电极，如两次测得的结果阻值都很小，则黑表笔所接的电极就是栅极(G),此外两极为源(S)、漏(D)极，而且是N型沟场效应管。
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ＭＯＳ管基础知识MOS管场效应管知识要点：场效应管原理、场效应管的小信号模型及其参数场效应管是只有一种载流子参与导电的半导体器件，是一种用输入电压控制输出电流的半导体器件。
有N沟道器件和P沟道器件。
有结型场效应三极管JFET(Junction Field Effect Transister)和绝缘栅型场效应三极管IGFET( Insulated Gate Field Effect Transister) 之分。
IGFET也称金属-氧化物-半导体三极管MOSFET （Metal Oxide Semiconductor FET）。
1.11.1.1MOS场效应管MOS场效应管有增强型（Enhancement MOS 或EMOS）和耗尽型(Depletion)MOS或DMOS）两大类，每一类有N沟道和P沟道两种导电类型。
场效应管有三个电极：D(Drain) 称为漏极，相当双极型三极管的集电极；G(Gate) 称为栅极，相当于双极型三极管的基极；S(Source) 称为源极，相当于双极型三极管的发射极。
增强型MOS(EMOS)场效应管根据图3-1，N沟道增强型MOSFET基本上是一种左右对称的拓扑结构，它是在P型半导体上生成一层SiO2 薄膜绝缘层，然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区，从N型区引出电极，一个是漏极D，一个是源极S。
在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。
P 型半导体称为衬底，用符号B表示。
图3-1 N 沟道增强型EMOS管结构示意一、工作原理1．沟道形成原理当VGS=0 V时，漏源之间相当两个背靠背的二极管，在D、S之间加上电压不会在D、S间形成电流。
当栅极加有电压时，若0＜VGS＜VGS(th)时，通过栅极和衬底间的电容作用，将靠近栅极下方的P型半导体中的空穴向下方排斥，出现了一薄层负离子的耗尽层。
耗尽层中的少子将向表层运动，但数量有限，不足以形成沟道，所以仍然不足以形成漏极电流ID。
进一步增加VGS，当VGS＞VGS(th)时（ VGS(th) 称为开启电压），由于此时的栅极电压已经比较强，在靠近栅极下方的P型半导体表层中聚集较多的电子，可以形成沟道，将漏极和源极沟通。
如果此时加有漏源电压，就可以形成漏极电流ID。
在栅极下方形成的导电沟1线性电子电路教案道中的电子，因与P型半导体的载流子空穴极性相反，故称为反型层（inversion layer）。
随着VGS的继续增加，ID将不断增加。
在VGS=0V时ID=0，只有当VGS＞VGS(th)后才会出现漏极电流，这种MOS管称为增强型MOS管。
转移特性曲线的斜率gm的大小反映了栅源电压对漏极电流的控制作用。
gm 的量纲为mA/V，所以gm也称为跨导。
跨导的定义式如下： constDS==VGSDVIgmΔΔ (单位mS)2． VDS对沟道导电能力的控制当VGS＞VGS(th)，且固定为某一值时，来分析漏源电压VDS对漏极电流ID的影响。
VDS的不同变化对沟道的影响如图3-2所示。
根据此图可以有如下关系VDS=VDG＋VGS= —VGD＋VGSVGD=VGS—VDS当VDS为0或较小时，相当VGD＞VGS(th)，沟道呈斜线分布。
在紧靠漏极处，沟道达到开启的程度以上，漏源之间有电流通过。
当VDS增加到使VGD=VGS(th)时，相当于VDS增加使漏极处沟道缩减到刚刚开启的情况，称为预夹断，此时的漏极电流ID基本饱和。
当VDS增加到VGD<VGS(th)时，预夹断区域加长，伸向S极。
VDS增加的部分基本降落在随之加长的夹断沟道上， ID基本趋于不变。
（a）（b）（c）图3-2 漏源电压VDS对沟道的影响当VGS＞VGS(th)，且固定为某一值时，VDS对ID的影响，即iD=f(vDS) VGS=const这一关系曲线如图3-3所示。
VGS一定IDDVDS图3-3 VGS一定，ID随VDS变化的特性VGS-VGS(th)2线性电子电路教案二、伏安特性输出特性曲线转移特性曲线图3-3 漏极输出特性曲线和转移特性曲线1．非饱和区非饱和区（Nonsaturation Region）是沟道未被预夹断的工作区，又称可变电阻区。
由不等式VGS>VGS(th)、VDS<VGS-VGS(th)限定。
理论证明，ID与VGS和VDS的关系如下： ]VV)VV(2[l2WCIDS2DS)th(GSGSoxnD−−=μ2．饱和区饱和区(Saturation Region)又称放大区，它是沟道预夹断后所对应的工作区。
由不等式VGS>VGS(th)、VDS>VGS-VGS(th) 限定。
漏极电流表达式： 2)th(GSGSoxnD)VV(l2WCI−=μ在这个工作区内，ID受VGS控制。
考虑厄尔利效应的ID表达式： )V1()VV(l2WC)VV1()VV(l2WCIDS2)th(GSGSoxnADS2)th(GSGSoxnDλμμ+−=−−=3．截止区和亚阈区VGS<VGS(th)，沟道未形成，ID=0。
在VGS(th)附近很小的区域叫亚阈区（Subthreshold Region）在这个区域内，ID与VGS的关系为指数关系。
IDVGS3-5 亚阈区转移特性4．击穿区当VDS 增大到足以使漏区与衬底间PN结引发雪崩击穿时，ID迅速增加，管子进入击穿区。
四、P沟道EMOS场效应管在N型衬底中扩散两个P+区，分别做为漏区和源区，并在两个P+之间的SiO2绝缘层上覆盖栅极金属层，就构成了P沟道EMOS管。
3线性电子电路教案1.1.2耗尽型MOS（DMOS）场效应管N沟道耗尽型MOSFET的结构和符号如图3-5所示，它是在栅极下方的SiO2绝缘层中掺入了大量的金属正离子。
所以当VGS=0时，这些正离子已经感应出反型层，形成了沟道。
于是，只要有漏源电压，就有漏极电流存在。
当VGS＞0时，将使ID进一步增加。
VGS＜0时，随着VGS的减小漏极电流逐渐减小，直至ID=0。
对应ID=0的VGS称为夹断电压，用符号VGS(off)表示，有时也用VP表示。
N沟道耗尽型MOSFET的转移特性曲线见图所示。
(a) 结构示意图 (b) 转移特性曲线图3-5 N沟道耗尽型MOSFET的结构和转移特性曲线P沟道MOSFET的工作原理与N沟道MOSFET完全相同，只不过导电的载流子不同，供电电压极性不同而已。
这如同双极型三极管有NPN型和PNP型一样。
四种MOS场效应管比较 1.1.3N沟道 EMOS DMOS； P沟道 EMOS DMOS。
VGS<VGS(th)VDS>VGS-VGS(th)VGS>VGS(th)VDS<VGS-VGS(th)非饱和区]VV)VV(2[l2WCIDS2DS)th(GSGSoxnD−−=μVGS<VGS(th)VDS≤VGS-VGS(th)VGS>VGS(th)VDS≥VGS-VGS(th)饱和区)V1(]VV[l2WCIDS2)th(GSGSoxnDλμ+−= 4线性电子电路教案四种MOS管比较 1.1.4小信号电路模型vGS=vGSQ+vgs , vDS=vDSQ+vds, iD=IDQ+id饱和区： dsQDSDgsQGSDDQDSGSDvvivviI)v,v(fi∂∂+∂∂+==igsgmvgs--D+vdsrdsS+vgsGgm:Transconductance1/gds: output resistancerds: 1/gdsdsdsgsmDQDdvgvgIii+≈−= )V1(Il2WC2)V1)(VV(lWCvigDSQDQoxDSQ)th(GSGSQoxQGSDmλμλμ+=+−=∂∂= WC2lIVVoxDGS(th)GSμ=− DQdsDQoxmIg,,,Il2WCgλμ=≈ 5线性电子电路教案GD++--μvgsrdsvdsvgsigsμ=gmrdSmQusDgvigmuη=∂∂= 衬底跨导gmvgs rdsvds-+vgs+gmuvus-高频小信号电路模型CgdCsuCgdCdsgCgudsCgsCgdCgsgdCdss1.1.5分析方法6线性电子电路教案1.21.2.1结型场效应管工作原理结型场效应三极管的结构与绝缘栅场效应三极管相似，工作机理也相同。
结型场效应三极管的结构如图所示，它是在N型半导体硅片的两侧各制造一个PN结，形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。
两个P区即为栅极，N型硅的一端是漏极，另一端是源极。
图3-2-1 N沟道JFET工艺结构示意图图3-2-2 N沟道及P沟道JEFET结构示意图 DSG N P+P+ 7线性电子电路教案DSGPN+N+ D S G P+ P+ D S GP+ P+--++图3-2-3 N沟道JFET当VDS=0时， VGS对沟道宽度的影响当PN结反向偏置时，阻挡层宽度增大，主要向低掺杂N区扩展。
当VDS=0时，VGS越负，响应的阻挡层越宽，沟道就窄，沟道的导电能力就越差，直到VGS=VGS(off)时，两侧阻挡层相遇，沟道消失。
D S G P+P+ G DSG P+P+G由于ID通过长条沟道产生漏极到源极方向的电压降，因此在沟道的不同位置上，加在PN 结上的反向偏置电压就不同，在源极端，PN结上的反偏电压最小。
在漏极端，PN结上的反偏电压最高，响应的阻挡层最宽，沟道也最窄。
当VGS=VGS（off）时，近漏极端的沟道被夹断。
1.2.2伏安特性曲线根据结型场效应三极管的结构，因它没有绝缘层，只能工作在反偏的条件下，对于N8线性电子电路教案沟道结型场效应三极管只能工作在负栅压区，P沟道的只能工作在正栅压区，否则将会出现栅流。
结型场效应三极管的特性曲线有两条，一是转移特性曲线，二是输出特性曲线。
它与绝缘栅场效应三极管的特性曲线基本相同，只不过绝缘栅场效应管的栅压可正、可负，而结型场效应三极管的栅压只能是P沟道的为正或N沟道的为负。
N沟道结型场效应三极管的特性曲线如下图所示。
(a) 漏极输出特性曲线 (b) 转移特性曲线1．非饱和区VGS>VGS(off)、VDS<VGS-VGS(off) ])VV(VV)VV1(2[II2)off(GSDS)off(GSDS)off(GSGSDSSD−−−=2．饱和区VGS>VGS(off)、VDS>VGS-VGS(off) 限定 2)off(GSGSDSSD)VV1(II−=3．截止区VGS<VGS(off) 沟道被夹断，ID=0。
4．击穿区当VDS增大到一定值V(BR)DS时，漏极端PN结发生雪崩击穿而使ID急剧增加区域。