光学表征技术
光学成像的基本原理及应用

光学成像的基本原理及应用
光学成像是指利用光的传播、折射和反射等物理现象,对物体进行观
察和表征的技术手段。
它是现代光学领域的基础,并被广泛应用于医学、
天文学、地质学、生物学等领域。
光学成像的基本原理包括:光的传播、折射和反射。
当光线通过介质
传播时,会发生折射和反射。
折射是光线在不同介质边界处由于介质光速
不同而产生的偏折现象,反射则是光线碰到物体表面而反射回来。
光的传播、折射和反射都对物体的成像有重要影响。
光学成像的应用包括:光学显微镜、成像望远镜、放大镜、眼镜等。
其中,光学显微镜是通过聚焦光线,使物体放大,使人眼能够清晰观察到
微小细胞、组织等;成像望远镜是通过凸透镜或反射镜使远处物体放大,
用于观察天体等;放大镜是利用透镜的放大原理,使近距离物体能够放大,被广泛应用于观察细小物体;眼镜则是用于矫正近视、远视等眼睛问题的
光学设备。
此外,光学成像还有许多特殊应用。
例如,医学中的光学相干断层扫
描(OCT)技术利用光的干涉现象对组织进行断层成像,可实现对眼底、
皮肤、血管等的无损观察;激光雷达则是利用激光束的反射原理进行成像,被广泛应用于测距、遥感、无人驾驶等领域;液晶屏幕则利用光的传播、
折射和反射,通过液晶分子的旋转和排列来实现图像的显示。
总体而言,光学成像的基本原理是利用光线的传播、折射和反射等物
理现象来对物体进行观察和表征,应用广泛。
随着光学技术的不断发展和
进步,光学成像技术在各个领域的应用也会越来越广泛,为人们提供更多
便利和成像质量。
纳米材料的光谱表征方法

纳米材料的光谱表征方法纳米材料是一种具有尺寸在纳米尺度范围内的物质,其具有独特的电子、光学、磁性等性质。
了解和掌握纳米材料的结构和性质对于研究和应用具有重要意义。
光谱表征方法是一种常用的手段,可以提供关于纳米材料的化学成分、晶体结构、光学性质等信息。
本文将重点介绍几种常见的纳米材料光谱表征方法。
一、紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)紫外-可见吸收光谱是一种常用的方法,用于研究纳米材料在紫外-可见波段的吸收和反射特性。
利用UV-Vis光谱,可以推断纳米材料的能带结构、导电性、色散等信息。
此外,通过对比纳米材料样品的吸收光谱与标准物质的光谱进行比较,还可以定量分析纳米材料的成分。
二、拉曼光谱拉曼光谱是纳米材料表征中常用的非破坏性光谱技术之一。
拉曼散射现象产生的光谱可提供关于纳米材料的晶格振动、分子构型和化学键信息。
拉曼光谱的优点在于非常灵敏,能够检测到纳米材料的微小结构变化。
通过拉曼光谱分析,可以评估纳米材料的晶体质量、结晶度和应力等性质。
三、荧光光谱荧光光谱是通过激发纳米材料产生的荧光现象来研究其光学性质。
纳米材料荧光光谱的形状、位置和强度等信息能够揭示材料的发射能级、能带结构和激子自由性能。
同时,荧光光谱还可以用于检测纳米材料的缺陷及杂质。
四、X射线衍射(XRD)X射线衍射是一种常用的确定纳米材料晶体结构的方法。
通过测量纳米材料的衍射图样,可以推断晶体的晶格结构和晶格参数。
此外,X射线衍射还能提供纳米材料的物相、晶粒尺寸及其分布等信息。
对于纳米材料的结构研究来说,X射线衍射是一种重要的工具。
五、透射电子显微镜(TEM)透射电子显微镜是一种常用的纳米材料表征工具,能够提供高分辨率的显微图像。
通过TEM观察,可以获得纳米材料的形貌、尺寸、晶体结构等信息。
此外,TEM还可以进行选区电子衍射,从而获取纳米材料的晶格结构、晶格定向等信息。
总结起来,纳米材料的光谱表征方法包括紫外-可见吸收光谱、拉曼光谱、荧光光谱、X射线衍射和透射电子显微镜。
动态光散射实验表征

动态光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)是一种广泛应用于纳米科学、材料科学、生物技术等领域,用来测定纳米颗粒和生物大分子尺寸及其分布的实验技术。
动态光散射实验表征主要包括以下几个方面:1.样品制备与测量条件:样品通常需要是均匀的悬浊液或溶液,且颗粒浓度适中,过高或过低的浓度可能会影响测量结果的准确性。
测量通常在恒温条件下进行,以减少温度变化对颗粒布朗运动的影响。
2.测量原理:DLS利用光照射样品时,样品中的颗粒由于布朗运动产生光散射,散射光的强度随时间呈现出波动,波动幅度与颗粒大小有关。
通过测量散射光的自相关函数(Autocorrelation Function, ACF),可以得到颗粒的扩散系数,进而计算颗粒的流体力学直径。
3.数据分析:使用专门的动态光散射仪器收集散射光强度随时间变化的数据,然后通过FFT变换(快速傅里叶变换)计算自相关函数。
应用斯托克斯-爱因斯坦方程(Stokes-Einstein equation)将扩散系数转换为颗粒的水动力学直径(Hydrodynamic Diameter)。
4.粒径分布:DLS不仅可以测定单个颗粒的尺寸,还可以给出样品中颗粒尺寸分布的信息,表现为粒径分布曲线或粒径分布直方图。
5.质量和粒径的关系:如果知道颗粒的密度,动态光散射还可以用来估算颗粒的绝对质量。
6.表征参数:主要表征参数包括:平均粒径、多分散系数(反映粒径分布宽度)、Zeta电位(反映颗粒的表面电荷性质,但这通常由电泳光散射实验获得)等。
7.实验注意事项:需要注意样品的稳定性、光学性质对测量的影响,以及样品容器的清洁度和背景散射的扣除等问题。
动态光散射实验是一种无损、快速、方便的纳米颗粒表征手段,但也受限于样品的光学性质、浓度以及粒径范围(通常适用于1nm至几微米的颗粒)。
对于更小的颗粒或者更大范围的粒径分布,可能需要结合其他表征技术如电子显微镜、原子力显微镜等一起使用。
光学元件表面光洁度标准

光学元件表面光洁度标准光学元件是现代光学技术中不可或缺的关键组成部分,而光洁度则是评估光学元件质量的重要指标之一。
光学元件表面光洁度标准主要是为了确保光学元件在制造、使用和检测过程中的可靠性和质量,以满足各种应用领域的需求。
本文将介绍光学元件表面光洁度标准的相关内容,并探讨其在光学元件制造过程中的重要性。
一、光学元件表面光洁度标准的定义光学元件表面光洁度标准是指制造和检测光学元件时所采用的一系列参数和规范,以确保光学元件表面的平整度、透明度以及对光的散射和吸收的影响在允许的范围内。
这些参数包括表面粗糙度、波前畸变、散射、反射率等,通过这些参数的测量和评估,可以评判光学元件的表面质量,并制定相应的工艺和检测方法。
二、光学元件表面光洁度标准的重要性光学元件的表面质量直接影响到其在光学系统中的性能和效果。
一方面,光学元件表面的光洁度与其光学性能密切相关。
粗糙表面会导致光的散射和反射,影响光学系统的透光率和信号传输质量。
另一方面,光学元件表面的光洁度也是制造和检测过程中的一项重要指标,它直接决定了光学元件的可靠性和稳定性。
三、光学元件表面光洁度标准的参数1. 表面粗糙度:表面粗糙度是表征光学元件表面平整程度的参数,通常用Ra(粗糙度平均值)或RMS(均方根粗糙度)来表示。
粗糙度的要求根据光学系统的具体应用需求而有所不同,一般要求表面粗糙度在一定的范围内。
2. 波前畸变:波前畸变是指光通过光学元件后所引起的相位和振幅变化,它直接影响到光学系统的成像质量和分辨率。
波前畸变的要求通常由像差曲线来表示,不同的光学元件在不同的应用中对波前畸变的要求有所不同。
3. 散射:散射是指光在光学元件表面上的改变方向,它导致光的损失和干扰。
散射可以通过测量散射角度和散射强度来评估,要求光学元件的散射尽可能小,以保证光学系统的透光率和图像质量。
4. 反射率:反射率是指光在光学元件表面的反射能力,它直接影响到光学系统的透光率和光学信号传输质量。
光钟性能表征及测量方法-最新国标

目次1 范围 (1)2 规范性引用文件 (1)3 术语和定义 (1)4 光钟的分类和组成 (3)4.1 光钟基本原理和组成 (3)4.2 光钟的分类 (4)4.3 光钟的组成 (4)4.4 光钟的功能 (4)4.5 光钟的运行环境要求 (5)5 光钟性能表征 (5)5.1 频率稳定度 (5)5.1.1 概述 (5)5.1.2 利用一台光钟测量得到的频率稳定度 (5)5.1.2.1 环内频率稳定度 (5)5.1.2.2 分时间交替自比对频率稳定度 (6)5.1.2.3 分空间自比对稳定度 (7)5.1.3 利用两台光钟比对测量的频率稳定度 (7)5.1.3.1 完全独立的两台同种光钟直接拍频的频率稳定度 (8)5.1.3.2 共用光学本地振荡器的两台同种光钟之间的异步比对频率稳定度 (9)5.1.3.3 共用光学本地振荡器的两台同种光钟之间的同步比对频率稳定度 (10)5.1.3.4 完全独立的两台不同种光钟比对的频率稳定度 (10)5.1.3.5 共用光学本地振荡器的两台不同种光钟比对的频率稳定度 (11)5.2 频率准确度 (11)5.2.1 概述 (11)5.2.2 分类 (11)5.2.2.1 系统频移不确定度 (11)5.2.2.2 绝对频率的不确定度 (12)5.3 运行率 (13)5.3.1 概述 (13)5.3.2 测量方法 (13)5.3.3 计算方法 (13)5.3.4 适用场合 (13)光钟性能表征及测量方法1 范围本文件规定了表征光钟性能的重要参数及其测量方法,适用于光钟技术研究、产品研制和测试考核过程中的性能评价。
本文件所提到的光钟指的是被动型光频原子钟,主动型光钟的性能表征及测试方法可参考本文件。
2 规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。
其中,注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
物理实验技术中的光学特性测试方法

物理实验技术中的光学特性测试方法光学作为物理学的重要分支,涉及到很多领域的研究,从天文学到生物学,光学技术都起到了关键作用。
而在物理实验中,对光学特性的测试方法也是不可或缺的。
本文将介绍几种常见的光学特性测试方法,展示它们的原理和应用。
一、衍射和干涉衍射和干涉是光学实验中常用的测量方法之一。
衍射现象是光波在通过一个狭缝或物体边缘时的弯曲扩散。
而干涉则是两个或多个光波相互叠加而形成的干涉条纹。
这两种现象都能提供光波的波长和波速等信息。
通过衍射和干涉现象,可以测量光的波长。
例如,夫琅禾费衍射仪是一种常见的光学仪器,它利用狭缝产生衍射光,通过观察衍射光的干涉条纹,可以计算出光的波长。
这种方法在物理实验中广泛应用于测量激光的波长、光纤的色散等。
干涉仪也是常用的光学实验仪器,它利用干涉现象测量物体的形状和薄膜的厚度等。
例如,薄膜干涉仪可以通过观察薄膜上的干涉条纹来测量薄膜的厚度。
这种方法广泛应用于薄膜涂层的研究和制备中。
二、光电技术光电技术是利用光的电磁性质进行测量和控制的一种技术。
它主要依靠光电效应、光散射和光吸收等原理来实现对光学特性的检测。
光电二极管是光电技术应用最为广泛的器件之一。
通过测量光电二极管的输出电流或电压变化,可以得到光的强度、功率等信息。
在物理实验中,光电二极管广泛应用于光源的测量、光谱的测量以及光电转换器件的研究等。
光电倍增管是一种能够放大微弱光信号的器件。
它利用光电效应将光转化为电子,然后利用倍增过程将电子不断放大,从而提高信号的强度。
在物理实验中,光电倍增管常用于弱信号的测量,如荧光、放射性测量等。
三、散射和吸收光的散射和吸收是光学实验中用于测量物体光学特性的重要方法。
散射是光在物体表面上发生反射或散射的现象,而吸收则是光经过物体后被物体内部吸收的过程。
斯托克斯散射是一种常用的散射实验方法。
它利用光散射的方向和强度变化来分析和研究物质的光学性质。
斯托克斯散射广泛应用于材料的结构表征、颗粒的测量以及生物分子的研究等。
复合材料中微观结构的表征技术

复合材料中微观结构的表征技术在材料科学领域,复合材料因其优异的性能而备受关注。
然而,要深入理解复合材料的性能,就必须对其微观结构进行精确的表征。
复合材料的微观结构复杂多样,包括纤维、颗粒、基体的分布、界面特性等,这些微观结构特征直接决定了材料的力学、热学、电学等性能。
因此,发展和应用有效的微观结构表征技术至关重要。
常见的复合材料微观结构表征技术之一是光学显微镜(Optical Microscopy,OM)。
它是一种相对简单且直观的方法,通过可见光的折射和反射来观察样品的表面形貌和微观结构。
光学显微镜可以提供微米级别的分辨率,对于较大尺寸的微观结构特征,如纤维的排列、颗粒的分布等,能够给出较为清晰的图像。
但它的局限性也很明显,对于纳米级别的微观结构和内部结构的观察能力有限。
电子显微镜(Electron Microscopy,EM)则是更强大的微观结构表征工具。
其中,扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)通过电子束扫描样品表面,产生二次电子图像,能够提供高分辨率的表面形貌信息,分辨率可达纳米级别。
我们可以清晰地看到复合材料中纤维与基体的界面结合情况、颗粒的形态和分布等。
此外,结合能谱分析(Energy Dispersive Spectroscopy,EDS),还能对样品的元素组成进行定性和定量分析。
透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)则能够穿透样品,提供内部微观结构的信息。
它的分辨率甚至可以达到原子级别,对于研究晶体结构、位错、晶界等微观结构特征具有不可替代的作用。
但TEM样品制备复杂,需要将样品减薄至几十甚至几纳米的厚度,这在一定程度上限制了其广泛应用。
X 射线衍射(Xray Diffraction,XRD)技术是用于分析晶体结构的重要手段。
通过测量 X 射线在晶体中的衍射角度和强度,可以确定晶体的类型、晶格参数、晶体取向等信息。
无机材料的表征方法及其性能评估

无机材料的表征方法及其性能评估无机材料是由无机元素组成的材料,广泛应用于工业、医疗、能源等领域。
为了充分了解无机材料的性质和性能,科学家们开发了不同的表征方法和评估技术。
本文将介绍一些常用的无机材料表征方法,并讨论这些方法在性能评估中的应用。
一、无机材料的表征方法1. X射线衍射(XRD)X射线衍射是一种结构表征方法,可以用于确定晶体结构、相组成、晶格参数等。
该方法通过测量无机材料与X射线的相互作用来确定样品的结构信息。
XRD 主要通过测量材料中晶体的多晶衍射图案来分析样品的晶体结构。
利用XRD,可以准确地确定晶格常数、晶体结构、尺寸等信息。
2. 扫描电子显微镜(SEM)SEM是一种常用的表征方法,可以观察和分析材料的表面形貌、形态和结构等。
该方法通过照射样品表面的电子束,利用样品与电子束之间的相互作用,获取高分辨率的图像。
SEM能够提供关于无机材料表面形貌、颗粒大小、形状、分布等方面的信息,对于材料的微观结构研究至关重要。
3. 透射电子显微镜(TEM)TEM是一种高分辨率的无机材料表征方法,可用于观察和分析材料的晶体结构、晶粒大小、界面结构等。
该方法通过照射样品的薄片形成透射电子图像,通过对图像的分析,可以获得材料的微观结构信息。
TEM具有更高的分辨率和更高的空间分辨率,对于纳米材料的研究尤其重要。
4. 傅里叶变换红外光谱(FTIR)FTIR是一种用来表征无机材料化学成分和分子结构的方法。
该方法利用可见光与无机材料之间的相互作用,获取样品的红外吸收光谱。
FTIR可以用于识别材料中的功能基团和官能团,从而确定无机材料的化学成分和分子结构。
二、无机材料的性能评估1. 机械性能评估机械性能是无机材料性能评估的重要指标之一,它直接关系到材料是否适用于特定工程应用。
常用的机械性能评估包括拉伸、压缩、弯曲等。
通过使用不同的试验方法,可以评估材料的强度、硬度、韧性等机械性能参数。
2. 导电性能评估导电性能是无机材料在电子领域应用中的重要特性。
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光学表征技术 光学基本知识 引子: 这章将介绍在半导体工业中最常见的光学表征技术。由于光学表征是非接触式的,而接触式的方法总式破坏性的,因此这个优点使得它成为一个另人关注的方法。 光学方法可分成三大块:光度测量方法——测量反射或投射光的幅度;干涉法——测量反射或投射光的相位;偏振法——测量反射光椭圆率。 主要光学技术可以用这个图表示:发射,发射,吸收,透射。都将在这章得到讨论。 光学方法采用紫外光到外红外光段的电磁谱。参数有:波长——,能量——E/h,波数——WN。 基本公式: 341.2397101.2397101.2397()()()()hcEheVnmmA
光学显微镜 光学显微镜的简单结构如下图所示,有物镜和目镜组成。 光学显微镜有几个重要概念:分辨率,放大率和对比度。 先来看分辩率。由于光具有波粒二相性,解释很多实验现象就可以通过两方面来解释。 Airy最先计算出了衍射图象,对于一个直径为d的圆形光圈,第一个最小光区的角度可由下式计算 1.22sin()d
中心区域包含主要光线的,叫做Airy或者是衍射盘。 可以通过一些实验来观察这一现象,让光源透过一个小孔来照射到纸板上,就能观看到这一有趣的现象,当然是要在一个暗室里进行。在足够的光照下,可以被检测的物体并没有最小尺寸的限制。 当有两个点光源的时候,假设相距s,就会产生叠影图象,如这个图所示。但当两者靠近时并不能轻易得区分这两个点光源。Raleigh认为能被区分的条件是一点的最大中心区和另一个的最小中心是一致的。也就是指两个光盘的中心都在对方的盘边上。这时中心的峰值降为单点峰值的80%。 0.610.61sin()snNA
这个公式给出了分辨率的计算方法,分辨率就是一个物体两部分或两点之间的最小距离。n是物体与物镜间介质的折射率,是透镜对物体的半角。数值孔径NA通常是刻在物镜上的,是表示透镜的分辨能力和形成的图象亮度的数值。这个值越高,那么这个透镜的性能也就越好。高分辨率,低的s值。由前面的式子知,可以调整三个变量来增加或者减小s。例如波长,蓝光的分辨率高于红光。还可以增加观察角度直到90度,NA的实际上限是0.95。还有就是采用液体替代透镜与物体之间的空气,即提高折射率。比如采用水(n=1.33),甘油(n=1.44),油(n=1.5-1.6),但是油对NA的限制影响s,对绿光(=0.5m)s只有0.25m。 但是高的NA需要减少视场的深度以及减小工作范围,物体面的焦点到物镜表明的距离。这个关键概念就是焦深,可以同时处于焦点范围内的成像空间,公式是
24focusDNA
同时处于焦点的集成电路的顶低两面放大200倍也是不够的。就有另一个概念场深,可以同时处于焦点内的物体空间: 222
21fieldnNAnNADNANA
焦深和场深都是随着NA的增加而减小。可以通过增加物镜的工作距离获得物镜与样品之间的更高的清晰度。 放大倍数M是显微镜分辨能力的一个重要参数。分辨能力就是眼睛、显微镜、相机、或者图片能够提供的最高的细节。 max1.4700min0.002imumNAofmicroscopeMimumNAofeye
另一种描述方法是分辨率极限的比率 lim()200200800lim()0.610.25itofresolutioneyemmMNANAitofresolutionmicroscopeNAm 人眼透过显微镜能看到的最大放大倍数是大约750。超过这一数字就被称为无效放大倍数(empty magnification)。如果感光的不是人眼而是胶片,公式同样适用,而且放大倍数也会提高。由于在极限分辨率下人眼很容易疲劳,因而放大倍数会被设在750NA。但也会在大部分情况下采用低分辩率让人看起来舒服些。过高的放大倍数会使成像亮度和精度都会降低,导致看到的物体细节明显减少。 还有一个标准就是对比度,指的是区分物体不同部分的能力,实际就是亮度的比值。脏的目镜或物镜都会降低成像质量。太亮的光也会降低对比度,特别是样品是强反射的时候。因而光圈不能打开到超过可以提供足够多的光线的大小。在實際應用上,為加強影像的對比,可以改變視野光圈(field diaphragm)的大小、 變化光源的照射方向、或取部份折射的光線作成暗視野成像以凸顯某種材質的對比,或以偏極化光源(Polarizing Illumination)作為入射粒子束,都有加強對比的效果。此外,亦可以用化學溶液選擇性的蝕刻試片表面,造成表面高低不平的型態來加強對比,甚至以特殊配方的溶液來凸顯某種特定的結構缺陷。
暗场,相位和干涉对比显微镜 亮场显微镜下,光垂直照射到样品上,水平表面就会反射大部分光而斜面或垂直面就会反射回很少的光。 暗场显微镜下,光以小角度照射到样品上,平面无法将光反射到镜头中,只有斜面和垂直面可以将光反射回去。
相位对比显微镜 是利用光在透射或反射过程中发生的相移。相移发生在不同折射率材料的界面上。 A图是振幅对比显微镜:A1入射光照射到样品上,一些光被吸收(也可被认为是散射或衍射掉了),衍射光Ad与入射光的相位相差或2。两光束发生干涉,形成振幅为A2=A1-Ad的光波。再来看另一副图,就是相位对比显微镜,入射光振幅是A1,衍射光振幅是Ad,反射波的振幅是A2,与A1相同,也就是说光没有被吸收。但是相位有2的延迟。但是人眼无法识别A1与A2的差别。如果延迟超过2,就产生振幅的差别,也就是说相位差变成振幅差。也就可以被人眼和其他检测设备观察到。 基于这个原理产生了相位对比显微镜,如图所示。 而干涉对比显微镜与相位显微镜又有所不同。在相位对比中,入射光被样品分割成直射和衍射两束光。衍射光的相位改变了2,两束光在图象面上结合,产生干涉与背景光形成振幅的对比。干涉对比中,入射光先分成两束光:直接参考光。直接光穿射过样品被衍射,参考光的相位被改变。两束光结合和,干涉产生振幅对比的图象。这个结构可以为最佳对比提供合适的相位调整。干涉对比图象一般都比相位对比锐利。
共焦光学显微镜 是一种产生物体三维图象的方法,并能增加微缩图象的对比度。 相较而言取象的空间很小,一次只把一点成像。所有就需要用光束扫描整个样品才能获得完整的图象。分辩率如下 0.440.44sin()snNA
从式子看要比前面的式子要好。这是因为共焦衍射图形在中心峰值外能量散开的较少,随着样品对比度的改变分辩率不会有什么减少。 在这个图上,A点聚焦与A`平面,B点聚焦于B`平面。当在A`平面上放置一个针孔,A点的光可以全部透过但是B点的光大部分都不能透过。为了让B点的光都透过就需把样品抬升使B点位于焦点处。那么此时A点的光大部分不能透过了。也就是说,每次只有一个平面可以被聚焦。用光扫描样品平面就可获得二维的图形。再垂直运动样品,就获得另一个平面的图形,这样就能获得一个三维的图形。 样品的目标平面必须被光源聚焦上,这样才能使扫描的点和光源共焦,就在针孔上形成扫描点的图象而且只有位于共焦点处的点才对检测有作用。 这样的优点就是在检测的时候不会有其他地方的光线进入,因而对比度不会由于背景光的干扰而减少。缺点也很明显,一次只有很少一部分能被检测。 总是有一块需要移动,比较好的是样品不动,光源移动,主要是速度方面的优势。 近场光学显微镜 分辩率与形成图象的激励光源的波长无关,而与成像系统的几何结构有关。 医疗用的听诊器就很想是近场成像。 传统光学理论认为光经过透镜聚焦后形成的点直径不小于2。这是由于衍射引起的,也可以称为Raleigh极限由式给出。基于这种理论的显微镜被称为是远场显微镜,用在传统光学、电子和声学成像上。 而NFOM依靠物理尺寸比波长还小来成像,得到更优的分辩率。根据理论,达到分辩率200。原理是什么呢?当检测的光穿过孔径小于波长的光圈,并在离光圈小于波长的距离内感应它,可以成像,而且分辩率只由光圈的大小决定而不是波长。纳米定位技术使得这一技术能够成功。 看图。透过样品的光由两部分构成:一个是与傅立叶传输有关的以空间辐射分布的分支波,是属于远场区的;另一个是只在光圈大小距离内存在的瞬态波,就是近场区。这个波与光圈大小相关,在光圈大小之外的具体迅速消失,因此检测距离非常近,大约只有几个nm。 扫描隧道显微镜和原子增强显微镜都是近场成像。
椭圆偏光法 原理 这是一种非接触无损害的测量光经表明反射后的偏振现象的方法。确定样品的复合反射系数需要依赖相较入射光平面的水平及垂直方向的偏光复数反射比率。 偏振测量可看作是阻抗测量而反射和透射可看作是功率测量。阻抗测量会在同一结果中给出振幅和相位而功率测量只能给出振幅。 这个方法可用在在高吸收称底上的介质薄膜厚度测量,也可测出薄膜或称底的光学常数。次法不是直接测量薄膜本身,而是测量光学特征值,从而得出样品厚度或者其他参数值。 光经过单面反射后,一般都会出现振幅的减少以及相位的移动。而在多重反射面上,各路反射光由于相互影响而产生与波长、入射角相关的最大及最小值。后面将讨论这种干涉效应。 现在推倒一下重要的公式,如图是一个反射平面。一束面偏振光照射到这个平面