icp操作流程及注意事项
ICP刻蚀原理：气体、功率的选择--ICP操作流程
一、电感耦合等离子体（ICP）刻蚀原理 3二、刻蚀的基本要求9 （负载效应、图形的保真度、均匀性、表面形貌、刻蚀的清洁）三、等离子体刻蚀的基本过程11 （物理溅射刻蚀、纯化学刻蚀、离子增强刻蚀、侧壁抑制刻蚀）四、影响刻蚀效果的因素14 掩膜的影响、工艺参数的影响（ICP Power源功率、RF Power偏压功率、工作气压气体成分和流量、温度）五、附加气体的影响16六、多种条件刻蚀技术18 高速率刻蚀、高选择比刻蚀、特定剖面刻蚀一、电感耦合等离子体（ICP）刻蚀原理包括两套通过自动匹配网络控制的13.56MHz射频电源一套连接缠绕在腔室外的螺线圈，使线圈产生感应耦合的电场，在电场作用下，刻蚀气体辉光放电产生高密度等离子体。
功率的大小直接影响等离子体的电离率，从而影响等离子体的密度。
第二套射频电源连接在腔室内下方的电极上，此电极为直径205mm的圆形平台，机械手送来的石英盘和样品放在此台上进行刻蚀。
激光干涉仪端口ICP功率源水冷却的射频线圈静电屏蔽晶片夹/氦气冷却机制平板功率源实验中刻蚀三五族材料使用的是英国Oxford仪器（Oxford instruments plasma technology）公司的plasma180系统中的plasmalab system100型ICP。
可以刻蚀GaN、AlGaN、GaAs、InP、InGaAs、InGaP/AlGaInP 、InGaAs/InGaAsP等多种化合物材料。
苏州纳米所材料ICP功率：0-3000wRF功率：0-1000w压力范围：1-100mT加工范围：6寸工艺气体：Cl2,BCl3,HBr,CH4,He,O2,H2,N2氦气冷却由氦气良好的热传导性，能将芯片上的温度均匀化1torr=1.333mbarGaN刻蚀ProfileICP操作流程装片1.在Pump界面点击左边Pump图标下Stop，切换至Vent，120s后打开Loadlock2.涂抹真空油脂：根据片子尺寸大小，在托盘上涂抹均匀一层油脂3.放片：放片的时候要用镊子轻轻夹住样片，将样片一边贴在油脂上，慢慢地放下另一边，用镊子按住样片一端，在油脂上稍稍一动样片，以便赶走样片与油脂之间的气泡，使得样片与油脂紧密粘在一起。
icp刻蚀工艺流程
icp刻蚀工艺流程ICP刻蚀工艺流程一、引言ICP刻蚀工艺是一种常用的微纳加工技术，广泛应用于半导体、光电子、生物医学等领域。
本文将介绍ICP刻蚀工艺的基本流程，以及其中涉及的关键步骤和注意事项。
二、ICP刻蚀工艺流程1. 设计和准备在开始ICP刻蚀工艺之前，首先需要进行器件的设计和准备工作。
这包括选择合适的刻蚀目标材料、确定刻蚀深度和形状等。
同时，还需要设计合适的掩膜图形，以控制刻蚀区域。
2. 清洗和预处理在进行ICP刻蚀之前，需要对刻蚀目标材料进行清洗和预处理，以去除表面的杂质和氧化物。
常用的方法包括超声波清洗、酸洗和溶剂清洗等。
3. 掩膜制备接下来需要制备掩膜，用于保护不需要刻蚀的区域。
常用的掩膜材料包括光刻胶和金属掩膜。
通过光刻技术，将掩膜图形转移到掩膜材料上，并进行曝光和显影等步骤，最终形成掩膜。
4. 刻蚀在刻蚀过程中，需要使用ICP刻蚀机。
ICP刻蚀机利用高频电场和低频电场的耦合效应，在高真空环境中进行刻蚀。
首先将刻蚀目标材料放置在刻蚀室中，并加入刻蚀气体，如氟化物等。
然后，在高频电场的作用下，将刻蚀气体电离生成等离子体。
最后，利用等离子体的化学反应和物理碰撞效应，将刻蚀气体中的物质从刻蚀目标材料表面去除，实现刻蚀效果。
5. 清洗和检验刻蚀完成后，需要对刻蚀样品进行清洗，以去除残留的刻蚀剂和杂质。
常用的清洗方法包括溶剂清洗、超声波清洗和离子清洗等。
清洗完成后，需要对刻蚀样品进行检验，以验证刻蚀效果是否符合要求。
6. 后处理在ICP刻蚀工艺完成后，可能还需要进行后处理步骤，以进一步改善器件性能。
常见的后处理方法包括退火、沉积和离子注入等。
三、注意事项1. 安全操作：ICP刻蚀工艺需要在高真空环境下进行，操作人员需要具备相关安全知识和技能，严格遵守操作规程。
2. 刻蚀参数：刻蚀参数的选择对于刻蚀效果至关重要。
包括刻蚀气体的流量、功率、压力等参数，需要根据刻蚀目标材料的性质和要求进行调整。
ICP-MS操作规程
操作规程电感耦合等离子体质谱仪Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometerz仪器型号：ICPMS7700z仪器厂商：Agilentz启用日期：2010.3z应用范围：可用于洁净水、天然水、土壤、沉积物、矿物、食品、石油、化工产品等环境样品的金属元素和部分非金属元素的痕量分析，其检测限为ppt级，推荐检测范围：ppt~ppb高基体进样系统(HMI) 稀释气入口 半导体冷却控温雾室 离轴偏转透镜低流速进样高速频率匹配的 27MHz 射频发生器高性能真空系统池气体入口高频率 (3MHz)双曲面四极杆快速同时双模式检测器 (9 个数量级线性动态范围)高离子传输效率、耐高盐接口第3代八极杆反应池系统(ORS3)Agilent 7700 ICP-MS 系统详图Agilent 7700 ICP-MS 工作流程示意ICP-MS的组成ICP-MS的主要组成包括进样系统、离子源、接口、离子透镜、八极杆碰撞反应池、四极杆滤质器、检测器及真空系统，附属设备包括循环冷却水系统、供气系统、通风系统等。
ICP-MS的基本工作原理样品通过进样系统被送进ICP源中，并在高温炬管中蒸发、离解、原子化和电离，绝大多数金属离子成为单价离子，这些离子高速通过双锥接口（取样锥和截取锥，1级真空）进入质谱仪真空系统。
离子通过接口后，在离子透镜（2级真空）的电场作用下聚焦成离子束并进入四极杆离子分离系统（3级真空）。
离子进入四极杆质量分析器后，根据质量/电荷比的不同依次分开。
最后由离子检测器进行检测，产生的信号经过放大后通过信号测定系统检出。
操作步骤一、开机1.检查通风是否正常开启，要求稳定运行时的风速值为14。
2.打开氩气、氦气钢瓶，分压调至指定刻度（Ar：0.7~0.75Mpa，He：0.08Mpa），打开循环冷却水主面板上的开关，打开自动进样器电源，安装蠕动泵管。
3.开启电脑，用户名：admin，密码：3000hanover。
ICP操作步骤
ICP-OES 2100DV仪器操作
ICP开机步骤：（1）先开通风
（2）水电气（冷水循环机，空气压缩器，氩气）电源
（3）雾化器（根据实验需求选择开启）
（4）主机
（5）电脑
（6）连接工作站
（7）点火（如果点不上火，弹出对话框，根据对话框提示的信息进行操作）
编辑方法：点击左上角文件→新建→方法（或工具栏上点击新建方法）→出现方法对话框点击元素周期表选择所测元素和波长→点击校准编辑编写标准曲线→编写标准曲线浓度点→保存方法
工具栏里点击检查检查方法是否可行
进样步骤：点击“手工”弹出对话框→进样管插入超纯水中→点击分析空白→把进样管插入标样中→点击分析标样→点击工具栏“光谱”出现谱图→重复上述步骤做出标准曲线→进样管放入试样中点击分析试样→点击工具栏“光谱”出现谱图
数据处理：点击左下角工作站脱机。
电感耦合等离子体的测试流程
电感耦合等离子体的测试流程引言电感耦合等离子体（ICP）是一种广泛应用于材料科学、表面处理和光谱分析等领域的等离子体源。
它具有高等离子体密度、低扰动性和均匀性强的优势，被广泛用于材料表面改性、质谱分析等应用。
本文将介绍电感耦合等离子体的测试流程，旨在帮助读者了解ICP测试的步骤和注意事项。
ICP测试流程概述ICP测试通常包括以下步骤： 1. 样品准备 2. ICP设备准备 3. ICP测试参数设置 4. 样品进样 5. 等离子体开始运行 6. 数据采集和分析 7. 清洗和维护接下来将逐一详细介绍每个步骤。
样品准备在进行ICP测试之前，需要准备样品。
样品可以是固体、液体或气体，具体根据所需测试的物质和目的来确定。
常见的样品类型包括金属样品、陶瓷样品、溶液样品等。
在准备样品过程中，需要注意以下事项： - 样品应具有代表性，并经过适当的处理和预处理。
- 样品的容器和仪器之间应具有良好的相容性，避免相互污染。
- 对于溶液样品，需要进行适当的稀释以满足ICP设备的测试要求。
ICP设备准备在进行ICP测试之前，需要对ICP设备进行准备。
1. 打开ICP设备的电源，并确保其连接到稳定的电源。
2. 检查ICP设备的气体供应情况，并确保稳定供气。
3. 检查ICP设备的冷却系统，保证冷却液温度和流量正常。
4. 校准ICP设备的各种传感器和探测器，确保测试结果准确可靠。
5. 校准ICP设备的荧光探测器，以确保在光谱分析中获得准确的信号。
ICP测试参数设置在进行ICP测试之前，需要设置合适的测试参数以满足测试需求。
ICP测试参数包括但不限于以下方面： 1. 等离子体功率和功率密度的设置。
2. 气体流量和压力的调节。
3. 光谱仪的波长范围和分辨率。
4. 采集数据的时间间隔和采样率。
5. ICP设备的工作模式（连续模式或脉冲模式）。
样品进样在样品准备和ICP设备准备完成后，可以进行样品的进样操作。
1. 将样品放置在特定的进样器中，以确保进样的稳定性和均匀性。
icp许可证年检流程
icp许可证年检流程ICP许可证年检流程。
ICP许可证是指互联网内容提供者许可证，是互联网信息服务提供者依法提供互联网信息服务的准入许可证。
根据相关规定，持有ICP许可证的单位需进行年检，以确保其依法合规运营。
以下将介绍ICP许可证年检的流程及注意事项。
首先，ICP许可证年检的时间安排。
根据相关规定，ICP许可证持有者需在每年的许可证颁发日起计算一年后进行年检。
在进行年检前，ICP许可证持有者需提前关注当地通信管理部门发布的年检公告，了解具体的年检时间安排。
其次，ICP许可证年检的材料准备。
在进行年检之前，ICP许可证持有者需要准备相关的年检材料，包括但不限于企业营业执照、法人身份证、ICP许可证原件及复印件、网站备案信息等。
在准备年检材料时，需确保材料的完整性和准确性，以免影响年检的顺利进行。
接下来，ICP许可证年检的流程。
ICP许可证年检主要包括资料审核和现场核查两个环节。
首先是资料审核，ICP许可证持有者需将年检材料提交至当地通信管理部门进行资料审核。
审核通过后，通信管理部门会安排现场核查，核查内容包括网站备案信息、网站内容等。
在现场核查时，ICP许可证持有者需配合相关工作人员进行核查，并提供必要的协助。
最后，ICP许可证年检的注意事项。
在进行年检时，ICP许可证持有者需注意以下几点，首先，确保年检材料的准备完备，以免耽误年检时间；其次，配合通信管理部门进行现场核查，并提供真实、准确的信息；最后，关注通信管理部门发布的年检公告，及时了解年检时间安排。
总之，ICP许可证年检是确保互联网信息服务提供者依法合规运营的重要环节。
ICP许可证持有者需严格按照年检流程和要求进行操作，以确保年检顺利通过。
希望以上内容能够帮助ICP许可证持有者更好地了解年检流程，做好相关准备工作。
icp 法 测硅 标准
ICP 法测硅标准一、样品制备1.样品采集：选择具有代表性的硅矿石、土壤等样品，用干净、干燥的容器采集，避免污染。
2.样品处理：将采集的样品进行破碎、研磨、筛分等处理，使其达到所需粒度。
3.样品称重：称取一定量的样品，精确至0.0001g，放入干燥的聚乙烯瓶中备用。
二、仪器校准1.ICP仪器校准：使用标准溶液对ICP仪器进行校准，包括波长、灵敏度、稳定性等参数。
2.仪器维护：定期对ICP仪器进行清洗、保养，确保仪器正常运行。
三、试剂选择与准备1.试剂选择：选择高纯度的试剂，如硝酸、氢氟酸等。
2.试剂准备：将所需试剂按照比例混合，配制成消化液和稀释液。
四、实验操作流程1.样品消化：将称好的样品放入聚乙烯瓶中，加入适量的消化液，盖上瓶盖，放入恒温烘箱中加热至样品消化完全。
2.样品稀释：取出聚乙烯瓶，冷却至室温，加入适量的稀释液，摇匀。
3.ICP测定：将稀释后的样品进行ICP测定，记录数据。
4.数据处理与分析：对测定数据进行处理和分析，计算硅的含量。
五、数据处理与结果分析1.数据处理：将测定数据进行整理、计算和分析，得到硅的含量。
2.结果分析：根据测定结果，对样品的硅含量进行评估，并分析误差来源。
六、实验质量控制1.重复性测试：对同一份样品进行重复测定，比较测定结果的一致性。
2.加标回收率测试：加入已知量的标准物质，比较实际测定值与理论值的符合程度。
3.室内质控：定期进行室内质控样品的测定，确保实验结果的准确性。
4.室间质评：参加实验室间的质量评价活动，提高实验结果的可靠性。
七、安全防护措施1.安全操作规程：进行实验操作前，必须了解试剂的化学性质及危险性，严格遵守安全操作规程。
2.个人防护措施：实验操作时必须佩戴实验服、防护眼镜、手套等个人防护用品。
3.废弃物处理：实验过程中产生的废液、废渣等废弃物应按照相关规定进行妥善处理，避免污染环境。
4.安全检查：定期对实验室进行安全检查，发现隐患及时处理。
5.消防设施：实验室应配备灭火器等消防设施，确保实验安全。
ICP操作规程
I C P操作规程(总1页)--本页仅作为文档封面，使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--iCAP6000操作规程一．开机/点火1、开机（若仪器一直处于开机状态，应保持计算机同时处于开机状态）1．确认有足够的氩气用于连续工作（储量≥1瓶）。
2．确认废液收集桶有足够的空间用于收集废液。
3．打开氩气并调节分压在—之间。
4．打开计算机。
5．若仪器处于停机状态，打开主机电源，仪器开始预热。
6. 启动iTEVA软件，检查联机通讯情况。
2、点火1．再次确认氩气储量和压力2．并确保驱气时间大于2小时，以防止CID检测器结霜，造成CID检测器损坏。
3．光室温度稳定在38±℃。
4．检查并确认进样系统（炬管、雾化室、雾化器、泵管等）是否正确安装。
5．夹好蠕动泵夹，把样品管放入蒸馏水中。
6．开启排风。
7．开启循环水。
8．打开iTEVA软件的等离子状态对话框，点击等离子开启点火。
3、稳定1光室稳定在38±℃。
2CID温度小于-40℃。
3等离子体稳定15分钟。
二．分析1、打开或新建分析方法，有必要时，执行自动寻峰。
进行标准化，再分析试样。
2、检查标准及试样背景扣除情况，有必要时调整背景扣除位置，以得到较好的分析结果。
3、分析完毕后，将进样管放入蒸馏水中冲洗进样系统10分钟。
三．熄火1、打开iTEVA软件中的等离子状态对话框，点击等离子熄灭熄火。
2、关闭循环水，松开泵夹及泵管，将进样管从蒸馏水中取出。
3、关闭排风。
4、待CID温度升至20℃以上时，驱气20分钟后，关闭氩气。
四．停机若仪器长期停用，关闭主机电源和气源使仪器处于停机状态。
建议用户定期开机，以免仪器因长期放置而损坏。
五．仪器维护（视具体情况而定）1、定期更换泵管。
2、定期清洗雾化器。
3、定期清洗矩管和中心管。
4、机每六个月检查一次循环水。
5、计算专用，定期备份数据。
6、当意外断电后，交流接触器处于断开状态。
关闭所有开关，来电后重新开启交流接触器，再重新开机。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
ICP操作流程及注意事项
1．打开氩气
确认氩气充足，气路连接完好，纯度要求≥%，输出压力550—825Kpa (80—120psig) ，当气瓶总压力小于2Mpa时，需考虑更换。
2．打开空压机
确认放气阀门关闭，可待空压机充满气后打开出气阀门，确认输出压力550—825Kpa (80—120psig)，定期清理过滤器中的水。
注意：一定要没有空气压力时才可打开过滤器，以免发生危险。
3．打开冷却水循环机
检查水位，确认设定温度（通常设为20度），确认输出压力310—550Kpa (45—80psig)，半年更换一次冷却液。
4．打开ICP主机电源
5．打开Winlab32操作软件
确认发生器和光谱仪均联机正常后，方可使用。
6.安装蠕动泵管
检查泵管，当有扁平点出现时，应替换泵管。
黑色卡头为进样管，红色卡头为排液管，并注意蠕动泵为顺时针旋转，点击点炬界面Pump，确认进样排液顺畅。
7．打开抽风，点炬
8.初始化光学系统
待点炬十五分钟左右后，进行初始化光学系统，该过程需3~4分钟，完成后确认其数值在±50之间。
注：当清洗完进样系统和炬管组件时，需进行对准观测位（轴向和径向），吸入1ppm Mn 溶液。
当有错误提示时，切勿保存，并检查进样系统和进样情况。
9.打开测试方法，编辑样品信息
10.分析测试
11.分析完成后，在等离子体点燃的状态下，清洗5分钟，无机样品分析后用去离子水洗或者先用3%的硝酸洗，再用去离子水洗。
12.关闭等离子体，排空积液，松开蠕动泵卡夹。
13.先退出软件，再关闭ICP主机电源。
14.关闭抽风，循环冷却水，空压机，氩气。
每天测试完成后，排空空压机内气体。