GaN功率组件介绍

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gan功率器件的热阻的测试电路

gan功率器件的热阻的测试电路

gan功率器件的热阻的测试电路我们需要了解什么是gan功率器件的热阻。

热阻是指在电子器件中传导热量的阻力,其单位为°C/W。

热阻的大小直接影响着器件的散热效果,对于功率器件来说尤为重要。

因此,需要设计一个测试电路来准确测量gan功率器件的热阻。

测试gan功率器件的热阻的电路通常由以下几个主要部分组成:电源供应、温度传感器、热沉和测量电路。

电源供应是为测试电路提供稳定的电源电压和电流的部分。

对于gan功率器件来说,常用的电源电压是12V或24V。

电源供应需要具备稳定输出和较低的噪声水平,以确保测试结果的准确性。

温度传感器是用来测量gan功率器件的温度的部分。

一种常用的温度传感器是热电偶,其原理是利用两种不同金属的热电效应产生的电压差来测量温度。

在测试电路中,温度传感器通常与gan功率器件直接接触,以获取准确的温度信息。

热沉是用来散热的部分,它可以有效地吸收和传导gan功率器件产生的热量。

热沉通常由金属材料制成,具有良好的导热性能。

在测试电路中,热沉与gan功率器件紧密连接,以提供最佳的散热效果。

测量电路是用来测量gan功率器件的温度和电流的部分。

测量电路通常包括模拟电路和数字电路两部分。

模拟电路负责将温度传感器输出的模拟信号转换为数字信号,然后传输给数字电路进行处理和显示。

数字电路负责显示gan功率器件的温度和电流数值,并提供数据存储和传输功能。

在测试gan功率器件的热阻时,需要注意以下几个关键点。

首先,测试电路应具备较高的精度和稳定性,以保证测量结果的准确性。

其次,测试电路应具备较低的噪声水平,以避免干扰对测量结果的影响。

此外,测试电路还应具备良好的热平衡性能,以确保测试结果的可靠性。

总结一下,gan功率器件的热阻测试电路是一个关键的测试工具,用于评估器件的散热性能。

该电路由电源供应、温度传感器、热沉和测量电路组成,通过测量gan功率器件的温度和电流,来计算热阻的数值。

设计一个准确、稳定和可靠的测试电路对于评估gan功率器件的性能至关重要。

功率模块应用-概述说明以及解释

功率模块应用-概述说明以及解释

功率模块应用-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述部分主要介绍功率模块应用这一主题的背景和基本情况,为读者提供一个全局的认识和了解。

在这一部分,我们可以概括性地介绍功率模块的定义、作用以及其在现代生活中的重要性。

功率模块是一种电子器件,是将半导体器件和其他相关组件集成在一起的模块。

它主要用于控制和转换电力信号,在各种领域中都有广泛的应用。

传统的电源系统中,通常需要使用多个离散元件来完成电力的控制和转换,而功率模块的出现则简化了这个过程,提高了电力系统的效率和可靠性。

功率模块可以分为不同类型,包括直流-直流(DC-DC)转换模块、交流-直流(AC-DC)变换模块、直流-交流(DC-AC)逆变模块等。

每种类型的功率模块都有其特定的应用场景和功能。

在现代社会的各个领域中,功率模块的应用越来越广泛。

例如,电动车的驱动系统中就离不开功率模块的使用,它可以对电能进行高效转换,实现驱动系统的平稳运行。

此外,在工业自动化控制、航空航天、通信设备等领域,功率模块也扮演着重要的角色,能够提供稳定可靠的电力支持。

功率模块的出现给现代电力系统带来了巨大的变革。

它不仅提高了系统的效率和可靠性,还减少了系统的体积和重量,节约了能源和资源。

随着科技的不断发展,功率模块的性能不断提高,其应用前景也变得更加广阔。

本文将重点探讨功率模块的应用领域和优势,并分析其在实际应用中的挑战和发展方向。

通过对功率模块的深入了解,我们可以更好地认识和应用这一技术,为现代社会的发展和进步做出更大的贡献。

1.2文章结构文章结构部分的内容应该包括对整篇长文的组织和框架的介绍。

可以简要说明每个章节的主要内容和目标,以帮助读者理解整篇文章的结构和逻辑。

以下是一个可能的内容:文章结构部分:本篇长文将围绕功率模块应用展开讨论,主要分为引言、正文和结论三个部分。

1. 引言引言部分将首先概述功率模块的概念和背景,介绍其在现代电子科技中的重要性和应用范围。

接着,将阐述本文的结构以及各个章节的内容,以便读者理解整篇文章的组织框架。

gan氮化镓概念

gan氮化镓概念

氮化镓(GaN) 是一种宽禁带半导体材料,具有许多重要的应用。

它由三个元素组成:氮、镓和铝,其中镓是主要元素。

GaN在电子学和光电子学领域有广泛的应用,包括高频电子器件、功率器件、蓝光发光二极管(LED)和激光器等。

GaN主要特点之一是其宽带隙能隙,使得它在高电场和高温下表现出很好的性能。

它具有高电子饱和漂移速度、高热导率和高击穿电场强度,这使得它在高功率电子设备中具有很大的潜力。

在电子器件方面,GaN广泛应用于射频(RF)功率放大器和微波器件。

它能够提供高功率、高效率和宽频率范围的性能,因此在通信领域特别有用。

此外,GaN还常用于高速电子开关和能量转换器。

在光电子学方面,GaN被用于制造蓝光LED和激光器。

蓝光LED是制造白光LED的关键组件之一,广泛应用于照明、显示和通信领域。

激光器方面,GaN激光器被用于生物医学、数据存储和显示技术等领域。

总的来说,GaN作为一种半导体材料,具有广泛的应用潜力,并在电子学和光电子学领域有着重要的地位。

gan功率管的工作原理

gan功率管的工作原理

gan功率管的工作原理一、引言功率管是一种电子元件,它能够将低电压、低电流的信号转换为高电压、高电流的信号。

其中,GaN功率管是一种新型功率管,具有高效率、高速度和高稳定性等优点。

本文将详细介绍GaN功率管的工作原理。

二、GaN功率管的结构GaN功率管的结构主要由两部分组成:源极和漏极。

其中,源极连接着输入信号,漏极连接着输出信号。

在两者之间还有一个控制层,用于控制输出信号的大小。

三、GaN材料的特性GaN材料具有很多特性,例如:它是一种宽禁带半导体材料,具有较高的载流子迁移率和较好的热稳定性。

由于其晶格常数与氮化铝(AlN)和氮化镓(InN)非常接近,在制造过程中可以实现三元合金混合。

四、GaN功率管的工作原理当输入信号进入源极后,会通过控制层到达漏极。

在这个过程中,控制层会根据输入信号调整输出信号的大小。

具体来说,在正极电压下,控制层中的电子会被吸引到漏极,从而形成一个电流通路。

同时,由于控制层中的电子数量是可调节的,因此输出信号的大小也可以通过控制层进行调整。

五、GaN功率管的优点相比其他功率管,GaN功率管具有以下优点:1. 高效率:GaN材料具有高载流子迁移率和较好的热稳定性,因此可以实现高效率的能量转换。

2. 高速度:由于GaN材料具有较高的载流子迁移率,因此可以实现更快速度的信号转换。

3. 高稳定性:GaN材料具有较好的热稳定性和抗辐射能力,因此可以在恶劣环境下工作。

六、总结本文详细介绍了GaN功率管的工作原理。

通过对其结构、材料特性以及工作原理等方面进行分析,我们可以看出GaN功率管具有高效率、高速度和高稳定性等优点。

随着科技的不断发展,相信GaN功率管将会得到更广泛地应用。

GaN器件应用基础技术研究

GaN器件应用基础技术研究

GaN器件应用基础技术研究GaN(氮化镓)器件是一种新型的半导体器件,具有高功率、高频率、高温度和高可靠性等优势,因此在电力电子、通信和雷达等领域得到了广泛的应用。

本文将从材料、结构和工艺三个方面介绍GaN器件的基础技术研究。

首先,材料方面的研究对于GaN器件的性能和可靠性至关重要。

GaN材料具有较大的能带宽度和饱和漂移速度,因此能够实现高电压和高频率的工作。

目前,研究人员主要通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)和分子束外延(MBE)等方法来制备高质量的GaN材料。

此外,通过引入杂质或合金化的方法,可以调节GaN材料的特性,进一步提高器件性能。

其次,GaN器件的结构设计也是研究的重点。

常见的GaN器件包括GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)、GaN基二极管和GaN基太阳能电池等。

在HEMT器件中,研究人员通常采用AlGaN/GaN异质结构来实现高电子迁移率和高饱和漂移速度。

此外,通过优化结构参数和引入特殊的结构设计,如纳米线和量子阱等,可以进一步提高器件的性能。

最后,工艺方面的研究对于GaN器件的制备和性能调控起着重要作用。

在制备过程中,研究人员通过优化沉积条件、选择合适的衬底和控制材料的表面质量等方法来提高GaN器件的制备质量。

同时,通过优化退火、离子注入和金属电极的制备等工艺步骤,可以改善器件的界面特性和电学性能。

总之,GaN器件的应用基础技术研究涉及材料、结构和工艺等多个方面。

通过对材料的研究,可以提高器件的性能和可靠性;通过对结构的优化设计,可以进一步提高器件的性能;通过对工艺的改进,可以提高器件的制备质量和电学性能。

未来,随着研究的深入,GaN器件将在各个领域得到更广泛的应用,并为人们带来更多的便利和创新。

氮化镓功率器件参数

氮化镓功率器件参数

氮化镓功率器件参数(原创版)目录1.氮化镓功率器件概述2.氮化镓功率器件的参数2.1 击穿电压2.2 导通电阻2.3 迁移率2.4 禁带宽度2.5 载流子浓度2.6 饱和速度2.7 扩散速度2.8 介电常数2.9 热导率正文氮化镓(GaN)是一种宽禁带半导体材料,具有出色的电气性能,被广泛应用于高功率、高频率、高温度等环境中的电子器件。

氮化镓功率器件就是利用氮化镓材料制作的一类具有高功率承载能力的半导体器件。

在工程应用中,了解氮化镓功率器件的参数特性对于优化电路设计和提高系统性能至关重要。

下面将对氮化镓功率器件的主要参数进行详细阐述:1.击穿电压:氮化镓功率器件的击穿电压较高,这意味着在高电压环境下,氮化镓器件具有更好的安全性能。

2.导通电阻:氮化镓功率器件的导通电阻较低,这意味着在导通状态下,氮化镓器件具有较小的损耗,可以提高系统的工作效率。

3.迁移率:氮化镓的迁移率较高,这意味着电子在氮化镓中的移动速度较快,可以提高器件的工作速度。

4.禁带宽度:氮化镓的禁带宽度较大,这意味着氮化镓器件具有较高的击穿电压和较低的泄漏电流,有利于提高器件的可靠性。

5.载流子浓度:氮化镓的载流子浓度较高,这意味着在相同的电流下,氮化镓器件具有较小的导通电阻,有利于提高系统的工作效率。

6.饱和速度:氮化镓的饱和速度较高,这意味着在较高的电流密度下,氮化镓器件仍具有良好的导电性能。

7.扩散速度:氮化镓的扩散速度较高,这意味着在相同的电场下,氮化镓器件具有较高的电子迁移率,有利于提高器件的工作速度。

8.介电常数:氮化镓的介电常数较低,这意味着在相同的电场下,氮化镓器件具有较小的电容,有利于减小信号延迟和损耗。

9.热导率:氮化镓的热导率较高,这意味着在高功率工作环境下,氮化镓器件具有较好的热传导性能,有利于提高系统的可靠性和稳定性。

总之,氮化镓功率器件具有优异的电气性能,包括较高的击穿电压、较低的导通电阻、较高的迁移率、较大的禁带宽度、较高的载流子浓度、较高的饱和速度、较高的扩散速度、较低的介电常数和较高的热导率等。

砷化镓功率器件-概述说明以及解释

砷化镓功率器件-概述说明以及解释

砷化镓功率器件-概述说明以及解释1.引言1.1 概述砷化镓功率器件是一种基于砷化镓材料制造的高性能电力设备。

砷化镓材料具有优秀的电子特性和热特性,使得砷化镓功率器件在高频率、高功率和高温环境下具有出色的性能表现。

砷化镓功率器件已成为电子领域的重要组成部分,广泛应用于通信、能源、军事和工业等领域。

砷化镓功率器件的主要特点之一是其高功率密度。

相较于传统的硅功率器件,砷化镓功率器件可以在更小的体积内实现更高的功率输出,从而提高了设备的效率和性能。

此外,砷化镓功率器件具有较低的导通和开关损耗,使得其能够有效地减少能量的浪费,提高能源利用效率。

另外,砷化镓功率器件还具备较高的耐高温特性。

砷化镓材料的热导率和热稳定性优异,使得器件能够在高温环境下长时间稳定运行,不易受到热量的影响。

这在一些特殊的应用领域,如航空航天和军事设备中尤为重要。

总体而言,砷化镓功率器件凭借其高功率密度、低能量损耗和耐高温特性,在电力领域中具有重要的地位和广阔的应用前景。

未来随着制备技术的不断进步和创新,砷化镓功率器件有望在更多领域发挥重要作用,推动电子技术的发展与进步。

文章结构部分的内容如下:1.2 文章结构本文将按照以下结构进行阐述和探讨砷化镓功率器件的相关内容:第一部分是引言部分,主要包括对砷化镓功率器件的概述、文章结构以及本文的目的。

在这一部分中,我们将对砷化镓功率器件进行简要介绍,并提供文章的整体结构和写作目的,以便读者能够清晰地了解本文的组织结构和阅读指南。

第二部分是正文部分,将详细探讨砷化镓功率器件的原理和特点、应用领域以及制备技术。

在2.1节中,我们将介绍砷化镓功率器件的工作原理和其特点,包括其高效能、高性能等方面。

在2.2节中,我们将探讨砷化镓功率器件在不同的应用领域中的广泛应用,包括通信、雷达、太阳能等。

在2.3节中,我们将详细介绍砷化镓功率器件的制备技术,包括材料选择、工艺流程等。

第三部分是结论部分,主要总结了砷化镓功率器件的优势和前景,挑战和发展方向以及文章的总结。

功率GaN器件的特性

功率GaN器件的特性

GaN Q1
+
AC -
GaN
Q2
S1
Si
S high speed GaN ‐ 低共模噪声 ‐ S1/S1 相同PWM ‐ 但是 – 体二极管反向恢复– 无CCM模式
1kW 图腾柱PFC
效率 99%+
99.4
展 子 Using Standard Si Gate Driver!
展 功率GaN器件的特性与系统设计应用 子 丁宇 万国半导体元件(深圳)有限公司 上海分公司 电 海 上 黑
尼 慕
议程
宽禁带功率半导体市场

GaN器件的基本结构及特性
子 GaN器件驱动回路的设计及注意事项 电 GaN器件应用于硬开关拓扑
海 GaN器件应用于软开关谐振类拓扑
小结
GaN和SJ Qoss曲线对比

GaN: 650V / 85mohm
子 99mohm – SJ


GaN 的Qoss约为SJ的1/5~1/10 ‐谐振电路应用中减少死区时
上间



增强模式GaN 驱动问题
避免 Miller‐induced shoot‐through
展 子





电Si 100V OptiMOS
=92.8% @ 500kHz
Peak VDS = 50V
海 Peak VDS = 68V
300KHz
上 300KHz
黑 5ns
5ns/div
15ns 5ns/div
尼 Could easily use 80V GaN due to low inductance/overshoot
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Drift Region Design
TCAD Simulations using Ec = 3.3 MV/cm and μ n = 1100 cm2/V-s Maximize breakdown voltage and minimize on-resistance
Edge Termination Design
Vision: Every power system in the world will utilize a vertical GaN device, circuit, technology, or science developed by 2030 Mission: The most efficient and compact power systems in the world are enabled by vertical GaN technologies
Target
Volume 2.5 in3 Weight 4 oz. Efficiency 95%
Limited by magnetics (inductors, transformers, capacitors) and thermal issues
DEVELOP THE ECOSYSTEM
Wide band gap semiconductors benefits power systems
43 ft3
12u compute + 1u power
Power switching frequency increases from kilohertz to megahertz Dramatically smaller, cheaper magnetics Higher efficiency = 67% less heat dissipated Higher reliability = Can operate at higher temperature (175oC)
EV
Wind
Motor Drive
2 – 100A Si IGBT Si PN
UPS/Grid/ Rail/Ship
1200 - 3300 100 – 400A Si IGBT Si Thyristor Si PIN
600 - 1200 1200 - 3300 600 - 1200 50 – 200A Si IGBT Si PN 100 – 200A Si IGBT Si PN
500mΩ, 50 chips
40mΩ, 4 chips
Si-MOSFET
GaN-on-Si SiC
10mΩ, 1 chip
GaN-on-GaN
5
Schematic of a Boost Converter
Vi is boosted to Vo
Switch frequency increases → Optimum L and C Decreases
4
GaN-on-GaN means less chip area
For a given on-resistance (Ron) of 10mΩ:
GaN-on-GaN lowers die cost while improving Ron ×Coff switching characteristic
• • • • • • Junction Termination Extension (JTE): Novel Avogy design* TCAD simulations guided the design for 600V to 5kV device 5kV Final design is 25 guard rings Spreading the potential over a wide area outside the edge Use ion implantation to implement the structure Field plates using dielectrics is not as effective
Measurements at the last pulse V @ Imax 1280 1260 V @ Imax/2 1350 1520
DUT diode avalanching to 1.5A from a 10 mH ind
2D-Electrostatic Potential (-5000V=Anode)
2D-Electric Field
*US Patents: 8,716,716 and 8,741,707
P-N Diode Topology
Anode (-)
Isolation P+ GaN Isolation
N- GaN Drift Region (6-40μm)
Bulk GaN vs. GaN-on-Si/SiC
Attributes GaN on Si GaN on SiC GaN on Bulk-GaN
Defect Density (cm-2) Lattice Mismatch, %
109 17
5x108 3.5
103 to 106 0
CTE Mismatch, % Layer Thickness (µm)
N+ GaN Cathode (+)
2600V PN Diode with Rsp=2.0 mΩ-cm2
0.025 10.0 0.02
0.015
Forward Current (A)
Avalanche.0
0.01
4.0
0.005
2.0
0
0 140
0 1000
Epi and Device Fabrication at Avogy
Avalanche capability
16 14
12
IR (mA)
10
8
6
4
2
0
0 500 1000 1500 VR (V) 2000 2500
• • • •
GaN devices do have avalanche capability PN diodes with 1700V epi design in TO-220 packages Current pulse width of 30ms, up to 15mA Avalanche energy in each pulse > 900mJ
WOCSEMMAD 2015
Vertical FET Advantages over Lateral HEMTs
• • • • • •
Grow thick GaN layers: Drift region BV >> 1200V Reduced number of defects: Improved Reliability, Large EC Breakdown occurs in bulk and not surface, avalanche capability Current flow vertical and not parallel to surface Realize high current (>> 20A) devices, Normally-off operation For the same Rdson , a VFET is smaller than a HEMT
Solar inverter AC-DC converter Wind inverter Data Center OCI
Power
100 in3
93 ft3
10u compute + 3u power
10kW, 4213 in3,, 78 lbs
10kW, 528 in3,, 25 lbs
25 in3
Partially funded by ARPA-E SWITCHES (Dr. T. Heidel) ONR-N00014-14-C-0087 (Dr. P. Maki)
Avogy (San Jose, CA): Advancing Energy Efficiency
Vision and Mission for Vertical GaN Devices
Power Supplies*
Voltage (V) Current (A) Devices in Systems Today 600-1200 0.5 – 20A Si MOSFET Si PN SiC SBD
Solar 600 - 1200 1 – 75A Si MOSFET Si IGBT Si PN SiC SBD
Breakdown Voltage (V)
54 <5
< 1000
25 < 10
< 2000
0 > 50
> 5000
Avalanche Capability
Device Types Microscopy and Growth
No
Lateral
No
Lateral
Yes
Vertical and Lateral
World’s Smallest 85W Adapter
Apple 85W Adapter
Volume ≈ 10 in3 Weight = 9 oz. Efficiency 90%
Avogy Proof of Concept – 4in3
Volume ≈ 4 in3 Weight = 5 oz. Efficiency 92%
Inductor
Schottky diode
DUT
Pulse Generator
UIL circuit diagram
PD45-1
Imax 0.5 1 2 0.5 1 2 0.1 0.2 0.5 L (H) 1.00E-03 1.00E-03 1.00E-03 1.00E-02 1.00E-02 1.00E-02 1.00E-01 1.00E-01 1.00E-01 Pmax (W) 622 1244 2530 632.5 1280 2560 128.4 260 650 E (mJ) 0.125 0.5 2 1.25 5 20 0.5 2 12.5 V @ Imax V @ Imax/2 1244 1264 1244 1320 1265 1445 1265 1365 1280 1500 1280 Breaks at 1780V-1.5A 1284 1300 1300 1365 1300 1465
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