LED 铜线和金线的优缺点
铜线材有哪些优点
铜线材有哪些优点
铜线材是常用的电气导体材料之一，主要应用于电力传输、通信、电子器件等
领域。
相对于其他金属导体材料，铜线材具有以下优点。
1. 电导率高
铜是一种电导率很高的金属，其电导率约为纯水银的310倍、纯铝的2倍，甚至比金要好。
因此，铜线材可以输送更多的电流，而且电能的损耗较低，也更加节能。
2. 导电性能稳定
铜线材在正常的温度、湿度等条件下，其电阻率和电导率相对稳定。
相对于其
他材料，铜线材在高温、潮湿等环境下，其电性能变化较小。
3. 耐腐蚀性好
铜线材具有良好的抗氧化和耐腐蚀性能，即使长时间接触空气、水等介质，也
不会产生明显的氧化层或腐蚀。
4. 机械强度高
相对于其他金属导体材料，铜线材的机械强度很高，耐拉伸、耐压等性能较好。
这使得铜线材在使用中更加可靠、耐久。
5. 易加工
铜线材的加工性能相对较好，可通过拉拔、轧制等方式生产成不同规格的铜线材。
同时，在焊接、铆接等技术方面，铜线材的加工性能也较为优秀。
6. 环保可持续
相对于其他材料，铜线材环保可持续性较好。
铜是一种可再生资源，其再生率
达到了80%以上。
而且，在制造过程中，铜线材的CO2排放量较小，更加符合环
保指导方针。
综上所述，铜线材具有高的电导率、稳定的导电性能、良好的耐腐蚀性能、高
的机械强度、易加工和环保可持续性优点。
在电力传输、通信、电子器件等领域得到广泛应用，是电气导体材料的首选之一。
铜线与金线的对比
Disadvantage
Pad peeling
NSOL Short tail
Forming gas Parameter sensitive
Storage lifetime
Crater Oxidation
Pad Splash
Ball sias choosen
焊垫铝层 >0.8um
6
1. Storage lifetime
开封后 铜线开封后纯铜3天,铜钯线7天. 金线超过3天需回收,使用期限1年. Special control at WB. 开封前 无尘室条件为相对湿度 40~60 %,温度 22+/-3 oC.金线于库房储存区域条件 为相对湿度 80%以下,温度 30℃以下.铜线于库房储存区域条件为相对湿度 30～65%,温度20～26℃.金线使用期限为一年,纯铜线及镀钯铜线使用期 限为半年.
7
1. 2nd bond defect
1.NSOL 2.Short tail 3.Tail incomplete Improve action : Parameter / copper wire / LF status
8
1. Oxidation
Add forming gas.
9
1. 1st bond defect
Both the 90N2/10H2 and 95N2/5H2 gas mixtures had comparable results in terms of average ball shear and average wire pull (Figure below). The 95N2/5H2 mixture was chosen as the optimum gas mixture for the copper bonding process, since it is safer (has lesser hydrogen content) and is a standard . Ball shear compare
LED中为什么要用金线做导线
LED中为什么要用金线做导线？铜线不可以吗？1 引言丝球焊是引线键合中最具代表性的焊接技术，它是在一定的温度下，作用键合工具劈刀的压力，并加载超声振动，将引线一端键合在IC芯片的金属法层上，另一端键合到引线框架上或PCB便的焊盘上，实现芯片内部电路与外围电路的电连接，由于丝球焊操作方便、灵活、而且焊点牢固，压点面积大（为金属丝直径的2.5－3倍），又无方向性，故可实现高速自动化焊接[1]。
丝球焊广泛采用金引线，金丝具有电导率大、耐腐蚀、韧性好等优点，广泛应用于集成电路，铝丝由于存在形球非常困难等问题，只能采用楔键合，主要应用在功率器件、微波器件和光电器件，随着高密度封装的发展，金丝球焊的缺点将日益突出，同时微电子行业为降低成本、提高可靠性，必将寻求工艺性能好、价格低廉的金属材料来代替价格昂贵的金，众多研究结果表明铜是金的最佳替代品[2－6]。
铜丝球焊具有很多优势：（1）价格优势：引线键合中使用的各种规格的铜丝，其成本只有金丝的1/3－1/10。
（2）电学性能和热学性能：铜的电导率为0.62（μΩ/cm）－1，比金的电导率[0.42（μΩ/cm）－1]大，同时铜的热导率也高于金，因此在直径相同的条件下铜丝可以承载更大电流，使得铜引线不仅用于功率器件中，也应用于更小直径引线以适应高密度集成电路封装；（3）机械性能：铜引线相对金引线的高刚度使得其更适合细小引线键合；（4）焊点金属间化合物：对于金引线键合到铝金属化焊盘，对界面组织的显微结构及界面氧化过程研究较多，其中最让人们关心的是"紫斑"（AuAl2）和"白斑"（Au2Al）问题，并且因Au和Al两种元素的扩散速率不同，导致界面处形成柯肯德尔孔洞以及裂纹。
降低了焊点力学性能和电学性能[7，8]，对于铜引线键合到铝金属化焊盘，研究的相对较少，Hyoung－Joon Kim等人[9]认为在同等条件下，Cu/Al界面的金属间化合物生长速度比Au/Al界面的慢10倍，因此，铜丝球焊焊点的可靠性要高于金丝球焊焊点。
22-LED灯具优缺点
第一位知乎答者1.LED芯片LED发光的核心在于LED的芯片，上图是一块台湾晶元35mil的芯片纹路图（已停产），35mil是芯片的边长，大约等于0.889mm。
LED芯片是LED灯具的核心，也是LED灯质量最关键的地方。
一般来说芯片档次按照这个顺序降档(引用另一个回答）欧美日芯片>>韩国芯片>>台湾芯片>>国产芯片，好的芯片如下几个优点：1)高光效1W的功耗就发出130lm光算好，1W的功耗只发出60lm光算差，因为按照能量守恒定律除去发光所用的能量，其他能量都用作发热了。
2)较低的光衰LED芯片在发光过程中必然会老化，进而光衰，一般灯具用一段时间后肯定会比刚开始暗一点的，较低的光衰可以保证更长的寿命.3)较高的结界温度LED的光衰是随温度的攀升而逐渐加剧的，一旦过了LED内部温度超过结界温度，光衰会程直线上升方式加剧。
懒得查资料了，我记得美国CREE芯片结界温度可以到120度，台湾厂一般都是80度。
高光效会降低发热，降低发热可以减少光衰，较高的结界温度对散热器要求又会降低。
选用高档芯片就是好LED灯具第一步。
但是某宝上面是买不到美国CREE芯片的灯具，因为实在太贵了，同样尺寸的芯片差距约10-100倍之间，做出成品差距就更大了。
芯片生产是一项高科技高投入的活，欧美厂商有CREE、飞利浦、欧司朗、普瑞，日韩有日亚、三星，国产有三安、华磊等众多厂商，国产芯片又以三安光电较好。
2.封装LED芯片相当的小，1mm都没有，没办法直接焊接在电路板上，而且高温下接触到空气也会很快氧化报废。
于是我们就需要把LED芯片封装到一个合适的支架上，以供我们加工使用。
这是经典的仿流明封装的灯珠。
这个灯珠分为四个部分，支架，芯片，连接线，荧光粉。
其他封装结构的灯珠基本上也包含这四个部分。
1）支架我们那个不足1mm的芯片就是放在这个支架中间那个位置。
支架的两端一边是“-”，一边是“+”，这是与外部电路连接的接口。
金线之间的区别
银合金线：主要成份以银为主，颜色白亮。
优点为线材较软，垫片无需铝层加厚；价格比金线及合金线低，比铜线高，具体报价目前还不十分明确。但缺点众多：烧球较难成形，产量低。银线和铜线都不太储放(铜线须密封,且储存期短,银线也需密封,否则容易出现氧化。目前应用的客户实例较少。"
3、打线时用到氮氢混合保护气体，需用到氢气H2，增加了一定的危险性；
4、可能需要铝层加厚；这又是一个材料成本考虑的问题。
5、对部分低端封装形式及对产品要求不高的市场，铜线应该可以进行使用，不是大问题，但是用到中高端封装来说，目前还未搜索到相关的实际应用资料，有待铜线技术的不断改进
6、打线后，基本上无弧线。"
铜线：包括单晶铜线及镀钯铜线
1、硬度较大，机台参数调节变化较大，要掌握的细则较多，工艺流程根据封装形式可能会改变；
2、价格低，铜线价格优势比较明显。具体的成本节省要看综合的UPH（产能）及良率论定，基本来讲应用UPH会比金线下降20%，良率会下降，另外电耗能及设备损耗会增加，具体效益就要综合考虑一下了。
铜线和金线的比较
大讨论：铜和对比球焊接不断攀升的金价导致金球焊接这种主要封装工艺的成本过高。
铜提供了切实可行的替代，但是因为其物理特性而面临挑战。
对于微间距和超微间距封装，运用合理的设备改造，铜正在作为材料选择来替换金。
热超声球焊接在微电子封装中是一项主要的工艺，在微间距和超微间距的主要焊接材料是金线，但是随着黄金价格的快速增长，在封装的经济成本控制中金线已经成为昂贵的一部分，一种替代的转型材料将是铜线，它不但价格便宜（$20/kg vs. $28,000/Kg）而且在导电性方面具备更好的技术优势，30微米以上的铜线已经好多年被广泛应用于分离器件和高功率器件中1,2，生产铜线的工艺只有微小的差别，但是潜在成本节约将是巨大的。
然而铜线在物理特性上和金线有着有很大的不同，在焊线性能上，有一些是有利的，但一些是不利的。
铜和金的电性图1a显示了铜的电导率明显比金优秀。
另外一个有趣的特性是熔断电流：在线的中心融化需要的电流3。
图1b显示了熔断电流在空气中怎样随线直径和线长而变化，它运用了参考33过程来计算。
在通过一段距离的线长时，铜线比金线拥有明显大的熔断电流，更不用说更长的线了。
然而当焊线被塑封胶环绕时，由于塑封胶的高导热性熔断电流通常是明显上升的（相对于在空气中）。
总体来说，铜线比相同线径的金线能承载更大的电流。
当然，具体的铜线承载电流由铜线的性质决定，如纯度。
杂质和合金物会降低铜线的电导率。
4关于铜线球和二焊点焊接在空气中铜线容易氧化，所以铜线必须存放于包装盒中以减少环境带来的氧化，然而，一旦打开包装放于焊线机上，铜线被暴露于空气中而因此氧化，放置于设备上铜线的使用寿命，大概是3到4天，虽然研究表明长时间暴露仍然可用于焊接，但是由于在空气球在形成的时候受到严重氧化而需要一个惰性气体的环境，所以需要在设备上加一套铜线专用装置，这套装置利用惰性气体氮气保护暴露在空气中的铜线，然而加入5%后氢气的混合气体更常用，因为氢原子可以和氧原子反应，可以去除铜线的氧化，为了在混合气体环绕保护下形成铜球，所以在打火杆上设计了一套保护装置，使得在里面的铜线（图2a）可以在混合气体的保护下形成铜球（图2b）。
金线和铜线的差别
铜线和金线的优缺点 1 引言丝球焊是引线键合中最具代表性的焊接技术，它是在一定的温度下，作用键合工具劈刀的压力，并加载超声振动，将引线一端键合在IC芯片的金属法层上，另一端键合到引线框架上或PCB便的焊盘上，实现芯片内部电路与外围电路的电连接，由于丝球焊操作方便、灵活、而且焊点牢固，压点面积大（为金属丝直径的－3倍），又无方向性，故可实现高速自动化焊接[1]。
丝球焊广泛采用金引线，金丝具有电导率大、耐腐蚀、韧性好等优点，广泛应用于集成电路，铝丝由于存在形球非常困难等问题，只能采用楔键合，主要应用在功率器件、微波器件和光电器件，随着高密度封装的发展，金丝球焊的缺点将日益突出，同时微电子行业为降低成本、提高可靠性，必将寻求工艺性能好、价格低廉的金属材料来代替价格昂贵的金，众多研究结果表明铜是金的最佳替代品[2－6]。
铜丝球焊具有很多优势：（1）价格优势：引线键合中使用的各种规格的铜丝，其成本只有金丝的1/3－1/10。
（2）电学性能和热学性能：铜的电导率为（μΩ/cm）－1，比金的电导率[（μΩ/cm）－1]大，同时铜的热导率也高于金，因此在直径相同的条件下铜丝可以承载更大电流，使得铜引线不仅用于功率器件中，也应用于更小直径引线以适应高密度集成电路封装；（3）机械性能：铜引线相对金引线的高刚度使得其更适合细小引线键合；（4）焊点金属间化合物：对于金引线键合到铝金属化焊盘，对界面组织的显微结构及界面氧化过程研究较多，其中最让人们关心的是"紫斑"（AuAl2）和"白斑"（Au2Al）问题，并且因Au和Al两种元素的扩散速率不同，导致界面处形成柯肯德尔孔洞以及裂纹。
降低了焊点力学性能和电学性能[7，8]，对于铜引线键合到铝金属化焊盘，研究的相对较少，Hyoung －Joon Kim等人[9]认为在同等条件下，Cu/Al界面的金属间化合物生长速度比Au/Al界面的慢10倍，因此，铜丝球焊焊点的可靠性要高于金丝球焊焊点。
金线 铜线 温度循环
金线铜线温度循环
【实用版】
目录
1.金线和铜线的特点与应用
2.温度循环对金线和铜线的影响
3.金线和铜线在温度循环下的性能比较
4.选择金线或铜线的建议
正文
金线和铜线是两种常见的导线材料，各自具有独特的特点和应用领域。
金线具有优良的导电性能、化学稳定性和抗氧化性，广泛应用于高端电子设备、航空航天、通讯和医疗器械等领域。
铜线则具有良好的导电性和热传导性，且成本相对较低，因此被广泛应用于电力、家电、汽车等行业。
温度循环是指设备或产品在高温和低温环境下交替使用，这会对导线材料产生一定的影响。
温度循环会导致导线材料的热胀冷缩，从而影响其电阻、电感和抗氧化性能。
对于金线和铜线来说，温度循环对其性能的影响程度是不同的。
金线在温度循环下的性能较为稳定，因为金的晶格结构更加紧密，不容易因温度变化而产生较大的形变。
同时，金具有较强的抗氧化性，能够抵抗高温环境下的氧化反应。
因此，在高温环境中，金线相对铜线具有更好的性能。
然而，铜线在温度循环下的性能表现也不容忽视。
虽然铜的晶格结构相对较松散，容易受温度影响产生形变，但铜具有较高的热传导性能，能够在低温环境下提供更好的导电性能。
此外，铜线的成本较低，可以降低产品的生产成本。
在选择金线或铜线时，需要根据实际应用场景和性能要求进行权衡。
如果产品需要在高温环境下工作，且对导电性能和抗氧化性能要求较高，金线可能是更好的选择。
而如果产品需要在低温环境下工作，且成本是考虑因素之一，那么铜线可能更适合。
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这里有一份铜线和金线的详细试验结果与分析
1引言
丝球焊是引线键合中最具代表性的焊接技术，它是在一定的温度下，作用键合工具劈刀的压力，并加载超声振动，将引线一端键合在IC 芯片的金属法层上，另一端键合到引线框架上或PCB便的焊盘上，实现芯片内部电路与外围电路的电连接，由于丝球焊操作方便、灵活、而且焊点牢固，压点面积大（为金属丝直径的2.5－3倍），又无方向性，故可实现高速自动化焊接[1]。
丝球焊广泛采用金引线，金丝具有电导率大、耐腐蚀、韧性好等优点，广泛应用于集成电路，铝丝由于存在形球非常困难等问题，只能采用楔键合，主要应用在功率器件、微波器件和光电器件，随着高密度封装的发展，金丝球焊的缺点将日益突出，同时微电子行业为降低成本、提高可靠性，必将寻求工艺性能好、价格低廉的金属材料来代替价格昂贵的金，众多研究结果表明铜是金的最佳替代品[2－6]。
铜丝球焊具有很多优势：
（1）价格优势：引线键合中使用的各种规格的铜丝，其成本只有金丝的1/3－1/10。
（2）电学性能和热学性能：铜的电导率为0.62（μΩ/cm）－1，比金的电导率[0.42（μΩ/cm）－1]大，同时铜的热导率也高于金，因此在直径相同的条件下铜丝可以承载更大电流，使得铜引线不仅用于功率器件中，也应用于更小直径引线以适应高密度集成电路封装；
（3）机械性能：铜引线相对金引线的高刚度使得其更适合细小引线键合；
（4）焊点金属间化合物：对于金引线键合到铝金属化焊盘，对界面组织的显微结构及界面氧化过程研究较多，其中最让人们关心的是"紫斑"（AuAl2）和"白斑"（Au2Al）问题，并且因Au和Al两种元素的扩散速率不同，导致界面处形成柯肯德尔孔洞以及裂纹。
降低了焊点力学性能和电学性能[7，8]，对于铜引线键合到铝金属化焊盘，研究的相对较少，Hyoung－JoonKim等人[9]认为在同等条件下，Cu/Al 界面的金属间化合物生长速度比Au/Al界面的慢10倍，因此，铜丝球焊焊点的可靠性要高于金丝球焊焊点。
1992年8月，美国国家半导体公司开始将铜丝球焊技术正式运用在实际生产中去，但目前铜丝球焊所占引线键合的比例依然很少，主要是因此铜丝球焊技术面临着一些难点：
（1）铜容易被氧化，键合工艺不稳定，
（2）铜的硬度、屈服强度等物理参数高于金和铝。
键合时需要施加更大的超声能量和键合压力，因此容易对硅芯片造成损伤甚至是破坏。
本文采用热压超声键合的方法，分别实现Au引线和Cu引线键合到Al-1％Si-0.5％Cu金属化焊盘，对比考察两种焊点在200℃老化过程中的界面组织演变情况，焊点力学性能变化规律，焊点剪切失效模式和拉伸失效模式，分析了焊点不同失效模式产生的原因及其和力学性能的相关关系。
2试验材料及方法
键合设备采用K＆S公司生产的Nu-Tek丝球焊机，超声频率为120m 赫兹，铜丝球焊时，增加了一套CopperKit防氧化保护装置，为烧球过程和键合过程提供可靠的还原性气体保护（95％N25％H2），芯片焊盘为Al＋1％Si＋0.5％Cu金属化层，厚度为3μm。
引线性能如表1所示。
采用DOE实验对键合参数（主要为超声功率、键合时间、键合压力和预热温度四个参数）进行了优化，同时把能量施加方式做了改进，采用两阶段能量施加方法进行键合，首先在接触阶段（第一阶段），以较大的键合压力和较低的超声功率共同作用于金属球（FAB），使其发生较大的塑性变形，形成焊点的初步形貌；随之用较低的键合压力和较高超声功率来完成最后的连接过程（第二阶段），焊点界面结合强度主要取决于第二阶段，本文所采用的键合参数，如表2所示。
为加速焊点界面组织演变，在200℃下采用恒温老化炉进行老化实验，老化时间分别为n2天（n＝1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11）。
为防止焊点在老化过程中被氧化，需要在老化过程中进行氮气保护。
焊点的横截面按照标准的制样过程进行制备。
但由于焊点的尺寸原因需要特别精心，首先采用树脂进行密封，在水砂纸上掩模到2000号精度，保证横截面在焊点正中，再采用1.0μm粒度的金刚石掩模剂在金丝绒专用布上抛光，HITACHIS－4700扫描电镜抓取了试样表面的被散射电子像，EDX分析界面组成成分。
剪切实验和拉伸实验是研究焊点力学性能和失效模式的主要实验方法，采用Royce580测试仪对各种老化条件下的焊点进行剪切实验和拉伸实验，记录焊点的剪切断裂载荷和拉伸断裂载荷，剪切实验时，劈刀距离焊盘表面4μm，以5μm/s的速度沿水平方向推动焊点，OlympusSTM6光学显微镜观察记录焊点失效模式，对于每个老化条件，分别48个焊点用于剪切实验和拉伸实验，以满足正态分布。
3试验结果与分析
3.1金、铜丝球焊焊点金属间化合物成长
丝球焊是在一定的温度和压力下，超声作用很短时间内（一般为几十毫秒）完成，而且键合温度远没有达到金属熔点，原子互扩散来不及进行，因此在键合刚结束时很难形成金属间化合物，对焊点进行200℃老化，如图1所示。
金丝球焊焊点老化1天形成了约8μm厚的金属间化合物层，EDX成分分析表明生成的金属间化合物为Au4Al 为和Au5AL2，老化时间4天时出现了明显的Kirkendall空洞，铜丝球焊焊点生成金属间化合物的速率要比金丝球焊慢很多，如图2所示，在老化9天后没有发现明显的金属间化合物，在老化16天时，发现了很薄的Cu/Al金属间化合物层（由于Cu和Al在300℃以下固溶度非常小，因此认为生成的Cu/Al相是金属间化合物），图3显示了老化121天时其厚度也不超过1μm，没有出现kirkendall空洞。
在温度、压力等外界因素一定的情况下，影响两种元素生成金属间化合物速率的主要因素有晶格类型、原子尺寸、电负性、原子序数和结合能。
Cu和Au都是面心立方晶格，都为第IB族元素，而且结合能
相近，但是Cu与Al原子尺寸差比Au与AL原子尺寸差大，Cu和AL电负性差较小，导致Cu/Al生成金属间化合物比Au/Al生成金属间化合物慢。
3.2金、铜丝球焊焊点剪切断裂载荷和失效模式
图4显示了金、铜丝球焊第一焊点（球焊点）剪切断裂载荷老化时间的变化，可以看到，无论对于金球焊点还是铜球焊点，其剪切断裂载荷在很长一段时间内随老化时间增加而增加，随后剪切断裂载荷下降，这主要与不同老化阶段剪切失效模式不同有关，同时可以发现，铜球焊点具有比金球焊点更稳定的剪切断裂载荷，并且在未老化及老化一定时间内，铜球焊点的剪切断裂载荷比金球焊点好，老化时间增长后，铜球焊点剪切断裂载荷不如金球焊点，但此时金球焊点内部出现大量Kirkendall空洞及裂纹，导致其电气性能急剧下降，而铜球焊点没有出现空洞及裂纹，其电气性能较好。
对于金球焊点，剪切实验共发现了5种失效模式：完全剥离（沿球与铝层界面剥离）、金球残留、铝层断裂、球内断裂和弹坑，图5显示了金球焊点剪切失效模式随老化时间的变化，未老化时，Au/Al为还没有形成金属间化合物，剪切失效模式为完全剥离，由于Au/Al老化过程中很快生成金属间化合物，失效模式在老化初期马上发展为以铝层剥离为主：随后，铝层消耗完毕，老化中期失效模式以金球残留为主，此时断裂发生在金属间化合物与金球界面；老化100天以后金球内部断裂急剧增加，成为主要失效模式，导致剪切断裂载荷降低。
对于铜球焊点，剪切实验共发现了4种失效模式：完全剥离、铜球残留、铝层断裂和弹坑。
图6显示了铜球焊点剪切失效模式随老化时间的变化，由于铜球焊点200℃时生成金属间化合物很慢，因此其剪切失效模式在老化较长时间内以完全剥离为主：弹坑随老化进行逐渐增多，尤其老化81天后，应力型弹坑大量增加，导致剪切断裂载荷下降，图7所示为弹坑数量随老化时间变化，需要说明的是弹坑包括应力型弹坑和剪切性弹坑，应力型弹坑为剪切实验之前就已经存在的缺陷，而剪切型弹坑是由于接头连接强度高，在剪切实验过程中产生，因此只有应力型弹坑是导致剪切断裂载荷下降的原因，相对金球焊点，铜球焊点剪切出现弹坑较多，主要是因为铜丝球焊键合压力比金丝球焊大。
2.3金、铜丝球焊拉伸断裂载荷和失效模式
图8显示了金、铜丝球焊拉伸断裂载荷随老化时间的变化，金丝球焊拉伸断裂载荷随老化时间变化不大，拉伸断裂模式以第一焊点和中间引线断裂为主。
铜丝球焊拉伸断裂载荷随老化时间不断下降，由于铜的塑性比金差，而且铜丝球焊第二焊点键合压力比金丝球焊大很多，因此铜丝球焊第二焊点比金丝球焊变形损伤大，铜丝球焊拉伸时容易发生第二焊点断裂，第二焊点断裂又分为鱼尾处断裂（根部断裂）和焊点剥离（引线和焊盘界面剥离），如图9所示，铜丝球焊拉伸在老化初期为鱼尾处断裂，老化16天以后焊点剥离逐渐增多，主要是因为铜丝球焊老化过程中第二焊点被氧化，从而也导致拉伸断裂载荷下降。
4结论
（1）铜丝球焊焊点的金属间化合物生长速率比金丝球焊焊点慢得多，认为Cu与Al原子尺寸差Au与Al原子尺寸差大，Cu和Al电负性差较小是其本质原因。
（2）铜丝球焊焊点具有比金丝球焊焊点更稳定的剪切断裂载荷，并且在老化一定时间内铜丝球焊焊点表现出更好的力学性能。
（3）铜丝球焊焊点和金丝球焊焊点老化后的失效模式有较大差别。