电子工业超纯水水质标准
超纯水行业相关水质标准
50
美国半导体工业用纯水指标
项 目
Ⅰ级
Ⅱ级
Ⅲ级
Ⅳ级
残渣，mg/L
0.1
0.3
0.3
0.5
TOC，mg/L
0.02
0.05
0.10
0.40
颗粒，粒/L
500
1000
2500
5000
细菌数，个100mL
0
6
10
50
活性硅SiO2，μg/L
35Βιβλιοθήκη 1040电阻率MΩ·cm
18.3
17.9
17.5
17.0
阳离子，μg/L
1
1
10
500
硫酸根，最大值 ug/L
1
1
10
500
总有机碳，最大值 ug/L
20
100
200
1000
美国纯水水质标准
（美国计量测试学会ASTM纯水水质标准，1983）
序号
水质项目
单位
E-Ⅰ
E-Ⅱ
E-Ⅲ
E-Ⅳ
1
电阻率，25℃
MΩ.cm
18
15
2
0.5
2
二氧化硅（全）
µg/l
5
10
100
1000
3
微粒（粒径≥1μm）
个/ml
2
5
100
500
4
微生物
个/ml
1
10
50
100
5
有机物TOC
µg/l
50
200
1000
5000
6
铜Cu
µg/l
2
10
中国国家电子级超纯水标准.doc
附 1 中国国家电子级超纯水规格GB/电阻>1μ m率硅铜锌镍钠钾氯细菌磷酸根颗粒硝酸根硫酸根25℃≤μ≤μ≤μ≤μ≤μ≤μ≤μ≤个≤μTOC≤μ g/L≤个≤ g/L ≤μ g/L MΩg/L g/L g/L g/L g/L g/L g/L /ml g/L/ml*cmEW-I ≥ 18* 2 1 1 1 1 20≥1EW-II 10 0 0 1 2 2 1 5 1 1 1 100 **注* （ 95％时间不低于17）， ** （ 95％时间不低于13）中国国家电子级超纯水GB/－ 1997 标准指标级别EW－ⅠEW－ⅡEW－ⅢEW-Ⅳ18 以上，（95％时间）不低电阻率MΩ， cm(25℃ ) 15，（ 95％时间）不低于13于17全硅，最大值 , μ g/L 2 10 50 1000 ＞ 1μ m微粒数，最大值，个 /mL 5 10 500细菌个数，最大10 100 ，个 /mL铜，最大值，μ g/L 1 2 500 锌，最大值，μ g/L 1 5 500 镍，最大值，μ g/L 1 2 500 钠，最大值，μ g/L 2 5 1000 钾，最大值，μ g/L 2 5 500 氯，最大值，μ g/L 1 1 10 1000 硝酸根，最大值，μg/L 1 1 5 500 磷酸根，最大值，μg/L 1 1 5 500 硫酸根，最大值，μg/L 1 1 5 500总有机201002001000 ，最大值，μg/L电子级超纯水中国国家标准（GB/）>1μm微项目比电阻 MΩ.cm@25℃硅≤粒数 < 个细菌个数氧≤硝酸根≤磷酸根≤硫酸根总有机碳级别μg/L /ml < 个/ml 铜≤μ g/L 锌≤μ g/L 镍≤μ g/L 钠≤μ g/L 钾≤ g/L μg/L μg/L μg/L ≤μg/L ≤μg/L18（ 95%的时间不低于EW-Ⅰ 2 1 1 1 1 20 17）15（ 95%的时间不低于EW-Ⅱ10 5 1 1 1 2 2 1 1 1 1 100 13）。
半导体纯水规格
半导体纯水规格半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
半导体纯水规格通常包括以下方面：1. 电导率（或电阻率）：电导率是衡量水中离子导电能力的一个重要指标，电阻率则是电导率的倒数。
半导体工业中，超纯水的电导率通常要求在0.1μS/cm以下，甚至更低。
2. 总有机碳（TOC）：有机物是微生物和化学物质的来源，可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求总有机碳含量极低，一般在10ppb 以下。
3. 颗粒物：水中颗粒物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用过滤器等设备来去除水中的颗粒物。
一般要求超纯水中的颗粒物含量在1ppb 以下。
4. 金属离子：金属离子如铜、铁、锌等可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求金属离子含量极低，一般在1ppt以下。
5. 酸碱度：酸碱度是衡量水溶液酸碱性的指标。
半导体工业中，超纯水的酸碱度通常要求在pH 5-8之间。
6. 微生物：水中微生物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用紫外线消毒等设备来灭菌。
一般要求超纯水中的微生物含量在1个/ml以下。
7. 其他指标：除了上述主要指标外，半导体纯水规格还包括硅、氯离子、硫酸根等其他指标的要求。
具体指标可能会因不同的生产工艺和产品类型而有所不同。
总的来说，半导体纯水需要具备极高的纯度和洁净度，以保障半导体制造过程中的质量和稳定性。
工业纯水标准
工业纯水标准
工业纯水（industrial-purified water）是指经过一系列工艺处理后，去除了水中的杂质和有害物质，具有一定纯净度和稳定性的水。
工业纯水广泛应用于制药、化工、电子、食品等多个工业领域，对于保证产品质量和生产过程的稳定性非常重要。
工业纯水的标准可以根据不同行业和具体用途而有所差异，一般包括以下几个方面的指标：
1. 导电性：工业纯水的电导率应达到一定的低值，一般要求在5-20μS/cm之间。
2. 总溶解固体（TDS）：工业纯水的总溶解固体含量要尽可能低，一般要求小于100 mg/L。
3. 单位体积比容：工业纯水的比容应较小，一般要求小于1.1 mL/g。
4. PH值：工业纯水的pH值应接近中性（7），一般要求在6-
8之间。
5. 细菌总数：工业纯水的细菌总数应控制在一定范围内，一般要求小于100 cfu/mL。
此外，工业纯水在具体应用中还可能需要满足其他特定的要求，如病原微生物的清除、重金属和有机物的去除等。
需要注意的是，不同国家和地区对于工业纯水标准的要求可能会略有差异，企业在选择和使用工业纯水时，应参考相应的规定和标准。
超纯水标准范文
超纯水标准范文超纯水是指经过特殊处理和纯化过程得到的纯净水，其纯度和纯净度高于一般的纯水或蒸馏水。
超纯水广泛应用于科研实验、医药制造、电子工业等领域，对水的纯度有着极高的要求。
下面将详细介绍超纯水的标准及其制备过程。
超纯水的标准可以通过以下几个方面进行衡量：1.电导率（Conductivity）：超纯水的电导率一般在0.056 μS/cm以下。
电导率是衡量水中杂质含量的重要指标，电导率越低，说明水中杂质越少，纯度越高。
2.总溶解固体（TDS，Total Dissolved Solids）：超纯水的总溶解固体为 0.1 ppm以下。
总溶解固体表示水中所有溶解的无机盐和有机物的总含量，包括溶解的金属离子、无机盐、有机酸等。
3.采样时的细菌数：超纯水的细菌数应为1CFU/mL以下。
细菌数是评估水的纯度和卫生状况的重要指标，超纯水要求细菌含量极低，以及无法培养出细菌。
4.溶解氧（Dissolved Oxygen）：超纯水的溶解氧应当小于0.1 ppm。
溶解氧的含量也是衡量水的纯度和氧化性的重要指标。
超纯水的制备过程主要包括预处理、反渗透、离子交换以及深度过滤等步骤。
1.预处理：通过去除水中悬浮固体、泥沙、有机物和氯等，保护反渗透膜不受损坏。
常见的预处理方法有沉淀、过滤、颗粒活性炭吸附等。
2.反渗透（RO，Reverse Osmosis）：采用反渗透技术，将水经过半透膜的高压作用下，使水中的溶质和悬浮物滞留在一侧，纯水则通过半透膜透过，达到去除溶质和悬浮物的目的。
3.离子交换：采用强酸阳离子交换树脂和强碱阴离子交换树脂等，去除水中的离子和微量溶解固体，提高水的纯度。
离子交换树脂可以选择性地吸附和释放离子，有效去除水中的离子，同时还可以去除有机物和微生物。
4.深度过滤：通过精细过滤器进行深度过滤，去除微小的颗粒、细菌、病毒等微生物，达到更高的水纯化效果。
在实际应用中，超纯水的制备还可能包括其他附加工艺，如臭氧消毒、紫外线消毒等，以确保超纯水的纯净度和卫生状况。
工业超纯水机水质标准范围
工业超纯水机水质标准范围1.电导率：工业超纯水的电导率一般要求低于0.1μS/cm，甚至可以达到更低的水平。
电导率是用来反映水中溶解性物质含量的一个指标，电导率越低，表示水中溶质的含量越低，水质越纯净。
2.溶解氧：工业超纯水的溶解氧一般要求低于5ppb（parts per billion，即亿分之一）。
溶解氧是水中溶解的氧的含量，高溶解氧会对腐蚀和氧化产生不利影响，因此需要严格控制。
3.总有机碳（TOC）：工业超纯水的TOC一般要求低于1ppb。
TOC是水中的有机污染物含量的一个指标，工业超纯水的TOC要求非常低，需要采用特殊的处理方法，如UV氧化等。
4.微生物指标：工业超纯水的微生物指标一般要求低于10cfu/mL （colony forming unit per milliliter）。
微生物是可能引起水质污染的重要因素之一，超纯水需要通过滤芯等方法去除水中的微生物。
5.其他离子：工业超纯水还需要严格控制其他离子的含量，如钠离子、钾离子、钙离子、镁离子等。
这些离子的含量过高会影响水的质量，需要进行去除。
值得注意的是，不同行业对于工业超纯水的水质标准要求可能会有所不同。
一般来说，食品、医药、电子等行业对超纯水的要求更高，需要更低的电导率、TOC等指标。
而对于一些传统的重工业领域，对水质的要求可能相对更宽松一些。
综上所述，工业超纯水机的水质标准范围包括电导率、溶解氧、TOC、微生物指标等多个方面。
这些指标一般要求非常低，需要通过工业超纯水机的处理方法才能达到。
不同行业对水质标准要求可能会有所不同，但总体上超纯水的水质标准要求都非常严格。
超纯水及实验室用水标准
电阻率MΩ.CM.（25℃）
18(95‰时间)不低于17
15(95‰时间)不低于13
硅≤μg/L
2
10
＞1μm微粒数
0.1
5
细菌个数≤个/ml
0.01
0.1
铜≤μg/L
0.2
1
锌≤μg/L
0.2
1
镍≤μg/L
0.1
1
钠≤μg/L
0.5
2
钾≤μg/L
0.5
2
氯≤μg/L
1
1
硝酸根≤μg/L
<吸光度（254nm,1cm光程）≤
0.001
0.01
-
蒸发残渣（105±2℃），mg/L≤
-
1.0
2.0
可容性硅[以（sio2）计]，mg/L<
0.01
0.02
-
实用三个等级净化水的技术要求(GB6682)：
一级水：基本上不含有溶解或胶态离子杂质及有机物。它可用二级水经进一步处理而制得。
二级水：可含有微量的无机、有机或胶态杂质。
1
1
磷酸根≤μg/L
1
1
硫酸根≤μg/L
1
1
总有机碳≤μg/L
20
100
中国实验室用水国家标准GB6682-2000
PH值范围（25℃）
-
-
5.0-7.5
电导率（25℃）,mS/m ≤
0.01
0.10
0.50
比电阻（MΩ.cm.25℃）≥
10
1
0.2
可氧化物质[以（0）计]，mg/L
-
0.08
0.40
三级水：适用一般实验室实验工作。
工业超纯水机水质标准范围
工业超纯水机水质标准范围一、技术规范及水质范围1、工业超纯水机适用的水质范围工业超纯水机进水有特定要求，检查进水水质是否符合标准十分重要。
进水水质不符合标准将会导致膜元件的不可恢复性损害。
1：电导率：〈600US/CM2：硬度： 500mg/L4：色度：〈155：浊度：〈1NTU6：游离氯〈 0.1PPM7：SDI 〈 58：水温 5-45度二：运行参数：工作压力：1.0-1.5Mpa产水量：3T/h回收率：25%进水压力〉2Kg进水量〉8T/ h特别注意：因本设备为涉水产品，应防止冰冻，冰冻能造成设备不可回复的损害，所以设备间应配有取暖设施。
3：水处理工艺流程：增压泵石英机械过滤器活性碳过滤器树脂软化RO装置高压泵保安过滤4、产品功能以市政自来水为源水，经过太空1号RO-3000S型水处理设备处理后，出水水质符合卫生部法监发[2001]161号文件附件4C《生活饮用水水质处理器卫生安全与功能评价规范-反渗透处理器》出水水质要求。
三：安装指导1：设备尽量安装在干燥通风的地方，因为长期处于潮湿环境会造成电器设备和元件的损坏。
2：系统应置于便于操作者进入和维修的场地，四周应留有充足的空间。
3：选择安装地点时应尽量考虑前处理装置有较合适的位置，并符合这些工艺流程的摆放顺序。
4：前处理和主机按要求就位后，UPVC管道进行连接。
5：电器的安装工作必须要有合格的电器技术人员和工人进行，必须要用可靠的接地。
6：安装地点应保证夏夏季环境不高于40度，冬季高于4度。
否则会对设备造成不可恢复的损坏。
7：纯水收集地点(如纯水箱入口处)的高度不应高于设备纯水出口处5m，否则会对逆渗透产生背压，造成逆渗透不可恢复和损坏。
8：纯水出口连接中不可安装任何阻碍纯水流出的装置9：安装纯水连接管和浓水排放管的管径不应小于纯水出口和浓水的管径。
10：电器安装详见电路图。
四、操作方法：1;各种设备的连接和安装2：管道设备安装。
3：系统进水管道初级增压泵的联接方法，初级增压泵的进水口是一个25mm的接口，可以用镀锌管、UPVC塑料管或胶皮软管联接。
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序号
水质项目
一级高纯水指标
二级高纯水指标
1
电阻率（25°C）Mcm
>15
>10
2
电导率，卩s/cm
0.05
0.1
3
PH值
6.8〜7.2
6.6〜7.4
4
细菌总数，个/mL
V3
V9
5
微粒（直径〉0.5卩m，粒/mL）
V150
V300
6
二氧化硅
V10
V20
7
有机物（以COD计）
V0.3
V0.5
锌Zn2+
0.03
0.1
0.5
*
阴离子，卩g/L
0.1
0.1
0.3
*
溴Br-
0Cl-
0.05
0.2
0.8
*
亚硝酸根NO2-
0.05
0.1
0.3
*
硝酸根NO3-
0.1
0.1
0.5
*
磷酸根PO43-
0.2
0.2
0.3
*
硫酸根SO42-
0.05
0.3
1.0
*
*
我国电子工业部高纯水水质试行标准
8
钠Na
V0.5
V2
9
铁Fe
V1
V2
10
铜Cu
V0.5
V1
11
钙Ca
V1
V3
12
镁Mg
V0.2
V1
13
锌Zn
V0.5
V1
14
锰Mn
V0.2
V0.5
说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器件以及有相同要求到半导体器件产品
②二级高纯水适用于一般电路，分立器件以及有相同要求的半导体器件产品
③本表按
电子工业超纯水水质标准
美国半导体工业用纯水指标
化学指标单位：卩
项目
I级
H级
山级
W级
残渣，mg/L
0.1
0.3
0.3
0.5
TOC,mg/L
0.02
0.05
0.10
0.40
颗粒，粒/L
500
1000
2500
5000
细菌数，个100mL
0
6
10
50
活性硅SiO2，卩g/L
3
5
10
40
电阻率Mcm
18.3
17.9
17.5
17.0
阳离子，卩g/L
0.2
2.0
5.0
*
铝AI3+
0.2
2.0
5.0
*
铵NH4+
0.3
0.3
0.5
*
铬Cr6+
0.02
0.1
0.5
*
铁Fe3+
0.02
0.1
0.2
*
铜Cu2+
0.02
0.1
0.5
*
锰Mn2+
0.05
0.5
1.0
*
钾K+
0.1
0.3
1.0
4.0
钠Na+
0.05
0.2
1.0
5.0