溅射镀膜操作流程

JGP-560C双室磁控溅射沉积系统操作规范系统的气路图如图:

一、前期准备：

打开循环水（循环水能及时降温，主要是抽水泵能正常工作），打开墙上电源，打开总电源，打开控制电源

注：循环水的有效降温同样是维持实验条件稳定和实验参数进行的有力保障。其主要影响设备是抽水泵。所以在确定水箱充有足够水的前提下还要确保泵的正常工作。

二、抽真空：

1.开机械泵开关；

2.开旁抽阀V1（V7），开复合真空计，对溅射真空室（进样

室）进行抽真空（粗抽真空）；

3.当气压低于20 Pa时，关旁抽阀V1（V7）；

4.开电磁阀DF1（DF2），开闸板阀G2（G3），启动分子泵T1（T2）；

真空蒸发和离子溅射镀膜

实验一真空蒸发和离子溅射镀膜随着材料科学的发展，近年来薄膜材料作为其中的一个重要分支从过去体材料一统天下的局面中脱赢而出。如过去需要众多材料组合才能实现的功能，现在仅需数几个器件或一块集成电路板就能完成，薄膜技术正是实现器件和系统微型化的最有效的技术手段。薄膜技术还可以将各种不同的材料灵活的复合在一起，构成具有优异特性的复杂材料体系，发挥每种材料各自的优势，避免单一材料的局限性。薄膜的应用范围越来越宽，按其用途可分为光学薄膜、微电子学薄膜、光电子学薄膜、集成光学薄膜、信息存储薄膜、防护功能薄膜等。目前，薄膜材料在科学技术和社会经济各个领域发挥着越来越重要的作用。因此薄膜材料的制备和研究就显得非常重要。薄膜的制备方法可分为物理法、化学法和物理化学综合法三大类。物理法主要指物理气相沉积技术（Physical Vapor Deposition, 简称PVD）,即在真空条件下，采用各种物理方法将固态的镀膜材料转化为原子、分子或离子态的气相物质后再沉积于基体表面，从而形成固体薄膜的一类薄膜制备方法。物理气相沉积过程可概括为三个阶段： 1.从源材料中发射出粒子；2.粒子输运到基片；3.粒子在基片上凝结、成核、长大、成膜。由于粒子发射可以采用不同的方式，因而物理气相沉积技术呈现出各种不同形式，主要有真空蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜三种主要形式。在这三种PVD基本镀膜方法中，气相原子、分子和离子所产生的方式和具有的能量各不相同，由此衍生出种类繁多的薄膜制备技术。本实验主要介绍了真空蒸发和离子溅射两种镀膜技术。在薄膜生长过程中，膜的质量与真空度、基片温度、基片清洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等有关。在溅射薄膜的生长过程中，气体流量（压力）也会对形成的薄膜的性质产生影响。通过改变镀膜条件，即可得到性质炯异的薄膜材料。对制备的薄膜材料，可通过 X射线衍射、电子显微镜（扫描电镜、透射电镜等）、扫描探针（扫描隧道显微镜、原子力显微镜等）以及光电子能谱、红外光谱等技术来进行分析和表征，还可通过其它现代分析技术测试薄膜的各种相应特性等。【实验目的】 1?掌握溅射的基本概念，学习直流辉光放电的产生过程和原理； 2?掌握几种主要溅射镀膜法基本原理及其特点，掌握真空镀膜原理； 3.掌握真空镀膜和溅射镀膜的基本方法； 4?熟悉金属和玻璃片的一般清洗技术，学习薄膜厚度的测量方法； 5.了解真空度、基片温度、基片清洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等因素，在薄膜生长过程中对形成薄膜性质的影响。【实验原理】一真空蒸发镀膜原理任何物质在一定温度下，总有一些分子从凝聚态（固态，液态）变成为气态离开物质表面，但固体在常温常压下，这种蒸发量是极微小的。如果将固体材料置于真空中加热至此材料蒸发温度时，在气化热作用下材料的分子或原子具有足够的热震动能量去克服固体表面原子间的吸引力，并以一定速度逸出变成气态分子或原子向四周迅速蒸发散射。当真空度高，分子平均自由程—远大于蒸发器到被镀物的距离d时（一般要求2~ 3 d ）,材料的蒸气分子在散射途中才能无阻当地直线达到被镀物和真空室表面。在化学吸附（化学键力引起的吸附）和物理吸附（靠分子间范德瓦尔斯力产生的吸附）作用下，蒸气分子就吸附在基片

磁控溅射镀膜原理和工艺设计

磁控溅射镀膜原理及工艺摘要：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射镀膜的原理及相应工艺的研究。关键词：溅射；溅射变量；工作气压；沉积率。绪论溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用二极溅射设备如右图。通常将欲沉积的材料制成板材-靶，固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶一定距离。系统抽至高真空后充入（10～1）帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，其能量在1至几十电子伏范围内。溅射原子在基片表面沉积成膜。其中磁控溅射可以被认为是镀膜技术中最突出的成就之一。它以溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点，成为镀膜工业应用领域(特别是建筑镀膜玻璃、透明导电膜玻璃、柔性基材卷绕镀等对大面积的均匀性有特别苛刻要求的连续镀膜场合)的首选方案。 1磁控溅射原理溅射属于PDV（物理气相沉积）三种基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）中的一种。磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区

真空镀膜机安全操作规程

真空镀膜机安全操作规程一．开机前作到： 1.检查工作环境清洁、干净。 2.检查电线无破损，接地牢固。 3.检查真空室、镀膜转架及工位器具清洁、无油污。 4.机械泵、罗茨泵油位过半。 5.检查四只阀加注满3#真空脂，真空室转轴加注满3#真空脂。 6.罗茨泵转轴处油杯加满机械泵油。 7.准备相关工位器具，适量J-7钨丝、ABOO型99.99％的铝丝。 8.接通水、气、电，气压0.5-0.6Mpa，水压0.3-0.4Mpa。二．操作要点： 1.通电，开启机械泵，3分钟后开启阀3，开扩散泵，预热1-1.5小时。 2.镀膜转架装夹产品、铝丝、钨丝，转架进烘箱预热（温度、时间符合工艺）。 3.开阀4，开启真空室，转架进真空室，卡销定位，试转动平稳无异常振动。 4.关闭真空室，关阀4，关阀3，开阀2，开始抽气，开启复合真空计。 5.当真空度达至-0.1Mpa时，开启罗茨泵。

6.当真空度达到1-1.5Pa（52-64格）时，关阀2，开阀3，开阀1。 7.当真空度达到2×10-2Pa时，开启转动（转速符合工艺），分二次进行蒸镀（电压、时间符合工艺），蒸镀结束关复合真空计。 8.停止蒸镀0.5-1分钟后关转动，关阀1，关罗茨泵。 9.开阀4，开真空室，拉出镀膜转架，取下成品，换装待镀产品，装上铝丝，进行下次工作。 10.严守开关阀、泵的顺序步骤，防止损坏设备。 11.生产中注意产品安装到位牢固。 12.注意转架电极、紧固件是否松脱，及时加固补全。 13.及时更换断裂、积球、老化的钨丝。三．关机及保养： 1.拉出转架后，关扩散泵，冷却1-1.5小时，后关阀3，关机械泵。 2.关整机电源，关冷却水、关高压空气。 3.每星期检查清洁镀膜转架工装。 4.每三个月检查更换机械泵油。 5.每六个月检查更换罗茨泵油、扩散泵油。制定：王思忠审批：时间：2002.09.10 时间：

真空镀膜 2

得分教师签名批改日期深圳大学实验报告课程名称：近代物理实验实验名称：真空镀膜学院：物理科学与技术学院组号指导教师：报告人：学号：实验地点实验时间实验报告提交时间：

一．实验目的 1．、直接地接触薄膜材料，对薄膜材料有一个直观的感性认识； 2．了解和学会直流磁控溅射制备金属薄膜的原理和方法； 3．了解清洗基片和测量薄膜膜厚的方法。二．实验仪器直流磁控溅射镀膜机；气体质量流量计；数显复合真空计；超声波清洗器；石英晶体振荡膜厚监控仪；氩气；K9玻璃基片等。三．实验原理一、真空的获得和测量 1．真空的获得各级真空，均可通过各种真空泵来获得．不同的真空泵，都不可能在整个真空范围内工作，有些泵可直接从大气压下开始工作，但极限真空度都不高，如机械泵和吸附泵，通常这类泵用作前级泵；而有些泵则只能在一定的预备真空条件下才能开始正常工作，如扩散泵、离子泵等，这类泵需要前级泵配合，可作为高真空泵．一般利用分子泵－机械泵组来获得10-2Pa以上的高真空。本实验真空系统的主泵选分子/增压泵，前级泵选用直联高速旋片式机械泵。（1）机械泵: 获得低真空常用的方法是采用机械泵．机械泵是运用机械方法不断地改变泵内吸气空腔的容积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空的泵．机械泵的种类很多，目前常用的是旋片式机械泵．机械泵可以从大气压开始工作，常被用来获得高真空泵的前缀真空和高真空系统的预备真空。通常，机械泵的极限压强为1×10-1 Pa．（2) 分子/增压泵：最早用来获得高真空的泵是扩散泵，目前依然广泛使用． 2.．真空的测量测量真空度的装置称为真空计或真空规．由于被测量的真空度范围很广，真空计的种类很多．根据气体产生的压强、气体的粘滞性、动量转换率、热导率、电离等原理制成了各种真空计．本实验选用数显复合真空计来测量镀膜室内的真空度，测量范围：1×105Pa～1×10-4Pa。二、基片的清洗方法基片上的污染物会影响在它上面形成的薄膜的性质。对于玻璃基片，清洗的方法有若干种：1.用化学溶剂等清洗的方法如果玻璃表面的污染物质是一般的油类时，也经常用化学溶剂来把油脂溶解掉。最标准的化学溶剂是罗铬酸和硫酸混合液（把重铬酸溶解于浓硫酸使之达到饱和的溶液在室温用几个小时，若是接近沸腾状态的溶液只要用几分钟，就能把严重的污染清洗干净，但是，一般因玻璃种类而异，大多数光学玻璃手酸或碱侵蚀时，在玻璃表面就会产生由二氧化硅骨架形成的所谓腐蚀斑痕。而且由于这种混合液含有铬离子，故废液的处理很麻烦，因此，最近，大多采用处理半导体的强碱溶液。在玻璃污染不是很严重的时候，依次浸入丙酮、酒精、流水的方法也是有效的。使用化学溶剂时，最后玻璃要用流水进行充分的冲洗，并且随后从沸水或者沸腾的酒精中取出来，迅速进行干燥，等等。这些都是有效的措施。 2、超声波清洗若使超声波在液体中传播，则在液体中就会产生空穴又产生又消失的现象（气穴效应），这是空穴内的压力，瞬时局部地升高，如果作用到放在液体中的固体表面，就产生局部升温和局部高速流动，结果就将固体表面洗净。这就是超声波清洗的原理。该方法对于除去油脂

真空镀铝机安全操作规程详细版

文件编号：GD/FS-9694 （操作规程范本系列）真空镀铝机安全操作规程详细版 The Daily Operation Mode, It Includes All The Implementation Items, And Acts To Regulate Individual Actions, Regulate Or Limit All Their Behaviors, And Finally Simplify Management Process. 编辑：_________________ 单位：_________________ 日期：_________________

真空镀铝机安全操作规程详细版提示语：本操作规程文件适合使用于日常的规则或运作模式中，包含所有的执行事项，并作用于规范个体行动，规范或限制其所有行为，最终实现简化管理过程，提高管理效率。，文档所展示内容即为所得，可在下载完成后直接进行编辑。 1 目的：为了减少直至消除违章操作造成的工伤安全事故，为了减少直至消除违章或不规范操作对设备造成的损害，特制定本文件，为操作镀铝机提供正确指引。 2 范围：适用于本公司钟南街厂区所有镀铝机。 3 职责： 3.1 机长和辅助：执行本文件规定项目和内容。 3.2 主管：监督当班人员按本文件规定执行，负责日常巡查和纠正违章操作。 3.3 设备管理部：负责全厂区范围内巡回检查，

发现和取证各车间违章操作行为。 4 操作具体要求： 4.1工作准备按本设备使用说明的各项要求，检查设备的供电、供水、供气、油位等各部分状态是否正常，保证三相电压＞370V,保证油水分离器处的气压＞ 0.55Mpa、冷却水进水压力＞0.2Mpa（LDL5的水压≥0.15 Mpa），＜0.3 Mpa,确保其通畅、可靠和安全。［备注：交接班时，关闭V2、V6 V1、V5后开启滑阀泵、打开气镇阀进行气镇半小时再关闭气镇阀（也可以在关闭V1、V5而且真空度≤90Pa（9×103）的情况下进行），并经常排放滑阀泵内的冷凝水,1-7月排放1次/3小时间;7-12月排放1次/5小时。 4.2 镀膜准备工作

真空镀膜操作规程

真空镀膜操作规程准备： 1、开启设备总电源，稳压器，确认三相供电电压正常：370— 440V； 2、开启电容补偿器； 3、确认水池冷却水水量充足（见浮标尺）打开循环水泵； 4、根据工艺要求，确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷水机；启动前应确认冷水机入口水压-3kg ，内部增压泵旋转正常，可采用自动或手动方式启动； 5、确认各部分冷却水循环系统完好，确认扩散泵循环水工作正常，紧急冷却系统准备就绪； 6、确认工艺气体气压不低于20 个大气压 7、装基膜： A 、领膜：镀膜工按生产任务单要求，从净化室中领到基膜时，应立即检查该膜是否合格，有无花纹、斑点、划伤、污迹，收卷是否整齐等直接观测到的问题，如有应立即向生产主管报告，以决定是否采用； B、装轴：操作时必须带手套，将合格的基膜放在专用膜托架上，取一对尺寸相同的轴安装好，安装时请注意膜的正反面，确认一切准备就绪了，即可吊装。吊装时必须轻拿轻放，严禁碰撞，必须保持基膜水平，以免膜打滑引起螺纹状； C、装膜：确认冷辊无冷凝水后，即可装膜，装膜时不要对着膜讲话，

以保持膜面干净。注意不要碰透过率分析仪的探头，装膜时应保证膜在冷辊的中心； D、按任务书车速要求设置镀膜速度、张力； E、试卷：引膜完成后，手动预卷几圈，打开张力控制器，启动冷辊、收卷、卷膜（其中ITO膜卷1 —2m,前档膜和建筑膜卷20m ）。仔细观察膜是否走正，启动是否容易，冷辊是否与膜同步，走速是否平稳，膜是否变形、起皱、划伤等等，并及时处置，最后用记号笔在放料端画起始标志线； 8、按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正确，靶材量充足，确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上，关闭真空室；抽真空 1、扩散泵预加热（约需40 分钟）：启动维持泵，确认运转正常后，打开维持阀（灯亮），逐一打开扩散泵； 2、低抽：确认真空室门已关闭启动计算机，进入镀膜系统监控程序，充气阀关闭，启动机械泵（ 1 、2），确认机械泵正常运行后，开预抽阀，五分钟后打开复合真空计，打开罗茨泵开关，（当真空达到1500Pa 时，罗茨泵允许信号灯（红灯）亮，再延迟25 秒后，罗茨泵自动启动）；

磁控溅射镀膜简介

磁控溅射镀膜简介溅射薄膜靶材按其不同的功能和应用可大致分为机械功能膜相物理功能膜两大类。前者包括耐摩、减摩、耐热、抗蚀等表面强化薄膜材料、固体润滑薄膜材料, 后者包括电、磁、声、光等功能薄膜材料靶材等, 具体应用在玻璃涂层(各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜), 工艺品装饰镀膜, 高速钢刀具镀膜, 切削刀具镀膜, 太阳能反光材料镀膜, 光电、半导体、光磁储存媒体、被动组件、平面显示器、微机电、光学组件、及各类机械耐磨、润滑、生物医学, 各种新型功能镀膜(如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、碳膜、铁磁膜和磁性薄膜等) 采用Cr，Cr-CrN等合金靶材或镶嵌靶材，在N2,CH4等气氛中进行反应溅射镀膜，可以在各种工件上镀Cr,CrC,CrN等镀层。纯Cr的显微硬度为425～840HV，CrN为1000～350OHV，不仅硬度高且摩擦系数小，可代替水溶液电镀铬。电镀会使钢发生氢脆、速率慢，而且会产生环境污染问题。用TiN，TiC等超硬镀层涂覆刀具、模具等表面，摩擦系数小，化学稳定性好，具有优良的耐热、耐磨、抗氧化、耐冲击等性能，既可以提高刀具、模具等的工作特性，又可以提高使用寿命，一般可使刀具寿命提高3～10倍。 TiN，TiC，Al2O3等膜层化学性能稳定，在许多介质中具有良好的耐蚀性，可以作为基体材料保护膜。溅射镀膜法和液体急冷法都能制取非晶态合金，其成分几乎相同，腐蚀特性和电化学特性也没有什么差别，只是溅射法得到的非晶态膜阳极电流和氧化速率略大。

在高温、低温、超高真空、射线辐照等特殊条件下工作的机械部件不能用润滑油，只有用软金属或层状物质等固体润滑剂。常用的固体润滑剂有软金属(Au,Ag,Pb,Sn等)，层状物质(MoS2，WS2，石墨，CaF2，云母等)，高分子材料(尼龙、聚四氟乙烯等)等。其中溅射法制取MoS2膜及聚四氟乙烯膜十分有效。虽然MoS2膜可用化学反应镀膜法制作，但是溅射镀膜法得到的MoS2膜致密性好，附着性优良。MoS2溅射膜的摩擦系数很低，在0.02～0.05范围内。MoS2在实际应用时有两个问题:一是对有些基体材料如Ag,Cu,Be等目前还不能涂覆;二是随湿度增加，MoS2膜的附着性变差。在大气中使用要添加Sb2O3等防氧化剂，以便在MoS2表面形成一种保护膜。溅射法可以制取聚四氟乙烯膜。试验表明，这种高分子材料薄膜的润滑特性不受环境湿度的影响，可长期在大气环境中使用，是一种很有发展前途的固体润滑剂。其使用温度上限为5OoC，低于-260oC时才失去润滑性。 MoS2、聚四氟乙烯等溅射膜，在长时间放置后性能变化不大，这对长时间备用、突然使用又要求可靠的设备如防震、报警、防火、保险装置等是较为理想的固体润滑剂。内容来源：宝钢代理商https://www.360docs.net/doc/2619279796.html, 欢迎多多交流！！！

真空镀膜工艺流程

5、面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；B、为水染着色提供可能。SZ-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色,视客户要求,可选用911、911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。 6、面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄,故烘干温度较低,约50-60oC,时间约1~2小时,用户可根据实际情况灵活把握，最终应保证面涂层彻底干燥。如果镀件不需着色,则工序进行到此已经结束。 7、水染着色：如果镀件需要进行水染着色,则可将面漆已经烘干的镀件放进染缸里,染上所需颜色,之后冲洗晾干即可。染色时要注意控制水的温度,通常在 60~80oC左右,同时应控制好水染的时间。水染着色的缺点是容易褪色,但成本较低。 8、油染着色：若镀件需进行油染着色,则镀膜后视客户要求,直接用SZ-哑光色油、SZ-透明色油浸涂或喷涂,干燥后即可。油染的色泽经久不褪,成本较水染略高。

真空镀膜操作规程

真空镀膜操作规程准备：开启设备总电源，稳压器，确认三相供电电压正常：370—440V；开启电容补偿器；确认水池冷却水水量充足（见浮标尺）打开循环水泵；根据工艺要求，确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷水机；启动前应确认冷水机入口水压-3kg，内部增压泵旋转正常，可采用自动或手动方式启动；确认各部分冷却水循环系统完好，确认扩散泵循环水工作正常，紧急冷却系统准备就绪；确认工艺气体气压不低于20个大气压装基膜：领膜：镀膜工按生产任务单要求，从净化室中领到基膜时，应立即检查该膜是否合格，有无花纹、斑点、划伤、污迹，收卷是否整齐等直接观测到的问题，如有应立即向生产主管报告，以决定是否采用；装轴：操作时必须带手套，将合格的基膜放在专用膜托架上，取一对尺寸相同的轴安装好，安装时请注意膜的正反面，确认一切准备就绪了，即可吊装。吊装时必须轻拿轻放，严禁碰撞，必须保持基膜水平，以免膜打滑引起螺纹状；

装膜：确认冷辊无冷凝水后，即可装膜，装膜时不要对着膜讲话，以保持膜面干净。注意不要碰透过率分析仪的探头，装膜时应保证膜在冷辊的中心；按任务书车速要求设置镀膜速度、张力；试卷：引膜完成后，手动预卷几圈，打开张力控制器，启动冷辊、收卷、卷膜（其中ITO膜卷1—2m，前档膜和建筑膜卷20m）。仔细观察膜是否走正，启动是否容易，冷辊是否与膜同步，走速是否平稳，膜是否变形、起皱、划伤等等，并及时处置，最后用记号笔在放料端画起始标志线；按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正确，靶材量充足，确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上，关闭真空室；抽真空扩散泵预加热（约需40分钟）：启动维持泵，确认运转正常后，打开维持阀（灯亮），逐一打开扩散泵；低抽：确认真空室门已关闭启动计算机，进入镀膜系统监控程序，充气阀关闭，启动机械泵（1、2），确认机械泵正常运行后，开预抽阀，五分钟后打开复合真空计，打开罗茨泵开关，。（当真空达到1500Pa时，罗茨泵允许信号灯（红灯）亮，再延迟25秒后，罗茨泵自动启动）；高抽：当罗茨泵启动五分钟后，打开热偶真空计，当真空度达到5Pa时，开高阀允许信号灯（红灯）亮，此时确认扩散泵预热已完成（加热40分钟或油窗油面达到规定位置情况下），关闭预抽阀，依次打开各前级阀，关维持阀、关维持泵。依次打开各路

真空镀膜工艺流程

真空镀膜工艺流程-标准化文件发布号：（9456-EUATWK-MWUB-WUNN-INNUL-DDQTY-KII

真空镀膜工艺流程一、真空镀膜的工艺流程大致可用以下的方框图表示：二、具体说明如下： 1、表面处理：通常,镀膜之前,应对基材（镀件）进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE（聚乙烯）料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。 2、底涂：底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。采用喷涂方法,可采用SZ-97T镀膜油；采用浸涂方法,可采用SZ-97、SZ-97+1等油,具体应视镀件材料而定。 3、底涂烘干：SZ-97镀膜油系列均为自干型漆，烘干的目的是为了提高生产效率。通常烘干的温度为60-70oC,时间约2小时。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。 4、镀膜：镀膜时,应保证镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加热时间。同时,应掌握好镀膜用金属（如铝线)的量,太少可能导致金属膜遮盖不住底材,太多则除了浪费外,还会影响钨丝寿命和镀膜质量。 5、面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；B、为水染着色提供可能。SZ-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色,视客户要求,可选用911、911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。 6、面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄,故烘干温度较低,约50-60oC,时间约1~2小时,用户可根据实际情况灵活把握，最终应保证面涂层彻底干燥。如果镀件不需着色,则工序进行到此已经结束。 7、水染着色：如果镀件需要进行水染着色,则可将面漆已经烘干的镀件放进染缸里,染上所需颜色,之后冲洗晾干即可。染色时要注意控制水的温度,通常在 60~80oC左右,同时应控制好水染的时间。水染着色的缺点是容易褪色,但成本较低。

真空蒸镀操作流程

真空蒸镀实验操作步骤： 1.先打开循环水的总开关，再打开循环水开关，转180度，待10秒钟后循环水流稳定后再转15～10度，在实验过程中，要时常检查循环水是否工作正常，观察出水口是否有水流出。 2.打开总电源开关，在真空操作单元界面把旋钮由停旋至充气，待充气完毕后，升真空罩，同时一手扶着真空罩一手抓紧旋钮。 3.将蒸发源安装在电极上，取出衬底托，将衬底安放在衬底托上，当好挡板，在此过程中，切忌碰撞到石英振荡器。 4.检验石英振荡器是否正常，观察膜厚仪表上对应的绿色指示灯是否亮着，亮即表示振荡器正常。把调压器界面的旋钮由关旋至蒸发1，调节蒸发电流，看电流表的示数是否显示正常。 5.将旋钮调至机械泵—分子泵档，打开热偶规至V2测量档，开启机械泵，拉出低阀，间隔2分钟左右，推进低阀，如此反复两三次，待热偶规表示数达到10Pa时，推进低阀，打开高阀，打开分子泵电源，开启分子泵，待分子泵的指示灯由加速显示为正常时，同时热偶规示数为0.1Pa时，打开灯丝（打开灯丝之前旋钮在10-1档），当电离规仪表示数小于1时，调节量程旋钮至10-2档，当电离规仪表示数小于1时，调节量程旋钮至10-3档，待示数在6以下时，将量程旋钮重新调至10-1档，然后关灯丝。 6.把调压器界面的旋钮由关调至蒸发1档，25A时停25～30秒，缓慢地调节增加电流。

7.待蒸发完毕后，将调压器电流控制按钮缓慢旋至0，关闭蒸发电源，关闭膜厚仪，关高阀，停止分子泵（15分钟后），关闭分子泵电源，拉开低阀，关热偶规，对真空罩充气，打开真空罩，取出样品，盖上真空罩，开启机械泵对真空罩抽气，约5分钟后，将低阀推入，十分钟后，拉出低阀，停止机械泵，切断总电源，关闭循环水。

真空蒸发和离子溅射镀膜

实验一真空蒸发和离子溅射镀膜随着材料科学的发展，近年来薄膜材料作为其中的一个重要分支从过去体材料一统天下的局面中脱赢而出。如过去需要众多材料组合才能实现的功能，现在仅需数几个器件或一块集成电路板就能完成，薄膜技术正是实现器件和系统微型化的最有效的技术手段。薄膜技术还可以将各种不同的材料灵活的复合在一起，构成具有优异特性的复杂材料体系，发挥每种材料各自的优势，避免单一材料的局限性。薄膜的应用围越来越宽，按其用途可分为光学薄膜、微电子学薄膜、光电子学薄膜、集成光学薄膜、信息存储薄膜、防护功能薄膜等。目前，薄膜材料在科学技术和社会经济各个领域发挥着越来越重要的作用。因此薄膜材料的制备和研究就显得非常重要。薄膜的制备方法可分为物理法、化学法和物理化学综合法三大类。物理法主要指物理气相沉积技术(Physical Vapor Deposition,简称PVD)，即在真空条件下，采用各种物理方法将固态的镀膜材料转化为原子、分子或离子态的气相物质后再沉积于基体表面，从而形成固体薄膜的一类薄膜制备方法。物理气相沉积过程可概括为三个阶段：1.从源材料中发射出粒子；2.粒子输运到基片；3.粒子在基片上凝结、成核、长大、成膜。由于粒子发射可以采用不同的方式，因而物理气相沉积技术呈现出各种不同形式，主要有真空蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜三种主要形式。在这三种PVD 基本镀膜方法中，气相原子、分子和离子所产生的方式和具有的能量各不相同，由此衍生出种类繁多的薄膜制备技术。本实验主要介绍了真空蒸发和离子溅射两种镀膜技术。在薄膜生长过程中，膜的质量与真空度、基片温度、基片清洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等有关。在溅射薄膜的生长过程中，气体流量（压力）也会对形成的薄膜的性质产生影响。通过改变镀膜条件，即可得到性质炯异的薄膜材料。对制备的薄膜材料，可通过X 射线衍射、电子显微镜（扫描电镜、透射电镜等）、扫描探针（扫描隧道显微镜、原子力显微镜等）以及光电子能谱、红外光谱等技术来进行分析和表征，还可通过其它现代分析技术测试薄膜的各种相应特性等。【实验目的】 1．掌握溅射的基本概念，学习直流辉光放电的产生过程和原理； 2．掌握几种主要溅射镀膜法基本原理及其特点，掌握真空镀膜原理； 3．掌握真空镀膜和溅射镀膜的基本方法； 4．熟悉金属和玻璃片的一般清洗技术，学习薄膜厚度的测量方法； 5．了解真空度、基片温度、基片清洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等因素，在薄膜生长过程中对形成薄膜性质的影响。【实验原理】一真空蒸发镀膜原理任何物质在一定温度下，总有一些分子从凝聚态（固态，液态）变成为气态离开物质表面，但固体在常温常压下，这种蒸发量是极微小的。如果将固体材料置于真空中加热至此材料蒸发温度时，在气化热作用下材料的分子或原子具有足够的热震动能量去克服固体表面原子间的吸引力，并以一定速度逸出变成气态分子或原子向四周迅速蒸发散射。当真空度高，分子平均自由程λ远大于蒸发器到被镀物的距离d 时（一般要求()d 3~2λ=），材料的蒸气分子在散射途中才能无阻当地直线达到被镀物和真空室表面。在化学吸附（化学键力引起

真空镀膜实验操作步骤

真空镀膜本实验应用真空蒸发的方法：即在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上来获得一质量优良的金属膜。 ●真空镀膜机真空镀膜机结构图 ●蒸发系统

蒸发系统蒸发源蒸发源的形状如下图，大致有螺旋式(a)、篮式(b)、发叉式(c)和浅舟式(d)等。蒸发源

真空蒸发实验的具体操作步骤： 1. 检查真空镀膜机及复合真空计上各开关，并它们全部置在“关”的位置（特别是复合真空计上的规管电源一定要置在“关”的位置）； 2. 接通真空镀膜机总电源，再把钟罩操作旋钮拨至“钟罩升”，等钟罩升至适当位置后拨至“关”； 3. 把制作薄膜的铝材处理后放置在蒸发源的适当位置，再用挡板挡住蒸发源；把经清洗、干燥处理后的玻璃片放置在工作架的适当位置；然后把钟罩操作旋钮拨至“钟罩降”使钟罩降至最低位置后拨至“关”； 4. 接通复合真空计电源，校准“测量2”的加热电流为98 mA，然后旋钮旋到“测量2”； 5. 接通真空镀膜机冷却水源，再接通真空镀膜机的“机械泵及扩散泵”电源，“拉”低阀，用“测量2”监测钟罩内的气压变化，记录相应的P（t）～t 曲线，直到钟罩内的气压值下降为5Pa后，“推”低阀，改用“测量1”监测系统内的气压变化（确认“测量1”的加热电流为98 mA），直到系统内的气压值为5Pa时，“开”高阀； 6. 再次采用“测量2”监测钟罩内的气压变化，记录相应的P（t）～t 曲线，直到钟罩内的气压值为0.1Pa后，接通复合真空计上的规管电源，启用电离规管对钟罩内的气压变化进行监测并记录相应的P（t）～t 曲线，直到钟罩内的气压值下降为0.015Pa 以下； 7. 用电源插销接通所选用的蒸发源“电极”，再接通“烘烤、蒸发”电源，调节其电流强度为30 A并维持约1分钟，移开挡板，继续增大电流至45A并维持30秒，然后把电流强度调节为零，同时关闭复合真空计上的规管电源！！！ 8. 在进行抽气10分钟后，“关”高阀，“机械泵及扩散泵”改接为“机械泵”； 9. 机械泵继续开动，水源不关，开风扇吹扩散泵……30分钟后接通“充气阀”对钟罩内“充气”，待充气完成后升钟罩，取出镀膜片； 10. 再经半小时后关机械泵、水源及总电源。

磁控溅射和电弧离子镀技术和应用介绍

薄膜/涂层制备技术 (磁控溅射和电弧离子镀)及应用
雷浩

薄膜/涂层的概念与特点
概念：薄膜/涂层是一类用特殊方法获得的，依靠基体支撑并具有与基体不同的结构和性能的二维材料。薄膜(Films)：厚度 < 1m,如光电功能薄膜等；涂层(Coatings)：厚度 ≥ 1m,如硬质涂层、防护涂层等。
薄膜/涂层特征： 1）厚度（纳米，微米，毫米） 2）有基体支撑（不是单独存在的） 3）特殊的结构和性能（与块体材料相区别） 4）特殊的形成方式

薄膜/涂层的概念与特点与分类
应用：光学薄膜、微电子薄膜、光电子学薄膜、集成电路薄膜、防护功能薄膜。
? 种类：
（1）以材料种类划分：金属、合金、陶瓷、半导体、化合物、高分子薄膜等。（2）以晶体结构划分：单晶、多晶、纳米晶、非晶（3）以厚度划分：纳米薄膜，微米薄膜和厚膜。（4）以薄膜组成结构划分：多层薄膜，梯度薄膜，复合薄膜。

薄膜/涂层的种类及应用
? 电子工业：电极、电阻膜、电介质膜、绝缘膜、透明导电膜、超导膜等。
? 光学工业：荧光膜、反射膜、增透膜、干涉膜等。
? 机械工业：硬化膜、耐热膜、耐腐蚀膜等。 ? 能源工业：聚热膜、防反射膜、透射膜等。 ? 传感器：热敏、气敏、压敏、氧气传感器、红
外线传感器等。 ? 其它：装饰膜等。

薄膜和涂层的制备方法
湿式成膜干式成膜
电镀化学镀微弧氧化溶胶-凝胶膜
涂敷法（喷涂、甩胶、浸涂）
热浸渗（化学热处理）、热扩散法电阻热蒸发
物理气相沉积（PVD）
真空蒸发镀溅射沉积
电子束蒸发激光蒸发
电弧离子镀
化学气相沉积（CVD）
等离子体增强CVD(PECVD) 辉光CVD，热丝CVD

真空镀膜岗位安全操作规程(新版)

真空镀膜岗位安全操作规程 (新版) The safety operation procedure is a very detailed operation description of the work content in the form of work flow, and each action is described in words. ( 安全管理 ) 单位：______________________ 姓名：______________________ 日期：______________________ 编号：AQ-SN-0808

真空镀膜岗位安全操作规程(新版) 1、员工着穿整洁，袖口扣紧（佩戴袖套），上衣下摆不能敞开，不得穿拖鞋、高跟鞋。 2、检查电路各控制开关能否正常断开闭合，电压指示380±20V。 3、检查各螺钉处连接是否牢固，电控柜、主机的连接线有无松脱现象、接地是否良好；所有电器的开关置在零或者“关”的位置上。 4、检查镀膜机室内不锈钢挡板的插销是否牢固，角部有无弯曲翘曲等变形情况。 5、检查水压、气压是否正常；水、油、气是否有漏滴现象。 6、设备中途停水时，应立即关闭扩散泵、粗抽泵、罗茨泵，让维持泵继续运行。 7、设备中途停气时，应立即关闭扩散泵、粗抽泵、罗茨泵，让

维持泵继续运行。 8、设备中途停电时，应立即关总电源，后关扩散泵、粗抽泵、维持泵。 9、扩散泵加热时，避免人身体接触扩散泵加热炉、以免烫伤。 10、工件旋转时，禁止一切作业；应待工件完全停止转动后，才可进行上下滚筒作业。 11、镀膜作业完成后，需要打开门时，应有作业人员扶住拉手，缓慢的将门打开，并将插销插入固定孔中。 12、操作人员必须严格按设备操作指导书和安全操作规程进行作业，注意设备本身及设备运行中的安全，特别要重视安全装置的检查与使用。 XXX图文设计本文档文字均可以自由修改

真空镀膜操作规程精选文档

真空镀膜操作规程精选文档 TTMS system office room 【TTMS16H-TTMS2A-TTMS8Q8-

真空镀膜操作规程一、准备： 1、开启设备总电源，稳压器，确认三相供电电压正常：370—440V； 2、开启电容补偿器； 3、确认水池冷却水水量充足（见浮标尺）打开循环水泵； 4、根据工艺要求，确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷水机；启动前应确认冷水机入口水压-3kg，内部增压泵旋转正常，可采用自动或手动方式启动； 5、确认各部分冷却水循环系统完好，确认扩散泵循环水工作正常，紧急冷却系统准备就绪； 6、确认工艺气体气压不低于20个大气压 7、装基膜： A、领膜：镀膜工按生产任务单要求，从净化室中领到基膜时，应立即检查该膜是否合格，有无花纹、斑点、划伤、污迹，收卷是否整齐等直接观测到的问题，如有应立即向生产主管报告，以决定是否采用；

B、装轴：操作时必须带手套，将合格的基膜放在专用膜托架上，取一对尺寸相同的轴安装好，安装时请注意膜的正反面，确认一切准备就绪了，即可吊装。吊装时必须轻拿轻放，严禁碰撞，必须保持基膜水平，以免膜打滑引起螺纹状； C、装膜：确认冷辊无冷凝水后，即可装膜，装膜时不要对着膜讲话，以保持膜面干净。注意不要碰透过率分析仪的探头，装膜时应保证膜在冷辊的中心； D、按任务书车速要求设置镀膜速度、张力； E、试卷：引膜完成后，手动预卷几圈，打开张力控制器，启动冷辊、收卷、卷膜（其中ITO膜卷1—2m，前档膜和建筑膜卷20m）。仔细观察膜是否走正，启动是否容易，冷辊是否与膜同步，走速是否平稳，膜是否变形、起皱、划伤等等，并及时处置，最后用记号笔在放料端画起始标志线； 8、按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正确，靶材量充足，确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上，关闭真空室；二、抽真空 1、扩散泵预加热（约需40分钟）：启动维持泵，确认运转正常后，打开维持阀（灯亮），逐一打开扩散泵；

溅射镀膜技术

溅射镀膜技术薄膜是一种特殊的物质形态，由于其在厚度这一特定方向上尺寸很小，只是微观可测的量，而且在厚度方向上由于表面、界面的存在，使物质连续性发生中断，由此使得薄膜材料产生了与块状材料不同的独特性能。薄膜的制备方法很多，如气相生长法、液相生长法(或气、液相外延法)、氧化法、扩散与涂布法、电镀法等等，而每一种制膜方法中又可分为若干种方法。薄膜技术涉及的范围很广，它包括以物理气相沉积和化学气相沉积为代表的成膜技术，以离子束刻蚀为代表的微细加工技术，成膜、刻蚀过程的监控技术，薄膜分析、评价与检测技术等等。现在薄膜技术在电子元器件、集成光学、电子技术、红外技术、激光技术以及航天技术和光学仪器等各个领域都得到了广泛的应用，它们不仅成为一间独立的应用技术，而且成为材料表面改性和提高某些工艺水平的重要手段。溅射是薄膜淀积到基板上的主要方法。溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。一．溅射工艺原理溅射镀膜有两类：离子束溅射和气体放电溅射 1. 离子束溅射：在真空室中，利用离子束轰击靶表面，使溅射出的粒子在基片

表面成膜。特点：①离子束由特制的离子源产生 ②离子源结构复杂，价格昂贵 ③用于分析技术和制取特殊薄膜 2. 气体放电溅射：利用低压气体放电现象，产生等离子体，产生的正离子，被电场加速为高能粒子，撞击固体（靶）表面进行能量和动量交换后，将被轰击固体表面的原子或分子溅射出来，沉积在衬底材料上成膜的过程。二. 工艺特点 1.整个过程仅进行动量转换，无相变 2.沉积粒子能量大，沉积过程带有清洗作用，薄膜附着性好 3.薄膜密度高，杂质少 4.膜厚可控性、重现性好 5.可制备大面积薄膜 6.设备复杂，沉积速率低。三．溅射的物理基础——辉光放电溅射镀膜基于高能粒子轰击靶材时的溅射效应。整个溅射过程是建立在辉光放电的基础上，使气体放电产生正离子，并被加速后轰击靶材的离子离开靶，沉积成膜的过程。不同的溅射技术采用不同的辉光放电方式，包括：直流辉光放电—直流溅射、射频辉光放电—射频溅射和磁场中的气体放电—磁控溅射 1. 直流辉光放电指在两电极间加一定直流电压时，两电极间的稀薄气体（真空度约为13.3-133Pa）产生的放电现象。 2. 射频辉光放电指通过电容耦合在两电极之间加上射频电压，而在电极之间产生的放电现象。电子在变化的电场中振荡从而获得能量，并且与原子碰撞产生离子和更多的电子。 3. 电磁场中的气体放电在放电电场空间加上磁场，放电空间中的电子就要围绕磁力线作回旋运动，其回旋半径为eB/mv，磁场对放电的影响效果，因电场

真空镀膜机作业指导书

中山市东升镇冠新五金电器厂真空镀膜机作业指导书一，开机 1，检查水路是否畅通，确定冷却塔、激进泵是否正常工作（水压需达到0.4Mpa以上）。2，检查气路是否畅通，确定空压机是否正常工作（气压需达到0.5Mpa） 3，开启电源开关，打开《开机》、《维持泵》开关，待真空计的热偶计读数在10pa以下时，打开《扩散泵温控仪1.2》《扩散泵1.2》四个开关。即扩散泵升温（大约1小时左右）4，距加热时间约10分钟左右，开启低温捕集器，待6分钟冷却时间过后，按《F1》启动低温捕集器。待温控仪上的设定温度达到时，即可正常生产操作。二，生产操作 1，确定真空室内膜料、离子源灯丝、工件架已按要求放置完毕。 2，开启《粗抽泵》，将抽气手自动档切换至自动档，打开《自动抽气》开关，待真空室大门吸合即可。 3，当罗茨泵自动开启时，按低温捕集器《F2》，开启捕集器制冷功能。 4，此操作应工艺的不同而有较大的变化，此处不一一详述，即为口述。 5，工艺完成后，关闭电子枪、离子源（必须先归零灯丝电流，再关电源）等开关，打开《自动充气》开关，待精抽阀闭合后，将抽气手自动档切换至手动档（此处必需注意除维持泵、扩散泵、粗抽泵、开机这四个开关是按下去的外，其他开关都不可按下，以免操作失误造成扩散泵暴露大气！），按捕集器F3，开启回温功能，待低温捕集器温度回温到30摄氏度以上，打开《充气阀》，待真空室门打开，关闭《充气阀》。（注：《自动抽气》与《自动充气》开关严禁混淆） 6，以上循环，即为正常操作流程。三、停机 1，将真空室门吸合，抽至一定真空，关闭除《停机》开关的所有开关。（注：此停机开关，正常生产中严禁开启） 2，待真空镀膜机冷却一小时后，方可关闭电源，空压机，冷却塔，激进泵。注：以上所有操作必须严格执行，未经允许不可更改，若应操作失误造成镀膜机受到损坏，影响等因素，操作员将承担相应责任。警告：本机器有多处高压变压器，电压高达8KV，为避免安全事故，未经允许不可开启电柜、真空室下的屏蔽门。

真空镀膜操作规程

真空镀膜操作规程 Prepared on 22 November 2020

真空镀膜操作规程一、准备： 1、开启设备总电源，稳压器，确认三相供电电压正常：370 —440V； 2、开启电容补偿器； 3、确认水池冷却水水量充足（见浮标尺）打开循环水泵； 4、根据工艺要求，确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷水机；启动前应确认冷水机入口水压-3kg，内部增压泵旋转正常，可采用自动或手动方式启动； 5、确认各部分冷却水循环系统完好，确认扩散泵循环水工作正常，紧急冷却系统准备就绪； 6、确认工艺气体气压不低于20个大气压 7、装基膜： A、领膜：镀膜工按生产任务单要求，从净化室中领到基膜时，应立即检查该膜是否合格，有无花纹、斑点、划伤、污迹，收卷是否整齐等直接观测到的问题，如有应立即向生产主管报告，以决定是否采用； B、装轴：操作时必须带手套，将合格的基膜放在专用膜托架上，取一对尺寸相同的轴安装好，安装时请注意膜的正反面，确认一切准备就绪了，即可吊装。吊装时必须轻拿轻

放，严禁碰撞，必须保持基膜水平，以免膜打滑引起螺纹状； C、装膜：确认冷辊无冷凝水后，即可装膜，装膜时不要对着膜讲话，以保持膜面干净。注意不要碰透过率分析仪的探头，装膜时应保证膜在冷辊的中心； D、按任务书车速要求设置镀膜速度、张力； E、试卷：引膜完成后，手动预卷几圈，打开张力控制器，启动冷辊、收卷、卷膜（其中ITO膜卷1—2m，前档膜和建筑膜卷20m）。仔细观察膜是否走正，启动是否容易，冷辊是否与膜同步，走速是否平稳，膜是否变形、起皱、划伤等等，并及时处置，最后用记号笔在放料端画起始标志线； 8、按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正确，靶材量充足，确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上，关闭真空室；二、抽真空 1、扩散泵预加热（约需40分钟）：启动维持泵，确认运转正常后，打开维持阀（灯亮），逐一打开扩散泵； 2、低抽：确认真空室门已关闭启动计算机，进入镀膜系统监控程序，充气阀关闭，启动机械泵（1、2），确认机械泵正常运行后，开预抽阀，五分钟后打开复合真空计，打开罗茨泵开