8-电晕及辉光放电等离子体技术与应用
等离子体应用技术

等离子体应用技术等离子体(Plasma)是一种高度激发的物质态,由相等数量的正离子和自由电子组成。
等离子体应用技术是指利用等离子体的性质和特点,在各个领域中进行应用的一项技术。
它不仅在科学研究和实验室中有广泛的应用,也在工业、能源、医疗等领域发挥着独特的作用。
本文将分析等离子体应用技术在不同领域中的应用情况,并探讨其潜在的未来发展前景。
一、工业应用1. 等离子体切割技术等离子体切割技术是一种高精度、高效率的金属切割方法。
通过在金属表面产生高能量的等离子体来融化和气化材料,实现金属的切割和雕刻。
这种技术在汽车制造、航空航天等工业领域有广泛的应用。
它不仅可以提高生产效率,还可以减少废料产生,降低能源消耗。
2. 等离子体喷涂技术等离子体喷涂技术是一种表面涂层处理方法。
通过将材料的粉末形式置于高能量等离子体中,使其在金属表面形成坚固的涂层。
这种涂层具有耐磨、耐腐蚀、绝缘等性能,可以用于改善材料的表面性能,延长使用寿命。
在航空航天、电子电器等领域,等离子体喷涂技术已被广泛应用。
二、能源应用1. 核聚变技术等离子体在能源领域中最具代表性的应用就是核聚变技术。
核聚变是指将两个轻核聚变成较重的核,释放出巨大的能量。
在核聚变反应中,需要使用等离子体维持高温和高压环境,这使得等离子体成为核聚变的理想燃料。
未来,核聚变技术有望成为一种清洁、高效的能源来源,解决人类能源需求和环境问题。
2. 太阳能利用太阳是一个由等离子体组成的巨大等离子体球体。
利用太阳等离子体的性质,可以实现太阳能的收集和利用。
目前,太阳能电池板是最常见的太阳能利用技术,它将光能转化为电能。
此外,等离子体的磁场控制技术也被用于太阳观测和太阳风预警等领域。
三、医疗应用1. 医疗灭菌等离子体可以产生高能量的电子,具有良好的杀菌和灭菌效果。
在医疗设备消毒和手术器械灭菌中,等离子体技术广泛应用。
相比传统的消毒方法,如高温蒸汽或化学消毒剂,等离子体灭菌具有更高的效率和更低的污染风险。
等离子体及辉光放电现象

等离子体的驱动——射频放电
高密度等离子体——high density Plasmas(HDP)
种子体
产生过程: 在反应器中引入磁场和/或电场,增加电子在 等离子体中的行程,使电子和原子之间的碰撞 频率增加,从而增加等离子体中基和离子的密 度,实现高密度等离子体。
HDP源包括: 螺旋等离子源 电感耦合等离子源 平面盘绕源
微电子加工领域,等离子体可以用交流信号驱 动,电源在射频的范围内,公认的频率为13.56MHz。
电容性放电等离子体是主要的等离子源。
辉光放电
低气压下的气体放电。放电管中的残余正离子在 极间电场的作用下被加速,于是得到足够的动能撞击 阴极而产生二次电子,经簇射过程产生更多的带电粒 子,使得气体导电。因此放电管两极间所需电压较高, 一般都在10千伏以上,但辉光放电的电流很小,温度 不高,属于低温等离子体现象。
脉冲放电等离子体技术的应用

脉冲放电等离子体技术的应用随着科技的不断发展,高新技术的涌现不断给人们生产生活带来便利与创新。
而脉冲放电等离子体技术就是其中之一。
它是一种利用脉冲电场产生的电离子和反应物质之间的相互作用,而形成的复杂非平衡态等离子体体系。
这种技术在工农业生产领域中有着广泛应用,尤其是能源、汽车制造、环保、材料科学等领域。
下面,本文将结合实际应用,对脉冲放电等离子体技术的应用进行探讨。
一、脉冲放电等离子体技术在能源领域的应用脉冲放电等离子体技术在现代能源领域中常被用于提高化石燃料的利用效率以及降低以煤为主要燃料的工业排放。
例如,用脉冲放电等离子体技术对煤粉进行处理,可以抑制煤的结焦、硫分、氮分和灰分等含量的增加,从而提高烟气中二氧化碳的挥发速度,减少污染物的排放。
此外,脉冲放电等离子体技术还可以用于太阳能电池制造。
在太阳能电池中,脉冲电场通过离子轰击等方法可以优化太阳能电池的制造和转换效率,并增加其电功率输出。
这种技术在解决能源危机和推广清洁能源方面具有重要意义。
二、脉冲放电等离子体技术在汽车制造领域的应用作为现代化工生产的重要组成部分,汽车制造是人们生产和出行的常用方式,而脉冲放电等离子体技术在汽车制造领域的应用更是不可避免。
例如,利用脉冲放电等离子体技术可以加速汽车轮胎胶原材料与橡胶的交联反应,从而提高橡胶的强度、柔韧性和防老性能,减少轮胎磨损和碳排放。
此外,脉冲放电等离子体技术还可以用于汽车表面涂层的处理,提高汽车外部颜色、抗氧化性、抗腐蚀性和润滑性。
同时,在车身、制动器和发动机等部件的加工制造过程中,脉冲放电等离子体技术也有着广泛的应用,以提高加工精度和生产效率,降低能耗和物资浪费。
三、脉冲放电等离子体技术在环保和材料科学领域的应用脉冲放电等离子体技术在环保和材料科学领域的应用也十分重要。
例如,在垃圾处理中,脉冲放电等离子体技术可以加速垃圾氧化分解,降低其污染物的含量和毒性,进而达到环保目的。
在材料科学领域,脉冲放电等离子体技术也广泛应用于材料表面处理、材料改性、材料复合和化合物的合成等方面。
气体放电的主要形式

气体放电的主要形式一、电晕放电电晕放电是一种在电极周围形成辐射状光晕的放电形式。
当电压升高到电晕放电阈值时,电极周围的电场强度足够强,使电极附近的气体分子电离和激发,产生电子和正离子。
这些电子和离子通过碰撞和俘获电子的过程,导致电晕放电区域内的气体发光,形成光晕。
电晕放电常见于高压线路和电晕灯中,具有稳定性好、能耗低的特点。
二、辉光放电辉光放电是一种在电极附近形成均匀辉光的放电形式。
当电压升高到辉光放电阈值时,电极附近的电场强度足够强,使气体分子电离和激发,产生电子和正离子。
这些电子和离子经过长距离的自由运动后,与其他气体分子碰撞,再次激发和电离,最终导致整个放电区域内的气体发光。
辉光放电常见于荧光灯、气体放电显示器和气体激光器等装置中,具有均匀亮度和较高的放电稳定性。
三、电弧放电电弧放电是一种高能放电形式,具有强烈的光和热效应。
当电压升高到电弧放电阈值时,电极附近的电场强度足够大,使气体分子电离和激发,产生电子和正离子。
这些电子和离子在电场的作用下,加速运动,形成电子和离子流,即电弧。
电弧放电常见于焊接、电弧灯和电弧炉等场合,具有高能量密度和高温度的特点。
四、等离子体放电等离子体放电是一种高度电离的气体放电形式,具有丰富的物理和化学特性。
当电压升高到等离子体放电阈值时,电极附近的电场强度足够大,使气体分子电离和激发,产生电子和正离子。
这些电子和离子在电场的作用下,以及与其他等离子体粒子的碰撞,形成高度电离的等离子体。
等离子体放电广泛应用于等离子体显示器、等离子体喷涂和等离子体刻蚀等领域,具有可控性好和反应速度快的特点。
五、脉冲放电脉冲放电是一种以脉冲形式工作的放电形式,具有高能量和高频率的特点。
脉冲放电通常通过将高电压脉冲施加在电极上,使气体分子电离和激发,产生电子和正离子。
这些电子和离子在电场的作用下,以及与其他气体分子的碰撞,形成脉冲放电。
脉冲放电广泛应用于等离子体切割、等离子体喷涂、光谱分析和生物医学领域,具有高精度和高效率的特点。
等离子体技术在各行业中的应用

等离子体技术在各行业中的应用摘要:随着科技的进步,等离子体技术得到了飞速的发展,同时也在各行业中得到了广泛的应用,且变得越来越重要。
本文对等离子体技术在各行各业中的应用进行了简要阐述,同时对一些应用中的存在的问题进行阐述和给出一些合理化建议。
关键词:等离子体;应用1 引言等离子体是物质的第四态,在等离子体空间里含有丰富的离子、电子、光子、激发态的原子、分子及自由基等极活泼的反应性物种。
自20世纪70年代初以来,人们基于对等离子体中各种粒子化学活性的控制和利用,深入地探索物质在等离子体态进行化学反应的特征和规律性。
同时在化学合成、薄膜制备、表面处理、军事科学、精细化学品加工及环境污染治理等诸多领域,在原有工艺技术基础上巧妙而有效地引入等离子体技术,促成了一系列工艺革新和巨大的技术进步。
1.1等离子体定义等离子体(Plasma)是物质的一种部分电离的状态,是气体在加热或强电磁场作用下电离而产生的,主要由电子、离子、原子、分子、活性自由基及射线等组成。
被称为继“固、液、气”三态以外的新的物质聚集态,即物质第四态,因其中的正电荷总数和负电荷总数在数值上总是相等的故称其为等离子体[1]。
宇宙中99.9%的物质处于等离子体状态。
对于自然界中的等离子体有太阳、电离层、极光、雷电以及满天星斗等。
在人工生成等离子体的方法中,气体放电法比加热法更加简便高效,诸如荧光灯、霓虹灯、电弧焊等等。
图1.1给出了主要类型的等离子体的密度和温度的数值。
从密度为106个粒子/m3稀薄星际等离子体到密度为1025个粒子/m3的电弧放电等离子体,跨越近20个数量级。
其温度范围则从100K的低温到超高温核聚变等离子体的108~109K[2]。
1.1 各种等离子体的密度和温度1.2等离子体的分类等离子体可分为热力学平衡状态等离子体和非热力学平衡状态等离子体。
当电子温度Te与离子温度Ti及中性粒子温度Tn接近相等时,等离子体处于热力学平衡状态,称之为平衡等离子体(equilibrium plasma)或者热等离子体(thermal plasma)。
等离子体及其在环境中的应用(共28张PPT)

正、负电晕放电随电压(diànyā)变化的图像
5 mm
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5 mm
介质阻挡 放电( (zǔdǎng) DBD)
• 也叫无声放电。结合(jiéhé)了辉光放电和电晕放电的优点,可以在大气压 条件下产生大面积低温等离子体[32],且体系温度与活性粒子的密度 均适中。将绝缘介质插入两个电极之间,防止电极的直接击穿形成 火花弧光放电,从而形成均匀稳定的大面积等离子体。
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电除尘
• 电除尘器是利用电晕放电产生的大量离子(lízǐ)使得粒子荷电,并使荷电 粒子在电场力的驱动下移向集尘板,从而将微粒从气流中分离出来的 装置。用电除尘的方法分离、捕集气体中的尘粒。
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空气净化
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臭氧 发生器 (chòuyǎng)
• 臭氧(chòuyǎng)是一种氧化和杀菌性能极高的氧化剂,被广泛用于食品加工存 储与保鲜、医疗卫生及餐具消毒和水处理等行业。臭氧(chòuyǎng)易分解为氧, 不便于收集贮存,必须在常温或低温下现场生产。臭氧(chòuyǎng)的主要生产
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Influent gas
NTP/Catalyst
Effluent gas
Influent gas
NTP
Catalyst
Effluent gas
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高压 放电水处理 (gāoyā)
• 水下高压放电是在由尖端电极极不均匀电场中产生的。还可向溶液通 入气体,促进局部放电和等离子体通道的形成、增加活性物质数量, 从而处理(chǔlǐ)难降解有机废水和水体消毒灭菌。
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辉光 放电 (huī ɡuānɡ)
一、等离子体基本原理

1.3.3 沙哈方程
中性气体到完全电离等离子体状态的转变可由沙哈方程来 描述:
nnen gi (2m he3 kT)322gg0i exp(ekE Ti )
式中:h-普朗克常量; T-三种粒子的共同热动力学温度; gi-原子的电离电位; g0-离子基态的统计权重; gi/g0-中性原子基态的统计权重,碱性金属等离子体的
++
Em—复合后该电子所处的能级
En hν=ΔE
Em
- εe
hν
+ Em
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轫致辐射
e
h e e
-
e
E -
hv
回旋辐射
eB/me
×××××××× B -
××××××hv ××
hv
××××××××
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1.3 等离子体特征量及等离子体判据
1.3.1 粒子密度和电离度
ne表示电子密度 ni表示离子密度 ng表示中性粒子密度 当ne= ni时,用n表示二者中任意一个带电粒子的密度, 简称为等离子体密度。 电离度α定义为
ne0 ni0 n0
当 ekT e1, ekT i <<1
,有
2n00e1keT een001ke Ti n0e02
1 kTe
k1Ti 1D 2
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等离子体的特征长度:德拜长度
一维模型(电极为无限大平板),解为:
x0ex D
德拜长度:
(x) 0
1/2
D ne00 e2 k1 T ek1 T i
精品课件
激光
精品课件
第一章 等离子体基本原理
1.1 等离子体概念:由大量的带电的正粒子、负粒子(其中包括正 离子、负离子、电子、自由基和各种活性基团等)组成的集合体, 其中正电荷和负电荷电量相等,故称等离子体。
辉光放电的原理及应用

辉光放电的原理及应用1. 引言辉光放电是一种在气体或等离子体中产生可见光的放电现象。
它是一种非常有趣和重要的物理现象,在很多领域都得到了广泛的应用。
本文将介绍辉光放电的原理以及一些常见的应用。
2. 辉光放电的原理辉光放电的原理主要涉及气体分子或原子中的电子激发和退激发过程。
当外加电场作用下,电子获得足够的能量从基态跃迁到激发态,这个过程称为电子激发;而当电子从激发态跃迁回基态时,会释放出能量,在可见光范围产生辉光。
3. 辉光放电的应用3.1 发光装置辉光放电作为一种可见光源,在发光装置中有广泛的应用。
常见的例子包括荧光灯和氖气灯。
荧光灯中的辉光放电通过将电能转化为紫外光,然后由荧光粉转化为可见光。
氖气灯则直接利用氖气的辉光放电产生可见光。
这些发光装置在照明、显示技术等领域发挥着重要的作用。
3.2 电视和显示器在电视和显示器技术中,辉光放电也发挥着重要作用。
在阴极射线管(CRT)技术中,电子通过辉光放电在显像管内激发荧光物质,产生图像。
而在液晶显示器(LCD)技术中,背光源使用白磷辉光灯来提供光源。
3.3 激光器激光器是一种将电能转化为高纯度的单色光的装置,而辉光放电在激光器中也起到了关键的作用。
激光器中的氖气或二氧化碳气体通过辉光放电的方式被激发,产生高能量的光束。
激光器在医疗、通信、测量等领域都有广泛的应用。
3.4 等离子体处理等离子体处理是一种利用辉光放电中的等离子体来处理物体表面的技术。
通过调节辉光放电的参数,可以改变等离子体的性质,从而实现对材料表面的清洗、刻蚀和涂层等处理。
等离子体处理在半导体制造、涂装行业等领域有重要的应用。
3.5 科学研究由于辉光放电的特殊性质,它在科学研究中也得到了广泛的应用。
辉光放电可以用于气体成分的分析,例如质谱仪中的电离源。
它也可以用于材料表面的改性和表征,例如等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
4. 结论辉光放电是一种重要且有趣的物理现象,其原理涉及电子激发和退激发过程。
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出气口
暗放电
辉光放电
汤森区
VB
电晕
击穿电压
弧光放电
电压 /V
H
辉光到弧光
的跃变 I
V<1/I
饱和区
10-10
本底电离
10-8
10-6
G
正常 辉光
异常 辉光
10-4 10-2 电流I/A
Themal J 1 100
气体放电伏安特性曲线
K 1000
正电晕
直流电晕
根据放电产生电晕的
负电晕
电源来源和频率可分为 交流电晕
nie2
1
)2
0kTe 0kTi
不加磁场前
正柱区有周期性 明暗变化
8.2 等离子体鞘层效应
❖ 8.2.1 等离子体鞘层效应
(1)鞘层模型
当等离子体空间遇到固体(电极、反应器壁、催 化剂等)时,会在固体表面产生电荷积累,形成等 离子体鞘层。
当等离子体电位高于固体电位时,在固体电位 附近吸引正离子形成了离子包围的电荷层,称为离 子鞘;反之,等离子体电位低于固体电位时,在固 体电位附近吸引电子排斥离子,形成电子包围的电 荷层,称为电子鞘。
-
XS
(2)鞘层厚度
Xs
( 0 kTi
1
)2
ni e 2
在冷等离子体中,Te》Ti,因此鞘层的有效厚度为
V0
1 2
kTe e
ln(miTe meTi
)
表明固体鞘层厚度随离子温度上升而增加,随等离子体内 离子密度增加而减小。
(3)固体表面电位
上式表明,固体表面为负电位,电位绝对值 随电子温度增加而上升,随离子温度增加而 下降。在冷等离子体中,电子温度与离子温 度的非平衡性,使得固体表面具有较大的负 电位。
根据能量提供方式,金属中电子发射可分为以下 几种情况:
高温导致的热电子发射; 强电场导致的场致发射; 光照导致的光致发射; 电子撞击产生的次级电子发射; 金属表面力学作用(摩擦、形变等)或化学反应
导致的自由电子发射
❖ 8.1.2 辉光放电
暗放电
汤森区
VB
电晕
辉光放电 击穿电压
弧光放电
电压 /V
H
高频电晕
爆发式脉冲电晕 电晕放电类型 流注电晕
辉光电晕 特里切尔电晕
❖ 正负电晕的形成机理
➢ 负电晕的形成机理——场生雪崩放电理论:
针状阴极电晕发光区内存在较强烈的电离与激发, 电流密度大,在负电晕的外围只存在单一的带负电 的粒子。
➢ 正电晕的形成机理——流光理论:
一旦产生正电晕放电,电晕层内强电场中激发粒 子的光辐射产生电子即光致电离,所形成的电子在 电晕层中引起雪崩放电,产生大量激发和电离,最 后电子被阳极收集,正离子经过电晕层,进入电晕 外围向阴极迁移。
8 电晕和辉光放电等 离子体技术与应用
8.1 电晕和辉光放电等离子体机理分
❖ 8.1.1 电晕放电
进气口
针电极
等离子体区 催化剂 平板电极
析
❖ 电晕放电常采用非对称 电极(如针-板电极、 针-针电极等),在电 极曲率半径小的地方电 场强度特别高,容易形 成电子发射和气体电离, 可在常压条件下形成电 晕。
d= 155mm,P=40Pa 实验中观察到的各
暗区
区分布图 阳极 辉区
正柱 区
阴极 辉区
阿斯顿
阳极暗区和负极辉光区在实验中并没有
暗区
观测到; 电压增大,正柱区长度减小
正柱区一端是半球体,可能是未电离的氩气流动对辉
光放电的影响
一些情况下的辉光图片
对于外加磁场等离子体辉光现象的 描述
Xs(nee2
通常,等离子体鞘层与等离子体之间有一段准 中性等离子体过渡区。
❖ 表征固体表面等离子
体鞘层特征的重要参
-
固体-
等离子体鞘层
Ni(X)>ne(X) V(x)<0
等离子体 ni≈ne V(x)≈0
V0
数包括:
鞘层的厚度XS、 固体表面电位V0、 鞘层电子密度ne、
- V0 -
离子密度ni、 电位梯度V(x)等
A谱线的跃迁概率 g能级的统计权重 ImNaoge自发跃迁辐射的频率
(2)谱线宽度诊断电子浓度
当电子浓度在(1020m-3 ,1024m-3 )利用谱线的斯塔克 展宽决定等离子体的带电粒子浓度,此时只需测量 相对谱线线形和线宽;
当电子浓度在大于1024m-3 时,使用标准的分光计和单
色仪就可以。
❖ (2)电源输入功率的影响
❖ A在同样的电极、流率、空时下电源输入功率逐渐 增大,电场输入功率随之增大,甲烷的转化率和碳 二烃的收率也随之增大,但碳二烃的选择性降低, 此结果从另一个角度证明了在大流量操作时仍需控 制适宜的电源输入功率。
8.3.4 等离子体甲烷常压偶联反应的 光谱分析
❖ 等离子体发光谱线:从可见光到紫外线,甚 至X射线,都是由于等离子体中存在大量各 种形式的激发态粒子的运动引起的。
➢ C混合气体的击穿电压与原料中CH4/CO2比值有关,除 纯气体放电外,一般比值小的混合气击穿电压较高,比 值一定时,负电晕比正电晕较易发生击穿。
➢ D反应体系温度升高,击穿电压稍有降低但变化不明显。 击穿电压主要与放电气体的介质性质、等离子体的电场 条件,如放电电压、放电类型和电极形状有关。
❖ (2)能量密度对反应的影响
❖ 低温等离子体的辐射主要由退激发辐射、复 合辐射和轫致辐射构成。
❖ 等离子体辐射的光谱既有连续光谱,也有线 光谱。
❖ (1)等离子体甲烷常压偶联光谱诊断
2 CH4
1 1 2
反 应
器色 谱 仪
交流高压 发生器
H2
1-质量流量计
2-压力表
(2)光谱诊断常压辉光放电特征参 数
❖ (1)谱线强度诊断电子温度 两条谱线强度之比为
(4)鞘层效应对催化剂功能的影响
❖ 电晕等离子体中的催化剂表面将形成鞘层, 具有负电位,假如在甲烷冷等离子体中,平 均电子温度为6.0eV,平均离子温度为1/30eV 时,催化剂表面的电位约为33eV。该电位会 影响催化剂表面的特征(如金属催化剂表面 电子功函数),导致催化性能改变。
8.3 电晕和辉光放电等离子体技术在 化工中的应用——甲烷和二氧化碳制
❖ (1)常压辉光放电旋转电场等离子体甲烷常
压偶联制碳二烃 电
极
连
进气口
杆
多尖端金属 旋转电极
筒形电极
出气口
❖ 辉光放电实验流程
数字示波器
2
CH4
2 H2
1
反
1应
高压探头
器色
谱
仪 交流高压
r=1KΩ发生器
mV
1-质量流量计 2-压力表
(2)旋转电场常压CH4+H2放电特性
❖ (1)电压波形和电场放电的伏安特性
❖ A电压波形:随电源输入功率由小到大而出峰数逐 渐增多,表面输入能量增大时放电次数增多,而且 随电源输入功率的提高,电场输入功率增大,说明 由于输入能量的增加可以增大气体的电离度,从而 使放电电流增加。
❖ B随电源输入功率的提高,电压从上升经过最高点 后下降,这意味着辉光放电开始由异常辉光向弧光 放电转化。
辉光到弧光的跃变
I V<1/I
饱和区
10-10
G
本底电离
正常 辉光
异常 Themal J 辉光
10-8
10-6 10-4 10-2
1
100
电流I/A 气体放电伏安特性曲线
K 1000
DH2005型直流辉光放电等离子体装置: 阳极放电管阴极
双探针 螺母,旋开后 可调节极距
等离子体辉光放法电拉的第 唯相结构
合成气、甲烷偶联制碳二烃
❖ 8.3.1 利用电晕放电冷等离子体技术,甲烷和二氧化 碳制合成气
(1)CH4-CO2反应体系的热力学分析 CH4+CO2——2CO+2H2 CO2+H2——CO+H2O 2CH4——C2H2+3H2 C2H2——2C+H2 CH4+4H2——CH4+2H2O 2CO——C+CO2 CH4——2C+2H2
❖ (4)能量效率分析
➢ 各种电晕放电反应的能量效率接近,均随体系能量 密度的增加而下降。
8.3.2 非对称电极电晕放电场的能量 分布
❖ 通常计算电场能量分布的方法有:有限元法、 模拟电荷法、矩量法。
❖ 模拟电荷法结果:
在等离子体区轴中心,越接近上电极尖端, 电位越高,相应的电场强度越大。
8.3.3 常压辉光放电甲烷偶联制碳二 烃
➢ D反应产物的H2/CO值随能量密度的增加先下降, 然后上升
➢ E随能量密度增加,反应体系易于产生C2H2、积炭 等物质。
❖ (3)原料配比对反应的影响
➢ 当能量密度一定时,随原料中CH4的增加, CH4和 CO2的转化率同时提高。其中CO2的转化率随CH4 /CO2比值变化较大,在高比值时, CO2的转化率超 过CH4的转化率。
❖ (2)甲烷和二氧化碳制合成气实验
皂沫
流量
1
反计
1应
气相色谱仪器冷源自四级质谱仪CH4阱
热电偶 CO2
多功能等离 子体发生器
1-质量流量计及控制仪
(3)电晕放电结果分析
❖ (1)电晕放电反应的伏安特性
➢ A电晕放电电流大小由放电电压决定,其值随放电电压 的增加而上升
➢ B电晕放电类型不同,击穿电压不同。正电晕的击穿电 压最大,负电晕次之,交流电晕的击穿电压值最小。
➢ A随反应体系能量密度的增强,CH4和CO2的转化增 大,但在高能量密度处增加速度放缓
➢ B电晕放电类型不同反应的转化率不同。正电晕的 始终高于负电晕,反应物转化在能量密度较低时, 正电晕>交流电晕>负电晕,能量密度较高时,正电 晕>负电晕>交流电晕。