三维表面形貌仪(ST400
氧等离子体处理对ITO薄膜表面性能的影响_刘陈
第21卷 第4期2006年8月液 晶 与 显 示Chinese Jour nal of L iquid Cry stals and Display sVol .21,No .4Aug.,2006文章编号:1007-2780(2006)04-0309-05氧等离子体处理对ITO 薄膜表面性能的影响刘 陈1,朱光喜1,刘德明2(1.华中科技大学电子与信息工程系,湖北武汉 430074,E -mail :chliou @ ;2.华中科技大学光电子科学与工程学院,湖北武汉 430074)摘 要:利用原子力显微镜研究氧等离子体处理对I TO 薄膜的微观表面形貌及表面润湿性能的影响。
实验结果表明:经过氧等离子体处理,I T O 薄膜的平均粗糙度和峰-谷粗糙度减小,薄膜的平整度提高;而且表面吸附力增大近一倍,表面能增大,接触角减小,使I T O 薄膜表面的润湿性能和吸附性能得到改善。
关 键 词:IT O ;氧等离子体处理;原子力显微镜;表面形貌;润湿性中图分类号:T N 383;O 484.4 文献标识码:A 收稿日期:2006-03-15;修订日期:2006-05-22 基金项目:华中科技大学博士后科学基金(No.010*******)1 引 言ITO (铟锡氧化物)由于淀积过程中在薄膜中产生氧空位和Sn 掺杂取代而形成高度简并的n 型半导体,费米能级位于导带底之上,具有高载流子浓度(1020～1021cm 3)及低电阻率(2～4×10-4Ψ cm )[1,2];此外,I TO 的带隙较宽(E g =3.5～-4.3eV ),因而I TO 薄膜对可见光具有很高的透过率。
由于ITO 具有上述高透射率、低电阻率的特性,I TO 作为透明电极被广泛应用于有机电致发光器件(OLED )的制作[3,4]。
然而,由于ITO 属于非化学计量学化合物,薄膜的淀积条件、清洗方法及表面处理工艺都对I TO 薄膜表面的化学组成及表面性能产生深刻影响。
美国NANOVEA公司的三维非接触式表面形貌仪
美国NANOVEA公司的三维非接触式表面形貌仪一、 产品简介美国NANOVEA公司是一家全球公认的在微纳米尺度上的光学表面轮廓测量技术的领导者，生产的三维非接触式表面形貌仪是目前国际上用在科学研究和工业领域最先进表面轮廓测量设备，采用目前国际最前端的白光轴向色差原理（性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪）对样品表面进行快速、重复性高、高分辨率的三维表面形貌、关键尺寸测量、磨损面积、磨损体积、粗糙度等参数的测量。
二、产品分类该公司的三维非接触式表面形貌仪主要有4款：JR25、PS50、ST400与HS1000（区别见技术参数）：JR25便携式三维表面轮廓仪：野外操作或不可拆卸部件的理想选择·便携式表面形貌仪·结构紧凑，性价比高·替代探针式轮廓仪和干涉式轮廓仪·应用范围广·测量范围：25mm×25mmPS50表面轮廓仪：科研单位与资金不足企业的最佳选择·性价比高·结构紧凑·替代探针式轮廓仪和干涉式轮廓仪·应用范围广·测量范围：50mm×50mmST400表面轮廓仪：·应用范围广·适合大样品的测试·测量范围：150mm×150mm·360O旋转工作台·带彩色摄像机（测量前可自动识别特征区域）HS1000表面轮廓仪：·适用于高速超快自动测量场合·超高的扫描速度（可达1m/s，数据采集频率可达31KHz，最高可达324KHz）·能保证超高平整度和稳定性（花岗石平台）三、测量原理简介：Nanovea 公司的三维非接触式表面形貌测量仪采用的是国际最前端的白光轴向色差技术技术实现先进的高分辨率的三维图像扫描与表面形貌测量。
•利用白光点光源，光线经过透镜后产生色差，不同波长的光分开后入射到被测样品上。
• 位于白光光源的对称位置上的超灵敏探测器系统用来接收经被测样品漫反射后的光。
3D形貌仪操作说明
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[Analysis] 用于二维和三维数据分析的主要界面。当扫描完成后, 分析窗会自动显示扫描结果。分析选项有三个主要视 图: • Z View 3D • Z Analysis • Z View 2D
[Sequence] 此画面允许用户通过一个预先设好的序列自动地对样 品上多个点进行扫描，选项包括： •启动新的序列 •加载现有的 MAP文件 •显示当前序列的 MAP 注解：序列扫描是升级选项。
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不同表面处理对氧化锆陶瓷与牙本质粘接强度的影响
• 210 •口腔眹学2021年3月第41卷第3期不同表面处理对氧化锆陶瓷与牙本质粘接强度的影响黄凌霞\王煥平2,白雪倩2，高宇雨1，陈建治3[摘要]目的比较喷砂，激光等+同机械处押.对氧化锆陶瓷与牙+质粘接强度的影响方法制备4 mmx4 mmx6 mm尺寸的长方体瓷块80件,按空白对照及喷砂、Kr:YAG激光、I N tl:YA(;激光、飞秒激光等不同表面处理方式随机分成5组（A〜E 组,n= 16)。
使用扫描电镜观察表面形貌，轮廓仪测量粗糙度。
用树脂粘接剂将瓷块与制备好的50块牙本质平面粘接，万能 实验机测试的W粘接强度，体式®微镜下分析界面破坏校式，使川SPSS 25.0进行单W蒺方差分析结果f丨描电镜罔像a 示，不同处理后的氧化锆表面微观形貌改变显著粗糙度值从大到小分别为：B组（1.29±0.25)(jun,E组（1.05±0.20)(xm,(:组 (0.66±0,1丨）叫，D组(0.49±0.丨丨）|xm，A组（0.34±0.07)|xm,B钽与E组大于其他任意组别（P<0.05〉…剪切强度值从大到小 分别为：E组（10.87±2.67)MPa，B组（8.90±1.52)MPa，C组（6.10±丨.36)\«^，丨）组（5.69±1.0丨）\«58，六组（4.21±0.90)1^3，£组与丨5组大于K他任意组別（P<0.05),H E组大_7:B组（P<0.05)小'同表面处押后的祖糙度值与剪切粘接强度值差异均有统 i丨'学意义（P<0.()5),剪切粘接强度讥随着枏粒度丨|‘|:变化ifi丨变化，MTf•变化趋势坫水相叫况结论 E秒激光和喷砂可I粗 化试化锆表I f i丨，使氧化锆陶瓷与树脂粘接剂粘接时形成充分的微机械嵌合作川，n l矜提升粘接强度，且飞秒激光提升程度 最大，是一种丫 1'前景的氧化锆表面处理方法，[关键词]^•秒激光;氧化诰陶瓷；卵切粘接强度;表tfi丨祖糙度；表1〖1丨处理[中图分类号]K783.2 [文献标识码]A[文章编号]1003-9872(202丨）03-02丨0-06[doi]10.13591/j.niki.k(iyx.2021.03.004F^ffects of different surface treatments on the bonding strength of zirconia ceramics and dentinHU\!\G Lin^xia, Huanping, H.M Xueqiun ^GAO)//> //, C H E\ Jianzhi. ( De/xirtment oj Prosthodontics %School oj Stonuitolngy, Zhejiang Chinese Medical University, Hangzhou 3/0053, China)Abstract ：Objective 10 compare ihe effects of different mechanical treatments such as sandblasting and laser on tlu* shear homling strength of zirconia ceramics and denliii. Methods Flighty l)locks of zirconia ciiljoid specimens (4mm x4mm x6mm) were [prepared and randomly assigned into 5 groups (n =16) in accordance with their surface treatment： ( A) untreated, as control ；( B) sandblasted with A120,；(C) P]r：YA(i laser；( I)) N d：YA(i laser；( K) femtosecond laser. Scanning electron microscopy was taken to observe sur-lace morjiholo^v and profilometer was used to measure roughness. Zirconia L)locks were ceniented with 50 prepared dentin planes with resin cement. All samples were measured for shear honding strength with a universal testing machine. Each specimen ol intedace destruction niodt* was ohserved using optical microscope. The data were analyzed hy one-way AN()\ A using SPSS 25.0 software. Results Scanning elcclron microscopy images showed that llie microniorpholo^y of the zirconia suHace after difft'rent treatments clian^ed sig-nifiraiitly. TI h*values of roughness fmm large t() small were:Gr(mp B ( 1.29±0.25 ) (xm, Gr(u”^0.1 I)jxni, (»rou|) D (0.49±0.11 ) (J im, Group A (0.34±0.07) fxm. Groups 1^and K were larger than any other group (P<0.05). The shear bond strength values from large to small were：Group E( 10.87db2.67) MPa, Group B (8.90±1.52) MPa, Group C (6.10±1.36) MPa, Group 1) (5.69±1.01)M P a, Grmip A (4.21±0.90)\11)a. Groups E an(l B werMarger than any (u kGroup E was larger than Group B (P<0.05). The differences in the values of roughness and shear bond strength were both statistically significant afttT surfare treatments ( ^<0.05) , the values of shear bond strength varied with the roughness and the variation tendency of the two wen* generally consistent. Conclusion I Vmtosecond laser and sandblasting can significantly roughen the surlare of zirconia. So sulfic ient micrnmeclianical interlocking effect is formed when zirconia ceramics and resin adln*sive are bonded, whicli significantly improves lhe bonding strt*ngth. And femtosecond laser is the most ideal wav to improve the shear bonding strength, wliich is a promising surface treatnu*nt for zirconia ceraniic.Key words：femtosecoiul laser；zirconia ceramic；shear bond strength；suiface mugliness；suiface treatmentStomatology, 2021 ,41(3)： 210- 215接金项目：浙K.W基础公益研究计划项丨l a(;G丨9K020003)作荇单位：1浙K.中医药太学口腔医学院，浙江杭州（310053) ;2中_计量大学光电材料与器件研究院，浙江杭州(310018) ;3浙江中医药大学口腔医学院附属杭州口腔医院，浙江杭州（310006)通 fii•作者：陈 ll!治 K-"m il:rlit*nj_z@163.r〇m氧化钇稳定四方相氧化锆（Y-TZP)陶瓷凭借良 好的生物相容性、美学及力学性能，已经成为间接修 复体制备材料的理想选择；临床成功的修复不仅由黄凌霞，等.不同表面处理对氧化锆陶瓷与牙本质粘接强度的影响• 211 •上述这些性能决定，可靠的粘接也很重要m。
数字三维建模激光扫描仪RIEGL VZ-400参数
VZ-400 具有轻便、坚固耐用等显著优点，其安装和操 作也极其简单：通过自带的控制面板即可设置参数，控制 扫描，无需携带笔记本电脑，并可使用 iPhone 或 PDA 进行 远距离的遥控操作，将全部数据都储存在设备附带的存储
卡中。 设备本身具备内部数据存储能力
显示屏，防刮防反射并配备多语言菜单。 防水抗污键盘，按钮设计便于控制。 通过扩音器可获取声音信号。
建筑和正射影像测量 建立考古和文化遗产档案 隧道测量 土木工程应用及工程监测 城市三维建模 数字城市建模和车载激光扫描成像系统
Terrestrial Laser Scanning
一级安全激光制造依照IEC60825-1:2007
The following clause applies for instruments delivered into the United States: Complies with 21 CFR 1040.10 and 1040.11 except for deviations pursuant to Laser Notice No. 50, dated July 26, 2001.
扫描数据存储
内置 32 G 闪存存储 外部有 USB 2.0 存储驱动接口（可接 U 盘 /
移动硬盘）
WLAN 天线
搬运手柄
高分辨率TFT彩色液晶显示屏
控制面板
电源接口，LAN数据接口10/100 MBit/s，电源开关
GPS 天线接口
数码相机安装接口 数码码相机 USB 接口 GPS 天线接口 WLAN 天线接口 USB 2.0接口，用于插入其 他的外部存储器 LAN接口，10/100/1000 MBit/s，用于快速下载扫描 数据
N、S共掺杂煤基碳量子点的电化学氧化法制备及用于Fe3+检测
化工进展Chemical Industry and Engineering Progress2023 年第 42 卷第 9 期N 、S 共掺杂煤基碳量子点的电化学氧化法制备及用于Fe 3+检测雷伟1，姜维佳2，3，王玉高1，和明豪1，申峻1（1 太原理工大学化学工程与技术学院，山西 太原030024；2 山西中医药大学基础医学学院，山西 晋中 030619；3山西大学环境科学研究所，山西 太原030006）摘要：异质元素掺杂可以有效改善碳量子点的荧光性能，被广泛应用于碳量子点的改性。
选取昭通褐煤为碳源，氯化钠溶液为电解液，硫脲为助剂，采用电化学氧化法完成N 、S 共掺杂碳量子点（N,S-CQD ）的制备，荧光量子产率为1.60%。
采用多种表征方法研究了N,S-CQD 的结构、组成和光学特性。
首先在结构组成方面，N,S-CQD 是一类球形颗粒，尺寸分布均匀，平均粒径为1.66nm ，其中主要存在C 、O 元素，还存在部分N 和S 元素；其次在光学性质方面，N,S-CQD 在紫外光区吸收明显，荧光分析显示其最佳激发波长为280nm ，最佳发射波长为313nm 。
最后基于Fe 3+对N,S-CQD 的荧光猝灭效应，将N,S-CQD 应用于痕量Fe 3+的检测，N,S-CQD 对15~150µmol/L 浓度范围内Fe 3+的检测表现出较高的选择性和灵敏度，通过计算得出最低检出限L =1.22µmol/L ，表明N,S-CQD 可应用于痕量Fe 3+的检测。
关键词：褐煤；掺杂碳量子点；电化学氧化法；Fe 3+检测中图分类号：TQ536.9 文献标志码：A 文章编号：1000-6613（2023）09-4799-09Synthesis of N,S co -doped coal-based carbon quantum dots by electrochemical oxidation and its application in Fe 3+ detectionLEI Wei 1，JIANG Weijia 2，3，WANG Yugao 1，HE Minghao 1，SHEN Jun 1(1 College of Chemical Engineering and Technology, Taiyuan University of Technology, Taiyuan 030024, Shanxi, China;2College of Basic Medical Sciences, Shanxi University of Chinese Medicine, Jinzhong 030619, Shanxi, China; 3 Institute ofEnvironmental Sciences, Shanxi University, Taiyuan 030006, Shanxi, China)Abstract: Heterogeneous element doping is widely used in the modification of carbon quantum dots (CQDs) due to improving the fluorescence properties of CQDs. In this study, the nitrogen and sulfur co -doped carbon quantum dots (N,S-CQD) was prepared by electrochemical oxidation, in which Zhaotong lignite was selected as the carbon source, sodium chloride solution as the electrolyte and thiourea as the auxiliary respectively. The fluorescence quantum yield was 1.60%. The structure, composition and optical properties of N,S-CQD were studied by a variety of spectroscopic methods. N,S-CQDs were sphericalparticles with uniform size distribution and an average particle size of 1.66nm, in which C and O elementsdominated as well as a certain amount of N and S elements. N,S-CQDs significantly absorbed in the UV region, and fluorescence analysis indicated that their optimum excitation wavelength and the emission研究开发DOI ：10.16085/j.issn.1000-6613.2022-1911收稿日期：2022-10-14；修改稿日期：2022-12-04。
玻璃表面超疏水性薄膜制备
玻璃表面超疏水性薄膜制备*赵高扬,郅 晓,常慧丽(西安理工大学材料科学与工程学院,陕西西安710048)摘 要: 采用溶胶 凝胶法,以三甲基氯硅烷、氢氟硅酸和水为先驱体,在玻璃基片上用提拉法制备出一种含有-CF3强疏水性基团的氟硅烷薄膜。
通过红外光谱和扫描电镜对薄膜结构和表面形貌进行了表征和观察。
并用接触角测定仪三甲基氯硅烷和氢氟硅酸在不同摩尔配比下薄膜疏水性能。
结果表明该薄膜具有高度交联的不规则球状表面结构。
当三甲基氯硅烷和氢氟硅酸的摩尔比为2.5 1时,薄膜具有超疏水性,对水滴的表面接触角可达156。
关键词: 三甲基氯硅烷;氢氟硅酸;超疏水;表面粗糙度;接触角中图分类号: Q611.4文献标识码:A 文章编号:1001 9731(2007)06 1034 031 引 言液体在玻璃表面的润湿性与表面物质的化学特性和表面结构有关。
就化学特性而言,有机聚合物是主要的疏水物质,其疏水性分子中除了碳外,含有大量低表面能的硅、服等原子基团,它能极大地降低材料的表面能,使其对水的接触角增大[1]。
目前主要应用氟硅烷系(FA S)、氟系及有机硅化合物等来提高疏水性。
其中氟硅烷系(FAS)有机物具有特殊的化学惰性,即不溶于水也不溶于酸碱溶液,对各种气体和水蒸气具有很小的渗透性,由FAS制得的疏水薄膜都可获得> 100的接触角,从而得到了广泛的应用[2~9]。
就表面结构而言,由Wenzel和Cassie的理论推导可以得出:较大粗糙度和细针状表面形貌的存在能减小了表面能,使水滴与薄膜的接触面积变小,提高了接触角[10,11]。
如果从表面结构和有机物化学特性两方面入手,有可能使薄膜表面呈现出超疏水特性。
本研究中,采用三甲基氯硅烷及氢氟硅酸,去离子水等为原料,通过so l g el法,在玻璃基板上制成了氟硅烷有机物薄膜,使水对玻璃的接触角达156,获得超疏水特性。
2 实 验2.1 溶胶配制实验中采用三甲基氯硅烷((CH3)3SiCl)、氢氟硅酸(H2SiF6)和去离子水为原料配置氟硅烷有机溶胶。
ST4080-OSP(k-mac)测厚仪使用说明书
OSP测厚仪使用说明书目录一、工作原理二、名词解析三、操作方法四、校正方法五、注意事项一、工作原理1、ST4080-OSP（有机可焊性保护膜）专用于测量PCB/PWB上铜铂厚度。
它属于使用分光反射法的非破坏性光学测量仪，它可提供平均厚度和详细的3D平面轮廓资料，使得实时检测无需任何的样品制备。
由于ST4080-OSP具有测量很小面积与自动聚焦功能，适用于PCB基板表面的实模式。
ST4080-OSP基于科美公司的厚度测量技术，而它在半导体，平板显示与其他电子材料行业方面的可靠性得到了证实。
2、作用《1》ST4080-OSP使用反射测量法提供PCB/PWB表面OSP涂层厚度的非接触和非破坏性实时测量。
《2》ST4080-OSP 无需样品制备，可确保快速和简便操作。
《3》ST4080-OSP测量的光斑尺寸可减小到0.135，这使得它可测量表面粗糙的铜的OSP涂层厚度.《4》ST4080-OSP 与紫外可见分光计，受迫离子束方法，时序电化学还原分析还有其他的测量方法相比较，它基于更可靠的测量技术。
《5》ST4080-OSP 可获取420nm~640nm范围内的多波长光谱。
《6》ST4080-OSP可提供各点和它们的平均厚度的详细数据，这样可帮助人们更好地控制OSP质量。
《7》ST4080-OSP 通过3D表面形态学将测量程序最优化。
《8》ST4080-OSP 通过分析基板上薄膜表面的反射光和基板表面的反射光之间的光谱干涉来测量薄膜厚度。
《9》ST4080-OSP 同时测量多个光斑，并以轮廓形式显示厚度测量结果。
《10》ST4080-OSP有两种光学透镜。
用户可使用5倍的光学透镜方便地进入详细模式的自选区域，再通过使用50倍的光学透镜获取详细厚度轮廓。
3、技术参数：4、测量原理如下在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层(wafer或glass)之间的界面反射。
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ST400三维表面形貌仪（美国NANOVEA
产品介绍：
ST400型三维表面形貌仪是一款多功能的三维形貌仪，采用国际领先的白光共聚焦技术，可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试，具有测量精度高，速度快，重复性好的优点，该仪器可用于测量大尺寸样品，并具有多种选项，包含360°旋转工作台，原子力显微镜模块，光学显微镜，特征区域定位等多种功能模块。
·应用范围广
·适合大样品的测试
·测量范围：150mm×150mm
·360O旋转工作台
·带彩色摄像机（测量前可自动识别特征区域）
1355/ 2027/ 062 云
产品特性:
1，采用白光共聚焦色差技术，可获得纳米级的分辨率
2，测量具有非破坏性，测量速度快，精确度高
3，测量范围广，可测透明、金属材料，半透明、高漫反射，低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…)；
4，尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
5，不受样品反射率的影响
6，不受环境光的影响
7，测量简单，样品无需特殊处理
8，Z方向,测量范围大：为27mm
主要技术参数：
1，扫描范围：150mm×150mm(最大可选600mm*600mm)
2，扫描步长：0.1μm
3，扫描速度：20mm/s
4， Z方向测量范围：27mm
4， Z方向测量分辨率：2nm
产品应用：
MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料，光学元件、陶瓷和先进材料的研发。