光伏电池制备工艺
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
光伏电池制备工艺
第一章
1. 太阳能电池基本工作原理?
答:
1) 能量转换,太阳光的能量转换为电能;
2) 吸收光产生电子空穴对、空穴对—电子分离或扩散、发电电流的传输。
2. 硅太阳能电池吸收光的特点?
答:
1) 低于带隙)
(v e 12.1的不被吸收; 2) 波长越长(能量低),光吸收越慢;
3) 对电池材料厚度的要求:
① 晶体硅:m 500 以上才能最大化吸收;
② 砷化镉:只需要10几微米就可。
3. 太阳电池光吸收类型及对发电有贡献的类型?
答:
光吸收类型:
1) 本证吸收;
2) 杂质吸收;
3) 自由载流子吸收;
4) 激子吸收;
5) 晶格吸收。
对太阳电池转换效率有贡献的最主要的是本证吸收。
4. 太阳能电池中的复合类型?
答:
1) 辐射复合→发光;
2) 俄歇复合→发热;
3) 陷阱辅助复合。
5. 晶体硅太阳电池的基本结构组成?
答:
1) 前电极(主栅、细栅);
2) 减反射绒面;
3) 氮化硅减反射层;
4) N 型层;
5) P 型层;
6) 铝背场;
7) 后电极(主栅、铝膜)。
6. 晶体硅太阳电池的主要参数?
答:
1) 开路电压(oc U );
2) 短路电流(sc I );
3) 最大输出功率(mp P );
4) 工作电压(mp U );
5) 工作电流(mp I );
6) 转换效率(η);
7)
填充因子(FF ); 8)
串联电阻(s R ); 9)
并联电阻(sh R )。 10) mp mp I U P mp ⨯=
11) sc
oc mp I U P FF ⨯= 7. 晶体硅太阳能电池生产工艺流程及作用?
答:
一清→扩散→二清→PECVD 镀膜→丝网印刷、烧结→检测
作用:
一清:制绒降低反射率、去损伤层、扩散前清洗;
扩散:在P 型硅片上扩散N 型磷,从而形成N P -结;
二清:去除磷硅玻璃、去边结。
PECVD 镀膜:镀氧化磷膜、减反射、钝化。
丝网印刷、烧结:制作金属电极、制作铝背场、形成金属与硅的良好接触。
第二章
1. 单晶、多晶绒面特点?
答:
单晶:正金字塔结构;
多晶:蜂窝结构。
2. 单晶制绒夜的主要成分?
答:
OH N a 、异丙酸(IPA )
、添加剂。 3. 多晶制绒液的主要成分?
答:
HF 、3HNO 。
4. 单晶制绒质量要求?
答:
1) 反射率低(%15≤);
2) 绒面颗粒均匀(m 52μ→);
3) 覆盖率达%100;
4) 外观均匀,无白点、色差等;
5) 表面清洁无污染;
6) 腐蚀重量在规定范围内。
5. 多晶绒面质量要求?
答:
1) 反射率低(%20≤);
2) 绒面颗粒大小均匀;
3) 表面暗纹尽量少;
4) 表面清洁无污染;
5) 腐蚀质量在规定范围内。
第三章
1. 扩散的基本类型?
答:
1) 空位扩散;
2) 填隙扩散;
3) 自由扩散。
2. 扩散工艺的主要作用、目的?
答:
在P 型硅片上扩散N 型杂质磷,从而形成N P -结。
3. 扩散层(N 型层)磷分布特点:不均匀。
4. 扩散:磷源:3l POC 、温度:℃850左右。
5. 扩散方块电阻测量方法:四探针法。
6. 扩散工艺质量要求?
答:
1) 方块电阻在某一范围内;
2) 方块电阻的片间均匀性;
3) 方块电阻的片内均匀性;
4) 无污染、色差。
7. 扩散工艺设备的主要类型?
答?
管式:
1) 开管式、闭管式;
2) 悬臂式、软着陆式;
3) 常压式、减压式。
链式:
1) 金属网带;
2) 陶瓷滚轮;
3) 陶瓷线。
第四章
1. PECVD 制备x N S i 膜的作用:减反射、钝化。
2. 表面钝化常用材料:氮化硅(Nx S i )、二氧化硅(2i O S )、非晶硅、三氧化二铝(32l O A )。
3. 直接法与间接法PECVD 区别?
答: