纳米银及金属网格的对比分析
替代ITO 触摸屏新材料发展概况
替代ITO 触控面板新材料发展概况发布时间：2014-11-6纳米银线与金属网格都具有比ITO导电性更佳、价格更低的优势，但截至目前，其中金属网格仍存在不透光、高反射、莫瑞干涉（Moire）等问题亟待解决，因此，纳米银线的相对优势似更为品牌厂商及触控技术研发厂商所看好。
随着触控面板大尺寸化、低价化的需求，以及ITO薄膜不适用于可挠式显示器应用、导电性及透光率等本质问题不易克服等，众厂商纷纷开始研究ITO替代品，包括纳米银线、金属网格、碳纳米管以及石墨烯等材料，其中以纳米银线和金属网格的发展较为成熟。
一、金属网格（metalmesh）技术发展概况金属网格是利用银、铜等金属材料或氧化物，在PET等塑胶薄膜上所形成的金属网格图案。
其理论最低面阻值可达0.1欧姆／□，并且具备电磁遮蔽功能而降低讯号干扰；但其所制得的触控感测器图形线幅稍粗（特别是线幅超过5μm以上）致莫瑞干涉波纹非常明显，仅适用于观测距离较远的显示屏。
较早发展的日本企业是富士和郡是，都是在2009年起开始生产金属网格薄膜并之后提供触控面板业者使用。
富士和郡是是直接供应触控感测器甚至模组，以协助终端业者降低进入的技术门槛。
除此两家之外，美国企业Atmel虽提供触控IC至透明导电膜的解决方案，但因技术发展较晚，且在生产过程屡因制程问题而影响其出货，而大陆企业受Atmel发展结果的影响，于是企图同时强化研发与制造能力，以获得完整的解决方案。
金属网格的基础技术主要可分为三种，第一为直接以金属油墨加以网印；第二为先于PET薄膜上涂布整面金属，再透过黄光微影制程，洗去多余成分而产生网格；第三的技术和第二类似，只是将其中的金属改成溴化银，利用化学还原成银。
原本生产银盐胶卷的富士就是采用第三种方法，并成为全球金属网格薄膜的龙头业者，而其他业者，例如郡是及大陆厂家都是采用第一种技术，Atmel则是使用第二种技术，另外也有独自开发其他技术的，例如日本企业阿基里斯（Achilles），但尚未实用化。
2023年纳米银线行业市场环境分析
2023年纳米银线行业市场环境分析1.市场规模目前，纳米银线行业市场规模正在快速扩大。
随着人们对高效、环保、节能材料的需求不断增加，纳米银线正逐渐取代传统的金属线、碳纤维等材料成为新兴材料。
预计到2025年，全球纳米银线市场规模将达到22.2亿美元。
2.市场需求纳米银线被广泛用于电子、光电、机械等领域。
随着电子行业的发展，纳米银线作为传输导线和导电高效的材料，被广泛运用于电子产业制造。
同时，在光电领域，纳米银线具有良好的透明度和导电性能，被广泛应用于触摸屏、有机薄膜太阳能电池、LED等产品中。
此外，纳米银线还具有良好的抗菌、抗病毒等性能，因此在医疗卫生等领域也有广阔的应用前景。
3.竞争形势纳米银线行业竞争形势激烈，国内外企业均在积极进行技术研发和市场开发。
目前，国内的纳米银线企业主要集中在华东、华南、华中等地区。
同时，国际知名企业也在中国建立了生产基地，形成了国内外企业共同竞争的局面。
4.影响因素纳米银线行业主要受到以下因素影响：(1)政策法规政策法规对于纳米银线行业的规范和发展有着重要的作用。
政府出台有利于纳米银线产业发展的政策措施，有利于行业的健康发展。
(2)基础研究水平纳米银线行业需要不断的基础研究支撑，以促进技术进步和产业发展。
当前，国内纳米银线生产企业在技术研发上还存在一定瓶颈，需要通过更多的科研投入和人才培养来提升基础研究水平。
(3)市场需求市场需求是推动纳米银线产业发展的重要因素。
随着各行业对于高效、环保、节能材料的需求不断增加，纳米银线市场需求将会进一步增长。
5.未来发展趋势随着技术进步和市场需求的不断提高，纳米银线行业将会逐渐趋于成熟。
未来，纳米银线产业将朝着高品质、低成本、高效率的方向发展。
同时，在医疗、卫生、环保、新能源等领域纳米银线也将有更广泛的应用。
纳米金属栅格
纳米金属栅格摘要：一、纳米金属栅格简介1.纳米金属栅格的定义2.纳米金属栅格的特点二、纳米金属栅格的制备方法1.纳米金属丝的制备2.纳米金属栅格的制备三、纳米金属栅格的应用领域1.传感器2.超级电容器3.电磁屏蔽材料四、纳米金属栅格的发展前景与挑战1.发展前景2.挑战正文：纳米金属栅格是一种具有特殊性能的纳米材料，它由纳米金属丝或纳米金属颗粒构成，具有高比表面积、优异的导电性和热稳定性等特点。
纳米金属栅格在电子、能源、环境等领域有着广泛的应用。
一、纳米金属栅格简介纳米金属栅格是一种具有特殊性能的纳米材料，其定义众说纷纭。
一般来说，纳米金属栅格是由直径在1-100nm之间的金属丝或金属颗粒，按照一定的排列方式组成的二维或三维网络结构。
这种结构具有高比表面积、优异的导电性和热稳定性等特点。
二、纳米金属栅格的制备方法纳米金属栅格的制备方法有很多种，其中较为常见的是湿化学法和电化学法。
首先，通过湿化学法或电化学法将金属离子还原成金属纳米颗粒或金属纳米丝。
然后，通过物理或化学方法将金属纳米颗粒或金属纳米丝排列成栅格状。
三、纳米金属栅格的应用领域纳米金属栅格具有很多优异的性能，因此被广泛应用在传感器、超级电容器、电磁屏蔽材料等领域。
例如，纳米金属栅格可以作为传感器，通过对物质的作用，改变其电阻值或电导率，从而实现对物质的检测。
此外，纳米金属栅格还可以作为超级电容器，由于其具有高比表面积和优异的导电性，可以实现高效的电荷存储。
四、纳米金属栅格的发展前景与挑战纳米金属栅格在电子、能源、环境等领域有着广泛的应用，因此其发展前景十分广阔。
然而，纳米金属栅格的制备过程中，往往涉及到复杂的化学反应和物理过程，这对其制备技术提出了挑战。
此外，如何将纳米金属栅格应用到更广泛的领域，也是当前需要解决的问题。
总的来说，纳米金属栅格作为一种具有优异性能的纳米材料，已经在多个领域显示出了强大的应用潜力。
对比两种银纳米片薄膜表面增强的拉曼散 射光谱资料
`13级化工黄仪永学号：201321132059对比两种银纳米片薄膜表面增强的拉曼散射光谱陶金龙，郎彬徐舒平潘玲云和徐卫清1.超分子结构与材料国家重点实验室，2. 吉林大学大学物理，长春130012，中国抽象不同的银纳米板自组装薄膜，在不同的激发波长的表面增强拉曼散射（SERS）光谱下进行了公平的比较。
形状在原地从nanoprisms银转换到幻灯片纳米盘。
目前认为4-巯基吡啶（4-MPY）在这些各向异性的nanoprims银自组装膜会强增出现时的激振线路和银基片的表面等离子体共振（SPR）频带重叠的SERS光谱，在这种模式下，对SERS 增强银纳米片晶面的影响可以忽略不计，因为，两种银纳米板的自组装膜基底面几乎不变。
关键词Suace增强拉曼散射（SERS）;表面等离子体共振（SPR）;形状依赖; nanoprism银; 银纳米盘文章编号1005-9040（2012）-03-488-OS1介绍表面增强拉曼散射（SERS），其为选择性和灵敏的分析工具已经引起了巨大的关注，因为在表面科学，分析化学和生物科学其广泛的潜在应用。
两种用于SERS增强效应已被广泛承认主要一个是长程电磁（EM）enhance-换货，基于放大电磁场导致从金属表面的表面等离子体共振（SPR）。
另一种是短程化学增强，起因于一方面和金属表面上，另一方面分子之间的电荷转移具有原子级粗糙度。
它是交流cepted本地EM场增强负责SERS辐照波长的重大改进与SPR最大的SERS衬底能够带来最大的EM场增强许多金属材料具有独特的SPR 属性谐振已发展到利用它们的SERS增强，如，电化学粗糙电极金属胶体自组装单层金属岛薄膜和纳米球lithogra-PHY形成纳米结构其中，贵金属纳米颗粒已经被广泛地用作SERS基底多年贵金属纳米颗粒的形貌对SERS衬底的活性有很大影响。
纳米合成技术的进步提供了更多更适用的金属纳米粒子作为SERS基底。
研究了SERS活性的三种银衬底（纳米线，三角形纳米片和quasispherical纳米颗粒）以罗丹明B为探针。
评析纳米银线与金属网格材料技术之优劣
评析纳米银线与金属网格材料技术之优劣作者：段晓辉教授时间：2014-05-07 源于：北京大学信息科学技术学院总点击：2756 【导读】：新材料技术应用可以从智能手机的常用面板尺寸一路延伸到20英寸以上的设备，而其阻值，延伸性，弯曲性均优于ITO薄膜。
新材料技术在短时间内无法全面取代ITO薄膜，但新材料技术有巨大的优势，而且从市场反应上来看，应用新材料技术生产的薄膜产品所占的比重在逐年提高。
ITO，即掺锡氧化铟（Indium Tin Oxide）。
它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（Touch Panel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。
未来移动终端、可穿戴设备、智能家电等产品，对触摸面板的有着强劲需求，同时随着触控面板大尺寸化、低价化，以及传统ITO薄膜不能用于可弯曲应用，导电性及透光率等本质问题不易克服等因素，众面板厂商纷纷开始研究ITO的替代品，包括纳米银线、金属网格、纳米碳管以及石墨烯等材料。
新材料技术应用可以从智能手机的常用面板尺寸一路延伸到20英寸以上的设备，而且其阻值，延伸性，弯曲性均优于ITO薄膜。
虽然，新材料技术在短时间内无法全面取代ITO 薄膜，但是新材料技术有着巨大的优势，而且从市场反应上来看，应用新材料技术生产的薄膜产品所占的比重在逐年提高。
目前，石墨烯扔处于研发阶段，距离量产还有很远的距离。
纳米碳管工业化量产技术尚未完善，其制成的薄膜产品导电性还不能达到普通ITO薄膜的水平。
因而，从技术发展与市场应用综合评价，金属网格与纳米银线技术将是近期新兴触控技术的两大主角。
金属网格（Metal Mesh）技术利用银，铜等金属材料或者氧化物等易于得到且价格低廉的原料，在PET等塑胶薄膜上压制所形成的导电金属网格图案。
其理论的最低电阻值可达到0.1欧姆/平方英寸，而且就有良好的电磁干扰屏蔽效果。
但是受限于印刷制作的工艺水平，其所制得的触控感测器图样的金属线宽较粗，通常大于5um，这样会导致在高像素下（通常大于200ppi）莫瑞干涉波纹非常明显。
石墨烯、纳米银线等触控新材料崛起：应用分析
石墨烯、纳米银线等触控新材料崛起：应用分析OFweek 显示网讯——为降低原料成本，触控面板厂积极找新材料，盼取代占成本40%左右的氧化铟锡（ITO ）薄膜。
在此背景下，金属网格（Metalmesh ）、纳米银线（Agnanowire ）、碳纳米管（CNT ）、石墨烯（Graphene ）等替代材料兴起，受到各大触控厂商青睐。
）等替代材料兴起，受到各大触控厂商青睐。
另外，触控面板用氧化铟锡（ITO ）薄膜主要材料为铟锡（Indium ），全球58%产量集中在中国大陆，中在中国大陆，因铟锡产量遭限制，因铟锡产量遭限制，因铟锡产量遭限制，导致价格上涨。
因国内限制铟锡产量，导致价格上涨。
因国内限制铟锡产量，导致价格上涨。
因国内限制铟锡产量，触控面板厂费尽触控面板厂费尽心思开发替代材料，以确保大尺寸触控面板的价格竞争力。
心思开发替代材料，以确保大尺寸触控面板的价格竞争力。
下面OFweek 显示网编辑将带大家一起来看看这些替代氧化铟锡（ITO ）薄膜的新材料的布局情况。
的布局情况。
一、各厂商争相布局Metalmesh 金属网格技术金属网格技术Metal-Mesh 是有别于传统的ITO 的触控导电层，其特点之一是以Film 为基础，目前只是触控技术之一，在手机和中尺寸触控屏中应用比较多。
MetalMesh 具备以下优势：首先，从工艺制程上来看，材料不会有浪费，材料本身成本也相对更低廉。
其次，触摸屏方阻低，导电性能更高，反应速度快，用户体验更完美。
导电性能更高，反应速度快，用户体验更完美。
2013年开始，年开始，触控面板厂抢触控笔记本商机，触控面板厂抢触控笔记本商机，触控面板厂抢触控笔记本商机，纷纷开始布局纷纷开始布局MetalMesh 金属网格技术，继大陆触控厂欧菲光、界面在今年底推出MetalMesh 触控面板之后，胜华也宣布推MetalMeshOGS 面板。
面板。
针对轻薄化的趋势，胜华还祭出了GFG 可挠式触控面板，预计2014年上半年量产。
石墨烯纳米银线金属网格对比分析
石墨烯/纳米银线/金属网格对比分析OFweek显示网讯：从触摸屏产业链来讲，玻璃基板、Petfilm、胶材是产业上游的主要材料，而玻璃基板、Petfilm的供应被美日企业所垄断。
ITO 玻璃、ITOfilm、sensor（包含触控IC）、coverlens是中游部分，下游的就是触控模组一块。
从近几年的触控材料研发上看，替代性材料的研发主要在上中游部分。
2013年，国内电容屏出货面积超过400万平方米，其中ITO导电玻璃需求量超过360万平方米，ITO PET导电膜需求量超过140万平方米。
从触摸屏产业上游材料的成本分析，ITO材料占据40%左右。
且随着触摸屏行业的发展，对ITO材料的需求将越来越大，作为稀有金属的铟，不但价格随之不断上涨，而且将会有告罄的危险，所以在此进行分析的烽烟四起的触控材料，主要为替代ITO的石墨烯、Metal Mesh和纳米银。
东莞市鑫聚光电科技有限公司董事长蔡文珍表示，三种材料中，纳米银线是唯一一个具有现实应用前景的。
理论上，石墨烯的透光度及电阻性能都占优势，但是由于其制备过程工艺复杂，在设备改进、工艺优化等方面都预示在前期需要有巨大的投入。
相信石墨烯在很长一段时间内都不具备量产的条件。
金属网格最主要的优势在于成本低且导电性佳，但为了达到足透的光穿透率，在线细化过程中必须拿掉95%～99%的触控感应面积，导致触控讯号降低20～100倍，现今触控IC难以支持；其二，为了让眼睛看不到，金属线宽必须小于5微米，使的其黄光显影制程或精密印刷技术费用高；此外，5微米金属线不断裂、解决金属反射问题、材料氧化等问题都让金属网格技术备受考验。
在解决以上难题时，成本也会随之增加，届时Metal Mesh是否还具备成本优势是厂商必须考量的问题。
相比之下，纳米银线在工艺制程上就拥有得天独厚的优势：生产工艺简单、良率高。
由于线宽较小，银线技术制成的导电薄膜相比于金属网格技术制成的薄膜可以达到更高的透光率。
对比两种银纳米片薄膜表面增强的拉曼散 射光谱
通过光照射种子生长的方法制备纳米银。总之，通过滴加硼氢化钠溶液制备银种子（8 mmol/L，2毫升）以及水溶液（0.2 mmol/L，100毫升）在柠檬酸钠的存在下（0.4 mmol/L）剧烈搅拌。然后，黄银种子在70-w钠灯下照射7 h得到棱柱形银纳米片。
SERS基底的制备工艺如方案1中所示。我们通过层叠的方法聚集银纳米在三棱的石英片上。石英玻璃是由煮沸的3:7（体积比）组成的Piranha混合溶液清洗30分钟，冷却后收集hzsoq和30% hzoz混合物，石英玻片反复用纯化水冲洗，然后沉浸在0.5%（质量分数）的PDDA溶液120分钟，最后用pdda水提供石英载玻片上的正电荷。PDDA改性石英玻片浸入银nanoprism胶体（0.0001mol/LAG）12小时银纳米三棱吸附在石英片上通过静电相互作用。 方案1实验过程的银纳米颗粒组装和转换过程从银纳米三角纳米盘加热条件下
图2 SEM照片（a）和纳米银三角片（B）组装在石英片
图3银纳米颗粒的消光光谱（a）和（b）组装膜的形成
一个典型的探针分子，行为选择研究两种银纳米粒子的SERS活性。不同的激发线下首先得到4-MPY粉的正常拉曼光谱（514.5和785 nm，图4）。fig.s（a）和（b）显示的表面增强拉曼光谱吸附在银纳米三棱和银行为在514.5和785nm激发线盘。从银纳米盘的SERS信号比银纳米三棱514.5 nm激发下[ fig.s强（一）]。然而，785 nm激光激发下，银纳米柱具有较高的SERS活性比银纳米盘[ fig.s（b）]。可以注意到，不同基底的SERS信号显著不同。在图4中1104/厘米转移到1096/厘米是这个乐队表现出显著的增强带。乐队被分配到所谓的x-sensitive模式。由于改变了C-S键的环耦合振动光谱的变化。此外，在1580和1609个/厘米514.5 nm激发的SERS光谱不同于785 nm情况下激发的两个强峰。这两个峰（1580和1609个/厘米）是由于去质子化，质子化氮4-MPY环拉伸模式，在目前的研究中，在1580和1609/厘米有1条几乎相等的强度曲线A和B（一）。然而，乐队在1609、厘米的强度随激发波长为785 nm线采用[曲线A和B（B）]。据报道，此前，在1580和1609个/厘米的银的pH值引起的表面增强拉曼光谱强度的变化纳米粒子的解决方案。然而，银纳米粒子被组装在幻灯片和SERS衬底的环境并不是这项工作的变化。所以峰值强度的差异是由于我们使用不同的激发波长。
银纳米线与银纳米网格材料的制备方法浅析
技术应用ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹＡＮＤＭＡＲＫＥＴＶｏｌ．２６，Ｎｏ．５，２０１９银纳米线与银纳米网格材料的制备方法浅析李 旭（吉林建筑大学，吉林长春１３００００）摘 要：未来电子设备对于制备材料的导电性、导热性、透过性以及材料的结构特性都会提出更高的要求。
在诸多新型材料中，银纳米线材料展现出来的特性显现出十分广阔的前景。
同时因其柔性、低成本以及较为容易的制备方法，使它可能成为代替成本较高、稀缺且易碎的铟锡氧化物（ＩＴＯ）材料。
对银纳米线与银纳米网格材料的制备方法进行分析，以此更好地了解银纳米线性质，便于应用。
关键词：光电器件；银纳米线材料；ＩＴＯｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１００６－８５５４．２０１９．０５．０７９ 银纳米线透明导体材料现如今，越来越多的新型设备对制作材料的导电性和透明性要求变得更高。
例如，触摸板、电子纸、太阳能电池等。
伴随着这些新型设备的应用使透明电极在工业上的运用也越发的深入。
与此同时，许多研究组在探究透明导体材料最佳光电性质上投入大量的时间与精力。
现行工业技术与主流的科学研究方向仍是以透明氧化物晶体管为主。
如铟锡氧化物（ＩＴＯ），氟掺杂锡的氧化物（ＦＴＯ）以及铝掺杂锌的氧化物（ＡＺＯ）。
伴随着新型设备的发展，设备要求制备电极的材料在满足大规模制备的条件下，还必须具备柔性的特点。
对于制备电极的材料来说，材料的透过性、热稳定性、导电特性是在材料选择时的几个关键条件。
在选材时除了考虑材料的基本特性外还要考虑制备时是否需要特殊的制备环境，如高温环境、真空环境等。
本文所述的银纳米线材料属于柔性透明材料中的一种，它有较高的导电性和热导率同时还具备柔性透明的特点。
在未来设备的普及与发展过程中，银纳米线透明导体材料拥有十分美好的前景。
在实验室中可以依据不同的实验条件去制备不同形态的银纳米线，总结了一些制备方法如微波法、电化学技术。
通过实际比较这些方法后，多元醇制备银纳米线的方法展现出了十分美好的前景。
2024年纳米银线市场分析报告
2024年纳米银线市场分析报告1. 引言纳米银线是一种高度纯净的纳米材料，具有优异的导电性能和抗菌性能，被广泛应用于电子设备、医疗器械和纺织品等领域。
本报告旨在对纳米银线市场进行全面分析，包括市场规模、市场份额、市场趋势和竞争格局等方面。
2. 市场规模分析纳米银线市场在过去几年中取得了快速增长，预计在未来几年内将继续保持高增长态势。
根据最新的市场研究数据显示，2019年全球纳米银线市场规模达到X亿美元，预计到2025年将增长至X亿美元。
3. 市场份额分析目前，纳米银线市场主要由几家领先企业垄断，其中包括ABC公司、XYZ公司和DEF公司。
这些企业凭借其在技术研发、生产能力和市场渠道方面的优势，占据了市场份额的大部分。
4. 市场趋势分析4.1 技术创新驱动市场增长纳米银线市场的快速增长得益于技术创新的推动。
随着纳米银线制备技术的不断突破，产品性能得到了显著提升，使其在各个应用领域具备更广阔的市场前景。
4.2 电子设备领域占据市场主导地位纳米银线在电子设备领域的应用占据了市场的主导地位。
随着电子设备的智能化和微型化趋势的不断发展，对高性能导电材料的需求不断增加，进一步推动了纳米银线市场的发展。
4.3 医疗器械和纺织品领域潜力巨大除了电子设备领域，纳米银线在医疗器械和纺织品领域也具有广阔的市场前景。
纳米银线的抗菌性能能够有效抑制细菌生长，因此在医疗器械和纺织品的制造中得到广泛应用。
5. 竞争格局分析纳米银线市场竞争激烈，市场主要由几家大型企业主导。
这些企业通过不断加大技术研发投入、扩大生产能力和拓展市场份额来巩固其市场地位。
此外，新兴的创业公司也在纳米银线市场崭露头角，通过不断推陈出新的产品和灵活的市场策略，不断挑战市场主导地位。
6. 结论纳米银线市场作为一种具有巨大市场潜力的新兴材料，将在未来几年持续高速增长。
技术创新、电子设备领域的需求和医疗器械与纺织品领域的应用潜力将是市场增长的主要驱动力。
市场竞争激烈，需要企业不断创新和提高核心竞争力。
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纳米银与金属网格对比分析
行业资讯2014-11-11
•一、市场因素的评价
关于市场因素决定于产品价格与技术规格，技术规格将于之后
再详细讨论。
评价产品价格的变动，包括初期生产价格，例如材料成本、制
造成本，IC及其器件的整合成本，假如企业一条龙式地能掌握从原料至器件，甚至IC器件的成本，则有机会端出具有竞争力的产品价格。
第二种系量产价格，当不同材料技术与生产良率仍有提升空间，以及产品的应用领域扩大，因而具备更多压低成本的能力，例如掌
握了主要品牌商且成为市场的主流产品，或者进一步扩展到其他应
用领域，而造成市占及出货量的扩大。
从原料与制造成本的角度，金属网格材料可为银或铜原子，或
银的氧化物，以印刷方式形成金属网格，而该金属网格的线幅超过
5μm以上；由于银或铜原料取得并不是问题，原料成本系相对低廉，但超过5μm以上的金属线幅所产生的视觉莫瑞干涉过于明显致规格劣化，因此必须设法降低线幅至3μm以下始为市场所接受，如此，为降低线幅所增加的成本，包括放弃印刷法而改成黄光微影或雷射
制作遮罩、良率降低等制造成本增加，就占有很高比重。
相对地，
纳米银线油墨包括纳米银线(线径约50nm、线长约23μm)、调制溶液配方等，并非能直接取得，而是购自如纳米银线材料供应商Cambriostechnologies等少数专业厂商，因此原料成本欲降不易，但相对地，纳米银线没有如金属网格的视觉莫瑞干涉现象，不必刻意要求线幅降低，加上可以搭配成本较低的卷对卷印刷方式生产，即能获得符合市场规格的触控面板。
为降低原料与制造成本，主推纳米银线触控面板的触控大厂宸鸿，即于2013宣布与日本写真印刷联手开发纳米银线触控技术，并搭配先前与Cambriostechnologies合资而提供的纳米银线材料。
日本写真擅长塑胶薄膜生产技术与卷轴式(roll-to-roll)生产技术，而Cambriostechnologies系纳米银线材料的少数供应厂商，透过宸鸿专业的触控图案设计及制造技术，三者强强合作将会有不错的价格竞争力，打入高阶产品市场的机会也很高。
虽然Cambriostechnologies的商业模式不单是与宸鸿技术合作而已。
进一步地，因为纳米银线材料也具有其他领域的应用价值，例如在太阳能电池的应用，因此未来可望吸引更多厂商投入研发与生产行列，而纳米银线的材料成本在供给增加之后或许有较大的降价机会。
二、技术因素的评价
1.莫瑞效应问题及克服
触控屏幕上有时会出现看似波纹状画面，这种情况被称之为「莫瑞效应(Moiréeffects)」，特别是当数位产品中之画素、光学膜片或触控图案，在水平与垂直方向上，若规则对齐的画素与物体的精细规则图案重叠时稍有偏差，则出现干扰图案与实际物体并不存在的条纹或干涉。
金属网格是在薄膜上制造出格状图案，并在其中涂布银、铜等金属物质的技术。
由于图案系由银、铜等具有反光的金属所构成，特别是网格线幅稍粗(反光面积大)、上下网格图案交叠在一定角度时，例如金属网格触控面板用于200ppi以上高解析度显示器，例如手机，即容易出现该莫瑞效应，故在商用化上仍有重重障碍。
而在AllinOne产品的电脑、监视器、笔记型电脑等，则因为视距较远及解析度较低，所以规格要求相对较低。
金属网格的莫瑞效应，例如三星，系以微细线幅与图样化(Patterning)技术来克服，通过将线幅由目前的约5~6μm缩减到3μm以下，特别是若能缩减到1μm.，则智能手机也将能搭载金属网格触控面板。
然而，欲将线幅大幅缩减并非易事，包括无法采用简易的印刷制程、过细的线幅制作前后容易断线、网格阻值升高而IC侦测技术需要更精进地配合才行，如此，即失去获得低制造成本的机会。
相对地，纳米银线并非格状图案而呈现不规则地分布，并且纳米银线的线径约50nm而低于1μm以下，故没有金属网格的莫瑞效应问题。
例如Cambrios的银奈米线材料制成ClearOhm导电透明油墨，能提供比ITO更高的导电性与更快速的触控反应速度，92%以上透光率，同时没有特别图案纹与干涉叠纹的情况，适合各种尺寸的触控面板，包括华为Ascend，搭售日本NTTDoCoMo的NECMEDIASXN-07D等智能手机，LG23寸显示器/AIO一体机，GVision15寸POS屏幕，及英特尔13.3寸Ultrabook参考平台等。
2.雾度问题及克服
所谓雾度(Haze)系指透明或半透明材料的内部或表面，由于光漫射而造成的云雾状或混浊的外观。
就金属网格图案而言，呈现光漫射的在于金属图案材料，特别是银金属可以反射更宽范围的可见光波长。
因为金属网格图案中的金属材料所占面积不大，而纳米银线因为分布整个基板表面，所以相对地，光漫射所形成的雾度问题，纳米银线显得较为严重。
为降低光漫射，日产化学工业开发出了通过在纳米银线薄膜上进行涂布可降低雾度的高折射率材料，利用涂布高分子材料实现了1.79的高折射率，可使薄膜电阻值为100Ω/□的纳米银线薄膜的雾度降至基本看不到的1以下。
另外ClearOhm技术除了触控板外，也可做为3DTV液晶电视、可挠式显示器、OLED显示器╱照明材料、太阳能光电转换板(转换率达12%)，以及车用电子等领域的更多应用。
然而这些纳米银线材料的优异挠度，是金属网格所无法达成的。
4.线幅评价
为配合高解析度显示器及解决莫瑞效应问题，金属网格触控研发极力寻求降低线幅的技术方案。
同时，为降低制作成本，也不放弃印刷工艺制作金属网格的前提，包括采用不同材料银膏或铜材料的丝网印刷或者压印方式填入金属材料。
再者，静电容量式触控面板，为了从触控电极区拉出的布线，可以在屏幕周边排列极小面积的布线要求(客户需求一小边框或无边框的设计规格)，因此此一区域的众多密集布线也必须细微化。
实务上，线距为200μm左右的布线区可以采用丝网印刷或压印工艺；而线距小于150μm的布线区则须改用光刻（Photolithography）技术来达成。
然而，以制程整合的观点，触控电极区与周边布线区的制程需要一致才能简化并降低成本，亦即，金属网格于高解析度显示器的制程整合中存在成本优化不易的缺点。
相对地，纳米银线的线径极细，没有网格而产生视觉莫瑞效应的问题及与周边布线区连接的制程整合问题。
初步可以站稳此一供应链的防线，进一步地，因为金属网格也可能改采以纳米银线作为网格的制作材料而渔利双收。
日本写真印刷的加入宸鸿与CambriosTechnologies之间的策略结盟，将引进塑胶薄膜触控制程，加上卷对卷(roll-to-roll)生产技术，可以进一步整合并制定纳米银线触控技术的产业规格，开发出更具有价格竞争力的产品。
至于下游相关感测元件部分，则由
eTurboTouch、LGE、NisshaPrinting、CNi、ShinEtsu与其他厂商
所提供。
整体而言，纳米银线触控的产业供应链尽管加入总家数不若金
属网格家数多，但因为原料供应商、制造商与品牌出海口之间所专擅的业务与专业能力非常明确，单一企业体不易一条龙式垂直整合，呈现上中下游产业供应链结构紮实的型态，再者，由于纳米银线触控技术具有横跨全尺寸与不同领域的潜力，因此可以促进此一供应链参与者更潜心于研发改进，而避免不公平的低价倾销与违反营业秘密等冲突。
2.MetalMesh的产业供应链概况及可能遭遇的利益冲突
以金属网格感测器而言，透明导电膜主要架构包括金属材料图
案与基材搭配而成，上游厂商于完成透明导电膜后，其实可以进一
资料来源:本文推论
表四:新兴技术方案的评价:以SNW对MetalMesh为例新兴材料、技术与方案对比之后的结论
(5)使用银、铝或铜作为金属网格的材料时需面临氧化的问题。
如何增加表面处理材料来防止氧化，同样增加了制程的难度与成本。
一般而言，低价的触控解决方案中，触控网格感测器与面板搭
配时实务上易产生干莫瑞干涉，欲解决干涉纹问题，首先透过制程选择与改进来解决。
MetalMesh的制程可以采用印刷制程及黄光制程，采用印刷制程可以省去蒸镀、曝光、显影、蚀刻等工序及设备投资，直接在基材上印刷所需图形，有较佳的成本优势，但网格的精细度控制不易，易有光学特性不佳的问题，且要做到可有较好的性能表现的低于
5um线幅之难度较高；假如采用黄光制程，虽然可以提供较精细的
网格及相对细线的线幅，但成本却有显着提升，在市场降低成本需求的压力下，如何透过制程成本较低的印刷制程，得到低于5um以下的线幅设计，以及解决线路过细易产生断线等良率问题，成为厂商重点开发方向。
采用较高成本的黄光制程来获得相对更细的线幅设计(即低于
5um以下)是可行的，但高阶黄光制程对于使金属网格朝低价化的推进是互相违背的。
虽然，近期发展上，莫瑞干涉这类问题可以改为仰赖不规则网
格与差排、转角度来解决，但却因而衍生更多其他的技术问题，例
如不规则网格让电极图案设计更困难，且单位不规则的连续会构成规则可能；差排或转角度让Trace引线设计更困难，并造成layout 难度增加。