单晶硅太阳能电池详细工艺
单晶硅太阳能电池详细工艺
单晶硅太阳能电池详细工艺首先，为了制备单晶硅太阳能电池，我们需要准备高纯度的硅材料。
一般来说，硅材料可以通过冶炼石英砂、电冶炼硅和多晶硅等方法获得。
其中，多晶硅是主要的原材料，它的纯度通常在99.999%以上。
接下来是晶体生长过程。
首先，在一个炉子中加入纯净的硅材料和一定量的掺杂剂，然后将炉子加热到1600℃以上，使硅材料熔化。
然后，在炉子底部引入一根细小的初始磊晶棒，并缓慢提升它的温度，初始磊晶棒上的硅液会逐渐结晶成为单晶硅。
随着进一步的提升温度和时间，晶体会不断生长，最终形成一个完整的单晶硅棒。
在生长完毕后，需要将单晶硅棒切割成薄片，这个过程叫做切割。
切割通常使用金刚石圆盘进行，通过高速旋转的金刚石圆盘将单晶硅棒切割成半导体硅片。
这些硅片的厚度通常为200微米到300微米。
切割完毕后，硅片需要经过清洗工艺。
首先，将硅片浸入去离子水中，以去除表面的杂质。
然后，在酸性溶液中进行化学清洗，去除硅片表面的有机和无机污染物。
最后，使用高纯的去离子水将硅片进行漂洗，以确保表面的纯净度。
最后一步是电池的组装。
首先，在硅片表面涂覆抗反射膜，以减少光的反射损失。
然后，在硅片的正面和背面分别涂上金属电极，形成P-N结构。
接下来，将电极打孔并涂上阳极剂，形成光电池组件。
最后，将多个光电池组件连接到一起，并封装在透明的玻璃或塑料外壳中，形成太阳能电池板。
综上所述，单晶硅太阳能电池的详细工艺包括硅材料准备、晶体生长、切割、清洗和电池组装等步骤。
通过这些步骤，我们能够制备出高效率和稳定性的太阳能电池。
太阳能电池的制造工艺是一个复杂而精细的过程，需要严格控制各个环节，以保证电池的性能和质量。
随着技术的进步，我们相信单晶硅太阳能电池会在未来的能源领域发挥更重要的作用。
单晶硅太阳能电池技术的研究与发展
单晶硅太阳能电池技术的研究与发展一、引言太阳能电池作为绿色能源的代表之一，已经成为当前世界各国科学技术发展的热点和重点研究的对象。
其中，单晶硅太阳能电池技术因为其高效、可靠、稳定、长寿命等优点，已经成为主流的太阳能电池技术之一。
本文主要介绍了单晶硅太阳能电池技术的研究与发展。
二、单晶硅太阳能电池的基本原理单晶硅太阳能电池是太阳能电池中最常见的一种，它的基本原理是利用半导体材料与阳光的相互作用产生光生电效应，将太阳能转化成电能。
具体地说，当阳光照射到单晶硅太阳能电池的P-N结区域时，电子从半导体的价带跃迁到导带中，形成电子空穴对，同时，在P-N结区域内形成一个电场，使得电子、空穴在电场力下分别向N型、P型半导体集结，然后通过电路输出直流电能。
三、单晶硅太阳能电池的制造工艺1.单晶硅锭生长单晶硅锭生长是单晶硅太阳能电池制造的第一步，生产单晶硅锭所需的原料为硅源、掺杂原料和能源。
将这些原料混合后，通过高温熔解、晶核种植、拉晶和切割步骤，得到高纯度的单晶硅锭。
2.硅片制备将单晶硅锭研磨压成圆形、平整的硅片，然后通过化学氧化、扩散、光刻、蚀刻和金属化等步骤，制造出单晶硅太阳能电池的芯片。
3.电池片组装将单个单晶硅太阳能电池片组装成整块电池板，然后通过系列接线、密封、贴膜、填充树脂和包装等步骤，完成整体制造。
四、单晶硅太阳能电池的特点1.高效特性单晶硅太阳能电池的光电转换效率可以达到20%以上，较其他太阳能电池技术有更高的能量利用率和转化效率。
2.稳定性好单晶硅太阳能电池主要成分是硅，硅在太阳辐射下稳定性好，在高温、高湿度、长期使用等条件下，能保持较好的性能。
3. 寿命悠长单晶硅太阳能电池的寿命长达30年以上，在确定的使用条件下能够长期稳定输出电能。
五、单晶硅太阳能电池的应用前景单晶硅太阳能电池因为性能优良与可靠性高，已经在各领域得到了广泛应用。
它适用于太阳能发电、光伏路灯、太阳能电池板、太阳能电池组等领域，特别是在家庭和商业应用方面，如家庭光伏系统、储能系统、电动汽车等，具有广泛的市场前景。
太阳能电池单晶硅
太阳能电池单晶硅
太阳能电池单晶硅是目前最常见的太阳能电池类型之一。
它由单晶硅制成，具有较高的转换效率和较长的使用寿命，广泛应用于家庭光伏发电系统、商业光伏电站、太阳能灯、太阳能电池板等领域。
太阳能电池单晶硅的制作工艺比较复杂，需要经过多个步骤才能完成。
下面是太阳能电池单晶硅的制作过程：
1. 硅单晶体生长：将硅原料熔化，然后通过种晶的方式让硅原子在晶体种子上逐渐生长，最终形成硅单晶体。
2. 切割硅片：将硅单晶体切割成厚度为0.3-0.4mm的硅片，通常采用金刚石线锯进行切割。
3. 清洗硅片：用酸洗液对硅片进行清洗，去除表面的氧化物和杂质。
4. 晶体硅片制备：将硅片放入炉中，在高温下进行扩散、氧化等处理，形成PN结。
5. 制作电极：在硅片表面涂上铝等金属，形成正负极。
6. 焊接：将多个硅片按照一定方式组合起来，形成太阳能电池板。
太阳能电池单晶硅的转换效率在20%左右，比其他太阳能电池类型高。
但由于制作过程复杂，成本较高，因此在大规模应用中仍存在一定的限制。
单晶硅太阳电池工艺课件
将电池效率提高了0.15-0.2%。
等离子刻蚀后会进行去“磷硅玻璃”清洗，因为扩散后，硅片玻璃”。清洗溶液为HF溶液，浓度在5%左
右。RENA设备整合了去磷硅玻璃这一步，边缘腐蚀后，硅片会漂到HF溶液
中。
这里顺便提一下，国外的公司进行边缘刻蚀采用了激光刻蚀，用激光将
绒前采用高浓度碱液腐蚀的“粗抛” 工艺。由于受原材料影响较大，所 以制绒工艺很不稳定，需要很有经
验的工艺人员在场控制。
制绒工艺所用的化学辅料现在普遍是NaOH,异丙醇和硅酸钠。有个别公司不用硅酸钠。
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5
扩散前清洗
制绒后会进行扩散制结，在扩散前要进行 酸洗，洗去硅片表面附着的金属离子。主 要采用盐酸溶液，清洗机一般采用捷佳创 和北京七星华创的。清洗作业还要用到HF 溶液，洗去硅片表面上的薄氧化层。硅片 经过两种酸液的清洗顺序没有严格要求， 一般是先经过HCl，再经过HF。
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2
来料检验
现在有的电池生产公司会有这
道生产工序，因为优质硅片在市场上 常常处于“有价无市”的状态，缺货严 重，许多硅片制造商经常会用硅棒的 “头尾料”来以次充好，卖给下游电池 制造商，所以加上这道工序用来检验
硅片的质量。
此道工序主要检验硅片的厚度、
少子寿命、表面平整度、是否有微裂
纹、电阻率、表面油污等，同时具有
CF4和O2,比例10:1即可。刻蚀后，用冷热探针接触硅片边缘，显示“P”即可，
或用万用表的触笔测试边缘，电阻大于5000欧亦可。现今一些大公司引进了
德国的RENA湿法刻蚀设备，使硅片在滚轮上漂浮通过硝酸、硫酸、氢氟酸
的混合溶液，利用“虹吸原理”使硅片边缘吸入酸液腐蚀掉N型区，同时硅片背
面的绒面结构被腐蚀平整。大规模生产后证明，湿法刻蚀相对于干法刻蚀，
晶硅太阳能电池制造工艺-工艺流程以及工序简介
2）、工序简介
目前硅太阳能电池制造工序主要有：
制绒清洗工序 扩散工序 PECVD工序 丝网印刷工序 烧结工序 Laser刻蚀工序 测试分选工序
1. 制绒清洗工序
(a).单晶制绒---捷佳创
目的与作用：
（1）去除单晶硅片表面的机械损伤层和氧 化层。
（2）为了提高单晶硅太阳能电池的光电转 换效率,根据单晶硅的各向异性的特性， 利用碱(KOH)与醇(IPA)的混合溶液在单 晶硅表面形成类似“金字塔”状的绒面, 有效增强硅片对入射太阳光的吸收,从而 提高光生电流密度。
1）、硅太阳能电池的制造工艺流程：
清洗制绒
扩散
周边刻蚀
印刷电极PECVD去磷玻璃烧结分选测试
检验入库
1.原料硅片清洗制绒 12.测试分选
11.激光 10.烧 结 9.丝网印刷正电极 8.烘 干
2.高温扩散（液态扩散） 3.去磷硅玻璃（去PSG） 4.沉积减反射膜（PECVD）
5.丝网印刷背电极 6.烘 干
去除磷硅玻璃的目的、作用：
1. 磷硅玻璃的厚度在扩散中工艺难控制，且其工艺窗口太小，不稳 定。
2. 磷硅玻璃的折射率在1.5左右，比氮化硅折射率（2.07左右）小， 若磷硅玻璃较厚会降低减反射效果。
3. 磷硅玻璃中含有高浓度的磷杂质，会增加少子表面复合，使电池 效率下降。
2. 扩散（POCl3液态扩散）
(b). 多晶制绒---RENA InTex
3Si 2HNO3 18HF 3H2SiF6 0.45NO 1.35NO2 0.1N2O 4.25H2 2.75H2O
目的与作用：
（1）去除单晶硅片表面的机械损 伤层和氧化层。
（2）有效增加硅片对入射太阳光 的吸收,从而提高光生电流密度，提高 单晶硅太阳能电池的光电转换效率。
单晶硅太阳能电池片生产工艺
单晶硅太阳能电池片生产工艺1.原料准备：首先准备硅原料，通常使用高纯度硅来制备单晶硅太阳能电池片。
高纯度硅通过多次冶炼和纯化过程，最终得到电解多晶硅。
这个多晶硅会通过单晶硅电炉再次熔炼，形成大型的单晶硅锭。
2.切割硅锭：单晶硅锭被切割成薄片。
通常采用线状金刚石磨料来切割锭，将锭切割成几毫米的薄片。
这些薄片被称为硅片。
3.荒杪抛光：硅片表面通常会有一些不规则的凸起和凹陷，这会降低电池片的光吸收效率。
为了提高光吸收效率，需要对硅片进行荒杪抛光处理。
这个过程会去除硅片表面的不规则部分，使其更加平整。
4.清洁处理：在单晶硅太阳能电池片的生产过程中，清洁处理至关重要。
因为一旦硅片表面有污染物，会影响电池片的性能。
常见的清洁方法是在氢氧化钠溶液中浸泡硅片，并用超声波清洗。
5.染色处理：为了提高单晶硅太阳能电池片的光吸收效率，通常会对硅片进行染色处理。
染色处理会增加硅片的表面粗糙度，并提高其光吸收能力。
6.扩散处理：在单晶硅太阳能电池片中，扩散处理是关键的工艺步骤之一、扩散处理会将硅片的表面剖分成P型和N型半导体区域。
这个过程中，通常使用磷或硼进行掺杂，形成P-N结构，从而使电池片能够产生电信号。
7.光刻：光刻是电池片加工过程中的重要步骤之一、通过使用光刻胶和掩膜，将具有特定图案的光照射到电池片上，使其形成P-N结构。
光刻完成后，利用腐蚀液进行刻蚀，移除没有被光刻液保护的区域。
8.金属喷涂：在单晶硅太阳能电池片的生产过程中，还需要喷涂适当的金属，比如银或铝。
这些金属将成为电池片的电极，用于收集电荷。
9.测量和分选：最后，需要对单晶硅太阳能电池片进行测量和分选。
只有符合规格的电池片才能用于太阳能电池板的生产。
在这个过程中，电池片的电性能将被测量，如开路电压、短路电流和填充因子等。
以上是单晶硅太阳能电池片的生产工艺。
通过这个工艺流程，可以制备出高效、可靠的单晶硅太阳能电池片，用于太阳能发电系统中。
单晶硅太阳能电池生产工艺
单晶硅太阳能电池生产工艺单晶硅太阳能电池是目前市场上应用最广泛的太阳能电池之一，其主要生产工艺包括材料准备、单晶硅生长、切割、清洗、反射镀膜、清洗、阳极氧化、光刻、蒸镀和封装。
首先，材料准备是单晶硅太阳能电池生产的第一步，主要包括硅原料的提取和净化。
常用的硅源是硅矿石，通过高温冶炼、气相法、火法和溶液法等方法提取纯度高的硅原料。
接下来是单晶硅生长，通过将纯化的硅熔体在控制温度下缓慢凝固，形成单晶硅棒。
该工艺主要有六种方法，包括Czochralski法、Float-zone法、Bridgman-Stockbarger法、Dendritic-web法、EFG法和Ribbon法。
其中，Czochralski法是最常用的方法，即在锭生长炉内，将高纯度的硅熔体与单晶硅种子接触，使硅棒逐渐生长。
然后是切割工艺，将单晶硅棒切割成薄片，通常是将硅棒切割成2mm厚的硅片。
切割主要采用钻孔、线锯和刀片三种方法，其中线锯是最常用的方法，通过钢丝或金刚线的高速旋转来切割硅片。
接下来是清洗工艺，将切割好的硅片进行清洗，去除表面的杂质和污染物，并防止光刻产生的残留物对电池产生损害。
然后是反射镀膜工艺，将反射层均匀涂覆在硅片的背面，提高光的利用效率。
一般使用合金材料或三层结构的金属膜进行反射镀膜。
接下来是阳极氧化工艺，将硅片放置在带电解质的电解槽中，通过电流作用使硅片表面形成氧化膜。
这层氧化膜可以提高电池的光电转换效率和耐腐蚀性能。
然后是光刻工艺，将光刻胶涂覆在硅片表面，然后使用光刻机进行光刻，形成电池的电极和其他结构。
接下来是蒸镀工艺，将金属材料蒸发在硅片表面形成电池的电极。
常用的金属材料包括铝和铝合金。
最后是封装工艺，将电池的前面与背面进行密封，防止外界湿气和灰尘的侵入。
整个单晶硅太阳能电池生产工艺需要严格的工艺控制和设备技术，确保电池的质量和性能。
单晶硅太阳能电池介绍
造的太阳能电池，也被称为单晶硅太阳电池或单晶硅光伏电池。
单晶硅太阳能电池的制造过程包括以下几个主要步骤：
单晶硅生产：从硅矿石中提取高纯度的硅，经过冶炼和晶体生长等工艺制成单晶硅棒。
切割：将单晶硅棒切割成薄片，通常为方形或圆形。
晶体硅片制备：对薄片进行脱氧和抛光等处理，制备出光滑的晶体硅片。
硅片掺杂：通过在硅片表面加入掺杂物，通常是磷或硼，形成p型和n型半导体。
金属电极：在硅片上涂覆金属电极，通常使用铝作为背电极，使用银作为正电极。
反射层和防反射层：在硅片表面涂覆反射层和防反射层，以提高光的吸收效率。
封装：将制备好的太阳能电池片进行封装，通常使用玻璃、背板和密封胶等材料。
单晶硅太阳能电池的工作原理是基于光电效应。
当太阳光照射到电池表面时，光子能量被硅片吸收，激发出电子和空穴对。
由于硅片的p-n结构，电子和空穴会在电场作用下分离，形成电流。
金属电极收集这些电流，从而产生可用的电能。
单晶硅太阳能电池具有以下特点和优势：
高效率：单晶硅太阳能电池具有较高的转换效率，通常可达到15%到20%以上，有些高性能单晶硅电池甚至可超过20%。
良好的稳定性：单晶硅太阳能电池在长期使用过程中具有较好的稳定性和可靠性，其性能衰减较慢。
较高的光电转换效率：单晶硅材料的晶体结构较为完整，因此具有较高的光电转换效率，能够更有效地将太阳能转化为电能。
长寿命：单晶硅太阳能电池具有较长的使用寿命，一般可达25年以上。
尽管单晶硅太阳能电池具有较高的成本和制造复杂度，但其高效率和可靠性使其成为太阳能
能应用中。
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单晶硅太阳能电池1.基本结构指电极图1太阳能电池的基本结构及工作原理2,太阳能电池片的化学清洗工艺切片要求：①切割精度高、表面平行度高、翘曲度和厚度公差小。
②断面完整性好，消除拉丝、刀痕和微裂纹。
③提高成品率，缩小刀（钢丝）切缝，降低原材料损耗。
④提高切割速度，实现自动化切割。
具体来说太阳能硅片表面沾污大致可分为三类：1、有机杂质沾污：可通过有机试剂的溶解作用，结合兆声波清洗技术来去除。
2、颗粒沾污：运用物理的方法可采机械擦洗或兆声波清洗技术来去除粒径；0.4仙颗粒，利用兆声波可去除>0.2飘粒。
3、金属离子沾污：该污染必须采用化学的方法才能将其清洗掉。
硅片表面金属杂质沾污又可分为两大类：（1）、沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。
（2）、带正电的金属离子得到电子后面附着（尤如电镀”）到硅片表面。
1、用H2O2作强氧化剂，使电镀”附着到硅表面的金属离子氧化成金属，溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。
2、用无害的小直径强正离子(如H+),一般用HCL作为H+的来源，替代吸附在硅片表面的金属离子，使其溶解于清洗液中，从而清除金属离子。
3、用大量去离子水进行超声波清洗，以排除溶液中的金属离子。
由于SC-1是H2O2和NH40H的碱性溶液，通过H2O2的强氧化和NH4OH的溶解作用，使有机物沾污变成水溶性化合物，随去离子水的冲洗而被排除；同时溶液具有强氧化性和络合性，能氧化Cr、Cu、Zn、Ag、Ni、Co、Ca、Fe、Mg等，使其变成高价离子，然后进一步与碱作用，生成可溶性络合物而随去离子水的冲洗而被去除。
因此用SC-1液清洗抛光片既能去除有机沾污，亦能去除某些金属沾污。
在使用SC-1液时结合使用兆声波来清洗可获得更好的清洗效果。
另外SC-2是H2O2和HCL的酸性溶液，具有极强的氧化性和络合性，能与氧化以前的金属作用生成盐随去离子水冲洗而被去除。
被氧化的金属离子与CL-作用生成的可溶性络合物亦随去离子水冲洗而被去除。
3.太阳能电池片制作工艺流程图图2：晶体硅太阳能电池的制造工艺流程具体的制作工艺说明(1)切片：采用多线切割，将硅棒切割成正方形的硅片。
(2)清洗：用常规的硅片清洗方法清洗，然后用酸(或碱)溶液将硅片表面切割损伤层除去30—50um)(3)制备绒面：用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。
(4)磷扩散：采用涂布源(或液态源，或固态氮化磷片状源)进行扩散，制成PN+结，结7一般为0.3—0.5um。
(5)周边刻蚀：扩散时在硅片周边表面形成的扩散层，会使电池上下电极短路，用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层。
(6)去除背面PM结。
常用湿法腐蚀或磨片法除去背面PM结。
(7)制作上下电极：用真空蒸镀、化学镀锲或铝浆印刷烧结等工艺。
先制作下电极，然后制作上电极。
铝浆印刷是大量采用的工艺方法。
(8)制作减反射膜：为了减少入反射损失，要在硅片表面上覆盖一层减反射膜。
制作减反射膜的材料有MgF2,SiO2,A12O3,SiO,Si3N4,TiO2,Ta2O5等。
工艺方法可用真空镀膜法、离子镀膜法，溅射法、E涮法、PECV0fc或喷涂法等。
(9)烧结：将电池芯片烧结于锲或铜的底板上。
(10)测试分档：按规定参数规范，测试分类。
生产电池片的工艺比较复杂，一般要经过硅片检测、表面制绒、扩散制结、去磷硅玻璃、等离子刻蚀、镀减反射膜、丝网印刷、快速烧结和检测分装等主要步骤。
本文介绍的是晶硅太阳能电池片生产的一般工艺与设备。
一、硅片检测硅片是太阳能电池片的载体，硅片质量的好坏直接决定了太阳能电池片转换效率的高低，因此需要对来料硅片进行检测。
该工序主要用来对硅片的一些技术参数进行在线测量，这些参数主要包括硅片表面不平整度、少子寿命、电阻率、P/N型和微裂纹等。
该组设备分自动上下料、硅片传输、系统整合部分和四个检测模块。
其中，光伏硅片检测仪对硅片表面不平整度进行检测，同时检测硅片的尺寸和对角线等外观参数；微裂纹检测模块用来检测硅片的内部微裂纹；另外还有两个检测模组，其中一个在线测试模组主要测试硅片体电阻率和硅片类型，另一个模块用于检测硅片的少子寿命。
在进行少子寿命和电阻率检测之前，需要先对硅片的对角线、微裂纹进行检测，并自动剔除破损硅片。
硅片检测设备能够自动装片和卸片，并且能够将不合格品放到固定位置，从而提高检测精度和效率。
二、表面制绒单晶硅绒面的制备是利用硅的各向异性腐蚀，在每平方厘米硅表面形成几百万个四面方锥体也即金字塔结构。
由于入射光在表面的多次反射和折射，增加了光的吸收，提高了电池的短路电流和转换效率。
硅的各向异性腐蚀液通常用热的碱性溶液，可用的碱有氢氧化钠，氢氧化钾、氢氧化锂和乙二胺等。
大多使用廉价的浓度约为1%勺氢氧化钠稀溶液来制备绒面硅，腐蚀温度为70-85Co为了获得均匀的绒面，还应在溶液中酌量添加醇类如乙醇和异丙醇等作为络合剂，以加快硅的腐蚀。
制备绒面前，硅片须先进行初步表面腐蚀，用碱性或酸性腐蚀液蚀去约20〜25^m在腐蚀绒面后，进行一般的化学清洗。
经过表面准备的硅片都不宜在水中久存，以防沾污，应尽快扩散制结。
三、扩散制结太阳能电池需要一个大面积的PN结以实现光能到电能的转换，而扩散炉即为制造太阳能电池PN结的专用设备。
管式扩散炉主要由石英舟的上下载部分、废气室、炉体部分和气柜部分等四大部分组成。
扩散一般用三氯氧磷液态源作为扩散源。
把P型硅片放在管式扩散炉的石英容器内，在850---900摄氏度高温下使用氮气将三氯氧磷带入石英容器，通过三氯氧磷和硅片进行反应，得到磷原子。
经过一定时间，磷原子从四周进入硅片的表面层，并且通过硅原子之间的空隙向硅片内部渗透扩散，形成了N型半导体和P 型半导体的交界面，也就是PN结。
这种方法制出的PN结均匀性好，方块电阻的不均匀性小于百分之十，少子寿命可大于10ms制造PN结是太阳电池生产最基本也是最关键的工序。
因为正是PN结的形成，才使电子和空穴在流动后不再回到原处，这样就形成了电流，用导线将电流引出，就是直流电。
四、去磷硅玻璃该工艺用于太阳能电池片生产制造过程中，通过化学腐蚀法也即把硅片放在氢氟酸溶液中浸泡，使其产生化学反应生成可溶性的络和物六氟硅酸，以去除扩散制结后在硅片表面形成的一层磷硅玻璃。
在扩散过程中，POCLfO反应生成P2c5淀积在硅片表面。
BQ与Si反应又生成SiO2和磷原子，这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃。
去磷硅玻璃的设备一般由本体、清洗槽、伺服驱动系统、机械臂、电气控制系统和自动配酸系统等部分组成，主要动力源有氢氟酸、氮气、压缩空气、纯水，热排风和废水。
氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸与二氧化硅反应生成易挥发的四氟化硅气体。
若氢氟酸过量，反应生成的四氟化硅会进一步与氢氟酸反应生成可溶性的络和物六氟硅酸。
五、等离子刻蚀由于在扩散过程中，即使采用背靠背扩散，硅片的所有表面包括边缘都将不可避免地扩散上磷。
PN吉的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面，而造成短路。
因此，必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀，以去除电池边缘的PN结。
通常采用等离子刻蚀技术完成这一工艺。
等离子刻蚀是在低压状态下，反应气体CF4的母体分子在射频功率的激发下，产生电离并形成等离子体。
等离子体是由带电的电子和离子组成，反应腔体中的气体在电子的撞击下，除了转变成离子外，还能吸收能量并形成大量的活性基团。
活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面，在那里与被刻蚀材料表面发生化学反应，并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面，被真空系统抽出腔体。
六、镀减反射膜抛光硅表面的反射率为35%为了减少表面反射，提高电池的转换效率，需要沉积一层氮化硅减反射膜。
现在工业生产中常采用PECVI®备制备减反射膜。
PECVD即等离子增强型化学气相沉积。
它的技术原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体SiH4和NH,气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜即氮化硅薄膜。
一般情况下，使用这种等离子增强型化学气相沉积的方法沉积的薄膜厚度在70nm 左右。
这样厚度的薄膜具有光学的功能性。
利用薄膜干涉原理，可以使光的反射大为减少，电池的短路电流和输出就有很大增加，效率也有相当的提高。
七、丝网印刷太阳电池经过制绒、扩散及PECV/工序后，已经制成PN结，可以在光照下产生电流，为了将产生的电流导出，需要在电池表面上制作正、负两个电极。
制造电极的方法很多，而丝网印刷是目前制作太阳电池电极最普遍的一种生产工艺。
丝网印刷是采用压印的方式将预定的图形印刷在基板上，该设备由电池背面银铝浆印刷、电池背面铝浆印刷和电池正面银浆印刷三部分组成。
其工作原理为：利用丝网图形部分网孔透过浆料，用刮刀在丝网的浆料部位施加一定压力，同时朝丝网另一端移动。
油墨在移动中被刮刀从图形部分的网孔中挤压到基片上。
由于浆料的粘性作用使印迹固着在一定范围内，印刷中刮板始终与丝网印版和基片呈线性接触，接触线随刮刀移动而移动，从而完成印刷行程。
八、快速烧结经过丝网印刷后的硅片，不能直接使用，需经烧结炉快速烧结，将有机树脂粘合剂燃烧掉，剩下几乎纯粹的、由于玻璃质作用而密合在硅片上的银电极。
当银电极和晶体硅在温度达到共晶温度时，晶体硅原子以一定的比例融入到熔融的银电极材料中去，从而形成上下电极的欧姆接触，提高电池片的开路电压和填充因子两个关键参数，使其具有电阻特性，以提高电池片的转换效率。
烧结炉分为预烧结、烧结、降温冷却三个阶段。
预烧结阶段目的是使浆料中的高分子粘合剂分解、燃烧掉，此阶段温度慢慢上升；烧结阶段中烧结体内完成各种物理化学反应，形成电阻膜结构，使其真正具有电阻特性，该阶段温度达到峰值；降温冷却阶段，玻璃冷却硬化并凝固，使电阻膜结构固定地粘附于基片上。
九、外围设备在电池片生产过程中，还需要供电、动力、给水、排水、暖通、真空、特汽等外围设施。
消防和环保设备对于保证安全和持续发展也显得尤为重要。
一条年产50M雄力的太阳能电池片生产线，仅工艺和动力设备用电功率就在1800KW左右。
工艺纯水的用量在每小时15吨左右，水质要求达到中国电子级水GB/T11446.1-1997中EW-1级技术标准。
工艺冷却水用量也在每小时15吨左右，水质中微粒粒径不宜大于10微米，供水温度宜在15-20C。
真空排气量在300M/H左右。
同时，还需要大约氮气储罐20立方米，氧气储罐10立方米。
考虑到特殊气体如硅烷的安全因素，还需要单独设置一个特气问，以绝对保证生产安全。
另外，硅烷燃烧塔、污水处理站等也是电池片生产的必备设施。
组件线又叫封装线，封装是太阳能电池生产中的关键步骤，没有良好的封装工艺，多好的电池也生产不出好的组件板。