激光脉冲法
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超脉冲CO2激光法切开重睑术及护理
平均年龄 ４ ． １５岁。其中 １５例 内双 ， ７ ８ ％ ；７ ３ 占２ ．４ １２例伴 内 眦赘 皮 或上 睑 皮肤 松 弛 ， ３ ．６ ；７ 正 常 眼 形 单 睑 ， 占 ５４ ％ １３例 占
３ ．７ ； 在外 院手 术后 不 满 意 ， １０ ％ 。 ５ ６％ ５例 占 ．３
睑线 变形 。 ２２ 消毒 麻 醉 ．
等。进行 切割 时， 应使 用不含酒精 的消毒液 清洁皮肤。手术 旦 开 始 ， 回护 士除 了对 麻 醉 后 患 者 进 行 监 护 等 常 规 工 作 巡
一
外， 还应承担激光安全 防护方面 的工作 ， 监测激光手术是护士 的首要职责， 包括有确认激光器是否在合适 的位置上 ， 激光器 关节节应 高过 医师的肩膀 ， 以便于操作 ， 同时应避免激光器关 节臂横过 消毒 区， 必要时关节臂可用消毒铺 巾盖住 ， 激光脚踏 开关应在操作 医师的前方并与其它脚踏开关隔离。手术后 护 士应详细记录激光设置 ， 即激光功率 、 能量密度（／ ｍ ）还 应 Ｊｃ ２ ，
我 科 于 ２０ ０３年 ９月 一 ０９年 １ ２０ ０月对 ４ ５例患 者 施 行 激 光 重 ８
睑术， 效果 满 意 ， 报道 如 下 。 现 １ 临床 资 料
下垫湿棉签 ， 用激光切除 ， 眶隔脂肪 突出不明显 ， 如 则这一 步
骤从 略 。先 于 切 口中间 缝合 １ ， 针 从 切 口下 缘 进 针 ， 针 针 缝 进 点距 皮 缘 ０５ｃ ． ｍ为 宜 ， 后 缝 线 途 经 睑 板 前 筋 膜 ， 切 口上 然 从
关键 词 超 脉 冲 Ｃ ２激光 ； 睑术 ； 理 Ｏ 重 护 ｄｉ１ ．９ ９ｊｉ ｎ １ ７ ９ ７ ．０ １ ０． ２ ｏ：０ ３６ ／．ｓ ．６ ２— ６ ６２ １ ．４ ０ １ ｓ
脉冲激光沉积法Li-N双受主共掺p型ZnO薄膜的生长及其特性
E EACC : 0 510
中图分类号: TN304. 2' 1
文献标识码: A
文章编号: 0253-4177(2007)SO -0322-04
1
引言
ZnO 是一种理想的短波长发光材料， 在光电器 件领域有着巨大的应用潜力. 要实现 ZnO 的光电应
得的. 光源为 KrF 准分子激光器， 采用的 Li 掺杂 ZnO 陶瓷靶 中 Li 的摩尔含量分别为 0, 0. 01% , 0. 1% ,0. 5%和 1. 0% . 生长气氛为高压电离 N, O , 沉积气压为 15Pa . 以不掺杂的 ZnO 薄膜为 n 型层，
膜的电导行为对进一步改进 ZnO 的 p 型电导掺杂 很有意义. 本文采用脉冲激光沉积(PLD) 技术生长
Li-N 双受主共掺杂 ZnO 薄膜， 并研究其电学、 结构 和发光特性.
结果， 所有掺杂 ZnO 均呈 p 型. 单独 N 掺杂 ZnO (ZnO:N) 薄膜也呈 p 型， 但其电阻率比较高. 当薄 膜中引人少量的受主 Li 时， 型电导性能大大改 p
C ar r ier L i co nt e nt /at . %
ZnO:(Li,N) 补 妇 「 的 u 。 l u l
0.1at .% L i,N
l .Oat .% L i
Resistivity Hall mobility ( / 0 恤 ) (cmz/ ( V s) )
Car ri善， 电阻率降低了一到两个数量级. 但当 Li 的含量 过高时， 型电导性能又变差. 这是因为过量的 Li p 容易形成 Li 间隙施主缺陷[7.e1. 实验得出优化的靶 E 材 Li 含量为 0. 1% ， 所得样品电阻率最低为 3. 990 cm ， 载流子浓度为 9. 12 x 10" cm- 3. Li-N 双受主 共掺杂 p 型 ZnO 薄膜的突出优点在于其电学稳定
中图分类号: TN304. 2' 1
文献标识码: A
文章编号: 0253-4177(2007)SO -0322-04
1
引言
ZnO 是一种理想的短波长发光材料， 在光电器 件领域有着巨大的应用潜力. 要实现 ZnO 的光电应
得的. 光源为 KrF 准分子激光器， 采用的 Li 掺杂 ZnO 陶瓷靶 中 Li 的摩尔含量分别为 0, 0. 01% , 0. 1% ,0. 5%和 1. 0% . 生长气氛为高压电离 N, O , 沉积气压为 15Pa . 以不掺杂的 ZnO 薄膜为 n 型层，
膜的电导行为对进一步改进 ZnO 的 p 型电导掺杂 很有意义. 本文采用脉冲激光沉积(PLD) 技术生长
Li-N 双受主共掺杂 ZnO 薄膜， 并研究其电学、 结构 和发光特性.
结果， 所有掺杂 ZnO 均呈 p 型. 单独 N 掺杂 ZnO (ZnO:N) 薄膜也呈 p 型， 但其电阻率比较高. 当薄 膜中引人少量的受主 Li 时， 型电导性能大大改 p
C ar r ier L i co nt e nt /at . %
ZnO:(Li,N) 补 妇 「 的 u 。 l u l
0.1at .% L i,N
l .Oat .% L i
Resistivity Hall mobility ( / 0 恤 ) (cmz/ ( V s) )
Car ri善， 电阻率降低了一到两个数量级. 但当 Li 的含量 过高时， 型电导性能又变差. 这是因为过量的 Li p 容易形成 Li 间隙施主缺陷[7.e1. 实验得出优化的靶 E 材 Li 含量为 0. 1% ， 所得样品电阻率最低为 3. 990 cm ， 载流子浓度为 9. 12 x 10" cm- 3. Li-N 双受主 共掺杂 p 型 ZnO 薄膜的突出优点在于其电学稳定
紫外激光脉冲沉积法制备高温超导(Bi,Pb)2Sr2CaCu2O8薄膜的研究
轴取 向 的单 相 Ｂ ｉ 一 ２ ２ １ ２薄 膜 ， 并 对 镀 膜 的工 艺 参 数 进
行 了讨 论
１ 引 言
高温超 导材料 的应 用 领域 十分 广 阔 ， 运 行 成 本 较 低， 抗 干扰 能力较 强 ， 比低温 超导设 备具 有更 大 的实 用 性 。 目前 超 导 温 度 最 高 的 为 Ｔ １ 一 Ｂ ａ — Ｃ ａ — Ｃ ｕ — Ｏ 和 Ｈｇ — Ｂ ａ — Ｃ ａ － Ｃ ｕ — Ｏ（ Ｈｇ 一 １ ２ ２ ３ 的 超 导 转 变 温 度 Ｔｃ 可 达
１ ３ ５ Ｋ） ， 但 由于 Ｔ ｌ 和 Ｈｇ的剧 毒性 而使 它们 的制 备 和
应 用 受 到 限制 ； Ｙ— Ｂ ａ — Ｃ ｕ — Ｏ、 Ｂ ｉ ２ Ｓ ｒ ２ Ｃ ａ Ｃ ｕ ＋ １ Ｏ２ ＋ ６ （ Ｂ ｉ 系） 高温超 导体 由于 化学稳定 性好 、 毒性 小 ， Ｔｃ均可 在 液氮 温度 以上 ， 因此 成为实 用化 的高温 超导 材料 体 系 。
高 温超导 材料 的应 用 ， 多 以包 复多 晶带 材及 薄 膜 形 式 为 主 。多晶带 材在 于 解 决 晶界 弱 连 接 问题 ， 从 而提 高 带 材 的临界 电流 密 度 Ｊ 。薄 膜 多 应 用 于射 频 及 微 波 通 讯领域 、 测热 辐射 仪 、 异质 结及 约瑟 夫森 结等 精密 测
膜技术 ， 最 大的 优点 在 于 能够 保 持 薄膜 的化 学计 量 与 多 晶靶 的一致 ， Ｐ Ｌ Ｄ 因此成 为 制备 高 质量 多 元 化合 物 高温超 导薄膜 最 常 用 的手 段 之 一Ｅ ｌ ｌ － Ｍ ］ ， 但 即使 采 用 该 种技术 在 生 长 Ｂ ｉ 一 ２ ２ １ ２薄 膜 时 ， 也 同样 可 能 面 临 着 薄 膜中 Ｂ ｉ 的缺 失 问题 ， 以及 其 它 杂 相 ｎ 。本 文 采 用 Ｐ Ｌ Ｄ技术 ， 通过 工艺条件 的摸 索和优 化 ， 获得 了具有 Ｃ
行 了讨 论
１ 引 言
高温超 导材料 的应 用 领域 十分 广 阔 ， 运 行 成 本 较 低， 抗 干扰 能力较 强 ， 比低温 超导设 备具 有更 大 的实 用 性 。 目前 超 导 温 度 最 高 的 为 Ｔ １ 一 Ｂ ａ — Ｃ ａ — Ｃ ｕ — Ｏ 和 Ｈｇ — Ｂ ａ — Ｃ ａ － Ｃ ｕ — Ｏ（ Ｈｇ 一 １ ２ ２ ３ 的 超 导 转 变 温 度 Ｔｃ 可 达
１ ３ ５ Ｋ） ， 但 由于 Ｔ ｌ 和 Ｈｇ的剧 毒性 而使 它们 的制 备 和
应 用 受 到 限制 ； Ｙ— Ｂ ａ — Ｃ ｕ — Ｏ、 Ｂ ｉ ２ Ｓ ｒ ２ Ｃ ａ Ｃ ｕ ＋ １ Ｏ２ ＋ ６ （ Ｂ ｉ 系） 高温超 导体 由于 化学稳定 性好 、 毒性 小 ， Ｔｃ均可 在 液氮 温度 以上 ， 因此 成为实 用化 的高温 超导 材料 体 系 。
高 温超导 材料 的应 用 ， 多 以包 复多 晶带 材及 薄 膜 形 式 为 主 。多晶带 材在 于 解 决 晶界 弱 连 接 问题 ， 从 而提 高 带 材 的临界 电流 密 度 Ｊ 。薄 膜 多 应 用 于射 频 及 微 波 通 讯领域 、 测热 辐射 仪 、 异质 结及 约瑟 夫森 结等 精密 测
膜技术 ， 最 大的 优点 在 于 能够 保 持 薄膜 的化 学计 量 与 多 晶靶 的一致 ， Ｐ Ｌ Ｄ 因此成 为 制备 高 质量 多 元 化合 物 高温超 导薄膜 最 常 用 的手 段 之 一Ｅ ｌ ｌ － Ｍ ］ ， 但 即使 采 用 该 种技术 在 生 长 Ｂ ｉ 一 ２ ２ １ ２薄 膜 时 ， 也 同样 可 能 面 临 着 薄 膜中 Ｂ ｉ 的缺 失 问题 ， 以及 其 它 杂 相 ｎ 。本 文 采 用 Ｐ Ｌ Ｄ技术 ， 通过 工艺条件 的摸 索和优 化 ， 获得 了具有 Ｃ
脉冲激光沉积法制备LiCoO2薄膜阴极
文 章编 号 ：１０ ５ ６ （０９ Ｓ ０４ ０ ０ ０— ４ ３ ２ ０ ） ２— ０ ９— ３
脉 冲 激 光 沉 积 法 制 备 ＬＣ Ｏ 薄 膜 阴极 ｉｏ ２
陈 国光 霍 文培 ， ，李 晶泽
（． １ 电子科技大学微电子与固体 电子学院 ， 四川成都 ６ ０ ５ ；． １０ ４２ 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室 ， 四川成都 ６ ０５ ） １０４
为含 １ｍｏ Ｌ的 ＬＰ 的 Ｅ Ｄ Ｃ Ｄ （ ｌ ／ ｉＦ Ｃ、 Ｅ 、 ＭＣ 体积 比为
发法、 超声喷雾热分解法等等 ．对于化学结构和组 ｊ
分复杂 的三元 过渡 金属 氧化 物 ＬＣ Ｏ 而言 ， 分 的 ｉｏ ： 组 微小偏离 和结构 的改化 都会 导致 薄膜 材料 的 电化 学 性质有 明显变化．由于 Ｐ Ｄ制 备 的薄 膜具 有 与靶 材 Ｌ
作 者 简 介 ： 国 光 （９ ３一） 男 ， 苏 人 ， 陈 １８ ， 江 电子 科 技 大 学 ２ ０ ０７硕 士 研 究 生 ， 要研 究 方 向 ： 膜 锂 离子 电池 阴 极 材料 ，ｍ ｉ ｍｉｏｎ ｒ ＠ ｕｓ 主 薄 Ｅ ａｌ ｃ ｅｅｇ ： ｒ ｙ ｅｔ ｕ
的入射角轰击靶材表面．薄膜沉积所使用 的衬底是
单 晶 Ｓ 片 和表 面 抛 光 的不 锈 钢 片 ．在薄 膜 沉 积 的 ｉ
过程中， 衬底 以 ２ ／ ｉ ０ｒｍ ｎ的速率 转 动且保 持衬 底 温 度 在 ６ ０℃ ， ０ 腔体 内 Ｏ 分 压控制在 ｌ ａ左右． ： ５Ｐ 薄 膜微结构 测量 采用 Ｄ （ ａｅ 型薄 膜 Ｘ射 线 １ Ｂｄ ） 衍 射仪 ．表 面形貌 表征使 用 ￥ ２ ０（ ｉ ｃｉ 型场发 ５ ０ Ｈ ｔ ｈ） ａ
摘要 ： 脉冲激光沉积方法（ Ｌ ） Ｐ Ｄ 制备 ＬＣ Ｏ ｉｏ 薄膜 的关键 因素之一是激光的功率．在功 率不小于 １０ｍ ６ Ｊ时， 薄膜的结
测量光速：历史与现代方法
测量光速：历史与现代方法引言：光速是宇宙中最基本的物理常数之一，它对于物理学和工程学的发展具有重要意义。
在过去的几个世纪里，科学家们一直在努力测量光速，为此提出了多种方法。
本文将探讨测量光速的历史和现代方法，并探讨这项测量对科学研究的意义。
一、历史测量方法：古代的数学家、物理学家、地理学家等人们最早试图测量光速。
公元三世纪的希腊数学家欧几里得做了一些对光传播速度相关的几何学推导，但并未得出准确的结论。
然而，到了17世纪，天文学家欧拉尔·罗默通过观察木卫一的轨迹变化，首次成功地测量到了光的传播速度。
他观测到在地球绕太阳公转时，木卫一出现和消失的周期变化，根据这些观测数据，罗默得出了一个准确的光速值。
二、现代测量方法：随着现代科技的进步，测量光速的方法也得到了发展和改进。
1905年，爱因斯坦发表了狭义相对论，提出了一种基于光速不变的假设，从而赋予了光速测量以新的意义。
爱因斯坦的理论拉开了现代测量光速的开端。
如今，科学家利用现代激光技术和光纤传输等手段，可以更加精确地测量光速。
1. 差迟法：差迟法是一种关于光的干涉现象的测量方法。
它基于两束光在介质中传播时的时间差来测量光的速度。
通过测量干涉光的相位差，科学家们可以得到光的传播速度。
2. 脉冲激光法：脉冲激光法是一种基于光脉冲传输的测量方法。
科学家使用高精度的时钟和激光器生成脉冲激光，并将其发送到一个远离地球的反射器上。
然后，利用接收到的脉冲的时间差来计算光的速度。
3. 光纤干涉法：光纤干涉法是一种使用光纤作为传输介质的测量方法。
科学家们通过将光纤分成两段，其中一段通过退相位器，另一段不经过，然后测量两个光束再次合并时的干涉现象，从而得到光的传播速度。
三、测量光速的科学意义：测量光速对于科学研究和工程应用具有重要意义。
首先，光速的测量可以提供基础物理学的重要参考数据，验证或修正现有的物理理论。
其次，光速是测量宇宙距离和时间的基准，它在宇宙天文学和天体物理学的研究中起着关键作用。
脉冲激光轰击法连续制备纳米钨及其性质表征
纳米材料的性能、 应用及其制备已成为材料领域的研究热点． 纳米金属作为润滑剂 的重要组 成部分 ， 有望解决 目前边界润滑技术 中由于接触点温度剧升等原 因导致边界膜破裂 ， 产生摩擦 ， 使边界直接接触 ， 磨损加剧 ， 甚至摩擦面粘合等难题， 因而其制备及性质研究 日益引起关注¨３． － 纳米金属强烈地 团聚使得 ］ 其在润滑油体系中分散稳定性不好【 ， ４ 探索各种纳米金属的新制备方法并对其进行表面改性使之能更好 】 地散于油相中， 具有重要的实际应用意义． 钨是一种高熔点、 高硬度的金属 ， 其纳米形态可使熔点大幅下 降［ ， ５ 当其作为润滑组分 ， ］ 应用于摩擦界面时 ， 可能生成高熔点、 高硬度的钨合金表 面层而具有很好的润 滑效果 ， 目前纳米钨的制备方法主要有高能球磨法、 气体蒸发法、 氧化钨粉还原法和等离子体法等【 ， ６ 但 ］
究添加剂平平加 ０对纳米钨溶胶分散稳定性的影响 ， 结果表 明平平加 ０表面修饰有效抑制 了纳米钨颗粒的团聚 ， 并使纳米 钨具有 良 的油容性 ． 好 关键词 ： 冲激光 ； 脉 纳米钨 ； 表面修饰 ； 润滑 中图分类号 ： ６４ ０１ 文献标 识码 ： Ａ 文章编号 ： ７ － ７ （０ １０ － ｄ ５ １ １ ４０ ２１）４ ｄｄ ６ ５ Ｏ ０
２ Ｃ ｌ ｇ ｆ ｈｍ ｓ７ａｄＭａ ｒ ，Ｆｊ ＩＮ ｒ ａ Ｕ ｉｅ ｉ ， ｕｈｕ Ｆｊ Ｉ３０ ０ ，Ｃ ｎ） ． ｏ ｅｅｏ ｅ ｉ ｎ ｔ ｉ ｌ Ｃ Ｕ ｅ Ｍｓ ｕｉ Ｉ ｏｍ ｌ ｎｖｒｔ Ｆ ｚｏ ， ｕ ａ ５０ ７ ｈａ ａ ｓｙ ｉＩ ｉ
Ａｂ ｔａ ｔ ｈ ｌｎ ｕ ｇ ｔｎａ ｄ ｔｅｎ ｏｔｎ ｔｎｗ ｔ ｕｆｃ ・ ｄｆ ａ ｏ ｆ ｅｅ ａ－ ｅｅｃ ｎｉｕ ｕ ｌ ｒｐ ｒｄｂ ｕｓｄ ｌ－ ｓｒ ｃ ：Ｔ ｅｌ ｏｔｎ ｓｅ ｎ ａ ｇ ｅ ｉｈｓｒａ ｅｍｏ ｉｃ ｔ ｎｏ ｐ ｒｇ ０ ｗ ｒ ｏ ｔ ｏ ｓｙｐｅ ａｅ ｙｐ ｌｅ ａ ｈ ｎ ｕｓ ｉ ｉ ｌ ｎ ａ
利用延时法进行高精度脉冲激光测距
２ ． Ｃ ｏ ｌ ［ ｅ ｌ ｅ ｏ ｆ Ｉ ｎ ｆ ｏ ｒ ｍａ ｔ ｉ ｏ ｎ ， Ｍｅ ｃ ｈ ａ ｎ ｉ ｃ ａ ｌ ａ ｎ ｄ Ｅｌ ｅ ｃ ｔ ｒ ｉ ｃ ａ ｌ Ｅｎ ｇ ｉ ｎ ｅ ｅ ｒ ｉ ｎ ｇ，
Ｓｈａｎ ｇｈａｉ Ｎｏ ｒ ｍａ ｌ Ｕｎｉ ｚ ， ｅ ｒ ｓ ｉ ｔ ｙ ，Ｓｈａｎ ｇｈａｉ ２ ０ ０ ２ ３４， Ｃｈｉ ｎａ）
第 ２ ２卷
第 ２期
光 学 精 密 工 程
（ ） ｐ ｔ ｉ ｃ ｓ ａ ｎｄ ［ ｝ ｒ ｅ ｃ ｉ ｓ ｉ ｏｎ Ｅｎｇ ｉ ｎ ｅ ｅ ｒ ｉ ｎｇ
Ｖｏ １ ． ２ ２ ＮＯ ． ２
Ｆｅ ｂ． ２０１ ４
２ ０ ｌ ４印 ２月
文 章 编 号 １ ０ ０ ４ ９ ２ ４ Ｘ（ ２ ０ ｌ ４ ） ０ ２ — ０ ２ ５ ２ — ０ ７
利用延时法进行高精度脉冲激光测距253measurementaccuracyofthetargetin1kmhasreachedto01mmwhichmeansthatthemethodcansatisfytherequirementsofhighprecisionrangingkeywordstimedelaymethod激光测距在军事应用科学技术生产建设方面都起着重要作用其主要方法有脉冲法和相位30km04mm测钢轨变形量及沉降测量精密机件传送带的铺设等重要的科学试验和复杂的大型工程均要求测距精度为01mm和相位法不能满足这样的精度需求维成像56及大气可见度等领域对激光光速的影响很小但它会影响发射的激光测距的精度10用延时法进行激光测距提出的方法在100的时间测量精度可达03ps在1km的测量精度可达01mm激光测距系统通过测量激光器发出激光与激光返回到光接收机的时间间隔来计算目标距离测距公式激光测距原理fig1principleoflasermeasuringdistance图1为激光测距原理图由现场可编程门阵fpga产生与时钟同步的电脉冲触发激光器发射激光同时此电脉冲通过clk
激光脉冲退火提高器件的性能
存在相当大的温度梯度（热扩散长度约
LSA温度控制系统的性能还在实 和衬底之间不同的热膨胀系数。由于
为100μm），因此必须在晶圆表面测 际产品上进行的评估。图5所示为一个 两种应力产生的物理机制不同，其对
量温度峰值，而晶圆表面通常存在器件 产品批次内晶圆的平均温度。平均温 器件性能的影响也随之不同，因此了
MONOS型的闪存器件，LSA能够减少 和高深宽比结构。光线散射成为这种
多晶硅与其下层的二氧化硅-氮化硅- 非平面结构所面临的一个问题，它会 生产过程中的工艺控制
二氧化硅叠层之间价带的偏移。这提 引起不均匀的光吸收和不一致的温度
大规模生产过程中，对于LSA工
高了空穴的注入效率，从而使器件工 分布。首先，由于散射效应遵循瑞利 艺峰值温度的测量和控制变得至关重
缘体上硅（SOI）、高k值栅绝缘材料/金属栅和 用低温RT A+L SA工艺得到的扩展电阻与标准
其它新型器件结构具有良好的工艺兼容性。
RTA工艺相同，但PN结结深更浅，且可减少
我们将在下文中介绍LSA工艺和集成方 栅极与源/漏区之间的交叠程度。这样，可以
法、工艺扩展性、最新的器件结果、LSA对于 在保证驱动电流不劣化的情况下改善阈值电压
标准CMOS工艺相集成。简单来说，可以直接使
用LSA来替代现有的快速热退火工艺（RTA）， LSA在存储器领域的应用
而无需对已有工艺做任何调整；由于提高了杂
LSA工艺同样可以改善DRAM器件的性
& PROCESSING 工艺与制造 MANUFACTURING
###2012-07-04##Й#֩#֭#ఞࡹ#ྦྷ#େ#ۇ##ഇ##ӹ##؏#######2012-0ߔ7੦ᆚ-֝0ఞ4င####ྦྷ##େ2#ۇ0ഇ#1#2-07-降0低4损#耗#############
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激光脉冲法
激光脉冲法技术实现了对材料的非破坏性表面检测，采用的激光脉冲技术可以检测出材料的表面质量和内部缺陷。
在该技术中，通过调节激光脉冲时间和激光能量，可以控制激光对材料的作用效果，使之产生想要的反应。
激光脉冲法技术的基础是激光脉冲能量的辐射和吸收。
当激光脉冲射入材料表面时，激光脉冲能量被吸收并迅速传递到材料内部。
这样，激光脉冲的作用就可以使材料表面产生热膨胀和电磁波辐射等反应，这些反应产生的信号可以被探测器检测出来。
在激光脉冲法技术中，需要使用的仪器主要包括激光器、光路系统、样品架、探测器等。
其中，激光器主要用于产生激光脉冲信号，光路系统用于控制激光束的传输和聚焦，样品架用于支持待检测的材料样品，探测器用于检测材料表面产生的反应信号。
激光脉冲法技术可以用于不同类型的材料表面检测，如金属、陶瓷、玻璃等。
在不同的材料中，激光脉冲的光谱特性和反应效果也会有所不同。
例如，在金属材料中，激光脉冲会引起热膨胀和温度变化，这些反应会导致材料表面产生声波和微弱电磁波信号。
通过探测这些信号，可以快速检测出金属材料的表面质量和内部缺陷。
总的来说，激光脉冲法技术是一种非破坏性材料表面检测技术，具有检测速度快、检测效果好、适用范围广等特点。
它可以广泛应用于工业生产、材料科学研究、环境监测等领域。