溅射靶材的应用领域介绍

溅射靶材的应用领域介绍

溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。

各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。因此,对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。近年来我国电子信息产业飞速发展,集成电路、光盘及显示器生产线均有大量合资或独资企业出现,我国已逐渐成为了世界上薄膜靶材的最大需求地区之一。

非晶硅薄膜发展面临的瓶颈问题

非晶硅薄膜工艺因价格及技术问题再次遭遇发展瓶颈，先是美国应用公司称将不再销售非晶硅薄膜生产设备;再有国内光伏巨头尚德停止非晶硅薄膜生产而转向晶体硅生产。这一切似乎表明：非晶硅薄膜遇到了一个是否能继续发展的难题。

经业内人士分析，造成一现象的主要原因是由于晶体硅价格下降的速度比非晶硅薄膜速度快，非晶硅薄膜价格优势已经不是很明显。当然，部分企业停止生产非晶硅薄膜，并不意味着这一工艺路线面临技术淘汰;相反，从长期看，非晶硅薄膜技术的研发工作仍然会继续。

其次，也有一定的技术原因：薄膜电池远不如晶体硅电池成熟，虽然近年来非晶硅薄膜技术也在不断进步，但薄膜电池与晶体硅电池相比仍有很大差距。技术路径仍处于不断完善和突破的过程中。无锡尚德此次叫停薄膜业务，体现了这一发展路径短时期内存在的问题和瓶颈。

综上所述，光伏项目的工艺路线目前不会出现太大的变化，薄膜太阳能电池在中国太阳能电池产业中的比重仅占10%左右。在未来10年到20年以内，晶体硅仍然占据主导地位。

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