我从教科书上看到了TEM成像的几种类型

我从教科书上看到了TEM成像的几种类型，比如明场像、暗场像、高分辨像等三种。对于明场像和暗场像的成像方式和操作方法我大概了解，就是分别让透射电子和衍射电子成像，而对于高分辨像如何同时让透射电子和衍射电子成像的操作方法感到疑惑，就像上面这个图中所示的那样。在电镜上是如何操作来获得样品的高分辨像呢？我看到一份国外的网上教程，他们的示意图上标明当入射电子与样品成一定夹角时才能获得高分辨像，是否真的如此？还是有其他什么方法？请各位大侠根据自己的理解介绍一下，最好能有相关的图片就更好了。

明场像和暗场像都是单束成像，也就是说在成像时用一个小的物镜光阑挡住其他束，只让一个透射束或衍射束通过。

高分辨像是多束干涉成像，成像时要加一个大的物镜光阑（也可以不加）。在实际操作中，要得到高分辨像必须要倾转晶体使入射电子束方向平行于晶体的某个晶带轴。

高分辨像成像技术的关键技术有以下几个：

1.电镜准确合轴；

2.电压中心对中；

3.物镜消像散；

4.得到正带轴电子衍射花样

做到了这四点，做高分辨就很简单。