晶体的生长机理及条件对晶型的影响

晶体的生长机理及条件对晶型的影响
晶体的生长机理及条件对晶型的影响

1.晶体生长机理

理根据经典的晶体生长理论,液相反应体系中晶体生长包括以下步骤:①营养料在水溶液介质里溶解,以离子、分子团的形式进入溶液(溶

解阶段):②由于体系中存在十分有效的热对流以及溶解区和生长区

之间的浓度差,这些离子、分子或离子团被输运到生长区(输运阶段);

③离子、分子或离子团在生长界面上的吸附、分解与脱附;④吸附物质在界面上的运动;⑤结晶(③、④、⑤统称为结晶阶段)。液相条件下生长的晶体晶面发育完整,晶体的结晶形貌与生长条件密切相关,同种晶体在不同的生长条件下可能有不同的结晶形貌。简单套用经典晶体生长理论不能很好解释许多实验现象,因此在大量实验的基础

上产生了“生长基元”理论模型。。“生长基元"理论模型认为在上述输运阶段②,溶解进入溶液的离子、分子或离子团之间发生反应,形成具有一定几何构型的聚合体一生长基元,生长基元的大小和结构与溶液中的反应条件有关。在一个水溶液反应体系里,同时存在多种形式的生长基元,它们之间建立起动态平衡。某种生长基元越稳定(可从能量和几何构型两方面加以考察),其在体系里出现的几率就越大。在界面上叠合的生长基元必须满足晶面结晶取向的要求,而生长基元在界面上叠合的难易程度决定了该面族的生长速率。从结晶学观点看:生长基元中的正离子与满足一定配位要求的负离子相联结,因此又进一步被称为“负离子配位多面体生长基元"。生长基元模型将晶体的结晶形貌、晶体的结构和生长条件有机地统一起来,很好地解释了许多实验现象。

2晶体生长的影响条件

对于水热合成,晶粒的形成经历了“溶解一结晶"两个阶段。水热法制备常采用固体粉末或新配制的凝胶作为前驱物,所谓“溶解”是指在水热反应初期,前驱物微粒之间的团聚和联结遭到破坏,以使微粒自身在水热介质中溶解,以离子或离子团的形式进入溶液,进而成核、结晶而形成晶粒。在水热条件下,晶体自由生长,晶体各个面族的生长习性可以得到充分显露,由于水热条件下晶体生长是在非受迫的情况下进行,所以生长温度压力、溶液、溶液流向和温度梯度对晶体各个面族的生长速率影响很明显,表现在晶体的结晶形态变化。总的来说,在水热合成中影响材料形貌、大小、结构的因素主要有温度、原材料的种类、浓度、比例、pH值、反应时间、有机物添加剂等

(1)反应温度

反应温度提供合成材料的原动力,因此反应制备过程需要高于一定的温度,不同的材料,不同的体系差别很大。一般温度越高,产物的直径越大,而结晶性会更好,并且容易形成其稳定相。

(2)原料

原料的种类对产物的形貌、大小有很大的影响。在液相反应体系中,不同的原料直接决定了溶液中生成先驱体的浓度,先驱体发生化学反应生成产物达到一定的过饱和度时,结晶析出生长晶体。因此原料的不同得到先驱体的反应特性也不同,如水解速率、浓度等,从而影响产物的形态。

(3)其它条件

一般浓度只影响材料的大小,浓度越高,材料的直径和长度越大。反应时间主要影响材料的大小,一般时间越长,材料的宽度越大,长度越长。反应物的配比对材料的大小和结构有一定的影响。pH值对材料的形貌影响比较大,特别是对于氧化物。

晶体生长方法

晶体生长方法 一、提拉法 晶体提拉法的创始人是J. Czochralski,他的论文发表于1918年。提拉法是熔体生长中最常用的一种方法,许多重要的实用晶体就是用这种方法制备的。近年来,这种方法又得到了几项重大改进,如采用液封的方式(液封提拉法,LEC),能够顺利地生长某些易挥发的化合物(GaP等);采用导模的方式(导模提拉法)生长特定形状的晶体(如管状宝石和带状硅单晶等)。所谓提拉法,是指在合理的温场下,将装在籽晶杆上的籽晶下端,下到熔体的原料中,籽晶杆在旋转马达及提升机构的作用下,一边旋转一边缓慢地向上提拉,经过缩颈、扩肩、转肩、等径、收尾、拉脱等几个工艺阶段,生长出几何形状及内在质量都合格单晶的过程。这种方法的主要优点是:(a)在生长过程中,可以方便地观察晶体的生长情况;(b)晶体在熔体的自由表面处生长,而不与坩埚相接触,这样能显著减小晶体的应力并防止坩埚壁上的寄生成核;(c)可以方便地使用定向籽晶与“缩颈”工艺,得到完整的籽晶和所需取向的晶体。提拉法的最大优点在于能够以较快的速率生长较高质量的晶体。提拉法中通常采用高温难熔氧化物,如氧化锆、氧化铝等作保温材料,使炉体内呈弱氧化气氛,对坩埚有氧化作用,并容易对熔体造成污杂,在晶体中形成包裹物等缺陷;对于那些反应性较强或熔点极高的材料,难以找到合适的坩埚来盛装它们,就不得不改用其它生长方法。 二、热交换法

热交换法是由D. Viechnicki和F. Schmid于1974年发明的一种长晶方法。其原理是:定向凝固结晶法,晶体生长驱动力来自固液界面上的温度梯度。特点:(1) 热交换法晶体生长中,采用钼坩埚,石墨加热体,氩气为保护气体,熔体中的温度梯度和晶体中的温度梯度分别由发热体和热交换器(靠He作为热交换介质)来控制,因此可独立地控制固体和熔体中的温度梯度;(2) 固液界面浸没于熔体表面,整个晶体生长过程中,坩埚、晶体、热交换器都处于静止状态,处于稳定温度场中,而且熔体中的温度梯度与重力场方向相反,熔体既不产生自然对流也没有强迫对流;(3) HEM法最大优点是在晶体生长结束后,通过调节氦气流量与炉子加热功率,实现原位退火,避免了因冷却速度而产生的热应力;(4) HEM可用于生长具有特定形状要求的晶体。由于这种方法在生长晶体过程中需要不停的通以流动氦气进行热交换,所以氦气的消耗量相当大,如Φ30 mm的圆柱状坩埚就需要每分钟38升的氦气流量,而且晶体生长周期长,He气体价格昂贵,所以长晶成本很高。 三、坩埚下降法 坩埚下降法又称为布里奇曼-斯托克巴格法,是从熔体中生长晶体的一种方法。通常坩埚在结晶炉中下降,通过温度梯度较大的区域时,熔体在坩埚中,自下而上结晶为整块晶体。这个过程也可用结晶炉沿着坩埚上升方式完成。与提拉法比较该方法可采用全封闭或半封闭的坩埚,成分容易控制;由于该法生长的晶体留在坩埚中,因而适于生长大块晶体,也可以一炉同时生长几块晶体。另外由于工艺条件

晶体生长的机理

第五章 一、什么是成核相变、基本条件 成核相变:在亚稳相中形成小体积新相的相变过程。 条件:1、热力学条件:ΔG=G S-G L<0;ΔT>0。2、结构条件:能量起伏、结构起伏、浓度起伏、扩散→短程规则排列(大小不等,存在时间短,时聚时散,与固相有相似结构,之间有共享原子)→晶坯→晶胞。 相变驱动力:f=-Δg/ΩS;Δg每个原子由流体相转变成晶体相所引起的自由能降低;ΩS单个原子的体积。 气相生长体系:(T0 P0)→(T0 P1),Δg=-kT0σ,σ=α-1= P1/ P0;溶液生长体系:(C0 T0 P0)→(C1 T0 P0),Δg=-kT0σ,σ=α-1= C1/ C0;熔体生长体系:Δg=-l mΔT/T m,l m单个原子的相变潜热。 二、均匀成核、非均匀成核 不含结晶物质时的成核为一次成核,包括均匀成核(自发产生,不是靠外来的质点或基底诱发)和非均匀成核。 三、均匀成核的临界晶核半径与临界晶核型成功 临界晶核:成核过程中,能稳定存在并继续长大的最小尺寸晶核。 ΔG=ΔG V+ΔG S,球形核ΔG=-4πr3Δg/ΩS+4πr2γSL→r C=2γSLΩS/Δg,r0,且随着r的增加,ΔG不断增大,r>r C时,ΔG<0,且随着r的增加,ΔG减小,r=r C时,往两边都有ΔG<0,称r C为临界半径。 临界晶核型成功:ΔG C(r C)=A CγSL/3由能量起伏提供。 熔体生长体系:r C=2γSLΩS T m/l m ΔT;ΔG C(r C)=16πγ3SLΩ2S T2m/3l2m(ΔT)2 四、非均匀成核(体系中各处成核几率不相等的成核过程) 表面张力与接触角的关系:σLB = σSB + σLS cosθ ΔG*(r)= (-4πr3Δg/ΩS+4πr2σSL)·f(θ);r*C=2γSLΩS/Δg;ΔG*C(r*C)=ΔG C(r C) ·f(θ)

盐类结晶实验报告-结晶与晶体生长形态观察

盐类结晶实验报告 一、实验名称: 盐类结晶与晶体生长形态观察 二、实验目的: 1.通过观察盐类的结晶过程,掌握晶体结晶的基本规律及特点。为理解金属的结晶理论建立感性认识。 2.熟悉晶体生长形态及不同结晶条件对晶粒大小的影响。观察具有枝晶组织的金相照片及其有枝晶特征的铸件或铸锭表面,建立金属晶体以树枝状形态成长的直观概念。 3.掌握冷却速度与过冷度的关系。 三、实验原理概述: 金属及其合金的结晶是在液态冷却的过程中进行的,需要有一定的过冷度,才能开始结晶。而金属和合金的成分、液相中的温度梯度和凝固速度是影响成分过冷的主要因素。晶体的生长形态与成分过冷区的大小密切相关,在成分过冷区较窄时形成胞状晶,而成分过冷区较大时,则形成树枝晶。由于液态金属的结晶过程难以直接观察,而盐类亦是晶体物质,其溶液的结晶过程和金属很相似,区别仅在于盐类是在室温下依靠溶剂蒸发使溶液过饱和而结晶,金属则主要依靠过冷,故完全可通过观察透明盐类溶液的结晶过程来了解金属的结晶过程。 在玻璃片上滴一滴接近饱和的热氯化氨(NH4CI)或硝酸铅[Pb(NO3)2]水溶液,随着水分蒸发,温度降低,溶液逐渐变浓而达到饱和,继而开始结晶。我们可观察到其结晶大致可分为三个阶段:第一阶段开始于液滴边缘,因该处最薄,蒸发最快,易于形核,故产生大量晶核而先形成一圈细小的等轴晶(如图1所示),接着形成较粗大的柱状晶(如图2所示)。因液滴的饱和程序是由外向里,故位向利于生长的等轴晶得以继续长大,形成伸向中心的柱状晶。第三阶段是在液滴中心形成杂乱的树枝状晶,且枝晶间有许多空隙(如图3所示)。这是因液滴已越来越薄,蒸发较快,晶核亦易形成,然而由于已无充足的溶液补充,结晶出的晶体填布满枝晶间的空隙,从而能观察到明显的枝晶。 四、材料与设备: 1)配置好的质量分数为25%~30%氯化铵水溶液。 2)玻璃片、量筒、培养皿、玻璃棒、小烧杯、氯化铵、冰块。 3)磁力搅拌器、温度计。 4)生物显微镜。 五、实验步骤: 1.将质量分数为25%~30%氯化铵水溶液,加热到80~90℃,观察在下列条件下的结晶过程及晶体生长形态。 1)将溶液倒入培养皿中空冷结晶。 2)将溶液滴在玻璃片上,在生物显微镜下空冷结晶。 3)将溶液滴入试管中空冷结晶。 4)在培养皿中撒入少许氢化氨粉末并空冷结晶。 5)将培养皿、试管置于冰块上结晶。 2.比较不同条件下对氯化铵水溶液空冷结晶组织的影响: 氯化钠溶液在玻璃皿中空冷时由于玻璃皿边缘与中心的介质不同,造成氯化钠溶液洁净的不均匀,从而造成晶粒的大小不同;另外撒入少量的氯化铵粉末后粉末在促进结晶的同时也成为氯化铵的成长中心,析出的氯化铵依附在撒入的粉末上成长,即撒入的粉末有引导结晶的作用,实际的形态和撒入的量、分布有关。

晶体的生长机理及条件对晶型的影响

1.晶体生长机理 理根据经典的晶体生长理论,液相反应体系中晶体生长包括以下步骤:①营养料在水溶液介质里溶解,以离子、分子团的形式进入溶液(溶 解阶段):②由于体系中存在十分有效的热对流以及溶解区和生长区 之间的浓度差,这些离子、分子或离子团被输运到生长区(输运阶段); ③离子、分子或离子团在生长界面上的吸附、分解与脱附;④吸附物质在界面上的运动;⑤结晶(③、④、⑤统称为结晶阶段)。液相条件下生长的晶体晶面发育完整,晶体的结晶形貌与生长条件密切相关,同种晶体在不同的生长条件下可能有不同的结晶形貌。简单套用经典晶体生长理论不能很好解释许多实验现象,因此在大量实验的基础 上产生了“生长基元”理论模型。。“生长基元"理论模型认为在上述输运阶段②,溶解进入溶液的离子、分子或离子团之间发生反应,形成具有一定几何构型的聚合体一生长基元,生长基元的大小和结构与溶液中的反应条件有关。在一个水溶液反应体系里,同时存在多种形式的生长基元,它们之间建立起动态平衡。某种生长基元越稳定(可从能量和几何构型两方面加以考察),其在体系里出现的几率就越大。在界面上叠合的生长基元必须满足晶面结晶取向的要求,而生长基元在界面上叠合的难易程度决定了该面族的生长速率。从结晶学观点看:生长基元中的正离子与满足一定配位要求的负离子相联结,因此又进一步被称为“负离子配位多面体生长基元"。生长基元模型将晶体的结晶形貌、晶体的结构和生长条件有机地统一起来,很好地解释了许多实验现象。

2晶体生长的影响条件 对于水热合成,晶粒的形成经历了“溶解一结晶"两个阶段。水热法制备常采用固体粉末或新配制的凝胶作为前驱物,所谓“溶解”是指在水热反应初期,前驱物微粒之间的团聚和联结遭到破坏,以使微粒自身在水热介质中溶解,以离子或离子团的形式进入溶液,进而成核、结晶而形成晶粒。在水热条件下,晶体自由生长,晶体各个面族的生长习性可以得到充分显露,由于水热条件下晶体生长是在非受迫的情况下进行,所以生长温度压力、溶液、溶液流向和温度梯度对晶体各个面族的生长速率影响很明显,表现在晶体的结晶形态变化。总的来说,在水热合成中影响材料形貌、大小、结构的因素主要有温度、原材料的种类、浓度、比例、pH值、反应时间、有机物添加剂等 (1)反应温度 反应温度提供合成材料的原动力,因此反应制备过程需要高于一定的温度,不同的材料,不同的体系差别很大。一般温度越高,产物的直径越大,而结晶性会更好,并且容易形成其稳定相。 (2)原料 原料的种类对产物的形貌、大小有很大的影响。在液相反应体系中,不同的原料直接决定了溶液中生成先驱体的浓度,先驱体发生化学反应生成产物达到一定的过饱和度时,结晶析出生长晶体。因此原料的不同得到先驱体的反应特性也不同,如水解速率、浓度等,从而影响产物的形态。 (3)其它条件

晶体生长机理与晶体形貌的控制

晶体生长机理与晶体形貌的控制 张凯1003011020 摘要:本文综述了晶体生长与晶体形貌的基本理论和研究进展,介绍了层生长理论,分析了研究晶体宏观形貌与内部结构关系的3种主要理论,即布拉维法则、周期键链理论和负离子配位多面体生长基元理论。 关键词:晶体生长机理晶体结构晶体形貌晶体 1.引言 固态物质分为晶体和非晶体。从宏观上看,晶体都有自己独特的、呈对称性的形状。晶体在不同的方向上有不同的物理性质,如机械强度、导热性、热膨胀、导电性等,称为各向异性。晶体形态的变化,受内部结构和外部生长环境的控制。晶体形态是其成份和内部结构的外在反映,一定成份和内部结构的晶体具有一定的形态特征,因而晶体外形在一定程度上反映了其内部结构特征。今天,晶体学与晶体生长学都发展到了非常高的理论水平,虽然也不断地有一些晶体形貌方面的研究成果,但都停留在观察、测量、描述、推测生长机理的水平上。然而,在高新技术与前沿理论突飞猛进的今天,晶体形貌学必然也会受到冲击与挑战,积极地迎接挑战,与前沿科学理论技术接轨,晶体形貌学就会有新的突破,并且与历史上 一样也会对其它科学的发展做出贡献。 2.层生长理论 科塞尔(Kossel,1927)首先提出,后经斯特兰斯基(Stranski)加以发展的晶体的层生长理论亦称为科塞尔—斯特兰斯基理论。 它是论述在晶核的光滑表面上生长一层原子面时,质点在界面上进入晶格"座位"的最佳位置是具有三面凹入角的位置。质点在此位置上与晶核结合成键放出的能量最大。因为每一个来自环境相的新质点在环境相与新相界面的晶格上就位时,最可能结合的位置是能量上最有利的位置,即结合成键时应该是成键数目最多,释放出能量最大的位置。质点在生长中的晶体表面上所可能有的各种生长位置:k为曲折面,具有三面凹人角,是最有利的生长位置;其次是S阶梯面,具有二面凹入角的位置;最不利的生长位置是A。由此可以得出如下的结论即晶体在理想情况下生长时,先长一条行列,然后长相邻的行列。在长满一层面网后,再开始长第二层面网。晶面(最外的面网)是平行向外推移而生长的。这就是晶体的层生长理论,用它可以解释如下的一些生长现象。 1)晶体常生长成为面平、棱直的多面体形态。 2)在晶体生长的过程中,环境可能有所变化,不同时刻生成的晶体在物性(如颜色)和成分等方面可能有细微的变化,因而在晶体的断面上常常可以看到带状

晶核的形成和长大

第六讲晶核的长大 第五节晶核长大 一、主要内容: 液固界面的微观结构 晶体的长大机制 液固界面前沿液体中的温度梯度 晶体生长的界面形状-晶体形态 长大速度 晶粒大小的控制 二、要点: 液固界面的微观结构,光滑界面,粗糙界面的概念,杰克逊因子,不同金属结晶时的液固界面,晶体的长大机制,二维晶核长大机制,螺型位错长大机制,垂直长大机制, 液固界面前沿液体中的温度梯度,正温度梯度,负温度梯度。晶体生长的界面形状,晶体形态,树枝晶,等轴晶,长大速度,晶粒大小的控制 三、方法说明: 通过对液固界面的微观结构的讨论,说明金属型界面和非金属型界面的不同,结晶后的晶界相界的形态也不同,即晶粒的形状不同,晶粒的形状和大小对金属的性能有直接影响。液相中的温度梯度对金属的生长速度和生长方式有直接的影响,通过以上的讨论使学生对如何判断金属中的相,和如何得到所需的晶粒大小和形状有一个清楚的认识。 授课内容: 形核之后,晶体长大,其涉及到长大的形态,长大方式和长大速率。长大形态常反映出凝固后晶体的性质,而长大方式决定了长大速率,也就是决定结晶动力学的重要因素。 晶核长大的条件:第一要求液相能不断的向晶体扩散供应原子, 第二要求晶体表面能够不断的牢固的接纳这些原子。 晶核长大需要在过冷的液体中进行,但是需要的过冷度要比形核时的小。 一、固液界面的微观结构 液固界面的微观结构分为两类:光滑界面和粗糙界面 1、光滑界面:如图,在界面的上部,所有原子都处于液体状态,在界面的下部所有的 原子都处于固体状态。这种界面通常为固相的密排面,呈曲折的锯齿状又称为小平面界面。 2、粗糙界面:如图,从微观尺寸看这种界面是平整的,当从原子的尺度看这种界面是 高低不平的,液固界面的原子犬牙交错的分布着,所以又叫非小平面界面。 3、如果界面上有近0%或100%的位置为晶体原子所占有,则界面是光滑界面。 界面自由能的变化可用公式表示: 二、晶体长大机制 1、二维晶核长大机制 光滑界面时晶体的长大只能依靠二维形核机制方式长大。 2、螺型位错长大机制 晶体长大时,难免形成缺陷。实际上,具有光滑界面的晶体是以这种方式长大的,比二维机制方式长大快得多。 3、垂直长大机制 垂直长大速度很快,大部分金属晶体均以这种方式长大。 三、固液界面前沿液体中的温度梯度

晶体生长机理研究综述

晶体生长机理研究综述 摘要 晶体生长机理是研究金属材料的基础,它本质上就是理解晶体内部结构、缺陷、生长条件和晶体形态之间的关系。通过改变生长条件来控制晶体内部缺陷的形成从而改善和提高晶体的质量和性能使材料的强度大大增强开发材料的使用潜能。本文主要介绍了晶体生长的基本过程和生长机理,晶体生长理论研究的技术和手段,控制晶体生长的途径以及控制晶体生长的途径。 关键词:晶体结构晶界晶须扩散成核 一、晶体生长基本过程 从宏观角度看,晶体生长过程是晶体-环境相、蒸气、溶液、熔体、界面向环境相中不断推移的过程,也就是由包含组成晶体单元的母相从低秩序相向高度有序晶相的转变从微观角度来看,晶体生长过程可以看作一个基元过程,所谓基元是指结晶过程中最基本的结构单元,从广义上说,基元可以是原子、分子,也可以是具有一定几何构型的原子分子聚集体所谓的基元过程包括以下主要步骤:(1)基元的形成:在一定的生长条件下,环境相中物质相互作用,动态地形成不同结构形式的基元,这些基元不停地运动并相互转化,随时产生或消失(2)基元在生长界面的吸附:由于对流~热力学无规则的运动或原子间的吸引力,基元运动到界面上并被吸附 (3)基元在界面的运动:基元由于热力学的驱动,在界面上迁移运动 (4)基元在界面上结晶或脱附:在界面上依附的基元,经过一定的运动,可能在界面某一适当的位置结晶并长入固相,或者脱附而重新回到环境相中。 晶体内部结构、环境相状态及生长条件都将直接影响晶体生长的基元过程。环境相及生长条件的影响集中体现于基元的形成过程之中;而不同结构的生长基元在不同晶面族上的吸附、运动、结晶或脱附过程主要与晶体内部结构相关联。不同结构的晶体具有不同的生长形态。对于同一晶体,不同的生长条件可能产生不同结构的生长基元,最终形成不同形态的晶体。同种晶体可能有多种结构的物相,即同质异相体,这也是由于生长条件不同基元过程不同而导致的结果,生长机理如下: 1.1扩散控制机理从溶液相中生长出晶体,首要的问题是溶质必须从过饱和溶液中运送到晶体表面,并按照晶体结构重排。若这种运送受速率控制,则扩散和对流将会起重要作用。当晶体粒度不大于1Oum时,在正常重力场或搅拌速率很低的情况下,晶体的生长机理为扩散控制机理。 1.2 成核控制机理在晶体生长过程中,成核控制远不如扩散控制那么常见但对于很小的晶体,可能不存在位错或其它缺陷。生长是由分子或离子一层一层

晶体生长规律

1.如何知道晶体沿哪个晶面生长?一个晶体有多个晶面,怎么知道它沿哪个晶面生长?是不是沿XRD测出来的峰最强的那个晶面生长?扫描电镜可以观察晶体有多个面,如何知道每个面所对应的晶面?答:一般是晶体的密排面,因为此晶面的自由能最低。这个和温度有关,温度高就是热力学生长,能克服较大势垒,一般沿111面长成球或者四方。温度低的话,就是动力学生长,沿着100面,成为柱状了。对于完美无缺陷的晶体来说,原子间距最小的面最容易生长,如111面,长成球或者四方。改变外界条件,如温度、PH值、表面活性剂等,都会影响晶体的生长。对于缺陷晶体来说,除以上因素外,杂质缺陷、螺旋位错等也会影响晶体的生长。如果按照正常生长的话,都是密排面生长,但是熔体的条件改变后生长方式发生改变,例如铝硅合金的变质,加入变质剂后就不是密排面生长,而是频繁的分枝,各个面可能都有。完美条件下是沿吴立夫面生长,但总会有外界条件影响晶面的表面能,导致吴立夫面不是表面能最低的面,所以晶体露在外边的面就不一定是吴立夫面了,但应该是该生长条件下表面能最低的面。 HRTEM 和SAED可以表征生长方向~晶面能量越高,原子堆积速度越快,垂直该晶面方向的生长速度就快。而这样的后果有两个: 1.晶体沿垂直该晶面的方向快速生长; 2.该晶面在生长过程中消失。 引晶是拉晶里面的一个步骤,一般拉晶是指单晶生长的整个过程,其中包括清炉、装料、抽空、化料、引晶、放肩、转肩、等径、收尾、

停炉。拉晶有些人是叫长晶,引晶一般是指将籽晶(又称晶种)放入溶液硅中,然后沿着籽晶引出一段细晶,这过程主要是为了排除位错和缺陷,使后面的晶体能够较好的生长。

晶体生长方法(新)

晶体生长方法 1) 提拉法(Czochralski,Cz ) 晶体提拉法的创始人是J. Czochralski ,他的 论文发表于1918年。提拉法是熔体生长中最常 用的一种方法,许多重要的实用晶体就是用这 种方法制备的。近年来,这种方法又得到了几 项重大改进,如采用液封的方式(液封提拉法, LEC ),如图1,能够顺利地生长某些易挥发的化 合物(GaP 等);采用导模的方式(导模提拉法) 生长特定形状的晶体(如管状宝石和带状硅单 晶等)。 所谓提拉法,是指在合理的温场下,将装 在籽晶杆上的籽晶下端,下到熔体的原料中, 籽晶杆在旋转马达及提升机构的作用下,一边 旋转一边缓慢地向上提拉,经过缩颈、扩肩、 转肩、等径、收尾、拉脱等几个工艺阶段,生长出几何形状及内在质量都合格单晶的过程。这种方法的主要优点是:(a) 在生长过程中,可以方便地观察晶体的生长情况;(b) 晶体在熔体的自由表面处生长,而不与坩埚相接触,这样能显著减小晶体的应力并防止坩埚壁上的寄生成核;(c) 可以方便地使用定向籽晶与“缩颈”工艺,得到完整的籽晶和所需取向的晶体。提拉法的最大优点在于能够以较快的速率生长较高质量的晶体。 提拉法中通常采用高温难熔氧化物,如氧化锆、氧化铝等作保温材料,使炉体内呈弱氧化气氛,对坩埚有氧化作用,并容易对熔体造成污杂,在晶体中形成包裹物等缺陷;对于那些反应性较强或熔点极高的材料,难以找到合适的坩埚来盛装它们,就不得不改用其它生长方法。 图1 提拉法晶体生长装置结构示意图

2)热交换法(Heat Exchange Method, HEM) 热交换法是由D. Viechnicki和 F. Schmid于1974年发明的一种长晶方法。 其原理是:定向凝固结晶法,晶体生长 驱动力来自固液界面上的温度梯度。特 点:(1) 热交换法晶体生长中,采用钼 坩埚,石墨加热体,氩气为保护气体, 熔体中的温度梯度和晶体中的温度梯 度分别由发热体和热交换器(靠He作 为热交换介质)来控制,因此可独立地 控制固体和熔体中的温度梯度;(2) 固 液界面浸没于熔体表面,整个晶体生长 过程中,坩埚、晶体、热交换器都处于 静止状态,处于稳定温度场中,而且熔 体中的温度梯度与重力场方向相反,熔 体既不产生自然对流也没有强迫对流; (3) HEM法最大优点是在晶体生长结束 后,通过调节氦气流量与炉子加热功率, 实现原位退火,避免了因冷却速度而产 生的热应力;(4) HEM可用于生长具有 图2HEM晶体生长装置结构示意图 特定形状要求的晶体。 由于这种方法在生长晶体过程中需要不停的通以流动氦气进行热交换,所以氦气的消耗量相当大,如Φ30mm的圆柱状坩埚就需要每分钟38升的氦气流量,而且晶体生长周期长,He气体价格昂贵,所以长晶成本很高。

针状晶体生长机理

Journal of Crystal Growth 310(2008)110–115 Crystallization mechanisms of acicular crystals Franc -ois Puel a ,Elodie Verdurand a ,Pascal Taulelle b ,Christine Bebon a ,Didier Colson a , Jean-Paul Klein a ,Ste phane Veesler b,?a LAGEP,UMR CNRS 5007,Universite ′Lyon 1,CPE Lyon,Ba ?t.308G,43Bd du 11novembre 1918,F-69622Villeurbanne Cedex,France b Centre de Recherche en Matie `re Condense ′e et Nanosciences (CRMCN)1—CNRS,Campus de Luminy,Case 913,F-13288Marseille Cedex 09,France Received 10September 2007;accepted 3October 2007 Communicated by K.Sato Available online 9October 2007 Abstract In this contribution,we present an experimental investigation of the growth of four different organic molecules produced at industrial scale with a view to understand the crystallization mechanism of acicular or needle-like crystals.For all organic crystals studied in this article,layer-by-layer growth of the lateral faces is very slow and clear,as soon as the supersaturation is high enough,there is competition between growth and surface-activated secondary nucleation.This gives rise to pseudo-twinned crystals composed of several needle individuals aligned along a crystallographic axis;this is explained by regular over-and inter-growths as in the case of twinning.And when supersaturation is even higher,nucleation is fast and random. In an industrial continuous crystallization,the rapid growth of needle-like crystals is to be avoided as it leads to fragile crystals or needles,which can be partly broken or totally detached from the parent crystals especially along structural anisotropic axis corresponding to weaker chemical bonds,thus leading to slower growing faces.When an activated mechanism is involved such as a secondary surface nucleation,it is no longer possible to obtain a steady state.Therefore,the crystal number,size and habit vary signi?cantly with time,leading to troubles in the downstream processing operations and to modi?cations of the ?nal solid-speci?c properties. These results provide valuable information on the unique crystallization mechanisms of acicular crystals,and show that it is important to know these threshold and critical values when running a crystallizer in order to obtain easy-to-handle crystals.r 2007Elsevier B.V.All rights reserved. PACS:81.10.Aj;81.10.Dn;78.30.Jw Keywords:A1.Crystal morphology;A2.Growth from solutions;https://www.360docs.net/doc/143541993.html,anic compounds 1.Introduction Many organic molecules exhibit anisotropic structural properties in their crystalline form,which gives rise to acicular or needle-like crystals.In the chemical and pharmaceutical industry,crystallization from solution is used as a separation technique,and this crystal habit is usually not desirable,especially when the internal length-to-width ratio is high,as it will lead to problems in downstream processes (?ltration,drying,storage,handling,etc.). A better understanding of the mechanisms of nucleation and growth of these needle-like crystals will therefore lead to better control of crystallization processes.In the literature,papers on molecular modeling of these needle-like crystals [1–3]suggest that in the case of needle-like crystals,there is no slow-growing face in the needle direction.Practical aspects have been also studied for a few years now in our different research teams [4–6]. In this contribution,we present an experimental investigation of the growth of four different organic molecules produced at industrial scale with a view to understand the crystallization mechanism of acicular https://www.360docs.net/doc/143541993.html,/locate/jcrysgro 0022-0248/$-see front matter r 2007Elsevier B.V.All rights reserved.doi:10.1016/j.jcrysgro.2007.10.006 ?Corresponding author.Tel.:+33662922866;fax:+33491418916. E-mail address:veesler@crmcn.univ-mrs.fr (S.Veesler). 1 Laboratory associated to the Universities Aix-Marseille II and III.

NaCo2O4晶体的生长形貌和生长机理英文

第41卷第3期 人工晶体学报Vol.41No.32012年6月JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS June ,2012 Growth ,Morphology and Growth Mechanism of NaCo 2O 4Crystals HAN Shu-juan 1,WANG Ji-yang 1,LI Jing 1,GUO Yong-jie 1,WANG Yong-zheng 1, ZHAO Lan-ling 1,YAO Shu-hua 2,CHEN Yan-bin 2,Boughton R.I.3 (1.State Key Laboratory of Crystal Materials ,Shandong University ,Jinan 250100,China ; 2.College of Materials Science and Engineering ,Nanjing University ,Nanjing 210093,China ; 3.Department of Physics and Astronomy ,Bowling Green State University ,Bowling Green ,Ohio 43403,USA ) (Received 28September 2011, accepted 5March 2012)Abstract :Millimetre-sized NaCo 2O 4crystals were grown from a molten flux based on NaCl-Na 2CO 3by spontaneous nucleation method.Details of the preparation and growth procedures are provided.The as- grown crystals were characterized by X-ray powder diffraction (XRPD ).The morphology and growth mechanism were investigated by scanning electron microscopy (SEM )and atomic force microscopy (AFM ).The results show that the obtained crystal are well crystallized and indexed in a hexagonal crystal system with lattice parameters a =b =0.2842nm ,c =1.0894nm ,and V =0.0761997nm 3.The growth of NaCo 2O 4single crystals was controlled by a two-dimensional (2D )layer-by-layer mechanism acting along the c -axis.Furthermore ,the morphology of the crystals was also interpreted in the viewpoint of anionic coordination polyhedron growth units. Key words :layered compounds ;crystal growth ;microstructure Received date :2011-09-28;accepted date :2012-03-05 Foundation item :National Natural Science Foundation of China (50872066);National Fundamental Research Project (2010CB833103);Graduate Independent Innovation Foundation of Shandong University (GIIFSDU ) Biography :HAN Shu-juan (1983-),female ,from Shandong province ,Doctor.E-mail :shujuanhan84@163.com Corresponding author :WANG Ji-yang ,professor.E-mail address :jywang@sdu.edu.cn CLC number :O78Document code :A Article ID :1000-985X (2012)03-0573-05 NaCo 2O 4晶体的生长,形貌和生长机理研究 韩树娟1,王继扬1,李静1,郭永解1,王永政1,赵兰玲1, 姚淑华2,陈延彬2, Boughton R.I.3(1.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南250100;2.南京大学材料科学与工程学院,南京210093; 3.博林格林州立大学天文和物理学系,俄亥俄博林格林43403) 摘要:采用自发成核方法,以NaCl-Na 2CO 3为助熔剂,生长了毫米级的NaCo 2O 4晶体。通过X 射线衍射对晶体作了 表征。利用扫描电子显微镜和原子力显微镜研究了晶体的形貌和生长机理。结果表明:所得晶体是NaCo 2O 4,属于 六方晶系,晶胞参数:a =b =0.2842nm ,c =1.0894nm ,V =0.0761997nm 3。NaCo 2O 4晶体是沿c 轴层状生长的,同 时从阴离子配位多面体的角度分析了晶体的形貌。 关键词:层状化合物;晶体生长;微观结构

晶体生长原理与技术

晶体生长原理与技术课程教学大纲 一、课程说明 (一)课程名称、所属专业、课程性质、学分; 课程名称:晶体生长原理及电化学基础 所属专业:金属材料物理学 课程性质:专业方向选修课,学位课,必修环节 学分: 4 学时: 72 (二)课程简介、目标与任务; 课程简介:本课程将在绪论中,对人工晶体生长的基本概念,研究范畴,研究历史和晶体生长 方法分类等基本概念进行简要介绍。然后分4篇进行论述。第一篇为晶体生长的基本原理,将分5 章,对晶体生长过程的热力学和动力学原理,结晶界面形貌与结构,形核与生长的动力学过程进行 描述。第二篇为晶体生长的技术基础,将分3章,对晶体生长过程的涉及的传热、传质及流体流动 原理,晶体生长过程的化学原理和晶体生长过程控制涉及的物理原理进行论述。第三篇为晶体生长 技术,将分4章对熔体生长、溶液生长、气相生长的主要方法及其控制原理进行论述。第四篇,晶 体的性能表征与缺陷,将分2章,分别对晶体的结构、性能的主要表征方法,晶体的结构缺陷形成 与控制原理进行论述。 目标与任务:掌握晶体生长的基本物理原理,学会将基本物理知识运用与晶体生长过程分析讨论。 (三)先修课程要求,与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接; 修完普通物理学及四大力学课程、固体物理课程后才可学习该课程,该课程向前联系基本物理知识的运用,向后衔接研究生科学研究中遇到的实际结晶学问题。 (四)教材与主要参考书。 教材两本: 《晶体生长原理与技术》,介万奇,北京:科学出版社,2010 参考书: 《晶体生长科学与技术》[上、下册],张克从,凝聚态物理学丛书,北京:科学出版社,1997 《人工晶体:生长技术、性能与应用》,张玉龙,唐磊,化学工业出版社,2005 《晶体生长基础》,姚连增,中国科学技术大学出版社,1995

蓝宝石各种生长方法

一、蓝宝石生长 1.1 蓝宝石生长方法 1.1.1 焰熔法Verneuil (flame fusion) 最早是1885年由弗雷米(E. Fremy)、弗尔(E. Feil) 和乌泽(Wyse)一起,利用氢氧火焰熔化天然的红宝石粉末 与重铬酸钾而制成了当时轰动一时的“ 日内瓦红宝石”。后 来于1902年弗雷米的助手法国的化学家维尔纳叶(Verneuil) 改进并发展这一技术使之能进行商业化生产。因此,这种方 法又被称为维尔纳叶法。 1)基本原理 焰熔法是从熔体中生长单晶体的方法。其原料的粉末在 通过高温的氢氧火焰后熔化,熔滴在下落过程中冷却并在种 晶上固结逐渐生长形成晶体。 2)合成装置与条件、过程 焰熔法的粗略的说是利用氢及氧气在燃烧过程中产生 高温,使一种疏松的原料粉末通过氢氧焰撒下焰融,并落在 一个冷却的结晶杆上结成单晶。下图是焰熔生长原料及设备 简图。这个方法可以简述如下。图中锤打机构的小锤7按一 定频率敲打料筒,产生振动,使料筒中疏松的粉料不断通过 筛网6,同时,由进气口送进的氧气,也帮助往下送粉料。 氢经入口流进,在喷口和氧气一起混合燃烧。粉料在经过高温火焰被熔融而落在一个温度较低的结晶杆2上结成晶体了。炉体4设有观察窗。可由望远镜8观看结晶状况。为保持晶体的结晶层在炉内先后维持同一水平,在生长较长晶体的结晶过程中,同时设置下降机构1,把结晶杆2缓缓下移。 焰熔法合成装置由供料系统、燃烧系统和生长系统组成,合成过程是在维尔纳叶炉中进行的。 A.供料系统 原料:成分因合成品的不同而变化。原料的粉末经过充分拌匀,放入料筒。如果合成红宝石,则需要Al2O 粉末和少量的 Cr2O3参杂,Cr2O3用作致色剂,添加量为 1-3%。三氧化 3 二铝可由铝铵矾加热获得。料筒:圆筒,用来装原料,底部有筛孔。料筒中部贯通有

晶体生长方法

1.1.5 热交换法Heat exchange method (HEM) 该方法的实质是熔体在坩埚内直径凝固。它 与坩埚移动法的区别是在这种方法中,坩埚不做 任何方向的移动。这是近年来生长大尺寸晶体的 又一发展。Schmid最初的生长是在一个梯度单 晶炉内进行,用以生长大尺寸白宝石单晶。右图 所示的是这种方法的示意图。该梯度炉就是在真 空墨电阻炉的底部装上一个钨铝制成的热交换 器,内有冷却氦气流过。把装有原料的坩埚放在 热交换器的顶端,两者中心互相重合,而籽晶置 于坩埚底部的中心处(注意,热交换器与坩埚底 面积之比应有一定的比例),当坩埚内的原料被 加热熔化以后,此时,由于氦气流经热交换器冷却,使籽晶并未熔化,当氦气流量逐渐加大后,则从熔体带走的热量亦相应增加,使籽晶逐渐长大。最后使整个坩埚内的熔体全部凝固。整个晶体生长过程分两个阶段进行,即成核阶段和生长阶段。在这个过程中晶体生长的去的驱动力来自固—液界面上的温度梯度。通过调节石墨加热器的功率,可达到调节熔体温度的目的。而晶体的热量可通过氦气的流量带走。因此,在生长过程中,晶体的生长界面上可以建立起所需要的温度梯度。 这种方法的主要优点如下: 1)晶体生长时,坩埚、晶体和加热区都不移动,这就消除了由于机械运动而产生的熔体涡流,控制热交换器的温度,是晶体生长在温度梯度场中进行,抑制了熔体的涡流和对流,可以消除固—液界面上温度和浓度的波动,以避免晶体造成过多的缺陷。 2)刚生长出来的晶体被熔体所包围,这样就可以控制它的冷却速率,以减少晶体的热应力及由此产生的开裂和位错等缺陷。同时,也可以长出与坩埚形状和尺寸相仿的单晶。 当然热交换法生长晶体的周期较长,例如,Schmid生长32cm直径的白宝石单晶约需一周左右的时间。 1.1.6水平结晶法Horizontal directional crystallization method(HDC) 其生长原理如右图所示,将原料放入船形坩埚之中,船形坩埚之船头部位主要是放置晶种,接着使坩埚经过一加热器,邻近加热器之部份原料最先熔化形成熔汤,形成熔汤之原料便与船头之晶种接触,即开始生长晶体,当坩埚完全经过加热器后,便可得一单晶体。为了晶体品质及晶体生张结束后,方便取出晶体,坩埚应采用不沾其熔汤之材料所製,如石英、

三种晶体生长理论

三种晶体生长理论: 一、层生长理论 科赛尔首先提出,后经斯兰特斯基加以发展的晶体的层生长理论亦称为科赛尔-斯兰特斯基理论。这一模型主要讨论的关键问题是:在一个面尚未生长完全前在一界面上找出最佳生长位置。图8-2表示了一个简单立方晶体模型中一界面上的各种位置,各位上成键数目不同,新支点就位后的稳定程度不同。每个来自环境相的新质点在环境相与新相界面的晶格上就位时,最可能结合的位置是能量上最有利的位置,即结合成键时应该是成键数目最多、释放出能量最大的位置。图8-2所示质点在生长中的晶体表面上所可能有的各种生长位置:k为曲折面,具有三面凹角,是最有利的生长位置;其次是S阶梯面,具有两面凹角的位置;最不利的生长位置是A。由此可以得出如下的结论:警惕在理想情况下生长时,一旦有三面凹角位存在,质点则优先沿着三面凹角位生长一条行列;而当这一行列长满后,就只有二面凹角位了,质点就只能在二面凹角处就位生长,这时又会产生三面凹角位,然后生长相邻的行列;在长满一层面网后,质点就只能在光滑表面上生长,这一过程就相当于在光滑表面上形成一个二维核,来提供三面凹角和二面凹角,再开始生长第二层面网。晶面(最外的面网)是平行向外推移而生长的。这就是晶体生长的层生长模型,它可以解释如下一些生长现象:(1)晶体常生长成面平棱直的多面体形态。 (2)晶体在生长的过程中,环境可能有所变化,不同时刻生成的晶体在物性(如颜色)和成分等方面可能有细微的变化,因而在晶体的断面上常常可以看到带状构造 (图8-3)。它表明晶面是平行向外推移生长的。 (3)由于晶面是向外推移生长的,所以同种矿物不同晶面上对应晶面间的夹角不变。 (4)晶体由小长大,许多晶面向外平行移动的轨迹形成以晶体中心为顶点的锥状体,成为生长锥或砂钟状构造(图8-4,图8-5)在薄片中常常能看到。 然而晶体生长的实际情况要比简单层生长模型复杂得多,往往一次沉淀在一个晶面上的物质层的厚度可达几万或几十万个分子层。同时亦不一定是一层一层的顺序堆积,而是一层尚未长完,又有一个新层开始生长。这样继续生长下去的结果,使晶面表面不平坦,成为阶梯状,称为晶面阶梯。 层生长模型虽然有其正确的方面,在实际晶体生长过程中并非完全按照二维层生长的机制进行。因为当晶体的一层面网生长完成之后,再在其上开始生长第二层面网时有很大的困难,其原因是已生长好的面网对溶液中质点的引力较小,不易克服质点的热振动使质点就位。因此,在过饱和度或过冷却度较低的情况下,晶体生长就需要用其他的生长机制加以解释。

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