杂质谱的分析

杂质谱的分析
杂质谱的分析

杂质谱的分析

在药品研发及药品评价的过程中,杂质研究是一项非常重要的内容。因为药物在临床使用过程中所发生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关外,有时还与药品中所含有的杂质有很大的关系。众所周知,从事药品研发及药品评价所要遵循的一个基本原则就是要保证上市药品的安全性和有效性,由于药品质量的稳定可控是保证药品安全有效的前提和基础,而杂质研究又是药品质量研究的一项重要内容,所以杂质研究及杂质控制是药品质量保证的关键要素,是确保药品安全有效性的重要体现。

2005年SFDA颁布的《化学药物杂质研究技术指导原则》中明确说明任何影响药物纯度的物质统称为杂质。具体的解释就是指药物中所含有的没有治疗作用、可能影响药物的稳定性和疗效,甚至是对人体健康有害的物质。杂质的来源有工艺杂质和降解产物等,工艺杂质指的是药品在制备工艺过程中引入的杂质,它包括没有反应完全的反应物、反应过程中所生成的中间体及副产物、反应过程中所使用的试剂及催化剂等。降解产物指的是药品在生产和贮藏过程中发生化学变化而产生的杂质,如发生水解、氧化、开环等反应,降解产物主要与药物的结构特征密切相关。

由于杂质研究与药品的质量及安全有效性直接相关,为了提高药品的质量,保障公众的用药安全,因此,在药品研发过程中需规范地进行杂质研究,并将其控制在安全、合理的限度范围内。在杂质研究总体原则的指导下,其中杂质谱的分析应是杂质研究的重要内容之一。

一、杂质研究的总体原则

杂质研究的总体原则就是要结合在研产品具体的工艺以及产品的特点开展研究。首先,要结合具体工艺及产品特点来分析产品中可能产生什么样的杂质,通过杂质谱的分析对产品中杂质的来源及结构情况有较为全面的了解;然后,在杂质谱分析的基础上,有针对性地选择合适的分析方法,以确保杂质的有效检出及控制;最后,需综合药学、药理毒理及临床研究结果确定合理的杂质限度,从而保证药品的质量及安全性。

二、杂质谱的分析

前已提及,对于杂质谱的分析需结合具体的工艺及产品特点展开,下面简要

介绍关于杂质谱分析的若干途径。

1.对于原料药,需依据所采用的具体合成工艺来分析在研产品中可能产生的杂质。

例如:抗心绞痛药物盐酸曲美他嗪质量标准中哌嗪的检查,曲美他嗪的合成路线如下所示:

由上式可见,哌嗪是曲美他嗪的反应物之一,即哌嗪是盐酸曲美他嗪的一个工艺杂质。

2.基于产品的结构特征来分析可能产生的降解产物。

例如,中国药典2005年版二部收载的抗高血压药物依那普利质量标准中依那普利拉和依那普利二酮哌嗪的检查,下式为依那普利、依那普利拉及依那普利二酮哌嗪的结构。

由于降解产物主要与药物的结构特征密切相关,下面来分析依那普利的结构特征,从依那普利的结构可见,依那普利的结构中含有羧酸乙酯基,该基团易发生水解反应,生成羧基,即产生依那普利拉;此外,依那普利的结构中含有一个羧基,同时还含有一个氨基,它们易发生酰化反应生成内酰胺结构,即产生依那普利二酮哌嗪。通过上述分析可见,依那普利拉和依那普利二酮哌嗪是依那普利的降解产物。

3.对于制剂,可以通过主药与辅料/包材的相容性研究来分析产生的降解产物。

首先,可以通过调研了解已明确存在的主药与辅料/包材间的相互作用情况。以乳糖为例,乳糖的结构中含有半缩醛羟基,它可以转化成醛式,这一结构特征可与含有伯胺类结构的化合物如苯胺类、氨基酸等发生缩和反应,生成腙与糖脎等衍生物,可见,乳糖与含有伯胺类结构的药物存在着配伍禁忌。对于缺乏相关研究资料的情况,可以考虑进行主药与辅料/包材之间的相容性试验,例如,口服固体制剂,可以将主药和辅料按一定比例混合后,进行影响因素试验。

4.通过强制降解试验来分析产品中潜在的降解产物。

可考察样品在一定的酸、碱、高温、光照、氧化等因素影响下的降解产物。对于固体原料药,需分别考察在固体和溶液状态下的降解产物。必要时,可以根据情况进行以上因素综合存在时的强制降解试验。

例如,维生素K的人工合成品甲萘氢醌二磷酸酯钠,在一定pH值水解条件

下,首先生成甲萘氢醌;进而在氧化条件下,甲萘氢醌发生氧化反应,生成甲萘醌,反应过程如下所示:

5.考察样品在确定的实际贮藏条件下所产生的降解产物。

根据在研产品的性质,确定适宜的贮藏条件,在稳定性研究中,考察产品在一定温度、湿度、光线等实际保存、运输、使用过程中随时间产生的降解产物。

三、杂质的结构确证

在上述杂质谱分析的基础上,可以较为充分地了解产品中杂质的来源情况,对于超过ICH相关指导原则中规定的鉴定限度的杂质需进行结构确证。可采用合成或分离技术来获得杂质,然后,通过各种结构测试手段,如IR、NMR、MS 等对杂质的结构进行综合分析,以确证杂质的结构。

综上所述,在药品杂质研究工作中,结合具体的工艺及产品特点进行的杂质来源和结构分析具有至关重要的意义。通过上述杂质谱的分析,可以对产品中的杂质全貌情况有比较充分的了解,从而使得分析方法的建立及验证具有一定的针对性,以确保杂质检测结果的可靠性。通过杂质的合理控制,最终实现药品的质量可控、安全有效的目的。

3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理

3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理 格式模板 首先列出产品的杂志谱列表,比如: ****产品杂质情况分析表

反应过程的描述: 1、 详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂,催化剂等。 2、 结合CTD 资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、 起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运输等的原则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA 的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。 4、 说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物料 7-ACCA 的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD 的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、 关于ICH 的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A (R2)到ICHQ3D 的相关规定

结合上述反应过程对杂质谱进行分析,主要分起始物料引入杂质,反应杂质,降解杂质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) N S OH O O NO 2 O H N O C 22H 19N 3O 7S MW: 469.47 O C 16H 17KN 2O 4S MW: 372.48 Br NO 2 + O 2 MW: 469.51 C 7H 6BrNO 2MW: 216.0322 C 23H 23MW: 485.51 N S N H H OH O O NO 2 O C 22H 19N 3O 6S MW: 453.47 CH 2Cl 2/TEBAC TsCl morpholine N S N H H N O O NO 2O O C 26H 26N 4O 6S MW: 522.57 1) Br 2-pyrindine CH 2Cl 2 2 2C 14H 1235MW: 406.00 HCl 1) (PhO)3P/CH 2Cl 2 22) N,N-dimethyl aniline, PCl 5 i BuOH Na 2S 2O 42H 2C 7H 7ClN 2O 3S MW: 234.66 1、 无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、 普通有机杂质。 3、 对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。 4、 非对映异构体:比如ACCA 的△异构体;还包括非对应异构体自身的各种对映体。

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3.2.P.5.5 杂质谱分析模板的整理 格式模板首先列出产品的杂志谱列表,比如: **** 产品杂质情况分析表

反应过程的描述: 1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂,催化剂等。 2、结合CTD 资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料(活性 炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运输等的原则;还应对多个供应商 提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。 比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA 的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。 4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4 内容可以在CTD 的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制 说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH 的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A (R2)到ICHQ3D 的相关规定 阈值(原料药)

结合上述反应过程对杂质谱进行分析,主要分起始物料引入杂质,反应杂质,降解杂 质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料 7-ACCA 引入的杂质) 比如上述列表中的钯元素控制。 3 、 对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体对最终产品 质量的影响情况。 4、 非对映异构体:比如 ACCA 的△异构体;还包括非对应异构体自身的各种对映体。 第二部分:反应的每个步骤引 入的杂质:需要结合实际反应监控( HPLC ,LC-MS 为 主)过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述 部分进行,本部分引用工艺描述内容。 1、 步骤 1 引入的杂质。 PAA O H N O H N S O OK C 16 H 17 KN 2 O 4 S MW: 372.48 O HN CH 2 Cl CH TsCl Cl /TEBAC n-methylmorpholine morpholine 1) (PhO) 3 P/CH Cl 2 /Pyridine 2) N,N-dimethyl aniline, PCl BuOH Br NO 2 C 7 H 6 BrNO MW: 216.03 H O O N S O O O O C 23 H 23 N 3 O 7 S MW: 485.51 2 Cl 2 DMF/CH 2 Cl 2 TMP toluene NO O N O N O S O 6S NO C 23 H 23 N 3O MW: 469.51 C 22 H 19 N 3 O 7 S MW: 469.47 HCl H 2 N Na 2 S 2 O 4 acetone/H 2O C 14 H 12 ClN 3O 5 S MW: 406.00 7H 7 ClN 2 O 3 S MW: 234.66 1、 无机杂质:说明引入情况和消除渠道; 以及相关的控制方法和标准以及依据。 2、 普通有机杂质。 NO 2 MW: 522.57 H N 2 Cl O

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1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶 剂,催化剂等。 2、结合CTD资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、 其他原料、溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运 输等的原则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况 进行详细的说明。

4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物 料7-ACCA的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质 产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A(R2) 到ICHQ3D的相关规定 杂质,降解杂质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) 1、无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准 以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、普通有机杂质。 3、对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体 对最终产品质量的影响情况。 4、非对映异构体:比如ACCA的△异构体;还包括非对应异构体自身 的各种对映体。 第二部分:反应的每个步骤引入的杂质:需要结合实际反应监控(HPLC,LC-MS为主)过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述部分进行,本部分引用工艺描述内容。 1、步骤1引入的杂质。 2、步骤2引入的杂质。 3、步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简 单的控制描述…… 4、精制过程引入的杂质。 第三部分:结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个有机杂质的分布情况。

P.5.5杂质谱分析模板的整理

杂质谱分析模板的整理 格式模板 首先列出产品的杂志谱列表,比如: ****产品杂质情况分析表

反应过程的描述: 1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂,催化剂 等。 2、结合CTD资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、其他原料、 溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运输等的原 则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7- ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。 4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A(R2)到ICHQ3D的 相关规定 阈值(原料药) 2 克/天

结合上述反应过程对杂质谱进行分析,主要分起始物料引入杂质,反应杂质,降解杂质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) N S OH O O NO 2 O H N O C 22H 19N 3O 7S MW: 469.47 N O N O H S O OK C 16H 17KN 2O 4S MW: 372.48 Br NO 2 + N O N O H S O O NO 2 C H N O S MW: 469.51 C 7H 6BrNO 2MW: 216.03PAA 22 N O H N O H S O O NO 2 O C 23H 23N O S MW: 485.51 TMP toluene N S N H H O O O 23H 21N 3O 5S N S N H H OH O O 2 O C 22H 19N 3O 6S MW: 453.47 CH 2Cl 2/CH 3OH O 3, TMP CH 2Cl 2/TEBAC TsCl morpholine N S N H H N O O 2O O C 26H 26N 4O 6S MW: 522.57 1) Br 2-pyrindine CH 2Cl 2N S Cl O O NO 2 O 2N C 14H 12ClN 3O 5S MW: 406.00 HCl HCl 1) (PhO)3P/CH 2Cl 2 2) N,N-dimethyl aniline, PCl 5 i BuOH Na 2S 2O 4N S OH O Cl O H 2N H C 7H 7ClN 2O 3S MW: 234.66 1、 无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、 普通有机杂质。

药物杂质研究方法详解

药物杂质研究方法详解 近年来,随着药物研究的不断深入以及杂质研究要求不断提高,杂质的分析技术以及研究方法正发生着重要的改变。在对杂质建立分析方法时,清晰的杂质研究过程是方法建立的基础,而且选择合适的分析技术也至关重要。 杂质的来源分析 药物中的杂质可能来源于药物生产以及销售等各个环节(图1)。根据ICH 指导原则可将药物杂质分为有机杂质、无机杂质、残留溶剂以及其他杂质。本文主要针对有机杂质进行探讨。 对药物杂质研究时引入“质量源于设计( Quality byDesign,QbD)”的理念,可在药物生产之前根据具体工艺的合成机制、起始物料及各中间体的基本结构,初步勾画出产品的杂质谱。 杂质来源分析是制定药物杂质控制策略的基础,尤其是在对毒性杂质来源分析时,应分析所有合成和生产工艺中的试剂、中间体、副产物,推测可能产生的潜在杂质以及分析实际存在的杂质。 在原料药合成结束后,药物的活性化合物虽然经过毒性分析已不含有“警示结构”(alerting structure),但是在生产过程中使用到含有警示结构的化合物则还需考虑其遗传毒性。 杂质的研究方法 在药物研发过程中,药物杂质的分析是关键。因此,在杂质研究中清晰的杂质结构研思路(如图2)以及合适的杂质分析技术可极大地缩短杂质研究时间,推动着药物研究的快速发展。

1、杂质前处理技术 杂质的前处理是伴随着药物活性成分前处理而存在的,然而药物中杂质的含量低且其结构与主成分差异较大,因此常规药物活性成分的前处理和检测方法(如初始流动相溶解后直接进行HPLC-UV 分析)并不一定适用于药物杂质,应针对不同的样品选择不同的前处理技术。 (1)检测灵敏度低的样品 对检测灵敏度低的样品通常使用衍生化的前处理方式,比如引入生色团产生紫外响应,或增加易离子化基团增加离子化效率等。 虽然常规衍生化方式能够满足日常检测的需求,但是为了实现对低浓度的基因杂质进行快速筛选和定量,可对传统的衍生化试剂进行改变以增加其专属性和灵敏度,也可使用气-固衍生化来弥补液-固衍生化的不足。 (2)低浓度的杂质 低浓度杂质前处理方法的选择根据其杂质类型所决定,如降解产物利用强制降解等方法提高降解物的浓度等,但是常规的降解方法往往会引入其他杂质,因而会干扰特殊杂质的杂质谱研究,为了得到单一的杂质研究机制,Ueya-ma 等提出了一种新型的固体药物氧化降解平台,该平台排除了常见氧化方式(例如H2O2 主导)引起的水解、溶剂解或热效应等,可用于氧化降解机制的特异性研究。 (3)易污染仪器的样品 不同仪器有不同的使用条件,因此对复杂样品进行前处理工作能够延长仪器的使用寿命,例如质谱检测器不能使用含有非挥发性盐的流动相,因此在建立液质联用条件时可利用二维液相色谱技术在第一维将各峰进行分离并将样品保留至样品环中,第二维液相使用质谱可接受的流动相以及脱盐柱来洗脱样品环中的样品从而实现了被分析物“脱盐”来保护质谱。 2、杂质分离技术

杂质谱的分析

杂质谱的分析 在药品研发及药品评价的过程中,杂质研究是一项非常重要的内容。因为药物在临床使用过程中所发生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关外,有时还与药品中所含有的杂质有很大的关系。众所周知,从事药品研发及药品评价所要遵循的一个基本原则就是要保证上市药品的安全性和有效性,由于药品质量的稳定可控是保证药品安全有效的前提和基础,而杂质研究又是药品质量研究的一项重要内容,所以杂质研究及杂质控制是药品质量保证的关键要素,是确保药品安全有效性的重要体现。 2005年SFDA颁布的《化学药物杂质研究技术指导原则》中明确说明任何影响药物纯度的物质统称为杂质。具体的解释就是指药物中所含有的没有治疗作用、可能影响药物的稳定性和疗效,甚至是对人体健康有害的物质。杂质的来源有工艺杂质和降解产物等,工艺杂质指的是药品在制备工艺过程中引入的杂质,它包括没有反应完全的反应物、反应过程中所生成的中间体及副产物、反应过程中所使用的试剂及催化剂等。降解产物指的是药品在生产和贮藏过程中发生化学变化而产生的杂质,如发生水解、氧化、开环等反应,降解产物主要与药物的结构特征密切相关。 由于杂质研究与药品的质量及安全有效性直接相关,为了提高药品的质量,保障公众的用药安全,因此,在药品研发过程中需规范地进行杂质研究,并将其控制在安全、合理的限度范围内。在杂质研究总体原则的指导下,其中杂质谱的分析应是杂质研究的重要内容之一。 一、杂质研究的总体原则 杂质研究的总体原则就是要结合在研产品具体的工艺以及产品的特点开展研究。首先,要结合具体工艺及产品特点来分析产品中可能产生什么样的杂质,通过杂质谱的分析对产品中杂质的来源及结构情况有较为全面的了解;然后,在杂质谱分析的基础上,有针对性地选择合适的分析方法,以确保杂质的有效检出及控制;最后,需综合药学、药理毒理及临床研究结果确定合理的杂质限度,从而保证药品的质量及安全性。 二、杂质谱的分析 前已提及,对于杂质谱的分析需结合具体的工艺及产品特点展开,下面简要

杂质谱的分析

发布日期20070628 栏目化药药物评价>>化药质量控制 标题杂质谱的分析 作者于红 部门 正文内容 审评四部审评七室于红 在药品研发及药品评价的过程中,杂质研究是一项非常重要的内容。因为药物在临床使用过程中所发生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关 外,有时还与药品中所含有的杂质有很大的关系。众所周知,从事药品研发 及药品评价所要遵循的一个基本原则就是要保证上市药品的安全性和有效 性,由于药品质量的稳定可控是保证药品安全有效的前提和基础,而杂质研 究又是药品质量研究的一项重要内容,所以杂质研究及杂质控制是药品质量 保证的关键要素,是确保药品安全有效性的重要体现。 2005年SFDA颁布的《化学药物杂质研究技术指导原则》中明确说明任何影响药物纯度的物质统称为杂质。具体的解释就是指药物中所含有的没有 治疗作用、可能影响药物的稳定性和疗效,甚至是对人体健康有害的物质。 杂质的来源有工艺杂质和降解产物等,工艺杂质指的是药品在制备工艺过程

中引入的杂质,它包括没有反应完全的反应物、反应过程中所生成的中间体及副产物、反应过程中所使用的试剂及催化剂等。降解产物指的是药品在生产和贮藏过程中发生化学变化而产生的杂质,如发生水解、氧化、开环等反应,降解产物主要与药物的结构特征密切相关。 由于杂质研究与药品的质量及安全有效性直接相关,为了提高药品的质量,保障公众的用药安全,因此,在药品研发过程中需规范地进行杂质研究,并将其控制在安全、合理的限度范围内。在杂质研究总体原则的指导下,其中杂质谱的分析应是杂质研究的重要内容之一。 一、杂质研究的总体原则 杂质研究的总体原则就是要结合在研产品具体的工艺以及产品的特点开 展研究。首先,要结合具体工艺及产品特点来分析产品中可能产生什么样的杂质,通过杂质谱的分析对产品中杂质的来源及结构情况有较为全面的了解;然后,在杂质谱分析的基础上,有针对性地选择合适的分析方法,以确保杂质的有效检出及控制;最后,需综合药学、药理毒理及临床研究结果确定合理的杂质限度,从而保证药品的质量及安全性。 二、杂质谱的分析 前已提及,对于杂质谱的分析需结合具体的工艺及产品特点展开,下面简要介绍关于杂质谱分析的若干途径。 1.对于原料药,需依据所采用的具体合成工艺来分析在研产品中可能产生的杂质。 例如:抗心绞痛药物盐酸曲美他嗪质量标准中哌嗪的检查,曲美他嗪的合

关于仿制药杂质分析方法的几点注意事项

关于仿制药杂质分析方法的几点注意事项 :1、在仿制药杂质谱的对比研究中,需关注该产品是否在ICH成员国药典收载,收载的检测方法与申报方法有无明显差异,是否进行了方法比较研究。如果申报方法与ICH成员国药典方法之间存在较大差异,应进行包括检测能力和样品测定结果的方法对比研究,在此基础上优选专属性好、灵敏度高,能够充分检出相关杂质的检测方法。 需要注意的是:在杂质一致性的研究求证中,分析手段不能等同于日常检测,分离技术(如HPLC法)应与质谱分析(或二极管阵列检测)相结合或使用分析标识物(如杂质对照品),以便从色谱行为、UV特征、分子量及分子碎片特征等信息共同把握其物质一致性。 2、如采用HPLC法的相对保留时间识别某特定未知杂质,需要进行充分的方法耐用性的验证,并在质量标准中规定色谱柱的品牌、规格、粒径、流动相流速等分析条件,以保证检测方法具有足够的重现性,仅仅按照药典标准格式规定色谱填料的类型是不够的。 3、关于杂质分析的定量方式,通常有以下几种: (1)杂质对照品法,即外标法。用于对已知杂质的控制,如采用该法,则应注意对该对照品进行定性和定量研究,需对含量进行准确标定,并提供相关研究信息。 (2)加校正因子的主成分自身对照法,即以主成分作对照的内标法,校正因子可在检测时测定,但需提供杂质对照品,也可在建立方法时将测得的校正因子载入质量标准,供以后常规检验使用,无需长期提供杂质对照品,但也仅适于已知杂质的控制。 (3)不加校正因子的主成分自身对照法,实质上也是以主成分作对照的内标法,但其前提是假定杂质与主成分的响应因子相同,适用于具有与主成分相同或类似发色团的杂质,在有关物质与主成分具有相似的分子结构的情况下,此法不致发生太大误差。 需要关注的是稳定性考察中采用自身对照法考察有关物质变化的相关问题,由于主药本身含量也会降低,因此以主药作为杂质计算的参考标准会影响到

杂质研究与控制

杂质研究与控制是把控药品质量风险的重要内容之一,基于杂质谱分析的杂质控制是“质量源于设计”基本理念在杂质研究与控制中的具体实践,需要与CMC各项研究乃至药理毒理及临床安全性研究等环节关联思考、综合考虑,而不仅仅拘泥于提供准确的分析数据。本文针对当前CTD申报资料中杂质研究方面存在的问题与不足,结合CTD过程控制和终点控制相结合、研究和验证相结合、全面系统的药品质量控制理念,探讨仿制药杂质研究与控制的基本逻辑思路,提出CTD申报资料中杂质研究与控制方面几个需要关注的问题。 关键词:杂质研究与控制杂质谱CTD格式 杂质研究与控制是一项系统工程,需要以杂质谱分析为主线,安全性为核心,按照风险控制的策略,将杂质研究与CMC各项研究,乃至药理毒理及临床安全性研究等环节关联思考、综合考虑,而不仅仅拘泥于提供准确分析数据的传统思维,不是一项孤立的分析工作。CTD(Common Technical Document)申报格式体现了过程控制和终点控制相结合、研究和验证相结合、全面系统的药品质量控制理念,更加符合杂质研究与控制的基本规律和逻辑思路。自2011年4月起,药审中心陆续发布了多项有关CTD格式及技术审评的相关要求及电子刊物,对于国内研发单位正确理解CTD格式内含的基本精神起到了一定的促进作用,但就目前阶段的申报情况看,有些申报资料在杂质研究方面仍存在一些不足,仅仅是形式上的CTD 格式,尚未实质性贯彻CTD的基本逻辑思路。以下是针对目前CTD申报资料中杂质研究相关问题的一些考虑。 1、CTD格式中杂质控制的考虑要体现在CMC的各个环节,而不是仅仅局限在“质量控制”模块。如制剂的原辅料控制中,原辅料的选择与控制要考虑以符合制剂质量要求(杂质等)为核心,必要时进行精制处理并制定内控标准;关键工艺步骤及参数的确立、工艺开发过程等要考虑以杂质是否得到有效控制为重点关注之一;制剂相关特性中要体现与原研产品杂质谱等的对比情况;包材、贮藏条件以及有效期的确立等也要以杂质是否处于安全合理的可控范围内为核心等等。实际上这正是源头控制、过程控制与终点控制相结合的杂质控制理念的体现,在研发工作及申报资料的整理中都需要针对性的贯彻实施。 问题与案例:有些申报资料在某种程度上未能充分体现杂质研究的整体性,对杂质控制措施仅强调了终点控制措施,尚未充分体现源头控制与过程控制的基本思路,具体表现在如下方面: (1)制剂杂质控制受制于原料药质控水平的约束,以目前国内批准的原料药杂质水平现状为由,未能根据该品当前杂质控制的水平与趋势,对原料药提出较为严格的针对性的杂质控制要求,并进行质量内控,因而难以确保制剂杂质控制水平与目前国际水平相适应; (2)在论述说明制剂相关特性时,未提供与原研产品杂质谱的对比分析情况; (3)关键工艺步骤及参数的确立、工艺开发过程相关内容中未详细说明杂质谱的变化情况,缺失关键质量数据的支持。 2、CTD格式的特点之一是研究内容模块化呈现,但需关注杂质分析与控制的系统性与整体性,不能割裂各项内容的必然联系和有机统一。比如对原料药而言,杂质分析与控制的相关内容会分布在分析方法(3.2.S.4.2)、方法学验证(3.2.S.4.3)、杂质对比研究与杂质谱分析(3.2.S.4.5)、杂质情况分析总结(3.2.S.3.2)、样品检测与数据积累(3.2.S.4.4)、控制限度(2.3.S.4.1)等各模块中,但杂质研究又是一项系统工程,具有统一的整体性,因此,不要因为申报资料格式的模块化而人为割裂各项研究内容的相互联系,甚至遗漏相关研究内容,要高度关注杂质分析与控制的系统性与整体性,将杂质研究与控制的全部内容和信息体现在相应模块中。如详细的杂质研究报告可以体现在3.2.S.4.5中;3.2.S.3.2要报告杂质研究的结果;杂质分析方法的筛选、研究与验证内容要在3.2.S.4.3中体现;对仿制药而言,杂质限度确定的论证与依据需要在与原研产品进行全面的杂质谱对比研究基础上进行论证说明,因此,与原研产品的对比研究及结论要在3.2.S.4.5中体现。

P杂质谱分析的

格式模板首先列出产品的杂志谱列表,比如:****产品杂质情况分析表

1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶 剂,催化剂等。 2、结合CTD资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、 其他原料、溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运 输等的原则;还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况 进行详细的说明。 4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物 料7-ACCA的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质 产生来源,分布,控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分,比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A(R2) 到ICHQ3D的相关规定 杂质,降解杂质等。

第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质) 1、无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准 以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。 2、普通有机杂质。 3、对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体 对最终产品质量的影响情况。 4、非对映异构体:比如ACCA的△异构体;还包括非对应异构体自身 的各种对映体。 第二部分:反应的每个步骤引入的杂质:需要结合实际反应监控(HPLC,LC-MS为主)过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述部分进行,本部分引用工艺描述内容。 1、步骤1引入的杂质。 2、步骤2引入的杂质。 3、步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简 单的控制描述…… 4、精制过程引入的杂质。 第三部分:结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等 内容说明各个有机杂质的分布情况。 第四部分:潜在杂质在成品中的检测结果

(1)CTD申报资料中杂质研究的几个问题

CTD申报资料中杂质研究的几个问题 张哲峰成海平宁黎丽田洁 化药药学二部 摘要:杂质研究与控制是把控药品质量风险的重要内容之一,基于杂质谱分析的杂质控制是“质量源于设计”基本理念在杂质研究与控制中的具体实践,需要与CMC各项研究乃至药理毒理及临床安全性研究等环节关联思考、综合考虑,而不仅仅拘泥于提供准确的分析数据。本文针对当前CTD申报资料中杂质研究方面存在的问题与不足,结合CTD 过程控制和终点控制相结合、研究和验证相结合、全面系统的药品质量控制理念,探讨仿制药杂质研究与控制的基本逻辑思路,提出CTD申报资料中杂质研究与控制方面几个需要关注的问题。 关键词:杂质研究与控制杂质谱CTD格式 杂质研究与控制是一项系统工程,需要以杂质谱分析为主线,安全性为核心,按照风险控制的策略,将杂质研究与CMC各项研究,乃至药理毒理及临床安全性研究等环节关联思考、综合考虑,而不仅仅拘泥于提供准确分析数据的传统思维,不是一项孤立的分析工作。CTD(Common Technical Document)申报格式体现了过程控制和终点控制相结合、研究和验证相结合、全面系统的药品质量控制理念,更加符合杂质研究与控制的基本规律和逻辑思路。自2011年4月起,药审中心陆续发布了多项有关CTD格式及技术审评的相关要求及电子刊物,对于国内研发单位正确理解CTD格式内含的基本精神起到了一定的促进作用,但就目前阶段的申报情况看,有些申报资料在杂质研究方面仍存在一些不足,仅仅是形式上的CTD格式,尚未实质性贯彻CTD的基本逻辑思路。以下是针对目前CTD申报资料中杂质研究相关问题的一些考虑。 1、CTD格式中杂质控制的考虑要体现在CMC的各个环节,而不是仅仅局限在“质量控制”模块。如制剂的原辅料控制中,原辅料的选择与控制要考虑以符合制剂质量要求(杂质等)为核心,必要时进行精制处理并制定内控标准;关键工艺步骤及参数的确立、工艺开发过程等要考虑以杂质是否得到有效控制为重点关注之一;制剂相关特性中要体现与原研产品杂质谱等的对比情况;包材、贮藏条件以及有效期的确立等也要以杂质是否处于安全合理的可控范围内为核心等等。实际上这正是源头控制、过程控制与终点控制相结合的杂质控制理念的体现,在研发工作及申报资料的整理中都需要针对性的贯彻实施。

国外药物杂质及杂质谱研究文献-Impurity profile Significance in Active Pharmaceutical ingredient

Eurasian Journal of Analytical Chemistry Volume 2, Number 1, 2007 Impurity profile: Significance in Active Pharmaceutical Ingredient Sanjay B. Bari, Bharati R. Kadam, Yogini S. Jaiswal, Atul A. Shirkhedkar Department of Pharmaceutical Chemistry, R. C. Patel College of Pharmacy, Shirpur, Dist: Dhule - 425 405 (MS), India Abstract Various regulatory authorities like ICH, USFDA, Canadian Drug and Health Agency are emphasizing on the purity requirements and the identification of impurities in Active Pharmaceutical Ingredient’s (API’s). Qualification of the impurities is the process of acquiring and evaluating data that establishes biological safety of an individual impurity; thus, revealing the need and scope of impurity profiling of drugs in pharmaceutical research. Identification of impurities is done by variety of Chromatographic and Spectroscopic techniques, either alone or in combination with other techniques. There are different methods for detecting and characterizing impurities with TLC, HPLC, HPTLC, AAS etc. Conventional Liquid Chromatography, particularly, HPLC has been exploited widely in field of impurity profiling; the wide range of detectors, and stationary phases along with its sensitivity and cost-effective separation have attributed to its varied applications. Among the various Planar Chromatographic Methods; TLC is the most commonly used separation technique, for isolation of impurities; due to its ease of operation and low cost compared to HPLC. An advancement of thin layer chromatography HPTLC, is a well-known technique for the impurity isolation. Headspace GC is one of the most preferred techniques for identification of residual solvents. The advent of hyphenated techniques has revolutionized impurity profiling, by not only separation but structural identification of impurities as well. Among all hyphenated techniques, the most exploited techniques, for impurity profiling of drugs are LC-MS-MS, LC-NMR, LC-NMR-MS, GC-MS, and LC-MS. Keywords:Impurity, Analytical method development, Spectrophotometry, Chromatography Copyright ? 2007 by MOMENT ISSN: 1306-3057

基于杂质谱的仿制药质量一致性评价流程研究_张明媛.

基于杂质谱的仿制药质量一致性评价流程研究 张明媛1,2, 张军东3,陆峰1* 1第二军医大学药学院药物分析学教研室,上海 200433; 2 福建医科大学附属南平第一医院药学部,福建 南平 353000; 3.上海信谊药厂有限公司药物研究所,上海201206 摘要 目的利用杂质谱理念,参考化学计量学中评价中药指纹图谱相似度的方法,研究一套用于仿制药质量一致性评价的流程与方法。方法采用相关系数法、夹角余弦法、主成分分析法(PCA)、系统聚类分层法(HCA)、加权相关系数法等化学计量学方法对7个厂家16个批次的硝苯地平缓释片样品中杂质谱信息进行计算分析。结果经过色谱方法的选择、样品检测与数据采集、批次内相似度评价、仿制药相似度评价、加权后仿制药评价等5个步骤,逐步筛选出了仿制水平较高的仿制厂家。结论拟定的评价流程与方法可逐步筛选出仿制相对最优的厂家。 关键词杂质谱,一致性评价,化学计量学,硝苯地平缓释片 Evaluation procedure for quality consistency of generic drugs based on the impurity profile Zhang Mingyuan1,2, Zhang Jundong3,Lu Feng1* 1 School of Pharmacy, Second Military Medical University, Shanghai 200433; 2 Department of Pharmacy, the First Hospital of Naping, Fujian Medical University, Nanping 353000; 3 Shanghai Sine Pharmaceutical Laboratories Co., Ltd, Shanghai 201206 Abstract [第一作者] 张明媛,研究生,从事药物分析研究。 [通讯作者] * 陆峰,教授,E‐mail:fenglufeng@https://www.360docs.net/doc/354164659.html,,从事药物质量信息学研究。 [基金课题] 上海市科委产学研医合作项目(12DZ1930504)

P杂质谱分析模板的整理

..P..杂质谱分析模板的整理

————————————————————————————————作者:————————————————————————————————日期: 2

3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理 格式模板 首先列出产品的杂志谱列表,比如: ****产品杂质情况分析表 分类名称化学结 构式 (CHEM DRAW ) 控制 限度 杂质 来源 备注1 备 注 2 药物成品目标 化合 物 ≥ 99.5 % 目标 产物 有机杂质杂质 A ≤ 0.1 % 原料 引入 是否基 毒 杂质 B 工艺 杂质 (副 产物) 杂质 C 手性 异构 体 杂质 D 氧化 杂质 杂质热降

E解杂 质 有机潜在杂质IMP- 1 起始 物料 IMP- 2 中间 体 IMP- 3 USP提 到的 杂质 USP不 同路线 杂质?IMP- 4 IMP- 5 溶剂残留溶剂 名称 溶剂来 源 限度溶剂种类ICH 分类 种类限度二氯 甲烷 步骤 1,2 600p pm 2 600pp m 三乙 胺 步骤2 甲醇步骤 1,3 四氢 呋喃 步骤 2,3 2 3000p pm 乙酸 乙酯 精制步 骤 3 5000p pm

无机杂质 1、说明用到的无机原料和试剂,比如干燥用的硫酸镁,路易斯酸催化用的四氯化钛,加氢用的钯碳铂碳等。 2、说明这些无机杂质做或者不做常规检查的依据:物料毒性依据,去除途径。 3、对特殊重金属制定控制策略和检测策略:比如使用氧化汞造成的汞残留。 4、说明采用重金属检查法控制一般常规重金属。 其他试剂类别名称去除策略控制策 略催化 剂 二甲基 吡啶 水洗去除 氧化 剂 DMP 淬灭,构型转 化后水洗去 除 脱甲 基试 剂 三氟化 硼乙醚 精馏脱除 反应过程的描述: 1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂, 催化剂等。

核磁谱图NMR常见溶剂峰杂质峰分析中文版

测试核磁的样品一般要求比较纯,并且能够溶解在氘代试剂中,这样才能测得高分辨率的图谱。 为不干扰谱图,所用溶剂分子中的氢都应被氘取代,但难免有氢的残余(1%左右),这样就会产生溶剂峰;除了残存的质子峰外,溶剂中有时会有微量的H2O而产生水峰,而且这个H2O峰的位置也会因溶剂的不同而不同;另外,在样品(或制备过程)中,也难免会残留一些杂质,在图谱上就会有杂质峰,应注意识别。 常用氘代溶剂和杂质峰在1H谱中的化学位移单位:ppm 溶剂—CDCl3 (CD3)2CO (CD3)2SO C6D6 CD3CN CD3OH D2O 溶剂峰—7.26 2.05 2.49 7.16 1.94 3.31 4.80 水峰— 1.56 2.84 3.33 0.40 2.13 4.87 — 乙酸— 2.10 1.96 1.91 1.55 1.96 1.99 2.08 丙酮— 2.17 2.09 2.09 1.55 2.08 2.15 2.22 乙腈— 2.10 2.05 2.07 1.55 1.96 2.03 2.06 苯—7.36 7.36 7.37 7.15 7.37 7.33 — 叔丁醇CH3 1.28 1.18 1.11 1.05 1.16 1.40 1.24 OH —— 4.19 1.55 2.18 —— 叔丁基甲醚 CCH3 1.19 1.13 1.11 1.07 1.14 1.15 1.21 OCH3 3.22 3.13 3.08 3.04 3.13 3.20 3.22 氯仿—7.26 8.02 8.32 6.15 7.58 7.90 — 环己烷— 1.43 1.43 1.40 1.40 1.44 1.45 — 1,2-二氯甲烷 3.73 3.87 3.90 2.90 3.81 3.78 — 二氯甲烷— 5.30 5.63 5.76 4.27 5.44 5.49 — 乙醚 CH3(t) 1.21 1.11 1.09 1.11 1.12 1.18 1.17 CH2(q) 3.48 3.41 3.38 3.26 3.42 3.49 3.56 二甲基甲酰胺 CH 8.02 7.96 7.95 7.63 7.92 7.79 7.92 CH3 2.96 2.94 2.89 2.36 2.89 2.99 3.01 CH3 2.88 2.78 2.73 1.86 2.77 2.86 2.85 二甲基亚砜— 2.62 2.52 2.54 1.68 2.50 2.65 2.71 二氧杂环— 3.71 3.59 3.57 3.35 3.60 3.66 3.75

3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理

格式模板首先列出产品的杂志谱列表,比如: ****产品杂质情况分析表

1、详细的反应方程式,包括结构式,反应温度,所有试剂,助剂,溶剂,催化剂 等。 2、结合CTD资料的其他部分,对物料控制进行说明,包括起始物料、其他原料、 溶剂、辅料(活性炭,硅藻土,硅胶等。)。 3、起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定,适合保存运输等的原则; 还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究,同供应商签署的质量协议 以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛,要对起始物料7-ACCA 的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。 4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据,比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 的关键杂质△异构体,结合工艺和实验数据,说明杂质产生来源,分布,控制 策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分,比如物料说明部分进行。但 是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。 5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度:主要参考ICHQ3A(R2)到ICHQ3D 的相关规定 质等。 第一部分:起始物料引入的杂质分析(比如头孢克洛的起始物料7-ACCA引入的杂质) 1、无机杂质:说明引入情况和消除渠道;以及相关的控制方法和标准以及依据。 比如上述列表中的钯元素控制。 2、普通有机杂质。

3、对映异构体(根据品种的情况具体分析);考察不同的对应异构体对最终产品 质量的影响情况。 4、非对映异构体:比如ACCA的△异构体;还包括非对应异构体自身的各种对映体。 第二部分:反应的每个步骤引入的杂质:需要结合实际反应监控(HPLC,LC-MS为主)过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述 部分进行,本部分引用工艺描述内容。 1、步骤1引入的杂质。 2、步骤2引入的杂质。 3、步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简单的控制描 述…… 4、精制过程引入的杂质。 第三部分:结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个 有机杂质的分布情况。 第四部分:潜在杂质在成品中的检测结果

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