控制测试与实质性测试(复习依据)
控制测试与实质性测试
一、控制测试
（一）“了解内部控制”与“控制测试”的区别与联系
1.二者的目的不同
（1）了解内部控制的目的：评价控制的设计，确定控制是否得到执行。
（2）控制测试的目的：测试控制运行的有效性。
2.二者所需获取的审计证据不同
了解内部控制是否得到执行，注会只需要抽取少量的交易进行检查，观察某几个时点，但在测试控制运行的有效行时，注会需要抽取足够数量的交易进行检查，观察多个试点并检查被审计单位对控制的监督。
3.联系
为评价控制设计和确定控制是否得到执行而事实的某些分析按评估程序并非专为控制测试而设计，但可能提空有关控制运行有效性的审计证据，注会可以考虑在评价控制设计和获取其得到执行的审计证据的同时测试控制运行的有效性，以提高审计效率；同时注会应当考虑这些审计证据是否以足以实现控制测试的目的。
（二）何时需要实施控制测试
控制测试并非任何情况下都需要实施
当存在下列情形之一时，注会应当实施控制测试：
1.在评估认定层次重大错报风险时，预期控制是有效的。
2.仅实施实质性程序不足以获取认定层次充分、适当的审计证据。
（三）控制测试的性质
1.询问
2.观察
3.检查
4.重新执行（注会课本311页）
（四）控制测试的时间
1.两层含义
（熟悉-注会课本313页“关于根据控制测试的目的确定控制测试的时间”一段）（1）何时实施控制测试
（2）测试所针对的控制适用的时点或期间
2.如何利用以前审计获取的审计证据
（1）如果未发生变化，本次可能执行控制测试，也可利用以前审计获取的有关控制运行有效性的审计证据，但两次测试的时间间隔不得超过两年。
（2）如果已发生变化，应在本期实施控制测试。
（3）对于旨在减轻特别风险的控制，不论该控制是否变化，都应在本期执行控制测试。
（4）应在每一次审计中都选取足够数量的部分控制进行测试，即不应将所有拟信赖控制的测试集中于某一次审计，而在之后的审计中不对任何控制进行测试。（四）内部控制测试的范围
1.控制测试范围的确定，主要受对控制初步评价的结果的影响：
在了解控制后，如果认为相关控制风险较低，即对控制运行有效性的拟信赖程度较高，则需要更充分、适当的证据来支持这种高信赖，因此实施控制测试的范围就大。
2.确定控制测试范围的考虑因素（熟悉-注会课本316页该部分内容）
二、实质性测试
直接用以发现认定层次的重大错报而实施的审计程序。
无论评估的重大错报风险结果如何，都应当针对所有重大交易、账户余额、列报实施实质性程序，以应对识别的认定层次重大错报风险。
（一）细节测试与实质性分析程序的区别与联系？
细节测试是对各类交易、账户余额、列报的具体细节进行测试，目的在于直接识别财务报表认定是否存在错报。
实质性分析程序从技术上讲仍然是分析程序，主要是通过研究数据间关系评价信息，只是将该技术方法用作实质性程序，即用以识别各类交易、账户余额、列报及相关认定是否存在错报
（二）在错报风险高的时候能否执行实质性分析程序？
通常情况下错报风险较高时，不适宜实施实质性分析程序，因为分析程序得到的证据是一种间接证据，它的证明力较弱，还需要实施细节测试取得相应的证据来相互印证。
（三）实施实质性分析程序是不是必须的？
实质性分析程序的使用是有条件限制（通常针对在一段时期内存在稳定的预期关系的大量交易），况且通过细节测试注册会计师同样能找出认定层次的重大错报，所以实质性分析程序不是必须的。
（四）实质性程序的时间
1.是否在期中实施实质性程序（了解）
2.如何考虑期中审计证据
在将其中实施的实质性程序得出的结论合理延伸至期末时，两种选择：
（1）针对剩余期间实施进一步的实质性程序；（应收账款期中函证，期中至期末的新产生部分的函证）
（2）将实质性程序和控制测试结合使用；（应收账款的真实性-销售的真实性-发票到发货单+函证）
此外，如果已识别出由于舞弊导致的重大错报风险，为将期中得出的结论延伸至期末而实施的审计程序通常是无效的，注会应当考虑在期末或者接近期末实施实质性程序。
3.如何考虑以前审计获取的证据
（1）在以前审计中实施实质性程序获取的审计证据，通常对本期只有很弱的证据效力或没有证据效力，不足以应对本期的重大错报风险。
（2）只有当以前获取的审计证据及其相关事项未发生重大变动时，以前获取的审计证据才可能用作本期的有效审计证据。
（五）实质性程序的范围
需要考虑两个因素：
1.评估的认定层次重大错报风险（风险越高，实质性程序的范围越广）
2.实施控制测试的结果（越不满意，实质性程序的范围越广）
——控制测试结果对实质性程序的影响
（1）如果控制测试结果表明某一认定的控制有效运行，支持低水平的风险评估结论，对其有较高程度的信赖，则只需从实质性程序中获取较低程度的保证。（2）如果控制测试结果表明某一认定的控制并未有效运行，不支持低水平的风险评估结论，对其不能信赖，就需要从实质性程序中获取较高程度的保证。
（六）双重目的测试
细节性测试目的——发现认定层次的重大错报控制测试目的——评价控制是否有效
同时实施细节性测试与控制测试（双重目的）。
实验讲义-半导体材料吸收光谱测试分析2015
半导体材料吸收光谱测试分析 一、实验目的 1.掌握半导体材料的能带结构与特点、半导体材料禁带宽度的测量原理与方法。 2.掌握紫外可见分光光度计的构造、使用方法和光吸收定律。 二、实验仪器及材料 紫外可见分光光度计及其消耗品如氘灯、钨灯，玻璃基ZnO薄膜。 三、实验原理 1.紫外可见分光光度计的构造、光吸收定律 (1)仪器构造：光源、单色器、吸收池、检测器、显示记录系统。 a．光源：钨灯或卤钨灯——可见光源，350~1000nm；氢灯或氘灯——紫外光源，200~360nm。 b．单色器：包括狭缝、准直镜、色散元件 色散元件：棱镜——对不同波长的光折射率不同分出光波长不等距； 光栅——衍射和干涉分出光波长等距。 c．吸收池：玻璃——能吸收UV光，仅适用于可见光区；石英——不能吸收紫外光，适用于紫外和可见光区。 要求：匹配性（对光的吸收和反射应一致） d．检测器：将光信号转变为电信号的装置。如：光电池、光电管（红敏和蓝敏）、光电倍增管、二极管阵列检测器。 紫外可见分光光度计的工作流程如下： 0.575 光源单色器吸收池检测器显示双光束紫外可见分光光度计则为： 双光束紫外可见分光光度计的光路图如下：
(2)光吸收定律 单色光垂直入射到半导体表面时，进入到半导体内的光强遵照吸收定律： x x e I I?- =α d t e I I?- =α 0(1) I0：入射光强；I x：透过厚度x的光强；I t：透过膜薄的光强；α：材料吸收系数，与材料、入射光波长等因素有关。 透射率T为： d e I I T?- = =α t (2) 则 d e T d? = =?α α ln ) /1 ln( 透射光I t
8、半导体材料吸收光谱测试分析
半导体材料吸收光谱测试分析 一、实验目的 1.掌握半导体材料的能带结构与特点、半导体材料禁带宽度的测量原理与方法。 2.掌握紫外可见分光光度计的构造、使用方法和光吸收定律。 二、实验仪器及材料 紫外可见分光光度计及其消耗品如氘灯、钨灯、绘图打印机，玻璃基ZnO 薄膜。 三、实验原理 1.紫外可见分光光度计的构造、光吸收定律 UV762双光束紫外可见分光光度计外观图： (1)仪器构造：光源、单色器、吸收池、检测器、显示记录系统。 a ．光源：钨灯或卤钨灯——可见光源，350~1000nm ；氢灯或氘灯——紫外光源，200~360nm 。 b ．单色器：包括狭缝、准直镜、色散元件 色散元件：棱镜——对不同波长的光折射率不同分出光波长不等距； 光栅——衍射和干涉分出光波长等距。 c ．吸收池：玻璃——能吸收UV 光，仅适用于可见光区；石英——不能吸收紫外光，适用于紫外和可见光区。 要求：匹配性（对光的吸收和反射应一致） d ．检测器：将光信号转变为电信号的装置。如：光电池、光电管（红敏和蓝敏）、光电倍增管、二极管阵列检测器。 紫外可见分光光度计的工作流程如下： 光源 单色器 吸收池 检测器 显示 双光束紫外可见分光光度计则为：
双光束紫外可见分光光度计的光路图如下： (2)光吸收定律 单色光垂直入射到半导体表面时，进入到半导体内的光强遵照吸收定律： x x e I I ?-=α0 d t e I I ?-=α0 (1) I 0：入射光强；I x ：透过厚度x 的光强；I t ：透过膜薄的光强；α：材料吸收系数，与材料、入射光波长等因素有关。 透射率T 为： d e I I T ?-==α0 t (2)
材料分析报告测试技术复习题二
材料分析测试技术 一、名词解释（共有20分，每小题2分。） 1. 辐射的发射：指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象。 2. 俄歇电子：X射线或电子束激发固体中原子内层电子使原子电离，此时原子(实际是离子)处于激发 态，将发生较外层电子向空位跃迁以降低原子能量的过程，此过程发射的电子。 3. 背散射电子：入射电子与固体作用后又离开固体的电子。 4. 溅射：入射离子轰击固体时，当表面原子获得足够的动量和能量背离表面运动时，就引起表面粒 子（原子、离子、原子团等）的发射，这种现象称为溅射。 5. 物相鉴定：指确定材料（样品）由哪些相组成。 6. 电子透镜：能使电子束聚焦的装置。 7. 质厚衬度：样品上的不同微区无论是质量还是厚度的差别，均可引起相应区域透射电子强度的改 变，从而在图像上形成亮暗不同的区域，这一现象称为质厚衬度。 8. 蓝移：当有机化合物的结构发生变化时，其吸收带的最大吸收峰波长或位置（?最大）向短波方 向移动，这种现象称为蓝移（或紫移，或“向蓝”）。 9. 伸缩振动：键长变化而键角不变的振动，可分为对称伸缩振动和反对称伸缩振动。
10. 差热分析：指在程序控制温度条件下，测量样品与参比物的温度差随温度或时间变化的函数关系 的技术。 二、填空题（共20分，每小题2分。） 1. 电磁波谱可分为三个部分，即长波部分、中间部分和短波部分，其中中间部分包括（红外线）、 （可见光）和（紫外线），统称为光学光谱。 2. 光谱分析方法是基于电磁辐射与材料相互作用产生的特征光谱波长与强度进行材料分析的方法。 光谱按强度对波长的分布（曲线）特点（或按胶片记录的光谱表观形态）可分为（连续）光谱、（带状）光谱和（线状）光谱3类。 3. 分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产生的散射。 分子散射包括（瑞利散射）与（拉曼散射）两种。 4. X射线照射固体物质(样品)，可能发生的相互作用主要有二次电子、背散射电子、特征X射线、俄 歇电子、吸收电子、透射电子 5. 多晶体（粉晶）X射线衍射分析的基本方法为（照相法）和（X射线衍射仪法）。 6. 依据入射电子的能量大小，电子衍射可分为（高能）电子衍射和（低能）电子衍射。依据 电子束是否穿透样品，电子衍射可分为（投射式）电子衍射与（反射式）电子衍射。
审计程序和审计方法
第四讲审计程序和审计方法 【重点】掌握审计程序的三个阶段及具体包括的内容；掌握审计的一般方法和技术方法。 【难点】审计一般方法和技术方法在审计实践中的具体应用。 【预计课时】6 一、审计程序的概念 也称审计流程、审计过程或审计循环，是指审计组织及其审计人员开展审计工作，从准备工作到审计业务结束为止的全部过程。 思考：任何时候审计流程都可以称为审计循环吗 提示：传统审计工作采用的是分项审计，循环审计近年才开始被广泛使用。 二、审计程序的三个阶段 （一）准备阶段 1、了解被审单位概况； 2、签订审计业务约定书 （①接受业务委托）； 3、初步评价被审单位的内部控制； 4、确定重要性标准和审计风险水平； 5、编制审计计划 （②计划审计工作）。 （二）实施阶段(识别/评估/应对)
（③实施风险评估程序—了解被审单位及其环境，评估重大错报风险） 1、控制测试 （④风险应对—实施控制测试）； 2、实质性测试 （④风险应对—实施实质性程序）。 （三）终结阶段 （⑤完成审计工作和编制审计报告） 1、整理、评价审计证据； 2、复核审计工作底稿； 3、编制审计报告(法律效力)并提出管理建议书(没法律效 力)； 4、审计资料归档。 三、审计程序的关键点拓展 1、了解被审单位基本情况（前期分析） 内容包括：对委托人委托审计的原因、目的进行分析；被审单位所在行业和业务性质、组织结构和经营状况、内部控制的优劣；以前年度接受审计的情况。当出现以下四种情况时可以拒绝接受委托：委托审计动机不良；业务类型风险很高；内控极不健全；经营状况极差。 2、签订审计业务约定书 是在完成前期分析并对分析结果满意时才签订。包括：签约双方的名称、委托目的、审计范围（内容＋时间）、双方责任（会计责任
半导体材料能带测试及计算
半导体材料能带测试及计算 对于半导体，是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，其具有一定的带隙(E g)。通常对半导体材料而言，采用合适的光激发能够激发价带(VB)的电子激发到导带(CB)，产生电子与空穴对。 图1. 半导体的带隙结构示意图。 在研究中，结构决定性能，对半导体的能带结构测试十分关键。通过对半导体的结构进行表征，可以通过其电子能带结构对其光电性能进行解析。对于半导体的能带结构进行测试及分析，通常应用的方法有以下几种(如图2)： 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙E g； 2.VB XPS测得价带位置(E v)； 3.SRPES测得E f、E v以及缺陷态位置； 4.通过测试Mott-Schottky曲线得到平带电势； 5.通过电负性计算得到能带位置. 图2. 半导体的带隙结构常见测试方式。 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙 紫外可见漫反射测试 2.制样：
背景测试制样：往图3左图所示的样品槽中加入适量的BaSO4粉末（由于BaSO4粉末几乎对光没有吸收，可做背景测试），然后用盖玻片将BaSO4粉末压实，使得BaSO4粉末填充整个样品槽，并压成一个平面，不能有凸出和凹陷，否者会影响测试结果。 样品测试制样：若样品较多足以填充样品槽，可以直接将样品填充样品槽并用盖玻片压平；若样品测试不够填充样品槽，可与BaSO4粉末混合，制成一系列等质量分数的样品，填充样品槽并用盖玻片压平。 图3. 紫外可见漫反射测试中的制样过程图。 1.测试： 用积分球进行测试紫外可见漫反射（UV-Vis DRS），采用背景测试样（BaSO4粉末）测试背景基线（选择R%模式），以其为background测试基线，然后将样品放入到样品卡槽中进行测试，得到紫外可见漫反射光谱。测试完一个样品后，重新制样，继续进行测试。 ?测试数据处理 数据的处理主要有两种方法：截线法和Tauc plot法。截线法的基本原理是认为半导体的带边波长（λg）决定于禁带宽度E g。两者之间存在E g(eV)=hc/λg=1240/λg(nm)的数量关系，可以通过求取λg来得到E g。由于目前很少用到这种方法，故不做详细介绍，以下主要来介绍Tauc plot法。 具体操作： 1、一般通过UV-Vis DRS测试可以得到样品在不同波长下的吸收，如图4所示; 图4. 紫外可见漫反射图。
材料分析测试技术复习题 附答案
材料分析测试技术复习题 【第一至第六章】 1.X射线的波粒二象性 波动性表现为： －以波动的形式传播，具有一定的频率和波长 －波动性特征反映在物质运动的连续性和在传播过程中发生的干涉、衍射现象 粒子性突出表现为： －在与物质相互作用和交换能量的时候 －X射线由大量的粒子流(能量E、动量P、质量m)构成，粒子流称为光子－当X射线与物质相互作用时，光子只能整个被原子或电子吸收或散射 2.连续x射线谱的特点，连续谱的短波限 定义：波长在一定范围连续分布的X射线，I和λ构成连续X射线谱 λ∞，波?当管压很低（小于20KV 时），由某一短波限λ 0开始直到波长无穷大长连续分布 ?随管压增高，X射线强度增高，连续谱峰值所对应的波长（1.5 λ 0处)向短波端移动 ?λ 0 正比于1/V, 与靶元素无关 ?强度I：由单位时间内通过与X射线传播方向垂直的单位面积上的光量子数的能量总和决定（粒子性观点描述）
?单位时间通过垂直于传播方向的单位截面上的能量大小，与A2成正比（波动性观点描述） 短波限:对X射线管施加不同电压时，在X射线的强度I 随波长λ变化的关系曲线中，在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λ0，称为短波限。 3.连续x射线谱产生机理 【a】.经典电动力学概念解释： 一个高速运动电子到达靶面时，因突然减速产生很大的负加速度，负加速度引起周围电磁场的急剧变化，产生电磁波，且具有不同波长，形成连续X射线谱。 【b】.量子理论解释： * 电子与靶经过多次碰撞，逐步把能量释放到零，同时产生一系列能量为hυi的光子序列，形成连续谱 * 存在ev=hυmax，υmax=hc/ λ0, λ0为短波限，从而推出λ0＝1.24/ V （nm) （V为电子通过两极时的电压降，与管压有关）。 * 一般ev≥h υ,在极限情况下，极少数电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子 4.特征x射线谱的特点 对于一定元素的靶，当管压小于某一限度时，只激发连续谱，管压增高，射线谱曲线只向短波方向移动，总强度增高，本质上无变化。 当管压超过某一临界值后，在连续谱某几个特定波长的地方，强度突然显著
材料测试与分析总复习
XRD复习重点 1.X射线的产生及其分类 2.X射线粉晶衍射中靶材的选取 3.布拉格公式 4.PDF卡片 5.X射线粉晶衍射谱图 6.X射线粉晶衍射的应用 电子衍射及透射电镜、扫描电镜和电子探针分析复习提纲 透射电镜分析部分： 4.TEM的主要结构，按从上到下列出主要部件 1）电子光学系统——照明系统、图像系统、图像观察和记录系统；2）真空系统； 3）电源和控制系统。电子枪、第一聚光镜、第二聚光镜、聚光镜光阑、样品台、物镜光阑、物镜、选区光阑、中间镜、投影镜、双目光学显微镜、观察窗口、荧光屏、照相室。 5. TEM和光学显微镜有何不同？ 光学显微镜用光束照明，简单直观，分辨本领低（0.2微米），只能观察表面形貌，不能做微区成分分析；TEM分辨本领高（1A）可把形貌观察，结构分析和成分分析结合起来，可以观察表面和内部结构，但仪器贵，不直观，分析困难，操作复杂，样品制备复杂。 6.几何像差和色差产生原因，消除办法。 球差即球面像差，是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不符合预定的规律而造成的。减小球差可以通过减小CS值和缩小孔径角来实现。 色差是由于入射电子波长（或能量）的非单一性造成的。采取稳定加速电压的方法可以有效的减小色差；适当调配透镜极性；卡斯汀速度过滤器。 7.TEM分析有那些制样方法？适合分析哪类样品?各有什么特点和用途？ 制样方法：化学减薄、电解双喷、竭力、超薄切片、粉碎研磨、聚焦离子束、机械减薄、离子减薄； TEM样品类型：块状，用于普通微结构研究； 平面，用于薄膜和表面附近微结构研究； 横截面样面，均匀薄膜和界面的微结构研究； 小块粉末，粉末，纤维，纳米量级的材料。 二级复型法：研究金属材料的微观形态； 一级萃取复型：指制成的试样中包含着一部分金属或第二相实体，对它们可以直接作形态检验和晶体结构分析，其余部分则仍按浮雕方法间接地观察形态； 金属薄膜试样：电子束透明的金属薄膜，直接进行形态观察和晶体结构分析； 粉末试样：分散粉末法，胶粉混合法 思考题： 1.一电子管，由灯丝发出电子，一负偏压加在栅极收集电子，之后由阳极加速，回答由灯丝到栅极、由栅极到阳极电子的折向及受力方向？ 2.为什么高分辨电镜要使用比普通电镜更短的短磁透镜作物镜？ 高分辨电镜要比普通电镜的放大倍数高。为了提高放大倍数，需要短焦距的强磁透镜。透镜的光焦度1/f与磁场强度成H2正比。较短的f可以提高NA，使极限分辨率更小。 3.为什么选区光栏放在“象平面”上？ 电子束之照射到待研究的视场内；防止光阑受到污染；将选区光阑位于向平面的附近，通过
《材料分析测试技术》试卷(答案)
《材料分析测试技术》试卷（答案） 一、填空题：（20分，每空一分） 1. X射线管主要由阳极、阴极、和窗口构成。 2. X射线透过物质时产生的物理效应有：散射、光电效应、透射X射线、和热。 3. 德拜照相法中的底片安装方法有：正装、反装和偏装三种。 4. X射线物相分析方法分：定性分析和定量分析两种；测钢中残余奥氏体的直接比较法就属于其中的定量分析方法。 5. 透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应和像差两因素影响。 6. 今天复型技术主要应用于萃取复型来揭取第二相微小颗粒进行分析。 7. 电子探针包括波谱仪和能谱仪成分分析仪器。 8. 扫描电子显微镜常用的信号是二次电子和背散射电子。 二、选择题：（8分，每题一分） 1. X射线衍射方法中最常用的方法是（ b ）。 a．劳厄法；b．粉末多晶法；c．周转晶体法。 2. 已知X光管是铜靶，应选择的滤波片材料是（b）。 a．Co ；b. Ni ；c. Fe。 3. X射线物相定性分析方法中有三种索引，如果已知物质名时可以采用（c ）。 a．哈氏无机数值索引；b. 芬克无机数值索引；c. 戴维无机字母索引。 4. 能提高透射电镜成像衬度的可动光阑是（b）。 a．第二聚光镜光阑；b. 物镜光阑；c. 选区光阑。 5. 透射电子显微镜中可以消除的像差是（ b ）。 a．球差；b. 像散；c. 色差。 6. 可以帮助我们估计样品厚度的复杂衍射花样是（a）。 a．高阶劳厄斑点；b. 超结构斑点；c. 二次衍射斑点。 7. 电子束与固体样品相互作用产生的物理信号中可用于分析1nm厚表层成分的信号是（b）。 a．背散射电子；b.俄歇电子；c. 特征X射线。 8. 中心暗场像的成像操作方法是（c）。 a．以物镜光栏套住透射斑；b．以物镜光栏套住衍射斑；c．将衍射斑移至中心并以物镜光栏套住透射斑。 三、问答题：（24分，每题8分） 1.X射线衍射仪法中对粉末多晶样品的要求是什么？ 答：X射线衍射仪法中样品是块状粉末样品，首先要求粉末粒度要大小 适中，在1um-5um之间；其次粉末不能有应力和织构；最后是样品有一 个最佳厚度（t =
应收账款的实质性测试程序
重点 第一：证实**目标需要什么样的程序 第二：收入的调整分录 第三：函证 第四：截止测试 第五：分析性复核 第六：特殊的审计程序 1、销售退回的审计程序 2、销售折扣折让的审计程序 3、委托代销、分期收款的审计程序 目录： 1、认定——目标——程序 2、应收帐款的实质性测试程序 3、主营业务收入的实质性测试程序 4、其他账户的实质性测试程序 5、函证 真实性目标的审计：登记入账的销货业务确系已经发货给真实的顾客 1、控制测试程序 （1）检查与销售有关的文件：销售合同、顾客订货单、发运凭证、销售单、销售发票副联（单证齐全）（2）检查赊销是否经过授权批准 （3）检查销售发票连续编号的完整性 （4）观察是否向顾客寄送对账单，检查顾客回函档案
2、实质性测试程序 （1）复核主营业务明细账、总账以及应收账款明细账中的大额或异常项目（总体合理性）账账核对 （2）追查主营业务明细账中的分录至销售单、发运凭证、销售发票副联。（逆查）账证核对 （3）将发运凭证与存货永续记录中的发运分录核对证证核对 （4）将主营业务明细账中的分录同销售单中的赊销审批和发运审批核对（赊销审批、发运审批）账证核对3、其他 完整性目标：现有销货业务均已登记入账 １、控制测试程序 （１）检查发运凭证连续编号的完整性 （２）检查销售发票连续编号的完整性 ２、实质性测试程序 （１）从发运凭证、销售发票追查至主营业务明细帐及应收账款明细账（顺查）账证核对 ３、其他 估价 １、控制测试 （１）检查销售价格、销售条件、销售折扣和运费是否经适当授权批准（销售发票上载有这些内容，即检查销售发票是否授权批准） （２）检查销售发票的编制是否经过内部核查，检查有无内部核查标记（凭证的编制都要有相关人员的复核）２、实质性测试 （１）复算销售发票上的数据 （２）追查主营业务收入明细账中的分录至销售发票账证核对 （３）追查销售发票上的详细资料至发运凭证、经批准的商品价目标和顾客订货单证证核对 ３、其他 分类：销货业务的分类正确 １、控制测试——检查分类通用的程序 （１）检查会计科目标是否适当 （２）检查有关凭证上的内部复核和核实的标记 ２、实质性测试 检查证明销货业务分类正确的原始证据 ３、其他 截止： １、控制测试 （１）审查尚未开局收款账单的发货和尚未登记入账的销货业务 （２）审查有关凭证上的内部核查标记 ２、实质性测试 将销货业务登记入账的日期与发运凭证的日期比较核对
材料分析测试复习题及答案只是分享
1、分析电磁透镜对波的聚焦原理，说明电磁透镜的结构对聚焦能力的影响。 解：聚焦原理：通电线圈产生一种轴对称不均匀分布的磁场，磁力线围绕导线呈环状。磁力线上任一点的磁感应强度B 可以分解成平行于透镜主轴的分量Bz 和垂直于透镜主轴的分量Br 。速度为V 的平行电子束进入透镜磁场时在A 点处受到Br 分量的作用，由右手法则，电子所受的切向力Ft 的方向如下图（b ）；Ft 使电子获得一个切向速度Vt ，Vt 与Bz 分量叉乘，形成了另一个向透镜主轴靠近的径向力Fr ，使电子向主轴偏转。当电子穿过线圈到达B 点位置时，Br 的方向改变了180°，Ft 随之反向，但是只是减小而不改变方向，因此，穿过线圈的电子任然趋向于主轴方向靠近。结果电子作圆锥螺旋曲线近轴运动。当一束平行与主轴的入射电子束通过投射电镜时将会聚焦在轴线上一点，这就是电磁透镜电子波的聚焦对原理。（教材135页的图9.1 a,b 图） 电磁透镜包括螺旋线圈，磁轭和极靴，使有效磁场能集中到沿轴几毫米的范围内，显著提高了其聚焦能力。 2、电磁透镜的像差是怎样产生的，如何来消除或减小像差？ 解：电磁透镜的像差可以分为两类：几何像差和色差。几何像差是因为投射磁场几何形状上的缺陷造成的，色差是由于电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的。几何像差主要指球差和像散。球差是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不符合预定的规律造成的，像散是由透镜磁场的非旋转对称引起的。 消除或减小的方法： 球差：减小孔径半角或缩小焦距均可减小球差，尤其小孔径半角可使球差明显减小。 像散：引入一个强度和方向都可以调节的矫正磁场即消像散器予以补偿。 色差：采用稳定加速电压的方法有效地较小色差。 3、说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么？如何提高电磁透镜的分辨率？ 解：光学显微镜的分辨本领取决于照明光源的波长。 电磁透镜的分辨率由衍射效应和球面像差来决定，球差是限制电磁透镜分辨本领的主要因素。 若只考虑衍射效应，在照明光源和介质一定的条件下，孔径角α越大，透镜的分辨本领越高。若同时考虑衍射和球差对分辨率的影响，关键在确定电磁透镜的最佳孔径半角，使衍射效应斑和球差散焦斑的尺寸大小相等。 4、电子波有何特征？与可见光有何异同？ 解：电子波的波长较短，轴对称非均匀磁场能使电子波聚焦。其波长取决于电子运动的速度和质量，电子波的波长要比可见光小5个数量级。 5、电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响？说明电磁透镜的景深长、焦长长，是什么因素影响的结果？ 答：电磁透镜景深与分辨本领0r ?、孔径半角α之间关系：.2200ααr tg r Df ?≈?=表明孔径半 角越小、景深越大。透镜集长L D 与分辨本领0r ?，像点所张孔径半角β的关系： ββM r M r D L 002tan 2?≈?=，M αβ=，202M r D L α?=∴ ，M 为透镜放大倍数。当电磁透镜放大倍数和分辨本领一定时，透镜焦长随孔径半角减小而增大。
半导体材料能带测试及计算
半导体材料能带测试及计算对于半导体，是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，其具有一定的带隙(E g)。通常对半导体材料而言，采用合适的光激发能够激发价带(VB)的电子激发到导带(CB)，产生电子与空穴对。 图1. 半导体的带隙结构示意图。 在研究中，结构决定性能，对半导体的能带结构测试十分关键。通过对半导体的结构进行表征，可以通过其电子能带结构对其光电性能进行解析。对于半导体的能带结构进行测试及分析，通常应用的方法有以下几种(如图2)： 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙E g； 2.VB XPS测得价带位置(E v)； 3.SRPES测得E f、E v以及缺陷态位置； 4.通过测试Mott-Schottky曲线得到平带电势； 5.通过电负性计算得到能带位置.
图2. 半导体的带隙结构常见测试方式。 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙 紫外可见漫反射测试 2.制样： 背景测试制样：往图3左图所示的样品槽中加入适量的BaSO4粉末（由于BaSO4粉末几乎对光没有吸收，可做背景测试），然后用盖玻片将BaSO4粉末压实，使得BaSO4粉末填充整个样品槽，并压成一个平面，不能有凸出和凹陷，否者会影响测试结果。 样品测试制样：若样品较多足以填充样品槽，可以直接将样品填充样品槽并用盖玻片压平；若样品测试不够填充样品槽，可与BaSO4粉末混合，制成一系列等质量分数的样品，填充样品槽并用盖玻片压平。 图3. 紫外可见漫反射测试中的制样过程图。 1.测试：
用积分球进行测试紫外可见漫反射（UV-Vis DRS），采用背景测试样（BaSO4粉末）测试背景基线（选择R%模式），以其为background测试基线，然后将样品放入到样品卡槽中进行测试，得到紫外可见漫反射光谱。测试完一个样品后，重新制样，继续进行测试。 ?测试数据处理 数据的处理主要有两种方法：截线法和Tauc plot法。截线法的基本原理是认为半导体的带边波长（λg）决定于禁带宽度E g。两者之间存在E g(eV)=hc/λg=1240/λg(nm)的数量关系，可以通过求取λg来得到E g。由于目前很少用到这种方法，故不做详细介绍，以下主要来介绍Tauc plot法。 具体操作： 1、一般通过UV-Vis DRS测试可以得到样品在不同波长下的吸收，如图4所示; 图4. 紫外可见漫反射图。 2. 根据(αhv)1/n = A(hv – Eg)，其中α为吸光指数，h为普朗克常数，v为频率，Eg为半导体禁带宽度，A为常数。其中，n与半导体类型相关，直接带隙半导体的n取1/2，间接带隙半导体的n为2。
材料分析考试习题三、四
材料分析测试习题三、四
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习题三 1．试述布拉格公式2dhklsinθ=λ中各参数的含义，以及该公式有哪些应用？ 2．试述获取衍射花样的三种基本方法？ 3．试用爱瓦尔德图解来说明德拜图解衍射花样的形成。 4．某一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来，其θ较高抑或较低？相应的d较大还是较小？既然多晶粉末的晶体取向是混乱的，为何有此必然的规律？ 5．粉末样品颗粒过大或过小对德拜花样影响如何？为什么？板状多晶体样品晶粒过大或过小对衍射峰形影响又如何？
习题四 1．物相定性分析的原理是什么？对食盐进行化学分析与物相定性分析，所得信息有何不同？ 2．物相定量分析的原理是什么？试述用k值法进行物相定量分析的过程。 3．试借助pdf（icdd）卡片及索引，对（1）、（2）中未知物质的衍射线资料作出物相鉴定。 （1） （2）
4．在α-fe2o3及fe2o3混合物的衍射图样中，两相最强线的强度比5，试借助于索引上的参比强度值计算α-fe2o3的相对含量。 5．从一张简单立方点阵物质的德拜相上，已求出四根高角度线条的θ角（系由cukα1线所产生）及对应的干涉指数，试用“α-cos2θ”的图解外推法求点阵参数值至小数后五位。 θ/(°) 72.68 77.93 81.11 87.44 6．从一张面心立方点阵物质的衍射图上，已求出四根较高角度线条有2θ角（系由cukα1线所产生）及对应的干涉指数，试以尼尔逊函数为外推函数，用最小二乘法计算点阵参数至五位有效数字 hkl 222 400 331 420 θ/(°) 98.446 121.930 144.669 155.653 7．非晶态物质的x射线衍射图样与晶态物质的有何不同？从非晶态结构的径向分布函数分析中可获得有关非晶态物质结构哪些信息？
练习6实施控制测试和实质性程序答案
一、单项选择题1．注册会计师设计和实施的进一步审计程序的性质、时间和范围，应当与评估的（ B ）重大错报风险具备明确的对应关系。 A.财务报表层次 B.认定层次 C.账户余额 D.交易或事项2．注册会计师对进一步审计程序的性质的选择时以下不恰当的是（ D ）。 A.在确定进一步审计程序的性质时，注册会计师首先需要考虑的是认定层次重大错报风险的评估结果 B.注册会计师应当根据认定层次重大错报风险的评估结果选择审计程序 C.除了从总体上把握认定层次重大错报风险的评估结果对选择进一步审计程序的影响外，在确定拟实施的审计程序时，注册会计师接下来应当考虑评估的认定层次重大错报风险产生的原因 D.如果在实施进一步审计程序时拟利用被审计单位信息系统生成的信息，注册会计师应当就信息的可靠性获取审计证据 【解析】在选项D 中，如果在实施进一步审计程序时拟利用被审计单位信息系统生成的信息，注册会计师应当就信息的准确性和完整性获取审计证据，而不是可靠性，因为信息来自 于内部，很难说明其可靠。 3.注册会计师在期中实施进一步审计程序也有在很大的局限性，下列有关局限性的说法不恰当的有 （B ）。 A.在期中实施进一步审计程序，可能有助于注册会计师在审计工作初期识别重大事项，并在管理层的协助下及时解决这些事项：或针对这些事项制定有效的实质性方案或综合性方案 B.如果在期中实施了进一步审计程序，注册会计师不需要针对剩余期间获取审计证据 C.被审计单位管理层也完全有可能在注册会计师于期中实施了进一步审计程序之后对期中以前的相关会计记录作出调整甚至篡改，注册会计师在期中实施了进一步审计程序所获取的审计证据已经发生了变化 D.即使注册会计师在期中实施的进一步审计程序能够获取有关期中以前的充分、适当的审 计证据，但从期中到期末这段剩余期间还往往会发生重大的交易或事项（包括期中以前发生 的交易、事项的延续，以及期中以后发生的新的交易、事项），从而对所审计期间的财务报 表认定产生重大影响 4.在确定审计程序的范围时，注册会计师不应当考虑下列因素（D ）。 A.计划获取的保证程度越高，对测试结果可靠性要求越高，注册会计师实施的进一步审计
材料分析方法考试复习题
一、名词解释（30分，每题3分） 1）短波限: 连续X 射线谱的X 射线波长从一最小值向长波方向伸展，该波长最小值称为短波限。P7。 2）质量吸收系数 指X 射线通过单位面积上单位质量物质后强度的相对衰减量，这样就摆脱了密度的影响，成为反映物质本身对X 射线吸收性质的物质量。P12。 3）吸收限 吸收限是指对一定的吸收体，X 射线的波长越短，穿透能力越强，表现为质量吸收系数的下降，但随着波长的降低，质量吸收系数并非呈连续的变化，而是在某些波长位置上突然升高，出现了吸收限。每种物质都有它本身确定的一系列吸收限。P12。 4）X 射线标识谱 当加于X 射线管两端的电压增高到与阳极靶材相应的某一特定值k U 时，在连续谱的某些特定的波长位置上，会出现一系列强度很高、波长范围很窄的线状光谱，它们的波长对一定材料的阳极靶有严格恒定的数值，此波长可作为阳极靶材的标志或特征，故称为X 射线标识谱。P9。 5）连续X 射线谱线 强度随波长连续变化的X 射线谱线称连续X 射线谱线。P7。 6）相干散射 当入射线与原子内受核束缚较紧的电子相遇，光量子不足以使原子电离，但电子可在X 射线交变电场作用下发生受迫振动，这样的电子就成为一个电磁波的发射源，向周围辐射与入射X 射线波长相同的辐射，因为各电子所散射的射线波长相同，有可能相互干涉，故称相干散射。P14。 7）闪烁计数器 闪烁计数器利用X 射线激发磷光体发射可见荧光，并通过光电管进行测量。P54。 8）标准投影图 对具有一定点阵结构的单晶体，选择某一个低指数的重要晶面作为投影面，将各晶面向此面所做的极射赤面投影图称为标准投影图。P99。 9）结构因数 在X 射线衍射工作中可测量到的衍射强度HKL I 与结构振幅2 HKL F 的平方成正比，结构振幅
控制测试与实质性测试(复习依据)
控制测试与实质性测试 一、控制测试 （一）“了解内部控制”与“控制测试”的区别与联系 1.二者的目的不同 （1）了解内部控制的目的：评价控制的设计，确定控制是否得到执行。 （2）控制测试的目的：测试控制运行的有效性。 2.二者所需获取的审计证据不同 了解内部控制是否得到执行，注会只需要抽取少量的交易进行检查，观察某几个时点，但在测试控制运行的有效行时，注会需要抽取足够数量的交易进行检查，观察多个试点并检查被审计单位对控制的监督。 3.联系 为评价控制设计和确定控制是否得到执行而事实的某些分析按评估程序并非专为控制测试而设计，但可能提空有关控制运行有效性的审计证据，注会可以考虑在评价控制设计和获取其得到执行的审计证据的同时测试控制运行的有效性，以提高审计效率；同时注会应当考虑这些审计证据是否以足以实现控制测试的目的。 （二）何时需要实施控制测试 控制测试并非任何情况下都需要实施 当存在下列情形之一时，注会应当实施控制测试： 1.在评估认定层次重大错报风险时，预期控制是有效的。 2.仅实施实质性程序不足以获取认定层次充分、适当的审计证据。 （三）控制测试的性质 1.询问 2.观察 3.检查 4.重新执行（注会课本311页） （四）控制测试的时间 1.两层含义 （熟悉-注会课本313页“关于根据控制测试的目的确定控制测试的时间”一段）（1）何时实施控制测试 （2）测试所针对的控制适用的时点或期间 2.如何利用以前审计获取的审计证据
（1）如果未发生变化，本次可能执行控制测试，也可利用以前审计获取的有关控制运行有效性的审计证据，但两次测试的时间间隔不得超过两年。 （2）如果已发生变化，应在本期实施控制测试。 （3）对于旨在减轻特别风险的控制，不论该控制是否变化，都应在本期执行控制测试。 （4）应在每一次审计中都选取足够数量的部分控制进行测试，即不应将所有拟信赖控制的测试集中于某一次审计，而在之后的审计中不对任何控制进行测试。（四）内部控制测试的范围 1.控制测试范围的确定，主要受对控制初步评价的结果的影响： 在了解控制后，如果认为相关控制风险较低，即对控制运行有效性的拟信赖程度较高，则需要更充分、适当的证据来支持这种高信赖，因此实施控制测试的范围就大。 2.确定控制测试范围的考虑因素（熟悉-注会课本316页该部分内容） 二、实质性测试 直接用以发现认定层次的重大错报而实施的审计程序。 无论评估的重大错报风险结果如何，都应当针对所有重大交易、账户余额、列报实施实质性程序，以应对识别的认定层次重大错报风险。 （一）细节测试与实质性分析程序的区别与联系？ 细节测试是对各类交易、账户余额、列报的具体细节进行测试，目的在于直接识别财务报表认定是否存在错报。 实质性分析程序从技术上讲仍然是分析程序，主要是通过研究数据间关系评价信息，只是将该技术方法用作实质性程序，即用以识别各类交易、账户余额、列报及相关认定是否存在错报 （二）在错报风险高的时候能否执行实质性分析程序？ 通常情况下错报风险较高时，不适宜实施实质性分析程序，因为分析程序得到的证据是一种间接证据，它的证明力较弱，还需要实施细节测试取得相应的证据来相互印证。
《实操：审计执行实施技巧与实质性测试》课后测试及答案
实操：审计执行实施技巧与实质性测试课后测试 单选题 ?1、外审过程中的实质性测试，实质性程序的目的是（10 分）A是否进行控制测试（综合性方案还是实质性方案） B确定实质性程序的性质、时间和范围（包括细节测试还是实质性分析程序） C确定重大错报是否需要调整 正确答案:C ?2、以下说法错误的是（10 分） A如控制测试效果满意，可缩小实质性程序范围。 B自产是视同销售处理，以公允价值计量，确认销项税额。 C外购是以购买价（公允价值的替代）和进项税额，计入应付职工薪酬。 D企业向职工提供非货币性福利的，当按照公允价值计量。公允价值不能可靠取得的话，则不可以采用成本计量。 正确答案:D ?3、如实质性程序发现内控未能识别重大错报，则表明（10 分）A减少对内控的信赖 B内控存在重大缺陷 C内控有效运行，且完全没有问题 D扩大实质性程序范围 正确答案:B 多选题 ?1、需要函证的情形有哪些（10 分） A重要的、金额大的 B易出错的 C有效的（往年无回音） D独立性强的 正确答案:A B C D ?2、下列哪种情况下，函证可以采用消极式（10 分） A重大错报风险评估为高水平 B涉及大量余额小的账户 C预期不存在大量错报 D没有理由不相信对方不认真对待函证 正确答案:B C D
?3、在评估阶段，审计师刚介入时，通过分析的方法，可以做哪些检查（10 分） A运用常识，警惕异常项目 B分析性复核：利息收入/货币资金 C警惕过高的预付账款 D收现比与净现比都失效 E查看货币资金的受限情况（信息披露） 正确答案:A B C D E ?4、固定资产审计中，折旧的方法有哪些（10 分） A年数总和法 B双倍余额递减法 C工作量法 D平均年限法 正确答案:A B C D 判断题 ?1、如果是企业因为重组需要辞退员工的，准则规定了确认条件：企业有明确的重组计划且重组计划已经对外公布，表明承担了重组义务。此时，预计的金额应该之间计入应付职工薪酬，而不应该计入预计负债。 （10 分） A正确B错误 正确答案:正确 ?2、审计报告阶段，应该注意审计工作的立项依据、审计工作的目的、审计结论与审计意见等主要内容，同时应将审计工作中发现问题的具体说明及被审计对象反馈意见收录在附件中，以便后续翻阅。（10 分） A正确B错误 正确答案:正确 ?3、非累积带薪缺勤指带薪权利不能结转下期的带薪缺勤，本期尚未用完的带薪缺勤权利将予以取消，但是职工离开企业时，有权获得现金支付。（10分） A正确B错误 正确答案:错误
材料分析报告测试方法复习题
材料分析测试方法复习题 第一部分 简答题： 1. X射线产生的基本条件 答：①产生自由电子； ②使电子做定向高速运动； ③在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。 2. 连续X射线产生实质 答：假设管电流为10mA，则每秒到达阳极靶上的电子数可达6.25x10（16）个，如此之多的电子到达靶上的时间和条件不会相同，并且绝大多数达到靶上的电子要经过多次碰撞，逐步把能量释放到零，同时产生一系列能量为hv（i）的光子序列，这样就形成了连续X射线。 3. 特征X射线产生的物理机制 答：原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在K、L、M、N等 不同能级的壳层上，而且按能量最低原理从里到外逐层填充。当外来的高速度的粒子动能足够大时，可以将壳层中某个电子击出去，于是在原来的位置出现空位，原子系统的能量升高，处于激发态，这时原子系统就要向低能态转化，即向低能级上的空位跃迁，在跃迁时会有一能量产生，这一能量以光子的形式辐射出来，即特征X射线。 4. 短波限、吸收限
答：短波限：X射线管不同管电压下的连续谱存在的一个最短波长值。 吸收限：把一特定壳层的电子击出所需要的入射光最长波长。 5. X射线相干散射与非相干散射现象 答：相干散射：当X射线与原子中束缚较紧的内层电子相撞时，电子振动时向四周发射电磁波的散射过程。 非相干散射：当X射线光子与束缚不大的外层电子或价电子或金属晶体中的自由电子相撞时的散射过程。 6. 光电子、荧光X射线以及俄歇电子的含义 答：光电子：光电效应中由光子激发所产生的电子（或入射光量子与物质原子中电子相互碰撞时被激发的电子）。 荧光X射线：由X射线激发所产生的特征X射线。 俄歇电子：原子外层电子跃迁填补内层空位后释放能量并产生新的空位，这些能量被包括空位层在内的临近原子或较外层电子吸收，受激发逸出原子的电子叫做俄歇电子。 7. X射线吸收规律、线吸收系数 答：X射线吸收规律：强度为I的特征X射线在均匀物质内部通过时，强度的衰减与在物质内通过的距离x成比例，即-dI/I=μdx 。 线吸收系数：即为上式中的μ，指在X射线传播方向上，单位长度上的X射线强弱衰减程度。 8. 晶面及晶面间距
材料分析测试技术习题及答案
第一章 一、选择题 1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是（） A.X射线透射学； B.X射线衍射学； C.X射线光谱学； D.其它 2. M层电子回迁到K层后，多余的能量放出的特征X射线称（） A.Kα； B. Kβ； C. Kγ； D. Lα。 3. 当X射线发生装置是Cu靶，滤波片应选（） A．Cu；B. Fe；C. Ni；D. Mo。 4. 当电子把所有能量都转换为X射线时，该X射线波长称（） A.短波限λ0； B. 激发限λk； C. 吸收限； D. 特征X射线 5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后，L层电子回迁K层，多余能量将另一个L层电子打出核外，这整个过程将产生（）（多选题） A.光电子； B. 二次荧光； C. 俄歇电子； D. （A+C） 二、正误题 1. 随X射线管的电压升高，λ0和λk都随之减小。（） 2. 激发限与吸收限是一回事，只是从不同角度看问题。（） 3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。（） 4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外，原子处于激发状态。（） 5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料，而不需要考虑厚度。（） 三、填空题
1. 当X 射线管电压超过临界电压就可以产生 X 射线和 X 射线。 2. X 射线与物质相互作用可以产生 、 、 、 、 、 、 、 。 3. 经过厚度为H 的物质后，X 射线的强度为 。 4. X 射线的本质既是 也是 ，具有 性。 5. 短波长的X 射线称 ，常用于 ；长波长的X 射线称 ，常用于 。 习题 1. X 射线学有几个分支？每个分支的研究对象是什么？ 2. 分析下列荧光辐射产生的可能性，为什么？ （1）用CuK αX 射线激发CuK α荧光辐射； （2）用CuK βX 射线激发CuK α荧光辐射； （3）用CuK αX 射线激发CuL α荧光辐射。 3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效 应”、“发射谱”、“吸收谱”？ 4. X 射线的本质是什么？它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在？用哪些物理 量描述它？ 5. 产生X 射线需具备什么条件？ 6. Ⅹ射线具有波粒二象性，其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中？ 7. 计算当管电压为50 kv 时，电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短 波限和光子的最大动能。 8. 特征X 射线与荧光X 射线的产生机理有何异同？某物质的K 系荧光X 射线波长是否等 于它的K 系特征X 射线波长？ 9. 连续谱是怎样产生的？其短波限 V eV hc 3 10 24.1?==λ 与某物质的吸收限 k k k V eV hc 3 10 24.1?==λ 有何不同（V 和V K 以kv 为单位）？ 10. Ⅹ射线与物质有哪些相互作用？规律如何？对x 射线分析有何影响？反冲电子、光
控制测试和实质性程序
报表层次重大错报风险——总体应对措施（5个） 认定层次重大错报风险——进一步审计程序——总体审计方案2个 ——具体审计程序 ◆报表层次重大错报风险——总体应对措施（5个） ◆舞弊总体应对（4个） 1.向项目组强调保持职业怀疑的必要性； 2.指派更有经验或具有特殊技能的审计人员，或利用专家的工作； 3.提供更多的督导； 4.在选择拟实施的进一步审计程序时融入更多的不可预见的因素； （1）对某些以前未测试的低于设定的重要性水平或风险较小的账户余额和认定实施实质性程序； （2）调整实施审计程序的时间，使其超出被审计单位的预期； （3）采取不同的审计抽样方法，使当年抽取的测试样本与以前有所不同； （4）选取不同的地点实施审计程序，或预先不告知被审计单位所选定的测试地点。 5.对拟实施审计程序的性质、时间安排或范围做出总体修改。 （1）在期末而非期中实施更多的审计程序； （2）通过实施实质性程序获取更为广泛的审计证据； （3）增加拟纳入审计范围的经营地点的数量。 ◆认定层次重大错报风险——进一步审计程序 1、总体审计方案（2个） （1）实质性方案是指注册会计师实施的进一步审计程序以实质性程序为主； （2）综合性方案是指注册会计师在实施进一步审计程序时，将控制测试与实质性程序结合使用。 2、总体应对措施——影响进一步审计程序的总体方案 （1）总体审计方案针对的是“进一步审计程序”而言的概念。 （2）对认定层次重大错报风险的评估为确定总体审计方案奠定了基础，注册会计师根据对认定层次重大错报风险的评估结果，恰当选用实质性方案或综合性方案。 （3）通常情况下，出于成本效益的考虑，注册会计师可以采用综合性方案。