激光微纳制造新方法和尺度极限基础研究

激光微纳制造新方法和尺度极限基础研究
激光微纳制造新方法和尺度极限基础研究

一、研究内容

2.1 拟解决的关键科学问题

重点是超高强度(> 1012W/cm2)、超短脉冲(<10-11s)激光微纳加工的功能原理:激光与材料相互作用的物理和化学效应,质量迁移和性能演变机制与规律,作用时间和空间的演化过程。描述超快激光纳米加工过程中的量子效应、尺度效应。激光微纳制造的功能原理和尺度极限及其应用的共性基础科学问题包括:

科学问题1. 激光能量的吸收、转换、传递与掌控机制

其核心是如何建立超快激光与物质相互作用的多尺度量子模型:

a) 研究束能吸收机理,包括电子加热、带间跃迁、光致电离(多光子电离、隧道电离)、碰撞电离等及其对加工过程的影响。

b) 研究材料的物理/化学变化,包括变化机制及质量迁移,固态相变、熔化、蒸发、气化、相爆炸、临界点相分离、库仑爆炸、静电烧蚀、凝固、化合、分解、臵换、复分解等;材料高精度去除、生长、成形、改性等的物理、化学过程及机理;电子、晶格、团簇的定域能量、传递、物质输运过程与机理。涉及光子-电子-声子-等离子相互作用的基础科学问题。

科学问题2. 脉冲序列设计控制外层电子激发/电离过程

由于飞秒激光脉冲宽度比许多物理/化学特征时间(如电子和晶格的热平衡时间、甚至电子弛豫时间)更短,可以通过超快脉冲序列设计来控制/改变被加工材料电子吸收激光光子的过程(选择性激发/电离)。实现基于外层电子状态控制而改变瞬时局部特性和相变过程的高质量高精度高效率制造新方法。

科学问题3.基于共振吸收的选择性高效率制造新原理

基于分子转动、分子振动、电子激发、电子电离等多能带/能级耦合的协调共振激发,形成新的制造原理,同时结合脉冲序列调节技术并利用电子显微镜、扫描探针显微镜和光镊等实现单原子至微米跨尺度制造。通过共振吸收提高加工效率。利用OPA选择单束激光脉冲的光子能量使之与电子跃迁的某一能级差相对应,可实现共振吸收。这些尝试涉及制造、光学、物理、材料等多学科的前沿科学问题。

2.2主要研究内容

2.2.1激光制造的多维性特征及其与材料的相互作用机理

(1)激光吸收机理:光子-电子相互作用

引入量子力学理论,综合考虑自由电子加热、束缚电子激发、碰撞电离、光致电离(多光子电离、隧道电离)等多种激光吸收机理,研究不同吸收机理对被加工材料的电离过程以及瞬态热力学和光学特性的影响,探索超快激光束能吸收过程对微纳制造精度的影响。

(2)激光诱导相变机理:电子-离子相互作用

通过量子分子动力学和改进分子动力学模拟的方法,考虑熔化、相爆炸、临界点相分离、气化、库仑爆炸、静电烧蚀等多种相变机理,通过考察被加工材料熔化及碎裂的动态过程以及相应瞬态热力学特性的演化规律,揭示材料相变的微观机理和初始等离子体团形成的规律。

(3)超快激光微纳制造的多尺度量子模型

基于激光吸收和相变模型,建立超快激光与材料相互作用的多尺度量子模型;应用泵浦-探测实验系统平台,针对模型预测反射率等关键参数进行测量及调控。

(4)制造新方法的理论基础

基于理论与实验手段,研究超快激光脉冲序列设计调控电子状态的微观物理机制,揭示脉冲序列设计提高激光微纳制造加工精度等的微观机理,基于理论模型,研究不同特性的激光束多场能量耦合分布规律,及其与材料间的相互作用机制。

2.2.2. 基于脉冲序列设计和外层电子状态控制的激光制造

在制造新方法方面,通过超快激光脉冲序列设计控制/改变/调节电子激发/电离过程等瞬时局部电子状态,进而改变瞬时局部特性和相变过程的制造新方法。由于飞秒脉冲短于绝大多数化学和物理反应,比如电子和晶格的热平衡时间,甚至电子弛豫时间,通过设计超快激光脉冲序列来控制被加工材料电子吸收激光光子的过程(选择性激发/电离),以及材料瞬时局部特性,进而控制相变过程。主要研究内容包括:

(1)应用本项目提出的多尺度量子模型,揭示飞秒脉冲序列中脉冲参数对瞬时局部电子状态、瞬时局部材料特性、加工过程和加工结果的影响机理/规律,并

优化飞秒脉冲序列中脉冲参数设计。

(2)利用脉冲整形器在时域中调制飞秒激光脉冲,使每个飞秒单脉冲变成时间间隔从飞秒到皮秒的多个次脉冲。通过调节超短次脉冲的幅度及延迟时间等控制瞬时局部电子激发/电离过程,进而控制相变过程,实现高质量、高精度、高效率微纳制造。

(3)应用泵浦-探测技术直接检测调制后的泵浦光与样品发生作用产生的瞬态光学性质变化,检测对外层瞬时局部电子状态调控的效果。

2.2.

3. 基于共振吸收的高效率高精度激光微纳跨尺度制造

(1)激光-材料的相互作用机制与共振吸收的机理研究

理论研究不同特性激光束的多场能量耦合分布规律,及其共同作用下的新机制、效应、规律,以及制造新原理。研究不同波长(近红外到近紫外)与各级能带的共振吸收机理与规律,选择激光波长与所对应的分子振动/电子激发/电离间形成共振吸收耦合机制。

(2)基于共振吸收的高精度激光制造方法研究

利用OPA选择激光脉冲的光子能量使之与电子跃迁的能级差相对应,实现共振吸收,提高加工效率。选择脉冲序列中的光子能量分别与电子跃迁路径中的能级差匹配,实现共振吸收。

(3)基于直写、近场与光镊的跨尺度激光制造方法研究

以激光直写技术为基础,结合脉冲序列设计和共振吸收,实现对跨尺度结构中微米级主体结构的加工;以激光结合近场探针、纳米粒子或微米级主体自身上的纳米部分,形成局部近场,实现纳米级结构的加工;采用激光光镊实现微米量级粒子的稳定捕获,捕获后利用激光照射微米粒子自身产生的可移动近场辅助实现纳米加工,或者粒子与微器件的集成。

2.2.4. 航空/新型能源关键结构/器件激光制造及性能控制

(1)燃气轮机、单晶叶片等重大关键部件激光极限制孔的基础研究燃气轮机透平叶片孔的质量问题非常关键,几何要素方面要考虑孔的圆度、角度、锥度、形状以及入口直径,金相方面要考虑重铸层和氧化层等结构组织。采用峰值功率极高的短脉冲激光对基体进行打孔,结合高速旋转光束整形、惰性气氛保护和高频超声创新技术吹辅助的惰性气体,可使重铸层极小化,消除裂纹。

通过瞬态成像高速摄影技术观测激光加工小孔的动态演化。

(2)太阳能电池表面微纳陷光结构的激光制造

利用飞秒激光经过特殊的环境氛围,对透明导电光学薄膜(TCO)进行表面改性,使其诱导出高透射率的微纳周期结构,重点解决绒面TCO薄膜的快速激光制作以及在叠层技术中引入梯度界面层和改变窗口层质量等问题。建立一套高效、快速、稳定制作微纳结构的飞秒激光制绒工艺,以导电薄膜为研究对象,进行飞秒激光光诱导的工艺探索和多参数优化;研究飞秒激光与复合薄膜材料的作用机理,使其能快速、方便地对膜层进行精确的刻蚀。

2.2.5. 面向柔性IC典型结构的激光微纳制造基础研究

(1)超快激光与石墨烯氧化物相互作用的物理过程研究

在获得高质量石墨烯氧化物的前提下,对超快激光还原细致物理过程进行分析,深入理解石墨烯氧化物的含氧基团脱除过程,及其对石墨烯质量的影响;研究高质量石墨烯氧化物的合成及其成膜条件,得到表面平整且膜厚可控的石墨烯氧化物膜;结合飞秒瞬态吸收等超快光谱技术,研究超快激光作用下含氧基团脱除的动力学过程,研究超快激光脱氧过程可能诱导的缺陷,缺陷的存在形式及其对导电性的影响。

(2)超快激光调控石墨烯氧化物特性研究和柔性金属纳米布线基础研究研究不同气氛下超快激光还原,比较对还原产物组分和带隙特性的影响。研究超快激光还原石墨烯的能级和带隙与FET关态电流和开关比的关系;针对金属离子,研究采用超快激光光化学还原反应制备金属纳米结构的方法与条件,通过对金属离子溶液光还原、介质内部超快激光三维还原等方法中的材料组成、激光参数等因素对所加工的结构尺寸、精度的影响及机理研究,建立金属纳米结构超快激光加工制备原理与方法,为三维金属纳米柔性布线提供关键技术。

(3)超快激光制备石墨烯柔性光电子器件的研究

基于所制备的石墨烯材料制备出柔性石墨烯FET: 超快激光加工还原实现高精度的石墨烯图案化电极,调控超快激光还原参数,提高电导率和降低载流子注入势垒;基于上述研究结果,研制适于集成的独立栅石墨烯FET,把该器件与OLED器件集成在一起,形成石墨烯FET驱动的显示像素点,进一步探索多个像素点的集成互连工艺,实现石墨烯FET驱动的柔性有源矩阵OLED显示。

(4)面向柔性IC的石墨烯大面积激光诱导研究

研究石墨烯在激光辐照下的结晶过程与长大方式,激光与石墨烯生长所需金属基底的相互作用,研究石墨烯在激光辐照下的结构演变,揭示激光辐照处理对薄膜透光性和导电性的影响,实现对其光电性能的控制。

(5) 关于柔性IC纳米薄膜结构诱导沉积制造及性能调控研究

研究微重力环境中极性/非极性粒子在交变电场诱导下粒子极化和迁移运动特性,探索有机薄膜晶体管(OTFT)器件源/漏电极、有机有源层纳米薄膜结构、晶体形态等对载流子电荷注入、电荷传输性能的影响机理,研究异质界面形貌对电荷场效应转移性能以及界面张力和粘性的影响规律,建立薄膜结构参数、晶体形态参数、界面形貌参数等与OTFT器件机、电性能参数的关联模型。

二、预期目标

3.1总体目标

针对航空发动机、太阳能电池、IC等的核心构件加工中的共性基础问题,本项目研究激光微纳制造的功能原理和尺度极限,提出一套高效率、高品质、三维复杂结构、选择性激光制造的新方法并建立其多尺度量子模型。本项目提出通过超快脉冲序列设计来控制被加工材料电子吸收激光光子的过程进而控制相变过程,提高加工精度、质量和效率。提出利用光参量放大器(OPA)改变波长并结合多激光技术实现共振吸收,提高加工效率,实现选择性加工。理论方面,将建立超快激光与材料相互作用的多尺度量子模型,揭示激光能量吸收/传导机理、材料瞬时性质变化及其相变机制、成形成性规律。制备航空发动机曲面涡轮叶片微孔结构,提高太阳能电池的转换效率,向航空、新型能源器件激光制造的实用化迈出比较关键的一步,对柔性石墨烯IC的发展进行深入的前瞻性探索。推动我国先进制造技术发展,支撑国民经济与国家安全。

3.2 五年预期目标

(1)制造新模型方面,建立超快激光与材料相互作用的多尺度量子模型,研究激光制造的功能原理,揭示和掌控激光能量吸收/传导机理、材料瞬时性质变化

及其相变机制、成形成性规律。

(2)制造新方法方面,

实现一套高品质、高精度、高效率、三维复杂结构、选择性激光制造的新方法,为激光微纳制造的实用化迈出比较关键的一步。

(i)通过超快激光脉冲序列设计结合多光子效应控制电子激发/电离过程,进而实现基于外层电子状态控制改变瞬时局部特性和相变过程的制造新方法。(ii)通过共振吸收和外层电子激发/电离控制,使加工效率提高十倍以上,实现基于激光共振吸收的高效率选择性制造新方法。

(3)制造应用方面,

(i)实现在钛合金或镍钴基高温合金材料表面的高精度、高品质、高效率的激光精密钻孔,力争满足航空发动机涡轮叶片工作要求:孔径100-700μm,重铸层<5μm,无裂纹。

(ii)展示以场效应晶体管(FET)像素驱动电路为代表的原理性柔性IC的激光还原;实现三维金属纳米布线的线宽小于100nm,加工精度20nm;柔性石墨烯布线线宽小于50nm,加工精度20nm;初步实现柔性驱动下的有源矩阵OLED显示单元。实现超短脉冲激光辅助的石墨烯大面积高质量薄膜的合成。获得面向高性能、可靠电子应用的石墨烯薄膜。

(4)论文专著与专利方面:发表SCI源刊物80-160篇,其中4-7篇有重要国际影响,申报专利15-30项。

(5)人才培养方面:建立激光微纳制造领域的基础研究和技术创新基地,培养一批中青年学术带头人,使我国在该领域总体居于世界前列,部分方向处于引领位臵。

聚合物微纳制造技术现状及展望

聚合物微纳制造技术现状及展望 目录 聚合物微纳制造技术现状及展望 (1) 1、微纳系统的意义、应用前景 (1) 2、微纳机电系统国内外研究现状和发展趋势 (3) 3. 聚合物微纳制造技术研究现状 (9) 4. 展望 (11) 微/纳米科学与技术是当今集机械工程、仪器科学与技术、光学工程、生物医学工程与微电子工程所产生的新兴、边缘、交叉前沿学科技术。微/纳米系统技术是以微机电系统为研究核心,以纳米机电系统为深入发展方向,并涉及相关微型化技术的国家战略高新技术[1]。微机电系统(Micro Electro Mechani cal System, MEMS ) 和纳机电系统(Nano Electro Mechanical System, NEMS )是微米/纳米技术的重要组成部分,逐渐形成一个新的技术领域。MEMS已经在产业化道路上发展,NEMS还处于基础研究阶段[2]。 从微小化和集成化的角度,MEMS (或称微系统)指可批量制作的、集微型机构、微型传感器、微型执行器以及信号处理和控制电路,直至接口、通讯和电源等于一体的微型器件或系统。而NEMS(或称纳系统) 是90 年代末提出来的一个新概念,是继MEMS 后在系统特征尺寸和效应上具有纳米技术特点的一类超小型机电一体的系统,一般指特征尺寸在亚纳米到数百纳米,以纳米级结构所产生的新效应(量子效应、接口效应和纳米尺度效应) 为工作特征的器件和系统。图1给出了MEMS 和NEMS 的特征尺度、机电系统的尺度与相应的理论问题[2]。 图1 MEMS 和NEMS 的特征尺度、机电系统的尺度与相应的理论问题 1、微纳系统的意义、应用前景 由于微/纳机电系统是一门新兴的交叉和边缘学科,学科还处于技术发展阶段,在国内外尚未形成绝对的学科和技术优势;微/纳米技术还是一项支撑技术,它对应用背景有较强的依赖性,目前它的主要应用领域在惯导器件、军事侦察、通信和生物医学领域,以及微型飞机和纳米卫星等产品上。 (1)重要的理论意义和深远的社会影响

激光熔覆技术介绍

激光熔覆是一种新型的涂层技术,是涉及到光、机、电、材料、检测与控制等多学科的高新技术,是激光先进制造技术最重要的支撑技术,可以解决传统制造方法不能完成的难题,是国家重点支持和推动的一项高新技术。目前,激光熔覆技术已成为新材料制备、金属零部件快速直接制造、失效金属零部件绿色再制造的重要手段之一,已广泛应用于航空、石油、汽车、机械制造、船舶制造、模具制造等行业。 为推动激光熔覆技术的产业化,世界各国的研究人员针对激光熔覆涉及到的关键技术进行了系统的研究,已取得了重大的进展。国内外有大量的研究和会议论文、专利介绍激光熔覆技术及其最新的应用:包括激光熔覆设备、材料、工艺、监测与控制、质量检测、过程的模拟与仿真等研究内容。但到目前为止,激光熔覆技术还不能大面积工业化应用。分析其原因,这里有政府导向的因素、激光熔覆技术本身成熟程度的限制、社会各界对激光熔覆技术的认可程度等因素。因此,激光熔覆技术欲实现全面的工业化应用,必须加大宣传力度,以市场需求为导向,重点突破制约发展的关键因素,解决工程应用中涉及到的关键技术,相信在不远的将来,激光熔覆技术的应用领域及其强度将不断的扩大。下面介绍激光熔覆技术几个发展的动态,以飨读者。 激光熔覆的优势 激光束的聚焦功率密度可达1010~12W/cm2,作用于材料能获得高达1012K/s的冷却速度,这种综合特性不仅为材料科学新学科的生长提供了强有力的基础,同时也为新型材料或新型功能表面的实现提供了一种前所未有的工具。激光熔覆所创造的熔体在高温度梯度下远离平衡态的快速冷却条件,使凝固组织中形成大量过饱和固溶体、介稳相甚至新相,已经被大量研究所证实。它提供了制造功能梯度原位自生颗粒增强复合层全新的热力学和动力学条件。同时激光熔覆技术制备新材料是极端条件下失效零部件的修复与再制造、金属零部件的直接制造的重要基础,受到世界各国科学界和企业的高度重视和多方面的研究。 目前,利用激光熔覆技术可以制备铁基、镍基、钴基、铝基、钛基、镁基等金属基复合材料。从功能上分类:可以制备单一或同时兼备多种功能的涂层如:耐磨损、耐腐蚀、耐高温等以及特殊的功能性涂层。从构成涂层的材料体系看,从二元合金体系发展到多元体系。多元体系的合金成分设计以及多功能性是今后激光熔覆制备新材料的重要发展方向。 最新的研究表明,在我国工程应用中钢铁基的金属材料占主导地位。同时,

微纳光子学

微纳光子学主要研究在微纳尺度下光与物质相互作用的规律及其光的产生、传输、调控、探测和传感等方面的应用。微纳光子学亚波长器件能有效提高光子集成度,有望像电子芯片一样把光子器件集成到尺寸很小的单一光芯片上。纳米表面等离子体学是一新兴微纳光子学领域,主要研究金属纳米结构中光与物质的相互作用。它具有尺寸小,速度快和克服传统衍射极限等特点,有望实现电子学和光子学在纳米尺度上的完美联姻,将为新一代的光电技术开创新的平台。金属-介质-金属F-P腔是最基本的纳米等离子体波导结构,具有良好的局域场增强和共振滤波特性,是制作纳米滤波器、波分复用器、光开关、激光器等微纳光器件的基础。但由于纳米等离子体结构中金属腔的固有损耗和能量反射,F-P腔在波分复用器应用中透射效率往往较低,这给实际应用带来不利。 最近,科研人员提出了一种提高表面等离子体F-P腔波分复用器透射效率的双腔逆向干涉相消法。该方法能有效避免腔的能量反射,使入射光能完全从通道端口出射,极大增强了透射效率。此设计方法还能有效的抑制噪声光的反馈。同时,科研人员利用耦合模方法验证了这种设计方法的可行性。这种波分复用器相比目前报道的基于F-P单腔共振滤波的波分复用器的透射效率提高了50%以上。相关的成果于2011年6月20日发表在Optics Express上,论文题目为:Enhancement of transmission efficiency of nanoplasmonic wavelength demultiplexer based on channel drop filters and reflection nanocavities。 “新兴光器件及集成技术专题报告会”上发布《纳米光子学对光子技术更新换代的重要作用》精彩演讲。报告摘要;从上世纪70年代开始,光子学进入微光子学阶段,经过40年的研究,现在已经比较成熟。以半导体激光器为重点的研究已经逐渐转向对激光控制问题的研究和激光应用的研究。同时,光子技术已经进入光电子技术阶段,其特点是研究开发以电控光、光电混合的器件和系统。光电子技术已经逐步占领了电子技术原有的阵地。它的应用领域已经扩大到人类社会生活的各方面,如光通信与光网,平板显示、半导体照明、光盘存储、数码相机等。光电子产业迅速发展壮大起来。在经济发达国家,光电子产业的总产值已经可以与电子产业相比,甚至超过电子产业。近十年来,国际学术界开始大力发展纳光子学及其技术,使光电子技术与纳米技术相结合,对现有光电子技术进行升级改造。 与国际上科技发达的国家相比,目前我国微纳光子学的研究还不算落后,这从我国在微纳光子学领域发表的论文数量和投稿的杂志级别就可看出。但是我国的光子学研究论文大部分是理论方面的,大多数是跟踪国外的。由于国内缺乏先进的科学实验平台,特别是缺乏制备微纳光子学材料和器件的工艺条件,实验方面的论文比较少(除了少数与国外合作研究的论文),创新的思想无法得到实验验证。微光子学方面的情况尚且如此,在纳光子学方面,由于对仪器、设备、工艺和技术的要求更高,与国外的差距正在加大。 在光电子技术方面,由于国际经济的全球化和我国的改革开放形势,吸引跨国公司将制造、加工基地向我国转移。21世纪初光电子企业的大公司纷纷落户我国。而且大量资金投向我国沿海经济发达地区(如广东、上海和京津地区),建立起一大批中外合资或独资企业。但是这些外国企业或技术人员,控制着产业的高端技术,对我国实行技术垄断,使我国的光电子技术至今还处于“下游”,成为外向加工企业。大多数光电子企业采用这样的生产模式:购买国外的芯片进行器件封装,或者购买国外的器件进行系统组装。目前我国光电子企业严重缺乏核心技术和自主知识产权,无法抵御国际经济危机,面临着很大的风险。 为了加快我国的微纳光子学与相关光子技术的发展,我国应该集中投入一部分资金,凝聚一批高水平研究人才,在某些光电子企业集中的地区,依托光子学研究有实力的单位,采用先进的管理模式,建设我

光滑极限量规

第6章 光滑极限量规 6.1 概 述 检验光滑工件尺寸时,可用通用测量器具,也可使用极限量规。通用测量器具可以有具体的指示值,能直接测量出工件的尺寸,而光滑极限量规是一种没有刻线的专用量具,它不能确定工件的实际尺寸,只能判断工件合格与否。因量规结构简单,制造容易,使用方便,并且可以保证工件在生产中的互换性,因此广泛应用于成批大量生产中。光滑极限量规的标准是GB/T 1957-2006。 光滑极限量规有塞规和卡规之分,无论塞规和卡规都有通规和止规,且它们成对使用。塞规是孔用极限量规,它的通规是根据孔的最小极限尺寸确定的,作用是防止孔的作用尺寸小于孔的最小极限尺寸;止规是按孔的最大极限尺寸设计的,作用是防止孔的实际尺寸大于孔的最大极限尺寸,如图6.1所示。 卡规是轴用量规,它的通规是按轴的最大极限尺寸设计的,其作用是防止轴的作用尺寸大于轴的最大极限尺寸;止规是按轴的最小极限尺寸设计的,其作用是防止轴的实际尺寸小于轴的最小极限尺寸,如图6.2所示。 图6.1 塞规检验孔 图6.2 环规检验轴

量规按用途可分为以下三类: 1)工作量规工作量规是工人在生产过程中检验工件用的量规,它的通规和止规分别用代号“T”和“Z”表示。 2)验收量规验收量规量是检验部门或用户代表验收产品时使用的量规。 3)校对量规校对量规是校对轴用工作量规的量规,以检验其是否符合制造公差和在使用中是否达到磨损极限。 6.2量规设计 6.2.1极限尺寸判断原则(泰勒原则) 单一要素的孔和轴遵守包容要求时,要求其被测要素的实体处处不得超越最大实体边界,而实际要素局部实际尺寸不得超越最小实体尺寸,从检验角度出发,在国家标准“极限与配合”中规定了极限尺寸判断原则,它是光滑极限量规设计的重要依据,阐述如下:孔或轴的体外作用尺寸不允许超过最大实体尺寸。即对于孔,其体外作用尺寸应不小于最小极限尺寸;对于轴,其体外作用尺寸不大于最大极限尺寸。 任何位置上的实际尺寸不允许超过最小实体尺寸。即对于孔,其实际尺寸不大于最大极限尺寸;对于轴,其实际尺寸不小于最小极限尺寸。 显而易见,作用尺寸由最大实体尺寸控制,而实际尺寸由最小实体尺寸控制,光滑极限量规的设计应遵循这一原则。 6.2.2量规公差带设计Array 1. 工作量规 1)量规制造公差 量规的制造精度比工件高得多,但量规 在制造过程中,不可避免会产生误差,因而 对量规规定了制造公差。通规在检验零件 时,要经常通过被检验零件,其工作表面会 逐渐磨损以至报废。为了使通规有一个合理 的使用寿命,还必须留有适当的磨损量。因 此通规公差由制造公差(T)和磨损公差两 部分组成。 止规由于不经常通过零件,磨损极少, 所以只规定了制造公差。 量规设计时,以被检验零件的极限尺寸作为量规的基本尺寸。 图6.3光滑极限量规公差带图图6.3所示为光滑极限量规公差带图。标准规定量规的公差带不得超越工件的公差带。 通规尺寸公差带的中心到工件最大实体尺寸之间的距离Z(称为公差带位置要素)体

基于视觉计算的扫描电子显微镜下微纳尺度三维形面测量方法研究

基于视觉计算的扫描电子显微镜下微纳尺度三维形面测量方法 研究 随着微、纳领域科学技术的不断发展,微、纳米材料在芯片制造、电子封装、生物医药等高新技术领域得到越来越广泛应用。由于微、纳米材料与结构具有尺寸效应,在力-电-磁-热等多场耦合负载作用下,极易产生变形、裂纹进而导致结构与器件失效。因此,在微纳尺度下实施精确地三维形面测量对了解上述变形机理、失效机制分析、指导微纳系统设计与加工等具有重要意义。近年来,微纳尺度精密测试技术不断进步,涌现出多种微纳尺度三维形面测量方法。 其中,基于扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)测量方法(3D SEM),具有高效、非接触式、测量范围大和对样品表面粗糙度的良好脱敏性等一系列优点而受到国内外众多学者的共同关注。然而,由于SEM是以可视化为目的进行设计与制造,要将其应用于三维形貌测量,在成像模型及标定、图像畸变校正、特征匹配与三维测量算法等方面仍存在着诸多问题。为此,本论文针对3D SEM在实施与应用中所面临的问题,主要开展SEM成像模型通用化建模、SEM图像畸变校正、基于视差-深度映射的局部高效三维测量方法和自适应SfM-SEM框架下整体精细三维测量方法等四个方面的研究,以形成一套完备的SEM下三维形面测量理论与技术体系。具体研究工作如下:针对SEM成像模型分歧大、无法根据SEM的放大倍率对成像模型进行准确划分等问题,在不依赖任何假设的条件下, 从SEM成像过程本质出发,建立连续通用成像模型以表征SEM系统成像特性。 根据SEM成像过程的连续性约束,利用径向基函数来表达像素点与空间直线的对应关系,进而参数化连续通用成像模型;澄清放大倍率与成像规律的关系,揭示SEM成像系统真实成像本质,实现SEM在不同倍率下的成像模型通用化与可视化表达。可视化建模结果验证部分学者对SEM成像特性和放大倍率的关系假设。通过精度实验证明相比于传统成像模型,连续通用成像模型可更精准地刻画SEM 成像过程,为探索SEM成像规律提供新思路,具有重要的理论和应用价值。针对SEM图像畸变原因复杂、无明显规律且无法利用光学参数化模型校正等问题,提出一种顾及倍率变化的SEM图像畸变校正方法。 对于SEM的时间漂移畸变与空间畸变,从产生根源入手,独立建模,分而治之,分别建立漂移畸变-采集时间畸变模型与空间畸变-像素位置畸变模型;结合不同

激光制造论文

激光先进制造技术 论文主题:激光制造 学院: 机电与自动化院 专业班级: XXXXXXXXXX 姓名: XXX 学号: XXXXXXXXX 年级: XXXXX 任课教师: XXXX XXXX年XX月XX日

目录 1.激光简介 (3) 2、激光生产原理 (3) 2、1激光产生的物质基础 (3) 2、2激光产生的基本原理与方法 (5) 2、2、1确定液压系统方案 (5) 2、2、2光的受激辐射放大条件 (6) 2、2、3产生激光的基本条件及激光器的组成部分 (6) 3、激光加工原理及应用 (6) 3、1 激光加工原理及特点 (6) 3、2激光技术 (8) 3、2、1激光打孔 (9) 3、2、2激光打标 (11) 3、2、3激光雕刻 (13) 3、2、4激光微调 (14) 3、2、5激光切割、、 (15) 3、2、6激光焊接 (19) 3、2、7激光打印 (21) 3、2、8激光制版 (22) 3、2、9激光防伪 (23) 3、2、10激光扫描 (23) 3、2、11激光强化、、 (24) 3、2、12微细加工 (25) 4、激光技术发展现状与前景 (27) 5、总结 (29) 6、参考文献 (30) 一、激光简介 激光就是在 1960 年正式问世的。但就是,激光的历史却已有 100 多年。确切地说,远在 1893 年,在波尔多一所中学任教的物理教师布卢什就已经指出,两面靠近与平行镜子之间反射的黄钠光线随着两面镜子之间距离的变化而变化。她

虽然不能解释这一点,但为未来发明激光发现了一个极为重要的现象。 1917 年爱因斯坦提出 “ 受激辐射 ” 的概念,奠定了激光的理论基础。激光,又称镭射,英文叫“LASER ”,就是“Light Amplification by Stimu Iatad Emission of Radiation ”的缩写,意思就是“受激发射的辐射光放大”。激光的英文全名已完全表达了制造激光的主要过程。1964年按照我国著名科学家钱学森建议将 “光受激发射”改称“激光”。 激当前激光技术发展的越来越迅速与成熟,在我们生活中的各个行业应用的非常广泛。由于激光技术的先进性,精确性,所以在当前,在很多行业都得以应用与实现。本文通过对激光技术的学习,大概阐述了激光生产原理,以及激光在各个方面的应用 。 二、激光产生原理 2、1、激光产生的物质基础 光与物质的共振相互作用,特别就是这种相互作用中的受激辐射过程就是激光器的物理基础。爱因斯坦认为光与物质原子的相互作用过程包含原子的自发辐射跃迁、受激辐射跃迁与受激吸收跃迁三种过程。为了简化问题,我们只考虑原子的两个能级1E 与2E ,处于两个能级的原子数密度分别为1n 与2n ,如图2-1所示。构成黑体物质原子中的辐射场能量密度为ρ,并有21E E h ν-=。 (Ⅰ)、自发辐射 处于高能级2E 的一个原子自发地向低能级1E 跃迁,并发射一个能量为h ν的光子,这种过程称为自发跃迁过程,如图2-2所示。

光滑极限量规8

第5章光滑极限量规 5.1 概述 在机械制造中,检验尺寸一般使用通用计量器具,直接测取工件的实际尺寸,以判定其是否合格,但是,对成批大量生产的工件,为提高检测效率,则常常使用光滑极限量规来检验。光滑极限量规是用来检验某一孔或轴专用的量具,简称量规。 一、量规的作用 量规是一种无刻度的专用检验工具,用它来检验工件时,只能判断工件是否合格,而不能测量出工件的实际尺寸。检验工件孔径的量规一般又称为塞规,检验工件轴径的量规一般称为卡规。 塞规有“通规”和“止规”两部分,应成对使用,尺寸较小的塞规,其通规和止规直接配制在一个塞规体上,尺寸较大的塞规,做成片状或棒状的。塞规的通端按被测工件孔的MMS(Dmin)制造,止规按被测孔的LMS(Dmax)制造,使用时,塞规的通端若能通过被测工件孔,表示被测孔径大于其Dmin,止规若塞不进工件孔,表示孔径小于其Dmax,因此可知被测孔的实际尺寸在规定的极限尺寸范围内,是合格的,否则,若通规塞不进工件孔,或者止规能通过被测工件孔,则此孔为不合格的。 同理,检验轴用的卡规,也有“通规”和“止规”两部分,且通端按被测工件轴的MMS(dmax)制造,止规按被测轴的LMS(dmin)制造,使用时,通端若能通过被测工件轴,而止规不能被通过,则表示被测轴的实际尺寸在规定的极限尺寸范围内,是合格的,否则,就是不合格的了。 二、量规的标准与种类 我国于1981年颁布者了《光滑极限量规》GB1957-81,标准规定的量规适用于检验基本尺寸500mm,公差等级为IT6-IT16级的孔与轴。 量规按其用途不同可分为工作量规、验收量规和校对量规三类。 1.工作量规:工作量规是工人在工件的生产过程中用来检验工件的量规。其通端代号为“T”止端代号为“Z”。 2.验收量规:验收量规是检验部门或用户验收产品时使用的量规。GB对工作量规的公差带作了规定,而没有规定验收量规的公差,但规定了工作量规与验收量规的使用顺序。即:加工者应使用新的或磨损较少的量规;检验部门应使用与加工者具有相同形式且已磨损较多的量规;而用户在用量规验收产品时,通规应接近工件的MMS,而止规应该接近工件的LMS,这样规定的目的,

光滑极限量规练习题答案

第六章光滑极限量规 一. 判断题: (正确的打√,错误的打×) 1. 光滑量规止规的基本尺寸等于工件的最大极限尺寸。() 2. 通规公差由制造公差和磨损公差两部分组成。() 3. 检验孔的尺寸是否合格的量规是通规,检验轴的尺寸是否合格的量规是止规。() 4. 光滑极限量规是一种没有刻线的专用量具,但不能确定工件的实际尺寸。() 5. 光滑极限量规不能确定工件的实际尺寸。() 6. 当通规和止规都能通过被测零件,该零件即是合格品。() 7. 止规和通规都需规定磨损公差。() 8. 通规、止规都制造成全形塞规,容易判断零件的合格性。() 二.单项选择题 1. 光滑极限量规是检验孔、轴的尺寸公差和形状公差之间的关系采用______ 的零件。 A、独立原则B、相关原则C、最大实体原则D、包容原则 2. 光滑极限量规通规的设计尺寸应为工件的______。 A、最大极限尺寸B、最小极限尺寸 C、最大实体尺寸D、最小实体尺寸 3. 光滑极限量规止规的设计尺寸应为工件的______。 A、最大极限尺寸B、最小极限尺寸 C、最大实体尺寸D、最小实体尺寸 4. 为了延长量规的使用寿命,国标除规定量规的制造公差外,对______?还规 定了磨损公差。 A、工作量规B、验收量量规 C、校对量规D、止规E、通规 5. 极限量规的通规是用来控制工件的______。 A、最大极限尺寸B、最小极限尺寸 C、最大实体尺寸D、最小实体尺寸 E、作用尺寸F、实效尺寸G、实际尺寸 6. 极限量规的止规是用来控制工件的______。 A、最大极限尺寸B、最小极限尺寸 C、实际尺寸D、作用尺寸 E、最大实体尺寸F、最小实体尺寸G、实效尺寸 7. 用符合光滑极限量规标准的量规检验工件时,如有争议,使用的通规尺寸 应更接近______。 A、工件最大极限尺寸B、工件的最小极限尺寸 C、工件的最小实体尺寸D、工件的最大实体尺寸 8. 用符合光滑极限量规标准的量规检验工件时,?如有争议,?使用的止规尺 寸应接近______。 A、工件的最小极限尺寸B、工件的最大极限尺寸 C、工件的最大实体尺寸D、工件的最小实体尺寸 9. 符合极限尺寸判断原则的通规的测量面应设计成______。 A、与孔或轴形状相对应的不完整表面 B、与孔或轴形状相对应的完整表面

微纳制造技术作业

问题:1、微机械制造材料大致分为几类而常用的制造微机电产品的材料有哪些,MEMS装置为何大多选用硅材料制造 2、纳米材料与常规的材料相比,有哪些优点 答:1、(1)微机械制造材料大致分为结构材料、功能材料和智能材料三大类。 (2)常用的制造微机电产品的材料有: a,结构材料:是以力学性能为基础,具有一定强度,对物理或化学性能也有一定要求,一般用于构造微机械器件结构机体的材料,如硅晶体。 b,功能材料:指那些具有优良的电学、磁学、光学、热学、声学、力学、化学、生物医学功能,特殊的物理、化学、生物学效应,能完成功能相互转化,主要用来制造各种功能元器件而被广泛应用于各类高科技领域的高新技术材料。如压电材料、光敏材料等。 c,智能材料:一般具备传感、致动和控制3个基本要素。如形状记忆合金、磁/电致伸缩材料、导电聚合物、电流变/磁流变材料等。 (3)由于硅材料具有众多优点,所以MEMS装置大多选用硅材料制造。 其优点如下:?? ①优异的机械特性:在集成电路和微电子器件生产中,主要利用硅的电学特性;在微机械结构中,则 是利用其机械特性。或者同时利用其机?械特性和电学特性,即具有机电合一的特性,便于实现机电器件的集?成化。? ②储量丰富,成本低。硅是地壳中含量最多的元素之一,自然界的硅元素通常以氧化物如石英(sio2) 的形式存在,使用时要提纯处理,通?常加工成为单晶形式(立方晶体,各向异性材料)? ③便于批量生产微机械结构和微机电元件。硅材料的制造工艺与基层电路工艺有很好的兼容性,便于 微型化、集成化和批量生产。硅的微细?加工技术比较成熟,且加工精度高,容易生成绝缘薄膜。? ④具有多种传感特性,如压电阻效应、霍尔效应。? ⑤纯净的单晶硅呈浅灰色,略具有金属性质。可以抛光加工,属于硬脆材料,热传导率较大,对温度 敏感。 2、纳米材料内部粒子的尺寸减小到纳米量级,将导致声、光、电、磁、热性能呈现新的特性。对纳米体 材料,可以用“更轻、更高、更强”这六个字来概括。 ①“更轻”是指借助于纳米材料和技术,可以制备体积更小性能不变甚至更好的器件,减小器件的体

液体环境下表面电荷对微纳尺度摩擦磨损的影响

哈尔滨工业大学工学硕士学位论文 - IV - 目 录 摘 要 ............................................................................................................................... I Abstract ............................................................................................................................. I I 绪论 (1) 1.1 课题的来源以及研究的背景与意义 (1) 1.1.1 课题的来源 (1) 1.1.2 课题研究的背景与意义 (1) 1.2 课题研究的国内外现状分析 (2) 1.2.1 微纳尺度摩擦磨损研究方法综述 (2) 1.2.2 双电层对微纳尺度摩擦影响的研究 (3) 1.2.3 双电层对微纳尺度磨损影响的研究 (6) 1.3 本文研究的主要内容 (8) 固液界面间作用力理论计算 (9) 2.1 引言 (9) 2.2 双电层间静电力计算公式的推导 (9) 2.3 表面电荷密度的测量 (13) 2.3.1 实验原理 (13) 2.3.2 实验装置和样品的选择与制备 (13) 2.3.3 实验结果及分析 (15) 2.4 双电层间静电力数值仿真 (18) 2.5 固液界面间范德华力计算公式推导 (20) 2.6 固液界面间摩擦力公式的修正 (21) 2.7 本章小结 (21) AFM 摩擦力测量方法研究 (23) 3.1 引言 (23) 3.2 AFM 工作原理简介 (23) 3.3 摩擦力测量方法 (24) 3.3.1 电压-悬臂梁扭转角度转化因子的计算 (24) 3.3.2 正压力的确定 (29)

光滑极限塞规磨损极限尺寸计算

光滑极限塞规磨损极限尺寸计算 内容来源网络,由“深圳机械展(11万㎡,1100多家展商,超10万观众)”收集整理!更多cnc加工中心、车铣磨钻床、线切割、数控刀具工具、工业机器人、非标自动化、数字化无人工厂、精密测量、3D打印、激光切割、钣金冲压折弯、精密零件加工等展示,就在深圳机械展. 精度检测技术 复习:1、包容原则、孔轴合格条件 2、普通测量仪器可把每个零件的尺寸、形状分别测量出来,但效率低,不方便。大批生产零件可用专用量具检验。 光滑工件尺寸的检测及量规设计 光滑工件尺寸通常采用普通计量器具测量或用光滑极限量规检验。 对于一个具体的零件,是选用计量器具还是选用量规,要根据零件图样上遵守的公差原则来确定。 当零件图样上被测要素的尺寸公差和形位公差遵守独立原则时,该零件加工后的尺寸和形位误差采用通用计量器具来测量。 当零件图样上被测要素的尺寸公差和形位公差遵守相关原则时,应采用光滑极限量规或位置量规来检验。 在此重点介绍光滑极限量规(包容原则)即介绍GB1957-81《光滑极限量

规》标准。 一、光滑极限量规的功用 光滑极限量规是一种没有刻线的专用量具。 1、检验孔、轴时,不能测出孔、轴尺寸的具体数字,但能判断孔、轴尺寸 是否合格。 2、量规结构简单、制造容易、使用方便。 3、量规是用来判断孔、轴尺寸是否在规定的两极限尺寸范围内,因此量规 都成对使用。其中一为“通规”,另一为“止规”。 通规——用以判断dm、Dm有否从公差带内超出最在实体尺寸。 止规——用以判断da、Da有否从公差带内超出最小实体尺寸。 检验时,通规能过,止规不能过,说明合格。 二、塞规和卡规 光滑极限量规是塞规和卡规的统称。 塞规:检验孔用的极限量规。 通规按Dmin设计防止DmDmax 卡规:检验轴用量规 通规按dmax设计防止dm>dmax 止规按dmin设计防止da

纳米科学与微纳制造》复习材料.docx

《纳米科学与微纳制造》复习材料1、纳米材料有哪些危害性? 答:纳米技术对生物的危害性: 1)在常态下对动植物体友好的金,在纳米态下则有剧毒; 2)小于 100nm的物质进入动物体内后,会在大脑和中枢神经富集,从而影响动物的正常生存; 3)纳米微粒可以穿过人体皮肤,直接破坏人体的组织及血液循环。 2、什么是纳米材料、纳米结构? 答:纳米材料:纳米级结构材料简称为纳米材料,是指组成相或晶粒结构的尺寸介于1nm~100nm范围之间,纳米材料大致可分为纳米粉末、纳米纤维、纳米膜、纳米块体等四类。 纳米材料有两层含义: 其一,至少在某一维方向,尺度小于 100nm,如纳米颗粒、纳米线和纳米薄膜,或构成整体材料的结 构单元的尺度小于 100nm ,如纳米晶合金中的晶粒 ; 其二,尺度效应:即当尺度减小到纳米范围,材料某种性质发生神奇的突变,具有不同于常规材料的、优异的特性量子尺寸效应。 纳米结构:以纳米尺度的物质为单元按一定规律组成的一种体系。 3、什么是纳米科技? 答:纳米科技是研究在1-100nm 内,原子、分子和其它类型物质的运动和变化的科学;同时在这一尺度范围内对原子、分子进行操纵和加工的技术。 4、什么是纳米技术的科学意义? 答:纳米尺度下的物质世界及其特性,是人类较为陌生的领域,也是一片新的研究疆土在宏观和 微观的理论充分完善之后,再介观尺度上有许多新现象、新规律有待发现,这也是新技术发展的 源头;纳米科技是多学科交叉融合性质的集中体现,我们已不能将纳米科技归为任何一门传统的 学科领域而现代科技的发展几乎都是在交叉和边缘领域取得创新性的突破的,在这一尺度下,充满了原始创新的机会因此,对于还比较陌生的纳米世界中尚待解释的科学问题,科学家有着极大 的好奇心和探索欲望。 5、纳米材料有哪 4 种维度?举例说明 答:零维:团簇、量子点、纳米粒子 一维:纳米线、量子线、纳米管、纳米棒

微纳尺度下声子热传导与热流调控-同济大学

微纳尺度下声子热传导与热流调控一直是多个学科研究的前沿领域。声子学与热能科学中心研究员徐象繁一直致力于该课题的实验研究,取得了一些列研究成果。 热现象无时无处不在,它影响着人类生活的方方面面。然而,在实际的生产生活中,大部分热(约60%)都被转换成废热和废气浪费掉了。如果能将这些废热进行重新利用和转换,即热-电转换,则不失为一种清洁可再生绿色能源,有望为全球能源危机提供一个解决方案。另一方面,散热是各种电子和光电器件的关键需求。半导体集成电路的器件集成度按照摩尔定律(Moore’s law)快速增加。目前普遍采用的纳米晶体管生产工艺可以在一平方厘米的面积内集成数十亿个晶体管。如此密集的晶体管在以极高频率工作时必然会产生巨大的热量,会使得电子器件的局部温度急剧升高,形成热点(hot spot)。过高的温度会大大降低器件的可靠性和运行速度,并最终导致集成电路被烧毁。因此,如何有效地利用废热和如何实现微纳米结构中热管理已然成为热传导领域研究的两大热点问题。要研究固体中的声子并实现对其有效调控,必须先提到声子两个微纳米尺度的特征长度:波长和平均自由程。当一个材料的尺寸接近声子特征长度时,其声子数量会显著降低,从而使得科学家们可以更加容易地实现对声子的调控。因此,为了控制热流,一个最直接有效的方法便是设计出与声子特征长度相当的器件。这就决定了微纳米结构材料在声子学研究领域的重要地位。要操控微纳材料,并准确测量其热导率,是一项非常具有挑战的实验。 同济大学声子学与热能科学中心主要开展声子/热的基本定律,声子与其他热载体,如电子、光子、磁化子等相互作用的理论、计算模拟和实验研究。中心徐象繁研究员近年来致力于微纳尺度热传导与热流调控的实验研究,已自行搭建多套(悬空热桥法,见图1)可用于一维及二维材料热传导测量的实验平台(Sci. Rep. 6, 25334 (2016); Nat. Comm. 5, 3689 (2014))。 图1搭建的三套低维材料热导测量系统(a)和一套自行研发的电子束自加热测量系统(b)。

激光熔覆技术分析与展望讲解

激光熔覆技术分析与展望 作者:张庆茂激光熔覆是一种新型的涂层技术,是涉及到光、机、电、材料、检测与控制等多学科的高新技术,是激光先进制造技术最重要的支撑技术,可以解决传统制造方法不能完成的难题,是国家重点支持和推动的一项高新技术。目前,激光熔覆技术已成为新材料制备、金属零部件快速直接制造、失效金属零部件绿色再制造的重要手段之一,已广泛应用于航空、石油、汽车、机械制造、船舶制造、模具制造等行业。为推动激光熔覆技术的产业化, 作者:张庆茂 激光熔覆是一种新型的涂层技术,是涉及到光、机、电、材料、检测与控制等多学科的高新技术,是激光先进制造技术最重要的支撑技术,可以解决传统制造方法不能完成的难题,是国家重点支持和推动的一项高新技术。目前,激光熔覆技术已成为新材料制备、金属零部件快速直接制造、失效金属零部件绿色再制造的重要手段之一,已广泛应用于航空、石油、汽车、机械制造、船舶制造、模具制造等行业。 为推动激光熔覆技术的产业化,世界各国的研究人员针对激光熔覆涉及到的关键技术进行了系统的研究,已取得了重大的进展。国内外有大量的研究和会议论文、专利介绍激光熔覆技术及其最新的应用:包括激光熔覆设备、材料、工艺、监测与控制、质量检测、过程的模拟与仿真等研究内容。但到目前为止,激光熔覆技术还不能大面积工业化应用。分析其原因,这里有政府导向的因素、激光熔覆技术本身成熟程度的限制、社会各界对激光熔覆技术的认可程度等因素。因此,激光熔覆技术欲实现全面的工业化应用,必须加大宣传力度,以市场需求为导向,重点突破制约发展的关键因素,解决工程应用中涉及到的关键技术,相信在不远的将来,激光熔覆技术的应用领域及其强度将不断的扩大。下面介绍激光熔覆技术几个发展的动态,以飨读者。 激光熔覆的优势 激光束的聚焦功率密度可达1010~12W/cm2,作用于材料能获得高达1012K/s的冷却速度,这种综合特性不仅为材料科学新学科的生长提供了强有力的基础,同时也为新型材料或新型功能表面的实现提供了一种前所未有的工具。激光熔覆所创造的熔体在高温度梯度下远离平衡态的快速冷却条件,使凝固组织中形成大量过饱和固溶体、介稳相甚至新相,已经被大量研究所证实。它提供了制造功能梯度原位自生颗粒增强复合层全新的热力学和动力学条件。同时激光熔覆技术制备新材料是极端条件下失效零部件的修复与再制造、金属零部件的直接制造的重要基础,受到世界各国科学界和企业的高度重视和多方面的研究。 目前,利用激光熔覆技术可以制备铁基、镍基、钴基、铝基、

光滑极限量规教程(塞规-检具)

第6章光滑极限量规 6.1概述 检验光滑工件尺寸时,可用通用测量器具,也可使用极限量规。通用测量器具可以有具体的指示值,能直接测量出工件的尺寸,而光滑极限量规是一种没有刻线的专用量具,它不能确定工件的实际尺寸,只能判断工件合格与否。因量规结构简单,制造容易,使用方便,并且可以保证工件在生产中的互换性,因此广泛应用于成批大量生产中。光滑极限量规的标准是GB/T 1957-2006。 光滑极限量规有塞规和卡规之分,无论塞规和卡规都有通规和止规,且它们成对使用。塞规是孔用极限量规,它的通规是根据孔的最小极限尺寸确定的,作用是防止孔的作用尺寸小于孔的最小极限尺寸;止规是按孔的最大极限尺寸设计的,作用是防止孔的实际尺寸大于孔的最大极限尺寸,如图6.1所示。 卡规是轴用量规,它的通规是按轴的最大极限尺寸设计的,其作用是防止轴的作用尺寸大于轴的最大极限尺寸;止规是按轴的最小极限尺寸设计的,其作用是防止轴的实际尺寸小于轴的最小极限尺寸,如图6.2所示。 图6.1塞规检验孔 图6.2环规检验轴

量规按用途可分为以下三类: 1)工作量规工作量规是工人在生产过程中检验工件用的量规,它的通规和止规分别用代号“T”和“Z”表示。 2)验收量规验收量规量是检验部门或用户代表验收产品时使用的量规。 3)校对量规校对量规是校对轴用工作量规的量规,以检验其是否符合制造公差和在使用中是否达到磨损极限。 6.2量规设计 6.2.1极限尺寸判断原则(泰勒原则) 单一要素的孔和轴遵守包容要求时,要求其被测要素的实体处处不得超越最大实体边界,而实际要素局部实际尺寸不得超越最小实体尺寸,从检验角度出发,在国家标准“极限与配合”中规定了极限尺寸判断原则,它是光滑极限量规设计的重要依据,阐述如下:孔或轴的体外作用尺寸不允许超过最大实体尺寸。即对于孔,其体外作用尺寸应不小于最小极限尺寸;对于轴,其体外作用尺寸不大于最大极限尺寸。 任何位置上的实际尺寸不允许超过最小实体尺寸。即对于孔,其实际尺寸不大于最大极限尺寸;对于轴,其实际尺寸不小于最小极限尺寸。 显而易见,作用尺寸由最大实体尺寸控制,而实际尺寸由最小实体尺寸控制,光滑极限量规的设计应遵循这一原则。 6.2.2量规公差带设计 1. 工作量规 1)量规制造公差 量规的制造精度比工件高得多,但量规 在制造过程中,不可避免会产生误差,因而 对量规规定了制造公差。通规在检验零件时, 要经常通过被检验零件,其工作表面会逐渐 磨损以至报废。为了使通规有一个合理的使 用寿命,还必须留有适当的磨损量。因此通 规公差由制造公差(T)和磨损公差两部分 组成。 止规由于不经常通过零件,磨损极少, 所以只规定了制造公差。 量规设计时,以被检验零件的极限尺寸 图6.3光滑极限量规公差带图 作为量规的基本尺寸。 图6.3所示为光滑极限量规公差带图。标准规定量规的公差带不得超越工件的公差带。 通规尺寸公差带的中心到工件最大实体尺寸之间的距离Z (称为公差带位置要素)体

紫外激光多层FPC钻盲孔工艺改进研究

分数: 评卷人: 研究生(光电技术概论)课程论文题目:紫外激光多层FPC钻盲孔工艺改进研究 学号M201472200 姓名纪明阔 专业软件工程 课程指导教师唐霞辉 院(系、所)光电学院 2014年12 月17 日

紫外激光多层FPC钻盲孔工艺改进研究 摘要:紫外激光由于波长短,聚焦光斑小,能量密度高,能直接熔化和蒸发材料,无需采用其它方法就可直接对铜层和绝缘材料进行加工,因而相对于CO2激光加工具有工艺程序简单、流程短和效率高的优势,在薄型高密度的微孔板特别是在叠层多芯片组件的高密度互连板和具有埋、盲孔结构的高密度互连多层板中得到广泛应用。利用紫外激光进行多层FPC钻盲孔的难点在于盲孔深度的控制和盲孔底部表面绝缘材料完全去除一致性,采用传统同心圆扫描或螺旋线扫描方法进行加工在微盲孔中心区域容易出现绝缘材料去除不干净或者造成内层铜箔剥离等问题。本文章为此提出了创新的定点一同心圆扫描结合加工方式,解决了传统直接采用同心圆扫描或螺旋线扫描钻盲孔加工方法中盲孔底部表面高度不均匀的问题。 关键词:紫外激光FPC钻孔盲孔深度同心圆扫描 Abstract: UV laser, with the advantage of short wavelength, small focusing spot size as well as high energy density, can directly melt and evaporate materials, and processe on the copper layer and the insulating material with no need to use other methods. Therefore,it has the advantages of short process, simple procedure and high efficiency when compared with CO2 lasers. So the UV laser has been widely applicated in thin high density micropore plate especially in high density interconnection plate of laminated multi-chip module and high density interconnect multilayer board, blind hole buried in the structure.The difficulties of using UV laser to drill blind holes in multilayer FPC are cotrolling the depth of blind hole and consistency in complete removing the bottom of the blind hole surface insulation material. The traditional concentric scanning or spiral scanning processing method can easily prone to insulting material removal imperfectly or insulting problems such as inner layer copper foil peeling in processing the micro blind holes.Therefore, this artical innovatively put forward a point-concentric scanning combination processing method, to solve the problem of uneven surface height of blind hole buttom by using the traditional concentric scanning or spiral scanning to drill blind holes.

项目名称微纳尺度相界面作用机理及调控方法

项目名称:微纳尺度相界面作用机理及调控方法 提名者:中华人民共和国教育部 提名意见: 我单位认真审阅了该项目推荐书及其附件材料,确认全部材料真实有效,相关材料均符合国家科学技术奖励办公室的填写要求。 微能源系统挑战性难题是界面效应和通道尺寸效应的耦合机理,本项目围绕该关键科学问题开展了原创研究,在微能源相界面理论、测量及调控方面取得了重要进展,发现了边界条件绝对性和相对性,建立了热边界层再发展强化传热并减小阻力新原理;发现微通道沸腾传热角部核化、气泡爆炸、三区传热,提出沸腾数表征界面效应和通道尺寸效应影响沸腾传热的相对重要性;创造种子气泡传热原理和方法。已获教育部自然科学一等奖。8篇代表性论文他引796次,其中SCI他引480次,来自40个国家和地区的他引作者(含诺贝尔奖获得者1人、国内外院士15人等)正面评价项目成果,并被40余本国内外专著正面引用。徐进良连续四年入选Elsevier中国高被引科学家,担任Energies等国际期刊编委;担任第四届微纳流动会议(英国,2014)、国际传热与热力学循环会议(英国,2016)大会主席之一,是唯一来自中国的学者,主持了CO2动力循环国际会议(北京,2018)、国际传热研讨会(北京,2014)及微能源国际研讨会(三亚,2005),在国内外会议上作特邀报告30次,提升了我国学者在微能源方面的影响力。成果已应用于指导工程设计,部分成果用于小卫星微推力系统的研究,推动了多相流与微尺度热物理学科的发展,培养了活跃在国际学术前沿的研究队伍。 对照国家自然科学奖授奖条件,推荐该项目申报2019年国家自然科学二等奖。

项目简介 本项目属多相流动学及微尺度热物理学领域。航空航天及电子信息等高新技术快速发展,催生微能源系统新型学科。微能源系统指能量转换及传递发生在微小空间,实现电能生产、动力供给等功能的系统。相变型(沸腾、冷凝)微系统中固液、气液界面效应和通道尺寸效应耦合强烈,界面厚度为亚微米或纳米,通道尺寸为亚毫米、微米或纳米。连续介质力学理论难以处理微纳米界面,需建立新的理论、测量及调控方法,以探明界面效应和通道尺寸效应对能量传递的影响机理,主要发现点为: (1)受限流动固液界面动量及能量交换物理本质:提出“三原子模型”,获得界面边界条件准则数,揭示出边界条件与固液原子相互作用参数间的关系。建立跨尺度模型,发现边界条件绝对性和相对性,揭示固液界面动量交换的物理本质。发现微通道固液界面热边界层迅速发展对传热的弱化效应,建立热边界层再发展概念强化传热并减小阻力的新原理。 (2)界面效应及通道尺寸效应对相变传热的影响机理:研究了硅微通道沸腾传热,发现了角部核化、气泡爆炸、微时间尺度脉动及三区传热。提出沸腾数表征界面效应和通道尺寸效应影响沸腾机理的相对重要性。发现弯曲界面脉动热管方波、正弦波气泡位移曲线,发现局部流动方向转换并定义该科学术语。 (3)微通道种子气泡传热原理和方法:原创性建立微通道种子气泡传热原理与方法,发现种子气泡在极低温差下触发沸腾起始点,避免微系统启动烧毁。种子气泡完全抑制不稳定流动和传热,避免交变热应力引起微系统损坏。提出了优化微通道传热的数学模型。 8篇代表性论文总他引796次,SCI他引480次。他引作者分布在40个国家和地区,含诺贝尔奖获得者Geim A.K.教授、国内外院士15人、国际传热领域最高奖ASME/AIChE Max Jakob纪念奖获得者5人、ASME传热纪念奖获得者8人及国际权威期刊主编27人,权威学会会士49人等。他引期刊包括Science, ACS Nano, Reports on Progress in Physics等权威期刊。边界条件绝对性和相对性,被美国Ho C.M.院士的实验所证实。分子动力学模型被诺贝尔奖获得者Geim A.K.院士发表在Science上的论文引用。国际制冷学会主席,塞尔维亚Hrnjak P院士、Int. J. Multiphase Flow 创刊主编及ASME传热纪念奖获得者Hetsroni G.教授等评价沸腾数为“徐等提出的沸腾数,是表征界面效应及通道尺寸效应相对重要性的关键参数”。印度Sridharan A.院士等评价“种子气泡是调控微通道沸腾传热的有效方法”。 徐进良获2014年度埃尼(Eni Award) 奖提名,被评为2012年度ASME J. Heat Transfer杂志最佳论文评阅人,担任Frontiers in Heat Pipes等杂志编委, Appl. Therm. Eng., Heat Trans. Eng.杂志Guest editor等,是第四届微纳流动会议(英国,2014)及国际传热与热力学循环会议(英国,2016)唯一来自中国的大会主席。作为大会主席主持国际传热研讨会(北京,2014)及微能源国际研讨会(三亚,2005),做国际会议特邀报告20次。 已获教育部自然科学一等奖1项。项目成果指导了我国小卫星微推力系统的研究。研制成功300W大功率LED节能灯冷却器,与传统冷却器相比,重量减少一半,LED温度降低20o C,寿命延长一倍,获得优秀创新产品金奖,专利向企业转化,推动了理论成果的应用。项目促进了热物理和微系统间的学科交叉。

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