什么是景深,如何优化扫描电镜的景深

什么是景深,如何优化扫描电镜的景深
什么是景深,如何优化扫描电镜的景深

什么是景深,如何优化扫描电镜的景深?

发布者:飞纳电镜

扫描电镜(SEM)的用途之一就是拍摄样品的细微特征。那么为什么不与日常摄影进行类比呢?下面,让我们来分析一下扫描电镜(SEM)和相机在聚焦物体时的相似之处,以及景深的准确定义。

什么是景深?

在拍摄照片时,目标物体应该始终处于焦点位置,并尽可能地清晰。从艺术的角度来说,这无声地吸引了观察者的注意力。实际上,它揭示了对焦区域的更多细节信息。

但是该物体中有多少部分是真正处于对焦状态,这部分占比又是如何调控的呢?对焦状态的图像部分始终是一个平面,这意味着我们只能对完美的平面进行观察(拍摄)。幸运的是,只要它“足够接近”焦平面,我们的大脑可以处理那些稍微脱焦的部分。而这一部分则被称为景深。

影响景深的因素有几个,调节这些参数,拍摄照片所包含的信息就会变多或变少。光圈大小和聚焦装置(摄影中的镜头和SEM中的物镜)起着重要作用。

成像设备和拍摄目标之间的距离也是很关键的。一般来说,当物体离得很远的时候,景深会增加,而更多的物体会变得足够清晰,使得大脑能够处理并区分它们。

当物体靠近时,景深会急剧下降,而锐利程度或分辨率会增加,从而可以看到物体太远时所观察不到的细节。(见图1)。

图1:a)花朵的特写镜头——近距离拍摄时,周围背景会模糊;b)风景图片——距离拉远,景深从几厘米扩大到几公里。两张照片都采用同一光圈和镜头拍摄。

电子显微镜是如何聚集的

在电子显微镜中,焦点是入射电子束圆锥直径最小时的位置。灯丝发射电子束,镜筒内的电磁透镜以及末端光阑,约束电子束,并决定最小束斑尺寸。

当电子束直径接近最小值时,分辨率将提高。该最小值通常是在特定的、最优的工作距离下获得——工作距离即物镜极靴下表面和样品的间距。工作距离过长或过短时,电子束直径的最小值将会变大。此时,也就无法获得最佳分辨率。不过在这些情况下,仍然是可以对焦的。

电子束直径最小处所对应的水平面即所说的焦平面。当电子束对焦时,所有处于该焦平面上的特征物都是非常清晰的。调焦意味着改变这个平面的高度。在该平面之上或之下的所有特征将逐渐变得越来越模糊,直至无法辨识。

工作距离如何影响景深

总结一下刚才所讨论的:景深指的是工作距离的一段范围,在该范围内,图像的清晰度可以接受。而最佳工作距离可以在对焦时提供最佳分辨率。

然而,有某些情况下,分辨率变得不那么重要,景深对结果的影响则要大得多——例如,在观察较高样品时。

观察昆虫时,能区分所有的特征——例如腿和头顶,是至关重要的关键。在观察电连接时,同样如此。在一张图中可以同时看清整根电线和两端的连接触点,从而对样品有全面的了解,这很有意义。

对于这些情况,较长的工作距离——同时尽可能最优——有助于获得更大的景深,并在图像中清晰地观察到更多细节。

图2帮助解释了工作距离的作用原理。当样品距离极靴更近时,电子束的锥角更大。这意味着稍微偏离焦平面就会导致电子束直径的明显变大,从而图像明显模糊。

图2:物镜、电子束和焦平面的示意图。当工作距离较长时(a),锥角α较小,稍微远离焦平面不会使图像明显模糊;工作距离缩短,锥角β很大,远离焦平面会使电子束直径明显增加,因此图像模糊。另一方面,焦平面上的光束直径更小,分辨率更好。

另一方面,当样品距物镜较远时,光束角较小,并且偏离焦平面所引起电子束直径变化也更小。因此,可以相对清晰地观察到不同高度处的所有特征点。

扫描电镜(SEM)的景深可以从几微米变化几毫米,适当调整景深可以获得最佳的分析结果和成像质量。选择合适的工作距离与正确制备样品是一样重要的。就比如,对样品喷金可以增加有机物样品的背散射电子产率。

关键词:扫描电镜台式电镜台式扫描电镜样品制备

关于作者

Luigi Raspolini

Luigi Raspolini是Phenom-World的应用工程师,后者是台式扫描电镜的领军制造商。Luigi一直在探寻材料表征、表面粗糙度测量及成分分析的新手段。他对改善用户体验、展示最佳拍照技巧总是充满了激情。

扫描电镜实验报告

扫描电镜分析实验 一实验目的 1. 了解扫描电子显微镜的原理、结构; 2. 运用扫描电子显微镜进行样品微观形貌观察。 二实验原理 扫描电镜(SEM)是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗粒,成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。其中二次电子是最主要的成像信号。由电子枪发射的电子,以其交叉斑作为电子源,经二级聚光镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度和束斑直径的微细电子束,在扫描线圈驱动下,于试样表面按一定时间、空间顺序作栅网式扫描。聚焦电子束与试样相互作用,产生二次电子发射以及背散射电子等物理信号,二次电子发射量随试样表面形貌而变化。二次电子信号被探测器收集转换成电讯号,经视频放大后输入到显像管栅极,调制与入射电子束同步扫描的显像管亮度,得到反映试样表面形貌的二次电子像。扫描电镜由下列五部分组成,如图1(a)所示。各部分主要作用简介如下: 1.电子光学系统 它由电子枪、电磁透镜、光阑、样品室等部件组成,如图1(b)所示。为了获得较高的信号强度和扫描像,由电子枪发射的扫描电子束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径。常用的电子枪有三种形式:普通热阴极三极电子枪、六硼化镧阴极电子枪和场发射电子枪,

其性能如表2所示。前两种属于热发射电子枪,后一种则属于冷发射电子枪,也叫场发射电子枪。由表可以看出场发射电子枪的亮度最高、电子源直径最小,是高分辨本领扫描电镜的理想电子源。 电磁透镜的功能是把电子枪的束斑逐级聚焦缩小,因照射到样品上的电子束斑越小,其分辨率就越高。扫描电镜通常有三个磁透镜,前两个是强透镜,缩小束斑,第三个透镜是弱透镜,焦距长,便于在样品室和聚光镜之间装入各种信号探测器。为了降低电子束的发散程度,每级磁透镜都装有光阑;为了消除像散,装有消像散器。 六硼化镧阴极电子枪105~1061~10 ≈500 10-4 场发射电子枪107~108 0.01~ 0.1 ≈5000 10-7~10-8 样品室中有样品台和信号探测器,样品台还能使样品做平移运动。 2.扫描系统 扫描系统的作用是提供入射电子束在样品表面上以及阴极射线管电子束在荧光屏上的同步扫描信号。 3.信号检测、放大系统 样品在入射电子作用下会产生各种物理信号、有二次电子、背散射电子、特征X射线、阴极荧光和透射电子。不同的物理信号要用不同类型的检测系统。它大致可分为三大类,即电子检测器、阴极荧光

扫描电子显微镜文献综述

扫描电子显微镜的应用及其发展 1前言 扫描电子显微镜SEM(Scanning Electron Microscopy)是应用最为广泛的微观 形貌观察工具。其观察结果真实可靠、变形性小、样品处理时的方便易行。其发展进步对材料的准确分析有着决定性作用。配备上X射线能量分辨装置EDS (Energy Dispersive Spectroscopy)后,就能在观察微观形貌的同时检测不同形貌特征处的元素成分差异,而背散射扫描电镜EBSD(Electron Backscattered Diffraction)也被广泛应用于物相鉴定等。 2扫描电镜的特点 形貌分析的各种技术中,扫描电镜的主要优势在于高的分辨率。现代先进的扫描电镜的分辨率已经达到1纳米左右;有较高的放大倍数,20-20万倍之间连续可调;有很大的景深,视野大,成像富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构试样制备简单;配有X射线能谱仪装置,这样可以同时进行 显微组织性貌的观察和微区成分分析[1]。低加速电压、低真空、环境扫描电镜和电子背散射花样分析仪的使用,大大提高了扫描电子显微镜的综合、在线分析能力;试样制备简单。直接粘附在铜座上即可,必要时需蒸Au或是C。 扫描电镜也有其局限性,首先就是它的分辨率还不够高,也不能观察发光或高温样品。样品必须干净、干燥,有导电性。也不能用来显示样品的内部细节,最后它不能显示样品的颜色。 需要对扫描电镜进行技术改进,在提高分辨率方面主要采取降低透镜球像差系数, 以获得小束斑;增强照明源即提高电子枪亮度( 如采用LaB6 或场发射电子枪) ;提高真空度和检测系统的接收效率;尽可能减小外界振动干扰。 在扫描电镜成像过程中,影响图像质量的因素比较多,故需选择最佳条件。例如样品室内气氛控制、图像参数的选择、检测器的选择以及控制温度的选择,尽可能将样品原来的面貌保存下来得到高质量电镜照片[2]。

扫描电镜简述

J I A N G S U U N I V E R S I T Y 冶金工程专业硕士研究生结课论文论文题目:扫描电镜SEM分析技术综述 课程名称:Modern Material Analytic Technology 专业班级: 2015级硕士研究生 学生姓名 学号:2211505072 学院名称:材料科学与工程学院 学期: 2015-2016第一学期 完成时间: 2015年11月 30 日

扫描电镜SEM分析技术综述 摘要 扫描电子显微镜(如下图所示),简称为扫描电镜,英文缩写为SEM(Scanning Electron Microscope)。它是用细聚焦的电子束轰击样品表面,通过电子与样品相互作用产生的二次电子、背散射电子等对样品表面或断口形貌进行观察和分析。现在SEM都与能谱(EDS)组合,可以进行成分分析。所以,SEM也是显微结构分析的主要仪器,已广泛用于材料、冶金、矿物、生物学等领域。 本文主要对扫描电镜SEM进行简单介绍,分别从扫描电镜发展的历史沿革;工作原理;设备构造及功能;在冶金及金属材料分析中的应用情况;未来发展方向等几个方面来对扫描电镜分析技术进行综述。 关键词: 扫描电子显微镜二次电子背散射电子 EDS 成分分析 扫描电子显微镜

目录 一扫描电镜 (4) 1.1 近代扫描电镜的发展 (4) 1.1.1场发射扫描电镜 (4) 1.1.2 分析型扫描电镜及其附件 (5) 1.2 现代扫描电镜的发展 (6) 1.2.1低电压扫描电镜 (6) 1.2.2 低真空扫描电镜 (6) 1.2.3环境扫描电镜ESEM (7) 1.3 扫描电镜工作原理设备构造及其功能 (7) 1.3.1扫描电镜工作原理 (8) 1.3.2 扫描电镜的主要结构及功能 (9) 1.4 扫描电镜性能 (11) 1.5扫描电镜在冶金及金属材料分析中的应用 (12) 二结论 (14) 三参考文献 (14)

扫描电子显微镜的早期历史和发展趋势

扫描电子显微镜的早期历史和发展趋势 扫描电子显微镜(SEM)的基本原理在20世纪30年代到40年代初由Knoll, 德国的von Ardenne和美国的Zworykin,Hillier等人确立。扫描电镜的研究在英国剑桥大学电机工程学系Charles Oatley博士学位的一系列项目中复苏。在剑桥大学的McMullan和Smith的早期研究之后,SEM的第一次产业应用在加拿大纸浆和造纸研究所实现。不久之后,在美国的Westinghouse,SEM被应用于集成电路,并在英国和日本实现了扫描电镜的商业化。截至目前,SEM及其他显微和微分析技术在世界范围内发展,并被应用于越来越多的领域。 关键词:扫描电子显微镜(SEM),成像技术,表面形貌,成分衬度,电子通道花样(ECP),电子背散射花样(EBSP)。 Oatley描述了SEM早期历史和直至其第一次商业化的发展状况。第一台商业SEM在英国和日本制造。SEM的历史也被许多作者描述过。商用SEM性能的提高和操作的简便已经很出色并有望继续进步。 Knoll用仪器得到了四个非常重要的实验结果Fig.1:(i)他从固态多晶样品中得到了样品的吸收电流像Fig.2.(ii) 这张照片显示的晶粒间取向依赖衬度是由电子穿隧效应的对比差异引起的。(iii)他测量了不同材料的二次电子(SE)加背散射电子(BSE)系数是入射电子能量E0的函数,并且证明当SE+BSE系数为1时,有第二个交叉点,此时E0约为 1.5keV。样品的充电最小化并且保持稳定。(iv)根据一个早期关于定量电压衬度的译文,测量了束电子对非导电颗粒充电后颗粒的电势。 Figure 3 是由von Ardenne提出的产生二次电子的电子散射模型,模型表明初始束展宽;大角度散射;扩散;BSE逃逸以及每个阶段的二次电子激发。他提出了两种高分辨率SE图像。第一种(现在称为SE-I图像的详细讨论见Peters)E0等于数十电子伏,此时电子的穿透深度(几个微米)比二次电子的逃逸深度大很多倍(几个纳米)。SE-I激发是在束电子入射点的一个局部的区域内发散,这个范围比BSE小。他提出SE-I能提供一个高分辨率的SE图像(特殊情况除外)。他的第二个观点(现在称为低压SEM)是将E0减小到1keV,此时穿透深度达到束电子直径。 Zworykin给出了最早的二次电子图像。这些工作者也建立了一台密封的场发射(FE)SEM,并且为X射线微区分析和电子能量损失能谱仪(EELS)奠定了基础。当时人们热衷于似乎会更加成功的透射电镜(TEM),他们在SEM方面的工作没有继续。

11-2 JY T 010-1996分析型扫描电子显微镜方法通则

MV_RR_CNJ_0010分析型扫描电子显微镜方法通则 1.分析型扫描电子显微镜方法通则的说明 编号JY/T 010—1996 名称(中文)分析型扫描电子显微镜方法通则 (英文)General rules for analytical scanning electron microscopy 归口单位国家教育委员会 起草单位国家教育委员会 主要起草人林承毅 万德锐 批准日期 1997年1月22日 实施日期 1997年4月1日 替代规程号无 适用范围本通则适用于各种类型的扫描电子显微镜和X射线能谱仪。 定义 主要技术要求 1. 2. 方法原理 3. 仪器 4. 样品 5. 分析步骤 6. 分析结果表述 是否分级无 检定周期(年) 附录数目无 出版单位科学技术文献出版社 检定用标准物质 相关技术文件 备注 2.分析型扫描电子显微镜方法通则的摘要 本通则适用于各种类型的扫描电子显微镜和X射线能谱仪。 2 定义 2.1二次电子 secondary electron 在入射电子的作用下,从固体样品中出射的,能量小于50eV的电子,通常以SE表示。 2.2背散射电子 backscattered electron 被固体样品中的原子反射回来的入射电子,包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子,通常以BSE表示。它又称为反射电子(Reflected Electron),以RE表示。其中弹性背散射电子完全改变了入射电子的运动方向,但基本上没有改变入射电子的能量;而非弹性背散射电子不仅改变了入射电子的运动方向,在不同程度上还损失了部分能量。 2.3 放大倍数 magnification 扫描电镜的放大倍数是指其图像的线性放大倍数,以M表示。如果样品上长度为L s直线

电子显微镜的发展及现状

电子显微镜的发展及现状 20130125001 李智鹏 2014/10/8

电子显微镜的发展及现状 摘要:本文综述了电子显微镜的发展,电子显微镜的主要分类,它们在生活当中的应用以及国内显微镜的现状。 关键词:电子显微镜发展应用现状 1、引言 显微镜技术的发展,是其他科学技术发展的先导,在17世纪60年代出现的光学显微镜,引发了一场广泛的科技进步, 促进了细胞学和细菌学的发展。使人类的观测范围进入微观世界,导致了一大批新的领域进入人类的研究范围,促进了许多学科的创立和发展。 三百年来,光学显微镜巳经发展到了十分完善的地步。而我们知道,分辨率极限的量级为入/a带,对于光学显微镜,最短可见光波长约为400。人,最大数值孔径约1。4,故只能获得亚微米量极的分辨率。于是,人们开始寻找较短波长的光源,X射线波长为几个埃,Y射线波长更短,但它们都很难直接聚焦,所以不能直接用于显微镜。[1] 20世纪30年代出现的电子显微镜技术,更进一步拓宽了人类的观测领域,同样导致了大批新学科、新技术的出现.可以说,现代科学技术的研究工作,已很大程度依赖于电子显微镜技术的使用,尤其是在纳米技术、材料技术、生命科学技术等研究方面,没有电子显微镜技术的帮助,它们几乎是无法进行的.随着科学技术的不断进步,电子显微镜技术的应用越来越广泛,同时电子显微镜技术本身也在不断快速发展.从最初的电子显微镜开始,已经逐步发展出扫描电子显微镜、扫描隧道电子显微镜、原子力电子显微镜、扫描离子电导显微镜、扫描探针电子显微镜等.这些先进的仪器现已广泛地应用于物理学、化学、材料科学和生命科学领域的研究和检测工作中.在纺织科技研究工作和纺织材料及纺织品检测过程中也得到了广泛的应用[2]。本文仅对电子显微镜技术在出土古代纺织品检测方面的应用作一初步探讨。电子显微镜(简称电镜,EM)经过五十多年的发展已成为现代科学技术中不可缺少的重要工具。我国的电子显微学也有了长足的进展[3]。电子显微镜的创制者鲁斯卡(E.Ruska)教授因而获得了1986年诺贝尔奖的物理奖[4]。 2、电子显微镜的发展过程 20世纪30年代,德国科学家诺尔(M. knoll)和卢斯卡(E. Ruska)在电子光学的基础上,研制出了世界上第一台透射式电子显微镜(Transmission ElectronMicroscope,TEM,简称透射电镜),成功地得到了用电子束拍摄的铜网像,尽管放大倍数只有12倍,但它为以后电镜的发展和应用奠定了基础.此后经过科学家们半个多世纪的努力和改进,透射电镜的分辨本领现已达到了0. 1nm~0. 2nm,几乎能分辨所有的原子.此后又相继出现了能直接观察样品表面立体结构的扫描电子显微镜(Scanning ElectronMicroscope, SEM,简称扫描电镜),其分辨率为3nm~6nm和能进行活体观察的超高压电镜,实现了人们直接观察生物大分子结构和重金属原子图像的愿望[5]。 2.1扫描式电子显微镜扫描式电子显微镜中的电子束,在样品表面上动态地扫描,以 一定速度,逐点逐行地扫描样品的表面.样品逐点地发出带有形态、结构和化学组分信息的二次电子,这些电子由检测器接收处理,最后在屏幕上显示形态画面.图像为间接成像,其加速电压为1kV~30kV. 2.2扫描隧道显微镜(ScanningTunnelingMicroscope,STM)G.Binnig和H.Rohrer在 1981年研制成功扫描隧道显微镜,并因此获得1986年诺贝尔物理奖.扫描隧道显微镜(STM)是利用导体针尖与样品之间的隧道电流,并用精密压电晶体控制导体针尖沿样品表面扫描,从而能以原子尺度记录样品表面形貌的新型仪器.其分辨率已达到1nm~2nm,

(完整版)透射电子显微镜的现状与展望

透射电子显微镜的现状与展望 透射电子显微镜方面主要有:高分辨电子显微学及原子像的观察,像差校正电子显微镜,原子尺度电子全息学,表面的高分辨电子显微正面成像,超高压电子显微镜,中等电压电镜,120kV,100kV分析电镜,场发射枪扫描透射电镜及能量选择电镜等,透射电镜将又一次面 临新的重大突破;扫描电子显微镜方面主要有:分析扫描电镜和X射线能谱仪、X射线波谱仪和电子探针仪、场发射枪扫描电镜和低压扫描电镜、超大试样室扫描电镜、环境扫描电镜、扫描电声显微镜、测长/缺陷检测扫描电镜、晶体学取向成像扫描电子显微术和计算机控制扫描电镜等。扫描电镜的分辨本领可望达到0.2—0.3nm并观察到原子像。 电子显微镜(简称电镜,EM)经过五十多年的发展已成为现代科学技术中不可缺少的重要工具。我国的电子显微学也有了长足的进展。电子显微镜的创制者鲁斯卡(E.Ruska)教授因而获得了1986年诺贝尔奖的物理奖。电子与物质相互作用会产生透射电子,弹性散射电子,能量损失电子,二次电子,背反射电子,吸收电子,X射线,俄歇电子,阴极发光和电动力等等。电子显微镜就是利用这些信息来对试样进行形貌观察、成分分析和结构测定的。电子显微镜有很多类型,主要有透射电子显微镜(简称透射电镜,TEM)和扫描电子显微镜(简称扫描电镜,SEM)两大类。扫描透射电子显微镜(简称扫描透射电镜,STEM)则兼有两者的性能。 为了进一步表征仪器的特点,有以加速电压区分的,如:超高压(1MV)和中等电压(200— 500kV)透射电镜、低电压(~1kV)扫描电镜;有以电子枪类型区分的,如场发射枪电镜;有以用途区分的,如高分辨电镜,分析电镜、能量选择电镜、生物电镜、环境电镜、原位电镜、测长CD-扫描电镜;有以激发的信息命名的,如电子探针X射线微区分析仪(简称电子探针,EPMA)等。半个多世纪以来电子显微学的奋斗目标主要是力求观察更微小的物体结构、更细小的实体、甚至单个原子,并获得有关试样的更多的信息,如标征非晶和微晶,成分分布,晶粒形状和尺寸,晶体的相、晶体的取向、晶界和晶体缺陷等特征,以便对材料的显微结构进行综合分析及标征研究。近来,电子显微镜(电子显微学),包括扫描隧道显微镜等,又有 了长足的发展。下面见介绍部分透射电镜和扫描电镜的主要性能 1.高分辨电子显微学及原子像的观察 材料的宏观性能往往与其本身的成分、结构以及晶体缺陷中原子的位置等密切相关。观察试样中单个原子像是科学界长期追求的目标。一个原子的直径约为1千万分之2—3mm。 因此,要分辨出每个原子的位置需要0.1nm左右的分辨本领,并把它放大约1千万倍。70年

(完整word版)扫描电镜的综述及发展..

扫描电镜的综述及发展 1 扫描电镜的原理 扫描电镜(Scanning Electron Microscope,简写为SEM)是一个复杂的系统,浓缩了电子光学技术、真空技术、精细机械结构以及现代计算机控制技术。成像是采用二次电子或背散射电子等工作方式,随着扫描电镜的发展和应用的拓展,相继发展了宏观断口学和显微断口学。 扫描电镜是在加速高压作用下将电子枪发射的电子经过多级电磁透镜汇集成细小(直径一般为1~5nm)的电子束(相应束流为10-11~10-12A)。在末级透镜上方扫描线圈的作用下,使电子束在试样表面做光栅扫描(行扫+帧扫)。入射电子与试样相互作用会产生二次电子、背散射电子、X射线等各种信息。这些信息的二维强度分布随着试样表面的特征而变(这些特征有表面形貌、成分、晶体取向、电磁特性等等),将各种探测器收集到的信息按顺序、成比率地转换成视频信号,再传送到同步扫描的显像管并调制其亮度,就可以得到一个反应试样表面状况的扫描图像[1]。如果将探测器接收到的信号进行数字化处理即转变成数字信号,就可以由计算机做进一步的处理和存储。 扫描电镜主要是针对具有高低差较大、粗糙不平的厚块试样进行观察,因而在设计上突出了景深效果,一般用来分析断口以及未经人工处理的自然表面。机构组成 扫描电子显微镜由三大部分组成:真空系统,电子束系统以及成像系统。 真空系统 真空系统主要包括真空泵和真空柱两部分。真空柱是一个密封的柱形容器。 真空泵用来在真空柱内产生真空。有机械泵、油扩散泵以及涡轮分子泵三大类,机械泵加油扩散泵的组合可以满足配置钨枪的SEM的真空要求,但对于装置了场致发射枪或六硼化镧枪的SEM,则需要机械泵加涡轮分子泵的组合。

扫描电镜的应用及发展

扫描电镜的新发展 陈散兴 扫描电镜的原理 扫描电镜( Scanning Electron Microscope, 简写为SEM) 是一个复杂的系统, 浓缩了电子光学技术、真空技术、精细机械结构以及现代计算机控制技术。成像是采用二次电子或背散射电子等工作方式, 随着扫描电镜的发展和应用的 拓展, 相继发展了宏观断口学和显微断口学。 扫描电镜是在加速高压作用下将电子枪发射的电子经过多级电磁透镜汇集 成细小( 直径一般为1-5 nm)的电子束(相应束流为10- 11-10- 12A)。在末级透镜上方扫描线圈的作用下, 使电子束在试样表面做光栅扫描( 行扫+ 帧扫)。入射电子与试样相互作用会产生二次电子、背散射电子、X 射线等各种信息。这些信息的二维强度分布随试样表面的特征而变( 这些特征有表面形貌、成分、晶体取向、电磁特性等等) , 将各种探测器收集到的信息按顺序、成比率地转换成视频信号, 再传送到同步扫描的显像管并调制其亮度, 就可以得到一个反应试样表面状况 的扫描图像。如果将探测器接收到的信号进行数字化处理即转变成数字信号, 就可以由计算机做进一步的处理和存储。 扫描电镜主要是针对具有高低差较大、粗糙不平的厚块试样进行观察, 因而在设计上突出了景深效果, 一般用来分析断口以及未经人工处理的自然表面。扫描电镜的主要特征如下: ( 1) 能够直接观察大尺寸试样的原始表面;( 2) 试样在样品室中的自由度非 常大;( 3) 观察的视场大;( 4) 图像景深大, 立体感强;( 5) 对厚块试样可得到高分 辨率图像;( 6) 辐照对试样表面的污染小;( 7) 能够进行动态观察( 如动态拉伸、压缩、弯曲、升降温等) ;( 8) 能获得与形貌相对应的多方面信息;(9) 在不牺牲扫描电镜特性的情况下扩充附加功能, 如微区成分及晶体学分析。 近代扫描电镜的发展主要是在二次电子像分辨率上取得了较大的进展。但对不导电或导电性能不太好的样品还需喷金后才能达到理想的图像分辨率。随着材料科学的发展特别是半导体工业的需求, 要尽量保持试样的原始表面, 在不做 任何处理的条件下进行分析。早在20 世纪80 年代中期, 便有厂家根据新材料( 主要是半导体材料) 发展的需要, 提出了导电性不好的材料不经过任何处理 也能够进行观察分析的设想, 到90 年代初期, 这一设想就已有了实验雏形, 90 年代末期, 已变成比较成熟的技术。其工作方式便是现在已为大家所接受的低真空和低电压, 最近几年又出现了模拟环境工作方式的扫描电镜, 这就是现代扫 描电镜领域出现的新名词/ 环扫0, 即环境扫描电镜。

新一代电子显微镜的发展趋势及应用

新一代电子显微镜的发展趋势及应用 特点 微观结构专业组 新一代电子显微镜的发展趋势及应用特点 一、高性能场发射枪电子显微镜日趋普及和应用。 场发射枪透射电镜能够提供高亮度、高相干性的电子光源。因而能在原子--纳米尺度上对材料的原子排列和种类进行综合分析。九十年代中期,全世界只有几十台;现在已猛增至上千台。我国目前也有上百台以上场发射枪透射电子显微镜。 常规的热钨灯丝(电子)枪扫描电子显微镜,分辨率最高只能达到 3.0nm;新一代的场发射枪扫描电子显微镜,分辨率可以优于 1.0nm;超高分辨率的扫描电镜,其分辨率高达0.5nm-0.4nm。其中环境描电子显微镜可以做到:真正的“环境”条件,样品可在100%的湿度条件下观察;生物样品和非导电样品不要镀膜,可以直接上机进行动态的观察和分析;可以“一机三用”。高真空、低真空和“环境”三种工作模式。 二、努力发展新一代单色器、球差校正器,以进一步提高电子显微镜的分辨率。 球差系数:常规的透射电镜的球差系数Cs约为mm级;现在的透射电镜的球差系数已降低到Cs<0.05mm.色差系数:常规的透射电镜的色差系数约为0.7;现在的透射电镜的色差系数已减小到0.1。 场发射透射电镜、STEM技术、能量过滤电镜已经成为材料科学研究,甚至生物医学必不可少的分析手段和工具. 物镜球差校正器把场发射透射电镜分辨率提高到信息分辨率.即从0.19nm 提高到0.12nm甚至于小于0.1nm.

利用单色器,能量分辨率将小于0.1eV.但单色器的束流只有不加单色器时的十分之一左右.因此利用单色器的同时,也要同时考虑单色器的束流的减少问题。 聚光镜球差校正器把STEM的分辨率提高到小于0.1nm的同时,聚光镜球差校正器把束流提高了至少10倍,非常有利于提高空间分辨率。 在球差校正的同时,色差大约增大了30%左右.因此,校正球差的同时,也要同时考虑校正色差. 三、电子显微镜分析工作迈向计算机化和网络化。 在仪器设备方面,目前扫描电镜的操作系统已经使用了全新的操作界面。用户只须按动鼠标,就可以实现电镜镜筒和电气部分的控制以及各类参数的自动记忆和调节。 不同地区之间,可以通过网络系统,演示如样品的移动,成像模式的改变,电镜参数的调整等。以实现对电镜的遥控作用. 四、电子显微镜在纳米材料研究中的重要应用。由于电子显微镜的分析精度逼近原子尺度,所以利用场发射枪透射电镜,用直径为0.13nm的电子束,不仅可以采集到单个原子的Z-衬度像,而且还可采集到单个原子的电子能量损失谱。即电子显微镜可以在原子尺度上可同时获得材料的原子和电子结构信息。观察样品中的单个原子像,始终是科学界长期追求的目标。一个原子的直径约为1千万分之 2-3mm。所以,要分辩出每个原子的位置,需要0.1nm左右的分辨率的电镜,并把它放大约1千万倍才行。人们预测,当材料的尺度减少到纳米尺度时,其材料的光、电等物理性质和力学性质可能具有独特性。因此,纳米颗粒、纳米管、纳米丝等纳米材料的制备,以 及其结构与性能之间关系的研究成为人们十分关注的研究热点。 利用电子显微镜,一般要在200KV

_电子背散射衍射分析方法通则_标准

中国体视学与图像分析 2005年 第10卷 第4期 250  CH I N ESE JOURNAL O F STER EOLO GY AND I M AGE ANALYS I S Vo l .10No.4D e c.2005 收稿日期:2005-10-17 作者简介:陈家光(1944-),上海宝钢研究院教授级高级工程师,上海交通大学兼职教授研究方向:电子束显微分析、失效分析及钢铁材料,E 2mail:chenjg@baosteel .com 文章编号:1007-1482(2005)04-0250-03 ?经验与交流? “电子背散射衍射分析方法通则”标准 陈家光, 范朝晖, 林良道 (上海宝钢股份公司研究院, 上海 201900) 摘 要:本文扼要介绍我国及国际微束分析标准化组织,我国“电子背散射衍射分析方法通则”国 家标准(G B /T1950122004)概况、以及基于该标准由我国主导起草并经I S O 批准立项的“电子背散 射衍射分析方法通则” (I S O /WD 24173)目前的进展。关键词:EBS D;标准化;微束分析 中图分类号:T652.1;T65 文献标识码:A The st andard 2gu i deli n e for eletron backsca ttered d i ffracti on ana lysis CHEN J iaguang, FAN Zhaohui, L I N L iangdao (Research I nstitute,Baosteel Co L td .,Shanghai 201900,China ) Abstract:This paper briefly intr oduces the nati onal organizati on and the I nternati onal O rganizati on f or Standardizati on (I S O )on M icr obea m Analysis .The nati onal standard Guideline for Electr on Backscat 2tered D iffracti on Analysis (G B /T1950122004)is als o reco mmended as well as the working draft of the fu 2ture internati onal standard Guideline f or Electr on Backscattered D iffracti on Analysis (I S O /WD 24173)which is based on this nati onal standard and was f or mally per m itted t o carry on by I S O in 2005.Key words:D;standardizati on;m icr obea m analysis 电子背散射衍射(E BS D )分析技术创始于八十年代后期,九十年代初开始商品化,宝钢于1995年引进电子背散射衍射附件安装在电子探针上,由于该技术具有快速简便、精度高和廉价等优点,近年来得到迅猛发展,在材料科学、冶金学、地质学等领域已得到普遍应用 [1-8] 。1999年我们通过对国内、外的标 准联机检索,发现当时国内、外尚无有关电子背散射衍射分析方法的文字标准及实物标准。由于没有分析方法的标准可遵循,只能按设备生产厂商的操作说明进行分析,分析方法和分析结果的表述缺乏统一的标准加以规范,这对于推动E BS D 这项新兴技术在国内、外的发展和应用是不利的。因此,我国制订电子背散射衍射分析方法国家标准并起草了国际标准。1 微束分析标准化组织 我国是国际上最早开展微束分析标准化的国家,1984年成立了全国电子探针标准样品标准化技术委员会,1995年改名为全国微束分析标准化技术 委员会(TC38),主要任务是制定、审查国家微束分析的文字标准和实物标准,参与国际微束分析标准的制定和讨论,目前全国微束分析标准化技术委员会(T C38)秘书处设在中科院化学所。我国已经发布了28项微束分析文字标准,其中4项是有关TE M 分析标准,23项是有关EP MA /SE M /EDS 分析标准,一项E BS D 分析方法标准。28项微束分析文字标准涉及分析方法、样品及标样制备方法等,是电子束显微分析的重要依据。T C38下设两个分技术委员会,全国微束分析标准化技术委员会电子探针和扫描电镜分技术委员会(T C38/SC1)秘书处设在宝钢,TC38/SC2是表面分会。 I S O /TC202是1991年由中国向国际标准化组 织(I S O )提议建立的国际标准化组织微束分析技术

(完整版)扫描电子显微镜的发展及展望

扫描电子显微镜的发展及展望 1、分析扫描电镜和X射线能谱仪 目前,使用最广的常规钨丝阴极扫描电镜的分辨本领已达 3.5nm左右,加速电压范围为0.2—30kV。扫描电镜配备X射线能谱仪EDS后发展成分析扫描电镜,不仅比X射线波谱仪WDS分析速度快、灵敏度高、也可进行定性和无标样定量分析。EDS发展十分迅速,已成为仪器的一个重要组成部分,甚至与其融为一体。但是,EDS也存在不足之处,如能量分辨率低,一般为129—155eV,以及Si(Li)晶体需在低温下使用(液氮冷却)等。X射线波谱仪分辨率则高得多,通常为5—10eV,且可在室温下工作。1972年起EDAX公司发展了一种ECON系列无窗口探测器,可满足分析超轻元素时的一些特殊需求,但Si(Li)晶体易受污染。1987年Kevex 公司开发了能承受一个大气压力差的ATW超薄窗,避免了上述缺点,可以探测到B,C,N,O等超轻元素,为大量应用创造了条件。目前,美国Kevex公司的Quantifier,Noran公司的Extreme,Link公司的Ultracool,EDAX公司的Sapphire等Si(Li)探测器都属于这种单窗口超轻元素探测器,分辨率为129eV,133eV等,探测范围扩展到了5B—92U。为克服传统Si(Li)探测器需使用液氮冷却带来的不便,1989年Kevex公司推出了可不用液氮的Superdry探测器,Noran公司也生产了用温差电制冷的Freedom探测器(配有小型冷却循环水机),和压缩机制冷的Cryocooled探测器。这两种探测器必须昼夜24小时通电,适合于无液氮供应的单位。现在使用的大多还是改进的液氮冷却Si(Li)探测器,只需在实际工作时加入液氮冷却,平时不必维持液氮的供给。最近发展起来的高纯锗Ge探测器,不仅提高了分辨率,而且扩大了探测的能量范围(从25keV扩展到100keV),特别适用于透射电镜:如Link的GEM型的分辨率已优于115eV(MnKα)和65eV(FKα),Noran的Explorer Ge探测器,探测范围可达100keV等。1995年中国科学院上海原子核研究所研制成了Si(Li)探测器,能量分辨率为152eV。中国科学院北京科学仪器研制中心也生产了X射线能谱分析系统Finder-1000,硬件借鉴Noran公司的功能电路,配以该公司的探测器,采用Windows操作系统,开发了自己的图形化能谱分析系统程序。 2、X射线波谱仪和电子探针仪 现代SEM大多配置了EDS探测器以进行成分分析。当需低含量、精确定量以及超轻元素分析时,则可再增加1到4道X射线波谱仪WDS。Microspec公司的全聚焦WDX-400,WDX-

能谱定量分析通则

能谱定量分析通则 电子探针和扫描电镜X射线能谱定量分析通则 General Specification of X-ray EDS Quantitative Analysis for EPMA and SEM ( 中华人民共和国国家标准GB/T 17359 -98) 1 适用范围 本标准规定了与电子探针和扫描电镜联用的X射线能谱仪的定量分析方法的技术要求和规范。本标准适用于电子探针和扫描电镜X射线能谱仪对块状试样的定量分析。 2 引用标准 下列标准包含的条件,通过在标准中引用而构成本标准的条文。在标准出版时,所示版本均为有效。所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用本标准最新版本的可能性。 2.1 GB/T4930-1993 《电子探针定量分析标准试样的通用技术条件》 2.2 GB/T15074-1994 《电子探针定量分析标准方法通则》 3 分析方法原理 在电子探针和扫描电镜等分析仪器中,应用一定能量并被聚焦的电子束轰击试样时,被轰击区发射出试样中所含元素的特征X射线,采用半导体探测器,对接收的信号进行转换、放大。再经过线性放大器、脉冲处理器、多道分析器的进一步放大、处理和分析 ,可获得各元素的特征X射线的能谱及其强度值,再通过与相应元素的标准试样的X射线能谱的对比测定,以及修正计算处理,最终可以获得被测试样的化学组成的定量分析结果。 4 X射线能谱仪 4.1 X射线能谱仪的基本组成方框图如下: 4.2 X射线能谱仪的主要组成部分 4.2.1 X射线探测器:通常是Si(Li) 半导体探测器,用于探测试样发射的X射线,使能量不同的X射线转换为电压不同的电脉冲信号。 4.2.2 前置放大器:将来自探测器的信号作初级放大。 4.2.3 线性放大器和脉冲处理器:将经过前置放大器初级放大的信号作进一步放大、并进行模拟或数字化处理。 4.2.4 多道分析器:将来自脉冲处理器的信号作进一步处理,完成对X射线谱的能量和强度的初步分析。 4.2.5 电子计算机系统:配备有能满足能谱分析所必需的功能完整的硬件和相应的各种分析程序软件,用于对从试样收集到的X射线能谱进行定性和定量分析,并输出分析结果。 5 试样 5.1 各种不同种类的试样制备,应按照GB/T 15074-1994 《电子探针定量分析标准方法通则》的有关规定操作。

关于磁性材料的发展研究综述

关于磁性材料的发展研究综述 关键词:磁性材料、钕铁硼永磁材料、纳米磁性材料、磁电共存、应用及前景 摘要:磁性材料,是古老而用途十分广泛的功能材料,与信息化、自动化、机电一体化、国防、国民经济的方方面面紧密相关。人们对钕铁硼永磁材料的研究和优化,是磁性材料进一步发展,并逐渐深入到纳米磁性材料的研发和研究…… 关于磁性材料的研究发展综述 一、磁性材料简介 实验表明,任何物质在外磁场中都能够或多或少地被磁化,只是磁化的程度不同。根据物质在外磁场中表现出的特性,物质可分为五类:顺磁性物质,抗磁性物质,铁磁性物质,亚磁性物质,反磁性物质。根据分子电流假说,物质在磁场中应该表现出大体相似的特性,但在此告诉我们物质在外磁场中的特性差别很大.这反映了分子电流假说的局限性。实际上,各种物质的微观结构是有差异的,这种物质结构的差异性是物质磁性差异的原因。我们把顺磁性物质和抗磁性物质称为弱磁性物质,把铁磁性物质称为强磁性物质。通常所说的磁性材料是指强磁性物质。磁性材料按磁化后去磁的难易可分为软磁性材料和硬磁性材料。磁化后容易去掉磁性的物质叫软磁性材料,不容易去磁的物质叫硬磁性材料。一般来讲软磁性材料剩磁较小,硬磁性材料剩磁较大。 二、磁性材料分类 磁性是物质的一种基本属性。实验表明,任何物质在外磁场中都能够或多或少地被磁化,只是磁化的程度不同。物质按照其内部结构及其在外磁场中的性状可分为抗磁性、顺磁性、铁磁性、反铁磁性和亚铁磁性物质。铁磁性和亚铁磁性物质为强磁性物质,抗磁性和顺磁性物质为弱磁性物质。磁性材料按性质分为金

属和非金属两类,前者主要有电工钢、镍基合金和稀土合金等,后者主要是铁氧体材料。按使用又分为软磁材料、硬磁材料和功能磁性材料。功能磁性材料主要有磁致伸缩材料、磁记录材料、磁电阻材料、磁泡材料、磁光材料,旋磁材料以及磁性薄膜材料等,反映磁性材料基本磁性能的有磁化曲线、磁滞回线和磁损耗等。 1、软磁材料软磁材料亦称高磁导率材料、磁芯材料,对磁场反应敏感,易于 磁化。大体上可分为四类:①合金薄带或薄片:FeNi(Mo)、FeSi、FeAl等。 ②非晶态合金薄带:Fe基、Co基、FeNi基或FeNiCo基等配以适当的Si、 B、P和其他掺杂元素,又称磁性玻璃。。磁介质(铁粉芯):FeNi(Mo)、FeSiAl、 羰基铁和铁氧体等粉料,经电绝缘介质包覆和粘合后按要求压制成形。④铁氧体:包括尖晶石型──M O·Fe2O3 (M代表NiZn、MnZn、MgZn、Li1/2Fe1/2Zn、CaZn等),磁铅石型──Ba3Me2Fe24O41(Me代表Co、Ni、Mg、Zn、Cu及其复合组分)。 2、硬磁材料硬磁材料,又称永磁材料,不易被磁化,一旦磁化,则磁性不易消 失。目前使用的永磁材料答题分为四类:①阿尔尼科磁铁:其构成元素Al、Ni、Co(其余为Fe),是强磁性相α1在非磁性相α2中以微晶析出而呈现高矫顽力的材料,对其进行适当处理,可增大磁积能。②铁氧体永磁材料:以Fe2O3为主要成分的复合氧化物,并加入钡的碳酸盐。③稀土类钴系磁铁:含有稀土金属的钴系合金,具有非常强的单轴磁性各向异性。④钕铁硼系稀土永磁合金:该合金采用粉末冶金方法制造,是由④Nd2Fe14B、 Nd2Fe7B6和富Nd相(Nd-Fe,Nd-Fe-O)三相构成,其磁积能是目前永磁材料中的最高纪录。 三、磁性材料的应用 由于磁体具有磁性,所以在功能材料中备受重视。磁体能够进行电能转换(变压器)、机械能转换(磁铁、磁致伸缩振子)和信息储存(磁带)等。 磁粉芯是由铁磁性粉粒与绝缘介质混合压制而成的一种软磁材料。由于铁磁

扫描电镜的发展特点及在纺织材料研究中的应用

扫描电镜的发展特点及在纺织材料研究中的应用 0 前言 当今,随着电子源、扫描以及图像采集和处理系统等的发展,扫描电子显微镜(ScanningElectronMicroscope,简写为SEM)已成为纺织、生物学、医学、冶金、机械加工、材料、半导体制造、微电路检查,甚至月球岩石样品分析等领域的主要研究手段。同时它还在向复合型方向发展,即和X射线能谱分析技术(简称EDS)进行结合,成为研究分析物品表面结构与微区化学成分的最有效的工具。 当前产业用纺织品已广泛应用于工业、农业、环境保护、生物工程、化学化工、医疗卫生以及汽车等领域,其应用范围不断扩大,大大拓展了新的应用领域,开拓出新的市场和高新技术的特殊产品,如电子纺织材料、智能纺织材料、细胞组织支架材料和纤维织物柔性[1]显示器等。因此,利用先进的扫描电镜等工具研究纺织产品极其材料的化学与机械物理性能创造产业用纺织品材料就显得至关重要。可以说,扫描电镜的未来有着广阔的发展与应用前景。 1 扫描电镜和X射线能谱仪原理 扫描电镜:其场深大约三百倍于光学显微镜,适用于表面形貌观察,特别是粗糙表面的观察和分析,图像富有立体感、真实感、易于识别和解释。放大倍数范围大,一般为50~20000倍,对于相组成的非均匀材料便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。它具有相当的分辨率,可达2~6nm。扫描电子显微镜主要是利用二次电子成像,由聚光镜和物镜构成的电子光学系统[2],把电子枪发射出来的电子聚集成为一束极细的电子束,并聚焦于样品的表面,同时按顺序对样品表面进行逐行扫描[3]。用检测器收集从样品表面发射出来的二次电子,经视频放大形成图像信号,再经显像管显示。所获得的图像可以直接进行观察,也可以照相或者存储记录,它还可对试样进行成分、晶格、阴极发光、感应电导等多方面分析。 X射线能谱仪:电子束轰击样品时,产生弹性散射和非弹性散射两类物理过程,当两者相互作用发生具有能量交换的非弹性散射时会产生二次电子、俄歇电子、特征X射线、连续X 射线,以及在可见光和紫外、红外波段的长波长电磁辐射。X射线能谱分析就是取出样品所产生的X射线作为信号进行分析的。分析这些X射线的能量就可知道组成样品的元素,即可实现对样品的定性分析;根据X射线能量不同的强度就可知道各种非导体与半导体的含量,即实现对样品的定量分析。由于电子显微镜具有很高的空间分辨率,它可以捕捉能谱分析仪在微米和亚微米尺度下的粒子,同时在与计算计配合后,通过线扫描也就可以获得直观的微区元素分布数据。 2 扫描电镜和X射线能谱仪的发展特点 扫描电镜的设计思想早在1935年便已提出,但受各种技术条件的限制,进展一直很慢。只是在近20年,扫描电镜才在提高分辨率方面取得了较大进展。现在,使用最常规扫描电镜分辨率可达3.5nm左右。上世纪90年代中期,它与高速发展的计算机技术对接,实现了电脑控制和信息处理。之后,扫描电镜在二次电子像分辨率、非导体与半导体的扫描成像上取得了突破。特别是针对过去非导体与半导体材料需喷金后才能电描的技术改进 为在低真空和低电压下的电镜扫描,为产业用纺织品的出新提供了良好的检测手段与保证。 目前,使用最广的常规钨丝阴极扫描电镜的分辨率为3.5nm左右,加速电压范围为0.2~30kV。扫描电镜配备X射线能谱仪后发展成分析扫描电镜。它比X射线波谱仪分析速度快、灵敏度高、还可进行定性和无标样定量分析。但是,这种分析型扫描电镜也存在不足之处,如能量分辨率低,一般为129—155eV,以及Si(Li)晶体需在低温下使用(液氮冷却)等。所以未

扫描电镜实验报告doc

扫描电镜实验报告 篇一:扫描电镜实验报告 扫描电镜实验报告 班级:材化11学号: 41164049 姓名:李彦杰日期: XX 05 16 一、实验目的 1. 了解扫描电镜的构造及工作原理; 2. 扫描电镜的样品制备; 3. 利用二次电子像对纤维纵向形貌进行观察; 4. 了解背散射电子像的应用。 二、实验仪器 扫描电子显微镜(热发射扫描型号JSM-5610LV)、真空镀金装置。扫描电镜原理是由电子枪发射并经过聚焦的电子束在样品表面扫描,激发样品产生各种物理信号,经过检测、视频放大和信号处理,在荧光屏上获得能反映样品表面各种特征的扫描图像。扫描电镜由下列五部分组成,主要作用简介如下: 1.电子光学系统。其由电子枪、电磁透镜、光阑、样

品室等部件组成。为了获得较高的信号强度和扫描像,由电子枪发射的扫描电子束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径。常用的电子枪有三种形式:普通热阴极三极电子枪、六硼化镧阴极电子枪和场发射电子枪。前两种属于热发射电子枪;后一种则属于冷发射电子枪,也叫场发射电子枪,其亮度最高、电子源直径最小,是高分辨本领扫描电镜的理想电子源。电磁透镜的功能是把电子枪的束斑逐级聚焦缩小,因照射到样品上的电子束斑越小,其分辨率就越高。扫描电镜通常有三个磁透镜,前两个是强透镜,缩小束斑,第三个透镜是弱透镜,焦距长,便于在样品室和聚光镜之间装入各种信号探测器。为了降低电子束的发散程度,每级磁透镜都装有光阑;为了消除像散,装有消像散器。样品室中有样品台和信号探测器,样品台还能使样品做平移、倾斜、转动等运动。 2. 扫描系统。扫描系统的作用是提供入射电子束在样品表面上以及阴极射线管电子束在荧光屏上的同步扫描信号。 3. 信号检测、放大系统。样品在入射电子作用下会产生各种物理信号、有二次电子、背散射电子、特征X射线、阴极荧光和透射电子。不同的物理信号要用不同类型的检测系统。它大致可分为三大类,即电子检测器、阴极荧光检测

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