真空技术基础知识样本
真空技术基本知识
前言
1.真空
“真空”来源于拉丁语“Vacuum”，原意为“虚无”，但绝对真空不可达到，也不存在。只能无限逼近。虽然达到10-14—10-16托极高真空，单位体积内尚有330—33个分子。
在真空技术中，“真空”泛指低于该地区大气压状态，也就是同正常大气比，是较为稀薄气体状态。真空是相对概念，在“真空”下，由于气体稀薄，即单位体积内分子数目较少，故分子之间或分子与其他质点（如电子、离子）之间碰撞就不那么频繁，分子在一定期间内碰撞表面（例如器壁）次数亦相对减少。这就是“真空”最重要特点。运用这种特点可以研究常压不能研究物质性质。如热电子发射、基本粒子作用等。
2.真空测量单位
一、用压强做测量单位
真空度是对气体稀薄限度一种客观量度，作为这种量度，最直接物理量应当是单位体积中分子数。但是由于分子数很难直接测量，因而从来真空度高低普通都用气体压强来表达。气体压强越低，就表达真空度越高，反之亦然。
依照气体对表面碰撞而定义气体压强是表面单位面积上碰撞气体分子动量垂直分量时间变化率。因而，气体作用在真空容器表面上压强定义为单位面积上作用力。
压强单位有有关单位制和非有关单位制。有关单位制各种压强单位均依照压强定义拟定。非有关单位制压强单位是用液注高度来量度。
下面简介几种惯用压强单位。
【原则大气压】（atm）
1原则大气压=101325帕
【托】（Torr）
1托=1/760原则大气压
【微巴】（μba）
1μba=1达因/厘米2
【帕斯卡】（Pa ）国际单位制
1帕斯卡=1牛顿/m2
【工程大气压】（at ）
1工程大气压=1公斤力/厘米2
二、用真空度百分数来测量
%100760
760%?-=P δ 式中P 单位为托，δ为真空度百分数。此式合用于压强高于一托时。
3. 真空区域划分
有了度量真空单位，就可以对真空度高低限度作出定量表述。此外，为实用上便利起见，人们还依照气体空间物理特性、惯用真空泵和真空规有效使用范畴以及真空技术应用特点这三方面差别，定性地粗划为几种区段。但这种划分并不是十分严格，下面简介一种划分办法。
粗真空＜760~10托
低真空＜10~10-3托
高真空＜10-3~10-8托
超高真空＜10-8~10-12托
极高真空＜10-12托
4. 真空技术在国民经济中应用
真空技术在工业生产和近代科学发展中已日益渗入到各个领域，成为电子、冶金、机械、食品、化工、半导体、低温技术、原子能、宇航等国防、国民经济、科研部门中必不可少新技术之一。其应用品体涉及在如下几种方面。
一、形成压差，可以做功。
二、提高热、电绝缘性能。
三、运用真空，撤除氛围气体屏障。
四、延长粒子飞行途径。
五、减少有害气体作用。
六、促成材料出气效应。
七、模仿宇宙环境。
气体在平衡状态下特性
1.分子运动论基本观点
气态是物质存在各种状态中最简朴一种状态。气态最重要特性是：它既无一定形状，也无一定体积。任一数量气体，都能无限制地膨胀而布满于任何形状与大小容器中。气体又能均匀混合在一起。任何不同种类气体，无论其比例如何，都能混合成均匀状态。
对于气体大量现象及实验总结出来规律，需进一步作出解释，于是发展起来了气体分子运动论。其基本观点如下：
一、物质是由分子构成
从化学中已知一切物质都是由分子、原子构成，而分子是物质保持其化学性质最小单位。分子直径大概是10-8厘米数量级。
通过大量实践，使人们结识到自然界中每一物体不论它处在什么状态，都不是密实持续体，也就是说物质构造是不持续，分子之间是有空隙。不同物质空隙大小不同。
二、分子永远在不规则运动——热运动
扩散现象阐明分子是在不断地运动例子。分子运动特点也只能从某些间接实验中观测到。布朗运动就是其中一种。
三、分子之间存在互相作用力
已知物质是由分子构成，分子在不断运动，并且分子间尚有空隙。那么为什么物质内分子、原子又能结合成一种整体呢？这是由于分子有互相吸引力。当咱们把物体一某些分开时，必要加外力来克服这些分子间引力才行。
此外咱们压缩物体时也需要力，这阐明分子间还存在着排斥力。正由于分子间排斥力，才使物质分子不是一种挨着一种紧靠在一起，而是有一定空隙。
因而分子之间不但存在着吸引力，并且也存在着排斥力。它们均为短程力。实验证明：
当两个分子之间距离约不大于10-8厘米，斥力不不大于引力，分子间作用体现为斥力；当两个分子间距离不不大于10-8厘米，不大于10-6厘米时，吸引力不不大于排斥力，分子间作用力体现为吸引力；分子间距离不不大于10-6厘米时，作用力就十分薄弱，可以以为分子间没有互相作用了。
2.气体实验定律和抱负气体
一、气体实验定律
玻义耳定律
一定质量任何气体，在恒定温度下，气体压强和体积乘积为常数，换言之，即它们压强和体积成反比，其数学表达式为：
PV
=
常数
盖·吕萨克定律
一定质量任何气体，若变化过程中压强保持不变（这样变化过程称为等压过程），并且变化过程中所经历中间状态均可近似看作平衡状态，则体积和温度之商保持不变。数学表达式为：
V
=
常数
T
查理定律
一定质量任何气体，若变化过程中体积保持不变（这样变化过程为等容过程），并且变化过程中过经历中间状态均可近似看作平衡状态，则压强和温度之商保持不变。数学表达式为：
P
常数
=
T
状态过程方程
一定质量任何气体，当从一平衡态过渡到另一平衡态时，压强和体积乘积与温度之商为一恒量。数学表达式为：
PV
常数
=
T
阿伏伽德罗定律
基础知识 真空密封
基础知识真空密封 自定义搜索基础知识--真空密封 基础知识――真空密封{VKP&{~O 真空联机密封性能取决于联接处的泄露和真空材料的放气。对任何真空系统总希看漏、放气量与密封形式、密封材料、加工精度及装配质量等诸多因素有关，故在联接处总会存在一定的漏、放气量，因此可根据真空系统工作的性质，真空室工作工作应力的高低及其出口处抽气速度的大小提出要求。F?{laAYE 真空系统中的压力在高于10-5Pa真空范围内广泛使用合成橡胶、环氧树脂和塑料。认真空度提到压力10-7Pa的真空范围时，这些密封材料就不能用了，需要应用超高真空的密封材料如金或铜作垫圈，而真空壳体不能用软刚需要改用不锈钢。bpdluWS+} 超真空气体内的气体状态是动态平衡状态。系统内的压力极限，一方面与泵的有效抽速有关，另一方面与来自真空壳体及其内部的零部件的气流量有关。因虽有系统的有效抽速由于泵有结构尺寸和用度的原因，总存在实际限制。所以，减少气流量就成为达到超高真空状态的基本设计目标，成为选择超高真空材料的主要准则。SbH}cu8 作为真空系统内部用的材料，要求饱和蒸汽压低，为了减少慢性解吸和体出气，要求能耐450℃高温烘烤，而不降低机械强度和不发生化学和物理损伤。作为真空系统壳体材料，要求能忽略气体渗透，承受得住大气压的压力，烘烤期间耐空气腐蚀和不发生漏气。此外，要求选用材料，加工制作轻易，价廉易得。iJr(;Bq 对于真空度低于10-7Pa的超高真空，固然自然和合成橡胶是理想的密封圈材料，弹性好，装配成真空密封后法兰螺栓受力很小，而且可以多次重复使用;℃烘烤，实际上可可供选用的几种250但由于超高真空系统要求密封圈材料耐． 橡胶材料都不能满足要求。真空度更高(即压力更低)的超高真空，则必须采用金属密封。CIAKXYM9.1真空用橡胶密封圈)u]1j@Id 接触式真空动密封的结构，最常用的有下面几种类型:①J型真空用橡胶密封―J 型真空用橡胶密封圈工作表面应平整光滑，不答应有气泡杂质、凹凸不同等缺陷;②O型真空用橡胶密封圈;③骨架型真空用橡胶密封圈;④真空用O形橡胶密封圈。fcw/l,k99.2真空用金属密封圈OhTd~R` 金属密封圈密封的可拆联接是超高真空系统中常用的联接形式，它是为满足超高真空要求而必须经200~400℃的高温烘烤除气而采用的密封方式。Lp.2[3 常用的金属密封圈的材料有金丝和无氧铜两种，它们有下列一些性能:%8$|7;(2k ①金(Au)具有高的化学稳定性，高温时不氧化，塑性好，屈服极限比铜或铝低一倍，在较小的夹紧力下即可产生塑性变形，膨胀系数为αg=14×10-6cm/cm℃，比不锈钢的膨胀系数αs=18×10-6cm/cm℃稍低。金制密封圈虽有良好的密封性能，但在夹紧力的作用下会发生明显的变形硬化，强度增加。为了保证密封圈密
真空镀膜实验报告
近代物理实验报告 真空镀膜实验 学院 班级 姓名 学号 时间 2014年4月20日
真空镀膜实验实验报告 【摘要】： 真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。本实验中用到的是蒸发镀膜法来进行真空镀膜，从而了解真空镀膜的原理和操作。 【关键词】：真空镀膜、蒸发镀膜法 【引言】：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等，因此蒸发法受到了相对较大程度的重视。但另一方面，溅射法也具有自己的一些优势，包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好等。同时，现代技术对于合金薄膜材料的需求也促进了各种高速溅射方法以及高钝靶材，高钝气体制备技术的发展，这些都使得溅射法制备的薄膜质量得到了很大的改善。如今，由于气相中各组分能够充分的均匀混合，制备的材料组分均匀，易于掺杂，制备温度低，适合大尺寸薄膜的制备，并且能够在形状不规则的衬底上生长薄膜等优点，不仅上述两种物理气相沉积方法已经大量应用于各个技术领域之中，而且为了充分利用这两种方法各自的优点，还开发出了许多介于上述两种方法之间的新的薄膜沉积技术。 【正文】 一、实验原理 真空镀膜是在真空室中进行的（一般气压低于1.3×10-2Pa），当需要蒸发的材料（金属或电介质）加热到一定温度时，材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能，于是大量分子或原子从液态或直接从固态（如SiO2、ZnS）汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时，就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。
真空泵基础知识及选型指导
真空泵基础知识及选型指导 一、基础知识 1、真空的概念 “真空”一词来自拉丁语“vacuum”，原意为“虚无”、“空的”。真空是指在给定空间内低于环境大气压力的气体状态，即该空间内的气体分子密度低于该地区大气压力的气体分子密度，并不是没有物质的空间。水环真空泵应用于低真空（105—103 Pa）领域 2、真空的测量单位 在真空技术中，表示处于真空状态下气体稀薄程度的量称为真空度，可用压力、分子数密度、平均自由程和形成一个单分子层的时间常数等来表征，但通常用气体的压力（剩余压力）值来表示。气体压力越低，表示真空度越高；反之，压力越高，真空度越低。 法定的压力计量单位为帕［帕斯卡］，符号为Pa 1Pa=1N.m-2 此外，还可用真空度的百分数作测量单位。 δ——真空度百分数（%）P——绝对压力（Pa）Pb-P 表示真空压力表读数，表压力（用Pe表示）真空度百分数δ（%）与压力P对照表 3、单位换算 1atm（标准大气压）=1013.25hPa（百帕） 1mmHg（毫米汞柱）=1Torr（托）=1.333 hPa（百帕） 1bar（巴）=1000 hPa（百帕） 1mbar（毫巴）=1 hPa（百帕）
１inHg（英寸汞柱）=25.4mmHg（毫米汞柱）=33.8 hPa（百帕） 4、相关术语 ◇气量——水环真空泵的气量是指入口在给定真空度下，出口为大气压1013.25hPa时，单位时间通过泵人口的吸入状态下的气体容积，m3/min 或m3/h 。 ◇最大气量——水环真空泵的最大气量是指气量曲线上的气量最大值，m3/min或m3/h。 ◇真空度（或称作压力）——水环真空泵的真空泵是指入口处在真空状态下气体的稀薄程度，以绝对压力表示，Pa、hPa、kPa。 ◇极限真空度（或称作极限压力）——水环真空泵的极限真空度是指入口处气量为零时的真空度，Pa、hPa、kPa。 ◇压缩比——吸入压力下气体容积与压缩后气体容积之比 ◇饱和蒸汽压——在给定温度下，某种物质的蒸汽与其凝聚相处于相平衡状态下的该种物质的蒸汽压力。 二、选型指导 真空泵的工作压力应该满足真空设备的极限真空及工作压力要求。通常选择泵的真空度要高于真空设备真空度半个到一个数量级。2BVX、2BEX 系列真空泵吸气压力范围在33hPa——1013.25 hPa之间，在此范围内，气量随吸气压力的不同而变化。根据气量和真空度选择合适的泵。保证工艺要求的真空度或抽走需要排走的气体。泵的工作点尽可能要求在高效区
交通安全基础知识优选稿
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一、交通安全基础知识 1、驾驶车辆上路要具备哪些条件 （1）随身携带驾驶证，驾驶准驾车型； （2）车辆定期检验合格；备有注册的机动车行驶证和检验合格标识、机动车交通强制保险标识； （3）车况良好，刹车、转向、灯光、喇叭、雨刮器、后视镜等安全设施和设备要齐全有效； （4）时刻保持交通安全意识。 2、最易发生交通事故有哪些原因 （1）车辆出发前未做安全检查； （2）超速、开快车； （3）长途、长时间开车，精神体力不佳； （4）酒后开车； （5）随意超车、乱换车道、蛇行； （6）在高速公路行使路肩； （7）未保持安全距离； （8）不专心开车，驾驶中与人谈笑，或者车行中打电话，做其它事情等；（9）闯红灯、闯平交道； （10）转弯时未减速慢行。 3、驾驶机动车不得有下列行为： （1）在车门、车厢没有关好时行车；
（2）在机动车驾驶室的前后窗范围内悬挂、放置妨碍驾驶人视线的物品；（3）拨打接听手持电话、观看电视等妨碍安全驾驶的行为； （4）下陡坡时熄火或者空挡滑行； （5）向道路上抛撒物品； （6）驾驶摩托车手离车把或者在车把上悬挂物品； （7）连续驾驶机动车超过4小时未停车休息或者停车休息时间少于20分钟；（8）在禁止鸣喇叭的区域或者路段鸣喇叭。 4、有下列情况不要驾驶车辆： 1.饮酒； 2.服用国家管制的精神药品或者麻醉药品，镇静或抑制性药品， 3.患有妨碍安全驾驶机动车的疾病， 4.过度疲劳。 二、车辆管理和使用规定 (一）车辆管理和使用规定 1、用车与派车原则： 因工作需要、经领导审批、先计划后临时、明确车辆与司机。 2、用车审批程序： 1.提前到少半天写《用车申请表》→部门经理审批→广州市外/在外过夜须总经理审批→车管员。 2.因工作需要，可填写《租车申请单》租外部车辆。 1.驾驶人员为签《车辆驾驶许可及职任协议》司机。 2.遵守交通法规，保持车内整洁、卫生。
7-0真空技术基础知识
第七单元真空技术 7-0真空技术基础知识 “真空”是指气体分子密度低于一个大气压的分子密度稀薄气体状态。真空的发现始于1643,那 年托利拆利(E.Torricelli )做了有名的大气压力实验，将一端密封的长管注满水银倒放在盛有水银的槽里时，发现了水银柱顶端产生了真空，确认了真空的存在。此后，人们不断致力于提高真空度，随着科学技术的发展，现在已经能够获得低于10-10Pa的极高真空。 在真空状态下，由于气体稀薄，分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减小，分子在一定时间内碰撞于表面上的次数亦相对减小，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流减小，氧化作用小，气体污染小，气化点降低，高真空的绝缘性能好等等，这些特征使得真空特别是高真空技术已发展成为先进技术之一，目前，在高能粒子加速器、大规模集成电路、表面科学、薄膜技术、材料工艺和空间技术等科学研究的领域中占有重要地位，被广泛应用于工业生产，尤其是在电子工业的生产中起着关键的作用。 一、真空物理基础 1. 真空的表征 表征真空状态下气体稀薄程度的物理量称为真空度。单位体积内的分子数越少，气体压强越低，真空度越高，习惯上采用气体压强高低来表征真空度。 在SI单位制中，压强单位为牛顿/米2( N/m 2): 2 1 牛顿/米=1 帕斯卡(Pascal), (7-0-1) 帕斯卡简称为帕(Pa),由于历史原因，物理实验中常用单位还有托( Torr)。 1 标准大气压(atm) =1.0135 K05(Pa), 1托=1/760标准大气压(7-0-2) 1托=133.3帕斯卡 习惯采用的毫米汞柱(mmHg )压强单位与托近似相等(1mmHg=1.00000014 )托。各种单位之间的换算关系见附表7-1 2. 真空的划分 真空度的划分(不同程度的低气压空间的划分)与真空技术的发展历史密不可分。通常可分为： 低真空(103 ~10 1Pa)、高真空(10 1 ~ 10 6Pa)、超高真空(10-6 ~ 10-10Pa )和极高真空 (低于10 10Pa )。 20世纪70年代进一步提高到的宽达20个数量级的真空度范围，并随着某些新技术、新材料、新 工艺的应用和开拓，将进一步接近理想的真空状态。 3. 描述真空物理性质的主要物理参数 (1)分子密度：用于表示单位体积内的平均分子数。气体压强与密度的关系为 p nkT (7-0-3) 其中n为分子密度，k为玻耳兹曼常数，T为气体温度。 (2)气体分子平均自由程：平均自由程是指气体分子在连续两次碰撞的间隔时间里所通过的平均 距离。对同一种气体分子的平均自由程为 (7-0-4)
PVD真空镀膜设备行业分析
目录 （一）PVD真空镀膜技术 (1) （二）真空镀膜技术具体应用领域 (2) （三）行业现状分析 (4) （四）行业市场表现分析 (5) （五）行业竞争格局分析 (6) （六）行业与上下游的关系 (6) （七）行业周期性、区域性、季节性特征 (9) （八）进入本行业的主要障碍 (9) （九）影响行业发展的有利因素和不利因素 (10) （十）行业发展方向 (11) （十一）总结 (12)
PVD真空镀膜机设备行业分析
（一）PVD真空镀膜技术 PVD真空镀膜技术，PVD是Physical Vapor Deposition的缩写，意思是“物理气相沉积”，指在真空条件下，用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，三种主要的真空镀膜技术可以满足常生产、生活领域的所有常见基材（塑料、玻璃、金属、薄膜、陶瓷等）的镀膜需要。近十多年来，真空离子镀技术发展最快，已经成为当代最先进的表面处理方法之一。 PVD镀膜技术种类表 类型介绍 蒸发镀膜加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 溅射镀膜利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 离子镀膜离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离 子体中进行。 其他如真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。 需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。溅射类镀膜，可以理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域，是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击，形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度下获得化合物膜层。
7-0_真空技术基础知识.
第七单元 真空技术 7-0 真空技术基础知识 “真空”是指气体分子密度低于一个大气压的分子密度稀薄气体状态。真空的发现始于1643，那年托利拆利（E.Torricelli ）做了有名的大气压力实验，将一端密封的长管注满水银倒放在盛有水银的槽里时，发现了水银柱顶端产生了真空，确认了真空的存在。此后，人们不断致力于提高真空度，随着科学技术的发展，现在已经能够获得低于10-10Pa 的极高真空。 在真空状态下，由于气体稀薄，分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减小，分子在一定时间内碰撞于表面上的次数亦相对减小，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流减小，氧化作用小，气体污染小，气化点降低，高真空的绝缘性能好等等，这些特征使得真空特别是高真空技术已发展成为先进技术之一，目前，在高能粒子加速器、大规模集成电路、表面科学、薄膜技术、材料工艺和空间技术等科学研究的领域中占有重要地位，被广泛应用于工业生产，尤其是在电子工业的生产中起着关键的作用。 一、真空物理基础 1． 真空的表征 表征真空状态下气体稀薄程度的物理量称为真空度。单位体积内的分子数越少，气体压强越低，真空度越高，习惯上采用气体压强高低来表征真空度。 在SI 单位制中，压强单位为 牛顿/米2 （N/m 2）： 1牛顿/米2 =1帕斯卡（Pascal ）， （7-0-1） 帕斯卡简称为帕（Pa ），由于历史原因，物理实验中常用单位还有托（Torr ）。 1标准大气压（atm ）=1.0135×105(Pa)， 1托=1/760标准大气压 （7-0-2） 1托=133.3帕斯卡 习惯采用的毫米汞柱（mmHg ）压强单位与托近似相等（1mmHg=1.00000014）托。各种单位之间的换算关系见附表7-1 2． 真空的划分 真空度的划分（不同程度的低气压空间的划分）与真空技术的发展历史密不可分。通常可分为： 低真空（Pa 10~101 3 -）、高真空（Pa 10~1061 --）、超高真空（Pa 10~10-10 -6）和极高真空 （低于Pa 10 10 -）。 20世纪70年代进一步提高到的宽达20个数量级的真空度范围，并随着某些新技术、新材料、新 工艺的应用和开拓，将进一步接近理想的真空状态。 3． 描述真空物理性质的主要物理参数 （1）分子密度：用于表示单位体积内的平均分子数。气体压强与密度的关系为 nkT p = （7-0-3） 其中n 为分子密度，k 为玻耳兹曼常数，T 为气体温度。 （2）气体分子平均自由程：平均自由程是指气体分子在连续两次碰撞的间隔时间里所通过的平均距离。对同一种气体分子的平均自由程为 p kT 2 2πσλ= （7-0-4）
真空技术基础知识
真空技术基础知识
前言 1. 真空 “真空”来源于拉丁语“Vacuum ”，原意为“虚无”，但绝对真空不可达到，也不存在。只能无限的逼近。即使达到10-14—10-16托的极高真空，单位体积内还有330—33个分子。 在真空技术中，“真空”泛指低于该地区大气压的状态，也就是同正常的大气比，是较为稀薄的气体状态。真空是相对概念，在“真空”下，由于气体稀薄，即单位体积内的分子数目较少，故分子之间或分子与其它质点（如电子、离子）之间的碰撞就不那么频繁，分子在一定时间内碰撞表面（例如器壁）的次数亦相对减少。这就是“真空”最主要的特点。利用这种特点可以研究常压不能研究的物质性质。如热电子发射、基本粒子作用等。 2. 真空的测量单位 一、用压强做测量单位 真空度是对气体稀薄程度的一种客观量度，作为这种量度，最直接的物理量应该是单位体积中的分子数。但是由于分子数很难直接测量，因而历来真空度的高低通常都用气体的压强来表示。气体的压强越低，就表示真空度越高，反之亦然。 根据气体对表面的碰撞而定义的气体的压强是表面单位面积上碰撞气体分子动量的垂直分量的时间变化率。因此，气体作用在真空容器表面上的压强定义为单位面积上的作用力。 压强的单位有相关单位制和非相关单位制。相关单位制的各种压强单位均根据压强的定义确定。非相关单位制的压强单位是用液注的高度来量度。 下面介绍几种常用的压强单位。 【标准大气压】（atm ） 1标准大气压=101325帕 【托】（Torr ） 1托=1/760标准大气压 【微巴】（μba ） 1μba=1达因/厘米2 【帕斯卡】（Pa ）国际单位制 1帕斯卡=1牛顿/m2 【工程大气压】（at ） 1工程大气压=1公斤力/厘米2 二、用真空度百分数来测量 %100760 760%?-=P δ 式中P 的单位为托，δ为真空度百分数。此式适用于压强高于一托时。 3. 真空区域划分 有了度量真空的单位，就可以对真空度的高低程度作出定量表述。此外，为实用上便利起见，人们还根据气体空间的物理特性、常用真空泵和真空规的有效使用范围以及真空技术应用特点这三方面的差异，定性地粗划为几个区段。但这种划分并不是十分严格的，下面介绍一种划分方法。 粗真空＜760~10托 低真空＜10~10-3托 高真空＜10-3~10-8托 超高真空＜10-8~10-12托 极高真空＜10-12托
第一章_真空技术基础
第一章真空技术基础 本章主要内容： 1. 真空的基本知识 2. 真空的获得 3. 真空的测量 4. 稀薄气体的基本性质 5. 真空配件、检测 1
§1-1 气体与真空 Air, as a gas, is composed of molecules that you can imagine as round elastic balls. Molecules move in straight lines until they collide with neighboring molecules or the container wall.
THE ATMOSPHERE IS A MIXTURE OF GASES PARTIAL PRESSURES OF GASES CORRESPOND TO THEIR RELATIVE VOLUMES GAS SYMBOL PERCENT BY VOLUME PARTIAL PRESSURE TORR PASCAL Nitrogen N 27859379,000 Oxygen O 22115821,000 Argon Ar0.937.1940 Carbon Dioxide CO 20.030.2533 Neon Ne0.0018 1.4 x 10-2 1.8 Helium He0.0005 4.0 x 10-3 5.3 x 10-1 Krypton Kr0.00018.7 x 10-4 1.1 x 10-1 Hydrogen H 20.00005 4.0 x 10-4 5.1 x 10-2 Xenon Xe0.0000087 6.6 x 10-58.7 x 10-3 Water H 2 O Variable 5 to 50665 to 6650
磁控溅射镀膜技术的发展及应用_马景灵
溅射镀膜过程主要是将欲沉积成薄膜的材料制成靶材，固定在溅射沉积系统的阴极上，待沉积薄膜的基片放在正对靶面的阳极上。溅射系统抽至高真空后充入氩气等，在阴极和阳极之间加几千伏的高压，阴阳极之间会产生低压辉光放电。放电产生的等离子体中，氩气正离子在电场作用下向阴极移动，与靶材表面碰撞，受碰撞而从靶材表面溅射出的靶材原子称为溅射原子，溅射原子的能量一般在一至几十电子伏范围，溅射原子在基片表面沉积而后成膜。溅射镀膜就是利用低气压辉光放电产生的氩气正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材，把靶材中的原子或分子等粒子溅射出而沉积到基片或者工件表面，形成所需的薄膜层。但是溅射镀膜过程中溅射出的粒子的能量很低，导致成膜速率不高。 磁控溅射技术是为了提高成膜速率在溅射镀膜基础上发展起来的，在靶材表面建立与电场正交的磁场，氩气电离率从０．３％～０．５％提高到了５％～６％，这样就解决了溅射镀膜沉积速率低的问题，是目前工业上精密镀膜的主要方法之一［１］。可制备成磁控溅射阴极靶材的原料很广，几乎所有金属、合金以及陶瓷材料都可以制备成靶材。磁控溅射镀膜在相互垂直的磁场和电场的双重作用下，沉积速度快，膜层致密且与基片附着性好，非常适合于大批量且高效率的工业化生产。 1磁控溅射的工艺流程 在磁控溅射过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下［２］：（１）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；（２）抽真空，真空须控制在２×１０４Ｐａ以上，以保证薄膜的纯度；（３）加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择 在１５０℃～２００℃之间；（４）氩气分压，一般选择在０．０ｌ～ｌＰａ范围内，以满足辉光放电的气压条件；（５）预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量；（６）溅射，氩气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；（７）退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。 2磁控溅射镀膜技术的发展 近年来磁控溅射技术发展非常迅速，代表性方法有非平衡磁控溅射、反应磁控溅射及高速溅射等等。 平衡磁控溅射技术：即最传统的磁控溅射技术，将永磁体或电磁线圈放到在靶材背后，在靶材表面会形成与电场方向垂直的磁场。在高压作用下氩气电离成等离子体，Ａｒ＋离子经电场加速轰击阴极靶材，靶材二次电子被溅射出，且电子在相互垂直的电场及磁场作用下，被束缚在阴极靶材表面附近，增加了电子与气体碰撞的几率，即增加了氩气电离率，使氩气在低气体下也可维持放电，因而磁控溅射既降低了溅射气体压力，同时也提高了溅射效率及沉积速率［３］。但传统磁控溅射有一些缺点，比如：低气压放电产生的电子和溅射出的靶材二次电子都被束缚在靶面附近大约６０ｍｍ的区域内，这样工件只能被安放在靶表面５０～１００ｍｍ的范围内。这样小的镀膜区间限制了待镀工件的尺寸，较大的工件或装炉量不适合传统方法。 非平衡磁控溅射技术：这种磁控溅射方法部分解决了平衡磁控溅射的不足，是将靶面的等离子体引到靶前２００～３００ｍｍ的范围内，使阳极基片沉浸在等离子体中，减少了粒子移动的距离，离子束起到辅助沉积的作用［４］。然而单独的非平衡磁控靶在基片上很难沉积出均匀的薄膜层， 为此研究人员开发出了多靶非平衡磁控溅射镀膜系统，弥补了单靶非平衡磁控溅射的不足。 反应磁控溅射：随着表面工程技术的发展，越来越多地用到各种化合物薄膜材料。可以直接使用化合物材料制作的靶材通过溅射来制备化合物薄膜，也可在溅射金属或合金靶材时，通入一定的反应气体，通过发生化学反应制备化合物薄膜，后者被称为反应磁控溅射。一般来说纯金属作为靶材和气体反应较容易得到高质量的化合物薄膜，因而大多数化合物薄膜是用纯金属为靶材的反应溅磁控射来制备的［５］。 中频磁控溅射：这种镀膜方法是将磁控溅射电源由传统的直流改为中频交流电源。在溅射过程中，当系统所加电压处在交流电负半周期时，靶材被正离子轰击而溅射，而处于正半周期时，靶材表面被等离子体中的电子轰击而溅射，同时靶材表面累积的正电荷被中和，打弧现象得到抑制。中频磁控溅射电源的频率通常在１０～８０ｋＨｚ之间，频率高，正离子被加速的时间就短，轰击靶材时的能量就低，溅射沉积速率随之下降。中频磁控溅射系统一般有两个靶，这两个靶周期性轮流作为阴极和阳极，一方面减小了基片溅伤；另一方面也消除了打弧现象。 高速溅射与自溅射：随着工业发展和表面工程的需求，高速溅射与自溅射等新型磁控溅射成膜方法成为镀膜领域新的发展趋势。高速溅射能够缩短镀膜时间，提高沉积速率，当溅射速率非常高，以至于在没有惰性气体氩气的情况下也能维持辉光放电，这种溅射方法称为自溅射［６］。高速溅射与自溅射中，被溅射材料的离子、电子化以及减少甚至取消惰性气体，都明显影响薄膜的形成机理，因此，可以制备出特殊性能的薄膜材料。 ①基金项目：河南科技大学实验技术开发基金（ＳＹ１１１２００８）； 科研创新能力培育基金（２０１２ＺＣＸ０１７）。 作者简介：马景灵（１９７０—），女，河南科技大学副教授，博士，Ｅ－ｍａｉｌ：ｍａｊｉｎｇｌｉｎｇ．ｓｔｕｄｅｎｔ＠ｓｉｎａ．ｃｏｍ。 磁控溅射镀膜技术的发展及应用① 马景灵 任风章 孙浩亮 (河南科技大学材料科学与工程学院 河南洛阳 471023) 摘 要：近年来，随着新材料的开发，尤其是薄膜材料的发展和应用，带动磁控溅射沉积技术的飞速发展，在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了磁控溅射沉积技术的工艺过程及其发展情况，各种主要磁控溅射镀膜技术的特点，并介绍磁控溅射技术在各个领域的主要应用。关键词：磁控溅射 镀膜 辉光放电中图分类号：Ｇ４文献标识码：Ａ文章编号：１６７３－９７９５（２０１３）１０（ｂ）－０１３６－０２ (下转138页)
道路交通安全基础知识
编订：__________________ 审核：__________________ 单位：__________________ 道路交通安全基础知识 Deploy The Objectives, Requirements And Methods To Make The Personnel In The Organization Operate According To The Established Standards And Reach The Expected Level. Word格式 / 完整 / 可编辑
文件编号：KG-AO-3379-21 道路交通安全基础知识 使用备注：本文档可用在日常工作场景，通过对目的、要求、方式、方法、进度等进行 具体的部署，从而使得组织内人员按照既定标准、规范的要求进行操作，使日常工作或 活动达到预期的水平。下载后就可自由编辑。 (一)道路交通系统的三要素 道路交通系统的基本要素是人(包括驾驶员、行人、乘客等)、车(包括机动车和非机动车等)、路(包括公路、城市道路、出入口道路及其相关设施)和环境（路外的景观、管理设施和气候条件等）。在四要素中，驾驶员是系统的理解者和指令的发出及操作者，它是系统的核心，路和车的因素必须通过人才能起作用。四要素协调运动才能实现道路交通系统的安全性要求。 (二)各种车辆的安全运行要求 1．客货运输车辆的安全运行要求 1)运输车辆的安全要求
车辆满足安全行驶要求，是减少交通事故的必要前提。行驶安全性包括主动安全性和被动安全性。主动安全性指机动车本身防止或减少交通事故的能力，它主要与车辆的制动性、动力性、操纵稳定性、舒适性、结构尺寸、视野和灯光等因素有关；被动安全性是指发生车祸后，车辆本身所具有的减少人员伤亡、货物受损的能力。提高机动车被动安全性的措施有：配置安全带、安全气囊，安装安全玻璃，设置安全门、配备灭火器等。 为督促车主保持良好的车况、确保行车安全、减少能耗和环境污染，应按有关规定对机动车进行安全检验。国家质量监督检验检疫总局于20xx年7月12日发布了国家标准《机动车运行安全技术条件》(GB 7258—2004)。该标准规定了机动车的整车及主要总成、安全防护装置等有关安全运行的基本要求及安全检验方法，还规定了机动车的环保要求。 2)旅客运输安全运行要求 客运班车、旅游客车应当按照县级以上人民政府
(完整版)道路交通安全知识培训课件
道路交通安全知识培训课件 内容概括： 1、交通道路安全知识 2、出车前安全准备 3、人体疲劳“三个阶段” 4、调整状态再工作 5、制动突然失灵该怎么办？ 6、汽车自燃的原因与预防 7、大风天气如何驾车 8、冰雪道路如何防止车辆滑溜 9、雨、雪天安全驾驶技巧10、冰雪路面行车“七要素” 11、发生交通事故怎么报警及报警内容12、发生意外怎么办？ 13、伤情判断和自救14、机动车故障应急处理 1、驾驶机动车不得有下列行为： （1）在车门、车厢没有关好时行车； （2）在机动车驾驶室的前后窗范围内悬挂、放置妨碍驾驶人视线的物品； （3）拨打接听手持电话、观看电视等妨碍安全驾驶的行为； （4）下陡坡时熄火或者空挡滑行； （5）向道路上抛撒物品； （6）驾驶摩托车手离车把或者在车把上悬挂物品； （7）连续驾驶机动车超过4小时未停车休息或者停车休息时间少于20分钟； （8）在禁止鸣喇叭的区域或者路段鸣喇叭。 （9）向道路上抛撒物品； （10）驾驶摩托车手离车把或者在车把上悬挂物品； （11）连续驾驶机动车超过4小时未停车休息或者停车休息时间少于20分钟； （12）在禁止鸣喇叭的区域或者路段鸣喇叭。 2、汽车驾驶员一般应具备哪些知识？ 汽车驾驶员应对确保安全和对各种事物规律性的必要认识和理解。
应具备“五知”、“撞击力”、“速度”、“空间”等几个方面概念。（1）“五知”：指知人、车、路、天、货； （2）撞击力：汽车在运动中动能，可根据物理学动能定律公式求得。要明确车速愈快，动能愈大，所以道路上任何人、车、物是经不起撞击的； （3）速度：汽车在运行过程中遇到意外情况不是一刹就停的。所以驾驶车辆人员必须掌握速度和制动距离的概念。要明确车速提高一倍，制动距离要增加四倍； （4）空间：是前后车距、横向和低空障碍高度等。 3、最易发生交通事故有哪些原因？ （1）车辆出发前未做安全检查； （2）超速、开快车； （3）长途、长时间开车，精神体力不佳； （4）酒后开车； （5）随意超车、乱换车道、蛇行行驶； （6）在高速公路行使路肩； （7）未保持安全距离； （8）不专心开车，驾驶中与人谈笑，或者车行中打电话，做其它事情等； （9）闯红灯； （10）转弯时未减速慢行。 4、汽车驾驶人心理素质主要表现在哪些方面？ 根据辩证法内外因果关系理论，外因是重要条件，内因是根本依据，外因是通过内因而起作用的。一个驾驶员安全行车与驾驶员技术水平和其心理因素有关。从实践证明：心理素质好的驾驶人员，能做到几十年如一日。安全行车上百万公里；而心理素质差的驾驶人员则是大小行车
真空基本知识
真空基本知识 从第一讲的介绍已经知道：真空这个概念实际上只是泛指低于大气压的气体状态。因此，这个科学名词实际上是不科学的。“真空”并非一无所有，因为大气实际上是抽不尽的。即便用现代最先进的抽气手段去抽气，在达到10-12 Pa 的压力时,每1个cm3的空间内仍然有几千个气体分子。美国“阿波罗11号”航天器登月后，宇航员曾用真空测量仪器实测验了月球表面的真空度。在该测量点，日出时的真空度为10-10 Pa，日落后真空度约为10-12 Pa。这就表明在寂静荒凉的月球上，“真空”也是不空的。在物理学中，计算大气的分子密度有如下的近似公式。 N =7.3×1016 P/T 式中，N是大气的分子密度（个/cm3）；P是气体的压力，即表征现在所说的真空度（Pa）；T是热力学温度（ K ）。从这个公式可以知道，真空容器中气体分子的密度与真空度和温度都有关系。在月球表面每1cm3空间的中还有几千个气体分子。在标准状态下（常温常压），1 cm3的空间中气体分子数多达1021个。 2、压力的单位 在真空的发展史中，常用到的两个表征压力的单位是T orrt和Pa。Torr =1mmHg,，Torr与 Pa之间的关系是如何推算呢？物理学中，计算压力的公式是：P = ρgh式中，P代表气体的压力（Pa）；ρ是密度（水银的密度为136 kg /m3）；g是重力加速度（9.8 m/s2）;h是表征压力的水银柱高度（m）。如果以1个大气压来计算，将h =0.76 m 代入上式，可得P ≈105 Pa 。如果以h = 1 mm =10-3m代入，则得
P ≈ 133 Pa。这就是说1Torr ≈ 133 Pa。Pa是代表压力的国际计量单位。中国真空网上，压力的单位都有用Pa来表示。 3、稀薄气体的特性 真空条件下，容器内的气体分子数明显减少。随着分子数目的减少，分子之间、分子与器壁之间相互碰撞的次数逐渐减少。这就给气体分子在空间的自由飞行创造了有利的条件。与此同时，一个在真空物理中的专用名词——“平均自由程”就出现了。平均自由程指的是分子的分子是自由运动的平均路程。即分子在热运动的过程中经过两次碰撞后行进的路程。由于分子的热运动总是处于杂乱无章的状态中，所以这种自由运动的路程绝对不会是相同的。为了说明问题，就把许多分子经过两次碰撞后行进的路程进行平均计算，这个值就叫做气体分子的平均自由程。在真空物理中，它的近似计算公式是λ= 5×10-3/P 式中, λ是气体分子的平均自由程（cm）；P是压力（Pa）。 λ的大小实际上反映了气体的稀薄程度。按上式计算，在常压下，λ= 0.06 μ当P = 10-6 Pa 时,λ= 5000m。这时，气体分子之间相互碰撞的机会已经很小了。在许多真空应用中，正是利用了这个特殊的环境条件。 随着容器内气体分子数目的减少，自然就出现了真空度不断提高的过程。“真空度”又是一个在真空物理中经常出现的专有名词。也表征了低压容器中气态物质的稀薄程度。气体压力越低，它的稀薄程度就越大，即真空度越高。因此，低压力与高真空或高压力与低真空在含意上是完全相同的。
2016年真空镀膜行业分析报告
2016年真空镀膜行业 分析报告 2016年10月
目录 一、行业概况 (4) 4 1、概念及行业上下游情况 .................................................................................... （1）概念 (4) （2）上下游产业 (4) 5 2、行业发展概况 .................................................................................................... （1）发展概况 (5) （2）行业发展中的不足 (7) ①国内企业规模偏小，行业集中度低 (7) ②人力成本优势下降 (7) ③加工技术与设备机械化水平低，研发与创新能力薄弱 (7) （3）行业发展趋势 (8) ①PVD技术趋于主流地位 (8) ②环保行业欣欣向荣促进应用领域多元化 (9) ③消费者需求多样化和下游行业需求旺盛 (9) ④政府大力支持 (10) 二、行业管理 (10) 1、行业主管部门及监管体制 (10) （1）政府监管 (11) （2）行业自律 (11) 2、行业主要法律法规及相关政策 (11) 三、行业规模 (12) 四、影响行业发展的因素 (14) 14 1、有利因素 .......................................................................................................... （1）政策支持 (14) （2）下游行业的客户需求比较稳定 (15) 15 2、不利因素 ..........................................................................................................
学生交通安全知识讲座
学生交通安全知识讲座 很高兴来到这美丽的校园，为大家上一堂交通安全课。每次，我在不同的学校讲课时，看着同学们一张张可爱的脸，看着同学们充满勃勃生机的身影，我就深深感叹：生命是多么美丽，世界是这样美好！ 同学们，你们是祖国的未来和希望，你们能否健康成长，不仅关系到一个个家庭的幸福，而且关系到国家和民族的兴衰成败。所以，我们的社会，我们每个人（包括你们自己），都有责任和义务保障你们的健康和安全。今天，我要讲的课题便是与你们的健康和安全息息相关的道路交通安全，我讲课的主题是：珍爱生命，安全出行。 说起道路交通安全，我们便不能不提到道路交通事故。人们说，交通事故猛于虎。可是老虎再凶，也只能一口吃掉一个人，而交通事故则会一口吞噬几个甚至几十个人的生命。现在我向大家介绍一组数字： 去年，世界交通事故死亡人数达50万人，其中中小学生占了10万多。而我国交通事故死亡人数则无法谦虚地排在了世界第一。我国每年交通事故死亡人数都在10万多人，平均每天死亡达300人，这真是一个比战争还要无情，还残酷的数字。就在2006年的11月14日早上6点，山西沁源县二中
900多个学生在公路上晨跑时，一辆大东风带挂货车向学生横冲直撞过来，造成21名师生死亡，18人受伤。当时公路上躺满了遇难学生的尸体。 这一连串触目惊心的数字背后，这一起起惨烈的事故背后，有多少家庭失去了亲人，有多少欢乐变成了悲剧，有多少幸福化为乌有。在每一起交通事故背后，是一个个家庭失去了顶梁柱，是一个个白发人送走了黑发人，是一个个孩子与父母阴阳两隔。是什么原因导致我们道路交通事故频频发生？据调查统计，在所有的交通事故中，除极少数属意外原因造成，75%以上的事故是驾驶员或行人的人为因素造成的。 综观这么多起交通事故，我们不难发现，我国交通事故频发的根本原因，就是人们不珍惜生命，不遵守规则。生命对于一个人来说，只有一次，应该爱护，应该珍惜。出入平安，这是大家都希望的所求心。然而，很多人却为图“方便”或为了眼前的利益而违反交通法规。殊不知，许多交通事故的发生往往源于某些不经意的违法行为。在他们当中，有一部分是对交通法规不甚了解，对安全常识掌握不多，有一些人是抱着侥幸心理，明知原故犯的。所以学习和遵守交通法是每一个人珍惜自己和他人生命，使交通秩序安全有序所以必须履行的义务。有人比喻，道路交通法规是用亲人的泪水，死者的血泊，伤者的呻吟和肇事者的悔恨挽来的。然而，社会上有些人却不愿学习，要他学也想学，而筹到付出了金钱，鲜血或生命的代价才
交通安全知识培训
造成交通事故的主要原因 （一）、我们驾驶员驾车一天中要经过几个“危险时段”，应引起驾驶员的高度重视： 1、中午 大约在11时—13时。此时由于人的大脑神经已趋疲劳，导致反应灵敏度减弱，加之有的司机急于赶路，把本该吃饭的时间一拖再拖，饥肠辘辘，手脚发软，极易发生意外。同时，午餐后人体内大量血液集中作用于胃肠等消化器官，脑部供血相对减少，会出现短暂的困倦感，应休息一会儿，千万不要急于加班开疲劳车。 2、晚饭后 大约在18时—22时。该时段通常为夜间交通事故的高发期。因为现在人们的夜生活丰富多彩，除了一般的晚宴外，还有跳舞、唱卡拉OK等娱乐活动，此时，不论是行人还是驾车人都十分疲倦，安全意识薄弱，极易发生交通事故。 3、午夜 大约23时—3时，此时万籁俱寂，万物处于“休眠状态”，路上行人车辆稀少，驾驶员易产生麻痹心理，此外，这段时间为全天温度最低时刻，易导致大脑反应迟钝，血压降低，手足血管神经僵硬、麻痹。这些都加大了交通事故发生的概率。 （二）、造成交通事故的主要原因还是由于驾驶员无视交通法造成的，其中以饮酒后驾车最为严重。所谓“饮酒后”，一是指不论饮量多少，只要饮用了含有酒精的酒，包括白酒、啤酒或果酒等，时间在八小时以内的，均为饮酒后；二是酒精检测器检测，看血液中是否含有酒精成分，含有酒精成分的则为“酒后”。那么，为什么规定酒后不准驾驶机动车呢？因为机动车是一种速度快、冲力大的交通工具，它要求驾驶员行车时，对于道路上瞬息万变的交通情况，要在0．75秒内做出迅速的判断，并采取恰当的技术措施，才能保证交通安全。饮酒后，酒会对人的中枢神经起麻醉抑制作用。实验证明，饮酒者每100毫升血液中含酒精50毫克时，反应能力即有所下降，达到100毫克时，下降约35％，达到150毫克时，下降50％，并使人动作失调，手脚失控。驾驶员在没有饮酒的情况下行车，发现前方危险情况，从视觉感知到踩制动踏板的动作之间的反应时间一般为0．75秒。饮酒后一是驾驶员会出现远视，视物的立体感上发生误差；二是反应时间要增大二至三倍。所以，我国《道路交通法》中规定禁止酒后开车。可有人误认为禁酒只限于白酒，实际上凡是酒类都含有酒精成分，如啤酒含3％至5％，葡萄酒含10％至15％，白酒含50％至60％。据统计，驾驶员酒后开车，其发生交通事故的比率为没有饮酒情况下的16倍。由于酒后开车，对交通秩序和交通安全危害极大，因此，我国把酒后开车按严重违章论处。 交通事故的处理程序 当然我们也不排除交通事故的偶然性。为了减少大家不必要的经济损失，节约大家的宝贵时间，我重点给大家讲一下发生了交通事故什么办，什么情况下使用交通快速处理程序即交通适用简易程序处理交通事故。 交通适用简易程序处理交通事故它范围是：交通事故未造成人员受伤，事实清楚，财产损失3万元（含）以下的交通事故；造成人员受伤，受伤人员认为自己伤情轻微并当事人对事实及成因无争议的交通事故。 适用简易程序处理交通事故程序为，一般处理程序：《事故认定书》记录事故情况→当事人签名→分析确定交通事故责任→当事人共同请求调解→当场调解→《事故认定书》记录调解结果→当事人签名→交付当事人《事故认定书》→处罚当事人交通违法行为。符合《交通事故处理程序规定》第18条规定的处理程序为：《事故认定书》记录事故情况→当事人签名→分析确定交通事故责任→交付当事人《事故认定书》→告知当事人可向人民法院提起民事诉讼→处罚当事人交通违法行为。快速处置交通事故规定的18种行为，填写《事故认定书》使用格式化文书，其他使用非格式化文书。填写《事故认定书》内容为：一是交通事故