C—mount封装不同激光器芯片尺寸的热阻分析

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芯片封装的热阻分析

芯片封装的热阻分析

芯⽚封装的热阻分析概述半导体器件散热的三个主要途径是:封装顶部到空⽓,或者封装顶部到散热⽚再到空⽓封装底部到电路板封装引脚到电路板在JEDEC中以热阻Theta来表⽰,其中ThetaJA参数综合了Die的⼤⼩, 封装⽅式,填充材料,封装材料,引脚设计,外部散热⽚和外部电路板的属性多个因素;ThetaJC和ThetaJB这2个参数是表征芯⽚和封装本⾝的,不会随着芯⽚封装外部环境的改变⽽改变。

关于芯⽚外部温度的趣事半导体元器件"烫⼿"未必不正常,55C摄⽒温度就会让⼈感觉发烫,很多⼤功率的芯⽚,表⾯温度可以达到85C摄⽒度以上。

对于Thermal测量的⼏个参数的困惑JEDEC对芯⽚封装的热性能参数的定义热阻参数ThetaJA,结到空⽓环境的热阻,= (Tj-Ta)/PThetaJC,结到封装外壳的热阻,= (Tj-Tc)/P, ⼀般⽽⾔是到封装顶部的热阻,所以⼀般的,ThetaJC = ThetaJTThetaJB,结到PCB的热阻, = (Tj-Tb)/P热特性参数PsiJT,结到封装顶部的热参数,=(Tj-Tt)/PPsiJB, 结到封装底部的热参数,=(Tj-Tb)/P其中:Tj - 芯⽚结温Ta - 芯⽚环境温度Tb - 芯⽚底部的表⾯温度Tc/Tt - 芯⽚顶部的表⾯温度按照JESD测量⽅法得出的ThetaJA热阻参数是对封装的品质度量,并⾮是application specific的热阻参数,只能是芯⽚封装的热性能品质参数的⽐较,不能应⽤于实际测量和分析中的结温预测。

PsiJT和PsiJB和ThetaXX参数不同,并⾮是器件的热阻值,只是数学构造物。

ThetaJA 结到空⽓环境的热阻ThetaJA是最常使⽤的热阻参数,也是最容易引起误解的参数。

IDT公司的定义ThetaJA = (Tj - Ta)/PThetaJA = (ThetaJB + ThetaBA) || (ThetaJC + ThetaCA);其中ThetaXY = (Tx - Ty)/PAltera公司的定义Without a heat sink, ThetaJA = ThetaJC + ThetaCA = (Tj - Ta)/PWith a heat sink , ThetaJA = ThetaJC + ThetaCS + ThetaSA = (Tj - Ta)/P实际上,Altera公司对加散热器的ThetaJA的定义不够严谨,散热器的引⼊相当于增加了⼀个散热通道,即增加了从管壳(Case)到散热器(heat Sink)的散热通道,所以加⼊散热器后,ThetaJA(heat sink) = ThetaJC + ( ThetaCA || ( ThetaCS + ThetaSA) )由于ThetaCA >> (ThetaCS + ThetaSA), 所以上式才可以近似化简为:ThetaJA = ThetaJC + ThetaCS + ThetaSA, 其中ThetaCS通常是导热硅脂或者硅胶, 热阻⾮常⼩TI公司的定义根据TI⽂档spra953c的描述, JESD定义ThetaJA的初衷是为了⼀种封装的相对热阻性能可以被互相⽐较,⽐如TI公司的某个芯⽚的热阻性能和其它公司的热阻性能做对⽐,前提是两家公司都是⽤JESD51-x中规定的标准⽅法来做测试,但是⼤部分芯⽚的热阻系数不会严格按照JESD51中规定的标准⽅法进⾏测量。

MOS管封装分析报告

MOS管封装分析报告

MOS管封装分析报告(含主流厂商封装)在完成MOS管芯片在制作之后,需要给MOS管芯片加上一个外壳,这就是MOS管封装。

该封装外壳主要起着支撑、保护和冷却的作用,同时还可为芯片提供电气连接和隔离,从而将MOS管器件与其它元件构成完整的电路。

而不同的封装、不同的设计,MOS管的规格尺寸、各类电性参数等都会不一样,而它们在电路中所能起到的作用也会不一样;另外,封装还是电路设计中MOS管选择的重要参考。

封装的重要性不言而喻。

MOS管封装分类按照安装在PCB板上的方式来划分,MOS管封装主要有两大类:插入式(Through Hole)和表面贴装式(Surface Mount)。

插入式就是MOSFET的管脚穿过PCB板的安装孔并焊接在PCB板上。

常见的插入式封装有:双列直插式封装(DIP)、晶体管外形封装(TO)、插针网格阵列封装(PGA)三种样式。

插入式封装表面贴裝则是MOSFET的管脚及散热法兰焊接在PCB板表面的焊盘上。

典型表面贴装式封装有:晶体管外形(D-PAK)、小外形晶体管(SOT)、小外形封装(SOP)、方形扁平式封装(QFP)、塑封有引线芯片载体(PLCC)等。

表面贴装式封装随着技术的发展,目前主板、显卡等的PCB板采用直插式封装方式的越来越少,更多地选用了表面贴装式封装方式。

1、双列直插式封装(DIP)DIP封装有两排引脚,需要插入到具有DIP结构的芯片插座上,其派生方式为SDIP(Shrink DIP),即紧缩双入线封装,较DIP的针脚密度高6倍。

DIP封装结构形式有:多层陶瓷双列直插式DIP、单层陶瓷双列直插式DIP、引线框架式DIP(含玻璃陶瓷封接式、塑料包封结构式、陶瓷低熔玻璃封装式)等。

DIP封装的特点是可以很方便地实现PCB板的穿孔焊接,和主板有很好的兼容性。

但由于其封装面积和厚度都比较大,而且引脚在插拔过程中很容易被损坏,可靠性较差;同时由于受工艺的影响,引脚一般都不超过100个,因此在电子产业高度集成化过程中,DIP封装逐渐退出了历史舞台。

石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性

石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性

第40卷㊀第7期2019年7月发㊀光㊀学㊀报CHINESEJOURNALOFLUMINESCENCEVol 40No 7Julyꎬ2019文章编号:1000 ̄7032(2019)07 ̄0907 ̄08石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性房俊宇ꎬ石琳琳∗ꎬ张㊀贺ꎬ杨智焜ꎬ徐英添ꎬ徐㊀莉ꎬ马晓辉(长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室ꎬ吉林长春㊀130022)摘要:为使边发射高功率单管半导体激光器有源区温度降低ꎬ增加封装结构的散热性能ꎬ降低器件封装成本ꎬ提出一种采用高热导率的石墨片作为辅助热沉的高功率半导体激光器封装结构ꎮ利用有限元分析研究了采用石墨片作辅助热沉后ꎬ封装器件的工作热阻更低ꎬ散热效果更好ꎮ研究分析过渡热沉铜钨合金与辅助热沉石墨的宽度尺寸变化对半导体激光器有源区温度的影响ꎮ新型封装结构与使用铜钨合金作为过渡热沉的传统结构相比ꎬ有源区结温降低4.5Kꎬ热阻降低0.45K/Wꎮ通过计算可知ꎬ激光器的最大输出功率为20.6Wꎮ在研究结果的指导下ꎬ确定铜钨合金与石墨的结构尺寸ꎬ以达到最好的散热效果ꎮ关㊀键㊀词:半导体激光器ꎻ散热性能ꎻ石墨辅助热沉ꎻ有限元分析ꎻ封装结构中图分类号:TN248㊀㊀㊀文献标识码:A㊀㊀㊀DOI:10.3788/fgxb20194007.0907HeatTransferCharacteristicsofHighPowerSemiconductorLaserwithGraphiteSheetasAuxiliaryHeatSinkFANGJun ̄yuꎬSHILin ̄lin∗ꎬZHANGHeꎬYANGZhi ̄kunꎬXUYing ̄tianꎬXULiꎬMAXiao ̄hui(NationalKeyLaboratoryonHighPowerSemiconductorLaserꎬChangchunUniversityofScienceandTechnologyꎬChangchun130022ꎬChina)∗CorrespondingAuthorꎬE ̄mail:linlinshi88@foxmail.comAbstract:Inordertoreducethetemperatureoftheactiveregionofthehigh ̄powersingle ̄tubesemi ̄conductorlaserꎬincreasetheheatdissipationperformanceofthepackagestructureꎬandreducethecostofthedevicepackageꎬahigh ̄powersemiconductorlaserpackagestructureusingahighthermalconductivitygraphitesheetasanauxiliaryheatsinkisproposed.Usingfiniteelementanalysisꎬtheuseofgraphitesheetsasauxiliaryheatsinkshasbeenstudiedꎬandthepackageddeviceshavelowerthermalresistanceandbetterheatdissipation.Theeffectofthevariationofthewidthdimensionofthetransitionheatsinkcopper ̄tungstenalloyandtheauxiliaryheatsinkgraphiteontheactiveregiontemperatureofthesemiconductorlaserwasinvestigated.Comparedwiththetraditionalstructureusingcopper ̄tungstenalloyasthetransitionheatsinkꎬthenewpackagestructurehasajunctiontemperatureof4.5Kandathermalresistanceof0.45K/W.Accordingtothecalculationꎬthemax ̄imumoutputpowerofthelaseris20.6W.Undertheguidanceoftheresearchresultsꎬthestructuraldimensionsofcopper ̄tungstenalloyandgraphitecanbedeterminedtoachievethebestheatdissipa ̄tioneffect.Keywords:highpowdersemiconductorlaserꎻheatdissipationꎻgraphiteheatsinkꎻfiniteelementanalysisꎻpackagestructure㊀㊀收稿日期:2018 ̄09 ̄18ꎻ修订日期:2018 ̄12 ̄03㊀㊀基金项目:国家自然科学基金(61804013)ꎻ吉林省优秀青年科学基金(20180520194JH)资助项目SupportedbyNationalNaturalScienceFoundationofChina(61804013)ꎻExcellentYouthFoundationofJilinProvince(20180520194JH)908㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第40卷1㊀引㊀㊀言半导体激光器具有体积小㊁重量轻㊁光电转换效率高㊁可靠性高等优点ꎬ在医学㊁军事㊁工业等领域有着广泛的应用[1 ̄3]ꎮ随着科学技术的发展ꎬ人们对半导体激光器的输出功率需求越来越高ꎮ激光器工作时有源区温度升高ꎬ造成激光器波长红移ꎬ阈值电流增大ꎬ光电转换效率下降ꎬ寿命降低等ꎬ严重时会使激光器彻底损坏[4 ̄5]ꎮ因此ꎬ热管理技术是高功率半导体激光器发展的一个重要环节ꎮ通过研究高功率半导体激光器热传导特性来提高其热管理技术㊁增加封装结构散热性㊁提高半导体激光器的输出功率具有重要意义ꎮ提高器件散热途径的方法主要有两种:一是采用散热性能更好的散热结构ꎻ二是研发出热导率更高的散热材料ꎮ为使高热导率的材料能与管芯热膨胀系数相匹配ꎬ通常使用与激光器芯片热膨胀系数相差较小的过渡热沉来提高材料间的匹配度ꎬ以减小硬焊料对芯片产生的残余应力ꎬ提高器件的可靠性[6]ꎮ常见过渡热沉有氮化铝㊁碳化硅等陶瓷材料和钨铜合金㊁铜钼合金等金属合金材料[7 ̄11]ꎮ目前ꎬ国内外所研究的导热性能良好的过渡热沉材料普遍价格昂贵ꎬ且不能突破兼顾热膨胀系数匹配和热导率较高这一瓶颈ꎬ因而在过渡热沉材料的选择与设计方面还有很大的提升空间ꎬ因此需要对热沉材料与结构进行优化设计ꎮ近年来ꎬ石墨因具有优异的机械㊁光学㊁电子和热性能引起了国内外科研工作者的极大关注ꎮ石墨作为一种超高导热材料ꎬ体积小㊁重量轻ꎬ是电子和光子器件热管理的理想材料ꎬ目前在电子器件中已经有了广泛的应用ꎮOno等提出使用石墨片作为一种被动部署的散热器ꎬ该散热器可以通过根据温度改变其散热面来控制散热量ꎬ被用作小型卫星上的新型热控装置[12]ꎮWen等使用商业石墨片用作燃料电池的散热器ꎬ石墨片切割成流通形状与通道板结合使热量通过石墨片向外传导ꎬ有效降低燃料电池的反应区域的温度[13]ꎮ研究表明石墨具有超高导热性ꎬ最高可达1000W/(m K)ꎬ比一般金属导热材料高约3倍ꎬ但是由于石墨导热率的各向异性特征ꎬ横向热传导率较高而纵向热传导率较低以及石墨的热膨胀系数与半导体激光器材料GaAs不匹配等难题ꎬ使得石墨在半导体激光器封装结构的应用方面很少有人研究[14]ꎮ因此ꎬ如何将这种超高热导率石墨应用在半导体激光器封装结构中具有较高的研究价值ꎬ利用其较高的横向导热性ꎬ增大水平方向热通量传导效率ꎬ从而达到减少半导体激光器有源区温度㊁增大半导体激光器输出功率的目的ꎬ成为本文的研究重点[15]ꎮ本文在传统封装结构的基础上ꎬ通过在过渡热沉两侧引入石墨片作为该结构的辅助热沉ꎬ依据C ̄Mount封装方式热传导路径ꎬ充分利用石墨极高的横向热导率以达到更好的降低结温的目的ꎮ同时石墨片通过过渡热沉铜钨合金传导芯片所产生的热量ꎬ解决了石墨片与半导体激光器热膨胀系数不匹配的问题ꎮ利用有限元分析软件ANSYS建立模型ꎬ选用热导率较高的导电材料铜钨合金(WCu)作为过渡热沉ꎮ通过模拟结果可以发现ꎬ在减少过渡热沉WCu长度和宽度尺寸的情况下ꎬ可以更好地减少封装结构的热阻ꎬ降低半导体激光器结温ꎬ达到了降低器件热阻的目的ꎬ从而提高半导体激光器的输出功率ꎮ2㊀建立模型对传统边发射单管半导体激光器封装结构建立模型ꎬ其中在理论模拟过程中做出如下设定[16 ̄18]:在半导体激光器正常工作过程中ꎬ所产生的热量主要来源于有源区中载流子复合㊁吸收和自发发射ꎻ由于半导体激光器体积较小ꎬ因此忽略激光器的辐射散热及与空气对流散热ꎻ由于C ̄Mount封装结构的后表面固定在其他制冷结构上ꎬ所以模拟过程中ꎬ在其结构的后平面设置固定温度298Kꎬ并且半导体激光器芯片采用倒装式封装ꎮ该C ̄Mount铜热沉尺寸为6.86mmˑ6.35mmˑ2.18mmꎬ由于该半导体激光器封装方式采用C ̄Mount封装ꎬ其导热路径如图1所示[19]ꎮCoolerHeatsinkChip图1㊀C ̄Mount封装导热路径示意图Fig.1㊀ThermalconductionpathinC ̄Mountpackage㊀第7期房俊宇ꎬ等:石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性909㊀模拟计算中所使用的半导体激光器光电参数为:波长808nmꎬ电光转换效率50%ꎬ连续条件下输出功率10Wꎬ激光器芯片尺寸为1.5mmˑ0.5mmˑ0.15mmꎬ发光区宽度100μmꎮWCu热沉尺寸为3.35mmˑ2.18mmˑ0.5mmꎮ为满足与激光器芯片热膨胀系数匹配的要求和此后过渡热沉的尺寸设计要求ꎬ选用与铜热膨胀系数匹配的电导率较好的WCu材料作为过渡热沉ꎮ为阻挡焊料向下扩散ꎬ便于引线键合ꎬ在过渡热沉铜钨合金的上下表面分别镀有金属层ꎮ模拟分析所涉及的材料参数如表1所示ꎮ表1㊀材料参数Tab.1㊀MaterialparametersMaterialThermalconductivity/(W m-1 K-1)Thickness/μmCoefficientofthermalexpansion/(10-6K)GaAs551506.4MetallizationlayerCu3980.318Tungstencopper2100.5ˑ1034.5graphite1000㊁350.5ˑ1032copperheatsink3986.86ˑ10318在半导体激光器工作过程中ꎬ所产生的热量主要来自以下方面[20 ̄21]:(1)激光器有源区在正常工作状态下有很高的载流子密度和光子密度ꎬ部分电子与空穴非辐射复合㊁辐射吸收与自发辐射吸收ꎬ其产生的热量Q1为:Q1=Vdact{jth(1-ηspfsp)+(j-jth)ˑ[1-ηex-(1-ηi)fspηsp]}ꎬ(1)其中ꎬV为PN结上的结电压ꎬηsp为自发辐射内量子效率ꎬfsp为自发辐射光子逃逸因子ꎬdact为有源区厚度ꎬj为电流密度ꎬjth为阈值电流密度ꎬηex为外微分量子效率ꎬηi为受激辐射内量子效率ꎮ(2)当半导体激光器工作时ꎬ由于各层材料电阻引起的焦耳热ꎬ计算公式为:Q2=j2ρ+ρj2dcꎬ(2)其中ꎬQ2为焦耳热功率密度ꎬρ为各材料层的电阻率ꎬdc为欧姆接触层厚度ꎮ(3)盖层以及衬底材料对有源区自发辐射逃逸光子的吸收所产生的热量为:Q3=V2dijthηspfꎬ(3)其中ꎬdi为除有源区外各层材料的厚度ꎮ激光器在正常工作状态下ꎬ热传导方程为:K∂2T∂x2+∂2T∂y2+∂2T∂z2()+Q=0ꎬ(4)其中ꎬT为激光器有源区温度ꎬK为材料热传导系数ꎬQ为半导体激光器热功率密度ꎮ3㊀模拟结果与分析3.1㊀WCu热沉宽度的变化对芯片结温的影响金属铜与芯片材料GaAs的热膨胀系数差距较大ꎬ为减少封装过程中所带来的封装应力ꎬ采用与GaAs的热膨胀系数相近的WCu材料作为过渡热沉ꎬ同时由于WCu材料具有很好的导电性ꎬ便于正电极连接ꎮ利用有限元分析法探讨在传统封装结构中ꎬWCu热沉宽度的变化对芯片结温的影响ꎬWCu热沉的长度与厚度分别为2.18mm和0.5mmꎬWCu宽度由3.35mm减少到0.6mm时ꎬ半导体激光器有源区温度变化如图2所示ꎮ半导体激光器有源区温度为Tjꎬ热沉的最低温度为T0ꎬ热功率为Ptemꎬ根据激光器热阻Rth的表达式:354W/mmT/K0.5 3.53503523483463443423403381.01.52.02.53.0T图2㊀半导体激光器有源区温度与铜钨合金宽度W变化曲线Fig.2㊀Variationcurveofactiveregiontemperatureandtung ̄stencopper(CuW)widthWvalueofsemiconductorlaser㊀910㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第40卷Rth=Tj-T0Ptemꎬ(5)从图2中可以看出ꎬ当WCu热沉宽度尺寸从3.35mm减少到0.6mm时ꎬ结温从339.4K增加为352.2Kꎬ热阻从4.14K/W增加到5.42K/Wꎮ其原因是热沉宽度的减小影响了热流的横向散热ꎬ降低了器件散热能力ꎮ因此ꎬ提高半导体激光器的横向导热性能是改善激光器散热能力的重要瓶颈ꎮ3.2㊀石墨片作辅助热沉热模拟3.2.1㊀石墨片导热性能在固体材料中ꎬ热传导方式主要分为两种ꎮ一种是通过自由电子振动实现ꎬ如金属材料ꎮ另一种由晶体内晶格原子的振动波即声子振动实现ꎬ如石墨[22]ꎮ在石墨的网状结构中ꎬ声子振动的热振幅很大ꎬ致使石墨具有高的晶面导热系数ꎬ可达1000W/(m K)以上[23]ꎻ但在垂直网状结构的方向ꎬ由于声子振动的热振幅很小ꎬ在该方向的热导率仅有35W/(m K)ꎮ因此ꎬ石墨片是一种各向导热异性的导热材料ꎬ横向导热率明显优于纵向导热率ꎬ且明显高于常用的金属热沉热导率ꎬ所以在封装领域中有着极高的研究价值ꎮ3.2.2㊀新型封装结构使用石墨片作辅助热沉的新型封装结构示意图如图3所示ꎮ在传统封装结构中ꎬWCu热沉两边分别使用石墨作为辅助热沉ꎬ石墨首先通过化学镀铜法或电镀铜法使石墨表面金属化ꎬ使石墨表面具有金属的性质ꎬ从而实现石墨分别与铜热沉㊁WCu过渡热沉接触面的焊接工艺[24 ̄26]ꎮ表面金属化后的石墨与WCu接触部分使用焊料焊接ꎬ使得二者在工作过程中紧密接触ꎮ石墨长度和厚度分别为2.18mm和0.5mmꎬ在石墨辅助热沉㊁WCu热沉以及C ̄Mount铜热沉的后表面设置固定温度为298Kꎮ图3(b)所示为由芯片所产生的热量通过过渡热沉分别向后表面冷却面㊁铜热沉以及石墨片辅助热沉传导散热ꎬ使半导体激光器有源区的温度降低ꎮ铜石墨芯片铜钨合金(a)(b)图3㊀(a)石墨片作辅助热沉的新型封装结构示意图ꎻ(b)石墨局部热传递示意图ꎮFig.3㊀(a)Schematicdiagramofnewpackagingstructureofgraphitesheetasauxiliaryheatsink.(b)Schematicdiagramoflo ̄calheattransferingraphite.增加石墨片平行于半导体激光器芯片端面方向的尺寸ꎬ同时减少铜钨合金的宽度(W)ꎬ保证二者宽度尺寸总和为3.35mmꎮ当WCu尺寸分别由2.0mm变化到0.6mm时ꎬ计算各个参数下的芯片结温ꎮ如图4所示ꎬ通过不同尺寸下的激光器温度分布云图可以看出ꎬWCu宽度从2.0mm减小到0.6mm时ꎬ结温逐渐下降ꎬ分别从338.9K减小到334.9Kꎬ热阻Rth也逐渐降低ꎬ从4.09K/W变化为3.69K/Wꎮ随着WCu尺寸的减小ꎬ更多热量传导到石墨片上ꎬ散热效果明显提高ꎬ当铜钨合金热沉的宽度为0.6mm时ꎬ半导体激光器有源区温度达到最小ꎮ为进一步分析横向热传导性能ꎬ对传统封装结构和石墨片作辅助热沉的封装结构的端面方向热流矢量进行模拟分析ꎬ如图5所示ꎮ其中图5(a)㊁(b)分别为W=0.6mm和W=3.35mm的传统封装结构ꎬ图5(c)㊁(d)分别为W=0.6mm和W=2.0mm的石墨片作辅助热沉的封装结构的热流矢量图ꎮ从图5(a)㊁(b)中可以看出ꎬ传统封装结构有源区热量仅向下通过过渡热沉WCu和铜热沉进行散热ꎬ当WCu热沉尺寸增大(图5(b))ꎬ封装结构热阻与结温温度有所降低ꎮ图5(c)㊁(d)为采用石墨片作辅助热沉的封装结构的热流矢量图ꎬ从图中可以看出ꎬ有源区热量首先扩散到WCu热沉中ꎬ由于石墨片具有较高的横向热导率ꎬ致使扩散到WCu的热量首先通过石墨㊀第7期房俊宇ꎬ等:石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性911㊀0.8mm 1.0mm (a )298307.0302.5311.6316.1325.2320.7329.8334.3338.92.0mm(b )298324.8315.8306.9302.4311.4320.3329.3338.2333.71.5mm(c )298311.11.2mm319.9328.7337.5333.1324.3315.5306.7302.3(d )298(e )(f )298330.8314.4336.9328.2332.6323.9319.6315.3310.9306.6302.3336.0327.5331.8323.3319.1314.9310.6306.4298302.2322.6326.7318.5310.3306.2302.10.6mm334.9图4㊀不同过渡热沉宽度尺寸器件温度分布云图Fig.4㊀Graphitetemperaturedistributionofanewpackagestructurewithdifferentwidthsoftungstencarbide(a )(c )0.6mm0.6mm(b )(d )3.35mm2.0mm图5㊀传统封装结构和石墨片作辅助热沉的封装结构热流矢量图ꎮ(a㊁b)传统封装结构热流矢量图ꎻ(c㊁d)石墨片作辅助热沉的封状结构结构热流矢量图ꎬ热量随石墨片尺寸增加ꎬ散热效果明显ꎮFig.5㊀Traditionalpackagestructureandgraphitesheetasauxiliaryheatsinkpackagestructureheatflowvector.(aꎬb)Tradi ̄tionalpackagestructureheatflowvectordiagram.(cꎬd)Graphitesheetasauxiliaryheatsinksealstructureheatflowvector.Theheatisobviouslyincreasedwiththesizeofthegraphitesheet.片进行散热ꎬ其次再通过WCu和铜散热ꎬ随着石墨片尺寸的增大散热效果明显ꎮ因此ꎬ相比传统封装结构ꎬ通过对石墨辅助热沉的引入ꎬ利用其极高的热导率增大了封装结构的散热途径ꎬ可以很好地减小封装结构的热阻Rth和半导体激光器有源区温度Tjꎬ进而可以很好地降低连续工作的半导体激光器所产生的热量ꎮ对于半导体激光器ꎬ其结温计算表达式为:Tj=T0+(Pin-P)Rthꎬ(6)其中ꎬTj为激光器芯片结温ꎬT0为热沉温度ꎬPin为激光器的输入功率ꎬP为激光器的输出功率ꎬRth为热阻ꎮ由上述公式可知ꎬ激光器芯片结温受工作电流㊁热沉温度及器件热阻影响ꎮ半导体激光器阈值电流和有源区温度之间的关系为:Ith(T)=IRetexpT-TRetTtæèçöø÷ꎬ(7)其中ꎬIRet为温度TRet下的阈值电流ꎬTt为激光器特征温度ꎬ主要由激光器结构和材料决定ꎮ激光器斜率效率η随有源区温度变化的表达式为:η(T)=η(Tr)exp-(T-Tr)T1[]ꎬ(8)式中T1为斜率效率的特征温度ꎮ激光器输出功率与斜率效率和工作电流的关系为:P=η(T)Iꎬ(9)结合公式(6)㊁(7)㊁(8)㊁(9)可得出输出功率P:P=ηexp-Rth(IV-P)T1[]I-IRetexpRth(IV-P)T0[]{}.(10)912㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第40卷20535I /AP /W20.6W 18.8WR th =4.14R th =3.691015202530151050图6㊀不同热阻下的P ̄I特性曲线Fig.6㊀CharacteristiccurveofP ̄Iunderdifferentthermalre ̄sistance半导体激光器的输出功率与输入电流的关系曲线如图6所示ꎮ从图中可以看出随着封装热阻的减少ꎬ器件输出功率会增加ꎮ经过本文封装结构优化后ꎬ封装热阻降为3.69K/Wꎬ其最大输出功率为20.6Wꎮ4㊀结㊀㊀论为了降低边缘式高功率半导体激光器有源区温度ꎬ降低器件封装成本ꎬ在C ̄Mount封装结构的基础上ꎬ研究了一种使用石墨材料作为辅助热沉的封装结构ꎬ并理论分析比较其输出功率与传统封装结构的输出功率ꎮ在传统封装结构中ꎬ过渡热沉WCu宽度尺寸从3.35mm减小到0.6mm时ꎬ半导体激光器有源区温度从339.4K升高到352.2Kꎮ在使用石墨作辅助热沉的条件下ꎬ石墨片与WCu宽度和为3.35mmꎬ当过渡热沉尺寸从2.0mm减少到0.6mm时ꎬ结温从338.9K降到334.9Kꎮ相比于宽为3.35mm的WCu传统结构ꎬ其温度降低4.5Kꎮ在传统封装结构中ꎬ随着WCu宽度的减少ꎬ有源区温度升高ꎮ而新型封装结构与其相反ꎬ相比于传统结构ꎬ有源区温度降低4.5Kꎬ散热效果明显改善ꎮ通过计算可知ꎬ半导体激光器的最大输出功率为20.6Wꎮ该结构设计为今后高功率半导体激光器的发展提供了帮助ꎬ同时在商业上有着很高的使用价值ꎮ参㊀考㊀文㊀献:[1]韩晓俊ꎬ李正佳ꎬ朱长虹.半导体激光器在医学上的应用[J].光学技术ꎬ1998(2):7 ̄10.HANXJꎬLIZJꎬZHUCH.Laserdiodeappliedinmedicine[J].Opt.Technol.ꎬ1998(2):7 ̄10.(inChinese)[2]耿素杰ꎬ王琳.半导体激光器及其在军事领域的应用[J].激光与红外ꎬ2003ꎬ33(4):311 ̄312.GENGSJꎬWANGL.Thesemiconductorlaseranditsapplicationsinmilitary[J].LaserInfraredꎬ2003ꎬ33(4):311 ̄312.(inChinese)[3]张纯.半导体激光器在印刷工业上的应用[J].光电子 激光ꎬ1991ꎬ2(4):231 ̄235.ZHANGC.Theapplicationofthetransistor ̄laserintheprintingindustry[J].J.Optoelectr.Laserꎬ1991ꎬ2(4):231 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̄mount[J].J.ChangchunUniv.Sci.Technol.(Nat.Sci.Ed.)ꎬ2016ꎬ39(3):27 ̄31.(inChinese)[19]LIXNꎬZHANGYXꎬWANGJWꎬetal..Influenceofpackagestructureontheperformanceofthesingleemitterdiodela ̄ser[J].IEEETrans.Comp.ꎬPack.Manuf.Technol.ꎬ2012ꎬ2(10):1592 ̄1599.[20]井红旗ꎬ仲莉ꎬ倪羽茜ꎬ等.高功率密度激光二极管叠层散热结构的热分析[J].发光学报ꎬ2016ꎬ37(1):81 ̄87.JINGHQꎬZHONGLꎬNIYXꎬetal..Thermalanalysisofhighpowerdensitylaserdiodestackcoolingstructure[J].Chin.J.Lumin.ꎬ2016ꎬ37(1):81 ̄87.(inChinese)[21]姜晓光ꎬ赵英杰ꎬ吴志全.基于ANSYS半导体激光器热特性模拟与分析[J].长春理工大学学报(自然科学版)ꎬ2010ꎬ33(1):41 ̄43.JIANGXGꎬZHAOYJꎬWUZQ.ThermalcharacteristicsimulationandanalysisofsemiconductorlaserbasedonANSYS[J].J.ChangchunUniv.Sci.Technol.(Nat.Sci.Ed.)ꎬ2010ꎬ33(1):41 ̄43.(inChinese)[22]杨振忠ꎬ马忠良ꎬ王峰.基于石墨导热介质的新型LED路灯散热系统[J].照明工程学报ꎬ2011ꎬ22(3):49 ̄52.YANGZZꎬMAZLꎬWANGF.AnewLEDroadlightingluminaireheatdissipationsystembasedongraphitematerial[J].ChinaIllum.Eng.J.ꎬ2011ꎬ22(3):49 ̄52.(inChinese)[23]邱海鹏ꎬ郭全贵ꎬ宋永忠ꎬ等.石墨材料导热性能与微晶参数关系的研究[J].新型炭材料ꎬ2002ꎬ17(1):36 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半导体封装流程

半导体封装流程
定义:主要根据钎料的熔点温度来区分的,一般熔 点在450℃一下的焊料叫做软焊料;把熔点在450℃以上 的焊料叫做硬焊料。
主用焊料:Sn 5% Pb92.5%Ag2.5% 熔点:287℃—294℃之间 物理特性:
良好的导热和导电性能 ;低的导通电阻 Rds(on) 熔点高;工作温度高;热膨胀系数和高强度 焊接强度高耐振动;疲劳寿命时间长耐冷热循环 变形的能力强
工艺流程
Trim/Form 【切筋成型】
目的:将整条LF切割成单个的产品,在把管脚弄成客户需要的形状。 将切割好的产品机器自动放入料管里面,进入下个工序 Test;
工艺流程
Test 【测试】
目的:在半导体通过(DS-DA-WBMD-Plate-T&F)完成后,需要给需要 在送给客户使用之前进行各项参数测 试,剔除过程中的不合格产品,确保 出厂的产品都是经过测试筛选的,并 把测试合格的产品打上标签,包含器 件的型号、批次等信息。 机台: 分选机YOSHINE (型号YTH2510-11 )
整个测试过程必须要防静电,降低不 良率。
工艺流程
Test 【测试】
主要测试测参数:静态参数,雪崩能量参数,热阻参数 (主要针对MOSFET)
工艺流程
Packing 【包装】
目的:将产品包装出货。防止产品在运送过程中 以及上板前因为
震动,摩擦,温度,Attach【芯片粘接】
DA过程演示:
在轨道高温区加入混合气体( 90%N210%H2)进行保护,防止框 架、焊锡等发生氧化,对后续工序 产生影响。
Wire Dispensing
1. Solder wire moves downward &then upward to dispense solder onto the LF pad

IC封装的热特性-热阻

IC封装的热特性-热阻

IC封装的热特性摘要:IC封装的热特性对于IC应用的性能和可靠性来说是非常关键的。

本文描述了标准封装的热特性:热阻(用“theta”或Θ表示),ΘJA、ΘJC、ΘCA,并提供了热计算、热参考等热管理技术的详细信息。

引言为确保产品的高可靠性,在选择IC封装时应考虑其热管理指标。

所有IC在有功耗时都会发热,为了保证器件的结温低于最大允许温度,经由封装进行的从IC到周围环境的有效散热十分重要。

本文有助于设计人员和客户理解IC热管理的基本概念。

在讨论封装的热传导能力时,会从热阻和各“theta”值代表的含义入手,定义热特性的重要参数。

本文还提供了热计算公式和数据,以便能够得到正确的结(管芯)温度、管壳(封装)温度和电路板温度。

结温-PN结度热阻的重要性半导体热管理技术涉及到热阻,热阻是描述物质热传导特性的一个重要指标。

计算时,热阻用“Theta”表示,是由希腊语中“热”的拼写“thermos”衍生而来。

热阻对我们来说特别重要。

IC封装的热阻是衡量封装将管芯产生的热量传导至电路板或周围环境的能力的一个标准。

给出不同两点的温度,则从其中一点到另外一点的热流量大小完全由热阻决定。

如果已知一个IC封装的热阻,则根据给出的功耗和参考温度即可算出IC的结温。

Maxim网站(制造商、布线、产品、QA/可靠性、采购信息)中给出了常用的IC热阻值。

定义以下章节给出了Theta (Θ)、Psi (Ψ)的定义,这些标准参数用来表示IC封装的热特性。

ΘJA是结到周围环境的热阻,单位是°C/W。

周围环境通常被看作热“地”点。

ΘJA取决于IC封装、电路板、空气流通、辐射和系统特性,通常辐射的影响可以忽略。

ΘJA专指自然条件下(没有加通风措施)的数值。

ΘJC是结到管壳的热阻,管壳可以看作是封装外表面的一个特定点。

ΘJC取决于封装材料(引线框架、模塑材料、管芯粘接材料)和特定的封装设计(管芯厚度、裸焊盘、内部散热过孔、所用金属材料的热传导率)。

芯片发烧怎么办-热阻及散热【应用材料】

芯片发烧怎么办-热阻及散热【应用材料】

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2.热阻的计算及应用
②在设计初考虑热阻 设计阶段,可通知计算热阻来确定芯片是否适用或者是 否需要额外的措施散热。
如:使用1117LDO,输入5V,输出3.3V,电流200mA;判 断 是 否 肴荷题
注意:PCB基材的热膨胀系数跟铜伯最好一致
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3.影响芯片温度的其它因素
⑦PCB布局 热元件靠上放 热元件分开放 PCB垂直放时比平放散热效果好
优化前布局
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优化后布局
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3.影响芯片温度的其它因素
⑧机箱散热 在机箱/机器后壳的底部,顶部开窗,可利用烟囱 效应形成气流散热; 发散元件上方尽量不要放高大元件,影响散热; 利用风扇散热; 电视机两侧开孔作用不大;
系统进风口的面积大小按下式计算: S=Q/(7.4X105HX At15)...................................................(1) s-通风口而积的大小,cm2 Q-机柜内总的散热量,W
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H-机柜的高度,cm A t=t2-t,一内部空气温度%与外部空气温度t,之差,°C
3.影响芯片温度的其它因素
⑨常用的仿真软件 Fluent公司开发的IcePAK Flomerics公 司 开 发 的 Flotherm
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3. 得到准确的Qja后,可以有效的计算不同使用情况 下的结温,温升等数据。
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3.影响芯片温度的其它因素
①芯片的封装,工艺,材料变化都有影响,如:
Thermal Resistance (No Heatsink)

芯片尺寸封装的热应力及热失效分析研究

芯片尺寸封装的热应力及热失效分析研究

3、热失效的预防和诊断方法
最后,针对已经出现的热失效现象,可以进行失效分析,找出原因并进行改 进,避免类似问题的再次发生。
研究方法
1、分析热应力及热失效的影响 因素
1、分析热应力及热失效的影响因素
为了更好地研究热应力及热失效对芯片尺寸封装的影响,需要对相关的影响 因素进行分析。这些因素包括封装材料、结构、工艺、环境因素等。通过对这些 因素的综合分析,可以找到影响热应力及热失效的关键因素。
2、芯片尺寸封装中热失效的案例分析
以某款手机芯片为例,其在高温环境下的暂时性失效主要表现为信号不稳定、 数据处理速度下降等现象;而在低温环境下的永久性失效则表现为芯片内部电路 损坏、无法正常工作等现象。通过分析这些失效案例,可以发现热应力是导致热 失效的主要因素之一。
3、热失效的预防和诊断方法
3、热失效的预防和诊断方法
3、提出针对芯片尺寸封装的热 应力及热失效分析方法
3、提出针对芯片尺寸封装的热应力及热失效分析方法
在分析了影响因素和探讨了相关方法的基础上,本次演示提出针对芯片尺寸 封装的热应力及热失效分析方法。该方法主要包括以下几个步骤:首先,进行有 限元分析,模拟并预测封装体的热应力分布;其次,根据模拟结果进行故障树分 析,找出导致热失效的关键因素;最后,针对关键因素采取相应的预防和诊断措 施,提高封装的可靠性和稳定性。
热应力分析
1、不同封装技术下的热应力差 异分析
1、不同封装技术下的热应力差异分析
芯片尺寸封装的不同技术,如倒装焊、芯片级封装、系统级封装等,对热应 力分布有不同的影响。倒装焊中,芯片通过凸点与基板相连,热应力主要集中在 凸点周围。芯片级封装中,热应力主要集中在焊点、引线和芯片边缘。系统级封 装中,热应力分布较为复杂,受到整个封装结构和环境因素的影响。

IC 封装热阻的定义与量测技术

IC 封装热阻的定义与量测技术

IC封装热阻的定义与量测技术刘君恺热阻值用于评估电子封装的散热效能,是热传设计中一个相当重要的参数,正确了解其物理意义以及使用方式对于电子产品的设计有很大的帮助,本文中详细介绍了热阻的定义、发展、以及量测方式,希望使工程设计人员对于热阻的观念以及量测方式有所了解,有助于电子产品的散热设计。

介绍近年来由于电子产业的蓬勃发展,电子组件的发展趋势朝向高功能、高复杂性、大量生产及低成本的方向。

组件的发热密度提升,伴随产生的发热问题也越来越严重,而产生的直接结果就是产品可靠度降低,因而热管理(thermal management)相关技术的发展也越来越重要【1】。

电子组件热管理技术中最常用也是重要的评量参考是热阻(thermal resistance),以IC封装而言,最重要的参数是由芯片接面到固定位置的热阻,其定义如下:热阻值一般常用?或是R表示,其中Tj为接面位置的温度,Tx为热传到某点位置的温度,P为输入的发热功率。

热阻大表示热不容易传递,因此组件所产生的温度就比较高,由热阻可以判断及预测组件的发热状况。

电子系统产品设计时,为了预测及分析组件的温度,需要使用热阻值的数据,因而组件设计者则除了需提供良好散热设计产品,更需提供可靠的热阻数据供系统设计之用【2】。

对于遍布世界各地的设计及制造厂商而言,为了要能成功的结合在一起,必须在关键技术上设定工业标准。

单就热管理技术而言,其中就牵涉了许多不同的软硬件制造厂商,因此需透过一些国际组织及联盟来订定相关技术标准。

本文中将就热阻的相关标准发展、物理意义及量测方式等相关问题作详细介绍,以使电子组件及系统设计者了解热阻相关的问题,并能正确的应用热阻值于组件及系统设计。

封装热传标准与定义在1980年代,封装的主要技术是利用穿孔(through hole)方式将组件安装于单面镀金属的主机板,IC组件的功率层级只有1W左右,在IC封装中唯一的散热增进方式是将导线架材料由低传导性的铁合金Alloy42改为高传导性的铜合金。

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来 的 2O . 1℃/ 降到 了 18 w .5℃/ w。 关 键 词: 热阻 ; — on 封装 ; 光二极管 ; C m ut 激 铟焊料
P S 4 .5 P AC : 2 5 . x P CC: 2 5 A 45 P 文献标识码 : A
中 图分 类 号 : N 4 . T 2 84
线性 关 系 , : 即
倒装 时激光器 的有源 区距 离热 沉 只有 几 微米 , 而
n面正装 时 有 源 区距 离 热沉 有 几 百 微米 , 比之 相 下 , 装方式 芯片更 容易 和热沉进 行热交 换 , 源 倒 有 区温 度可得 到 有效 的降低 。 目前 , 究测 量 半 导 研
的测 量 。
半 导体激 光器具有 重量轻 、 尺寸 小 、 耦合 效率 高、 寿命 长 、 响应 速度快 、 波长 和尺寸 与光纤适 配 、
可直接 调 制 、 干 性 好 等 优 点 ,在 工 业 加 工 、 相 医
疗、 信息 显示 、 信和军 事上都 有着广 泛应用 。近 通 几 年来 , 大功率 半导 体 激 光器 的研 制 技 术迅 速 发 展 , 出光 功率 不断提 高 , 输 但激 光器芯 片 的热效 应 也 随之增 加。激 光器工作 时产 生的大量 废热 如果
半导体 激光器 的有源 区材料通 常采 用直接 带 隙材料 , 激射 波长 由禁 带宽 度决定 :
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d E d ’ T : ・ T,

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禁带宽 度 E 随温度 的变化 量是温度 的函数 , 室 在
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第 2期
马祥柱 , :Cm u t 等 - on 封装不同激光器芯片尺寸 的热 阻分析
Hale Waihona Puke 15 8 △ :k A AT,
( 3)
将单管 L D置 于 2 0℃水 冷条 件 下 , 别测 试 分 脉 冲条 件 下与 连续 的光 谱 图。脉 冲条件 下脉 宽设
为 2 s频 率 为 5 z 占空 比仅 为0 1 , 0 , 0H , . % 因此 激光 器管 芯可 以看作 没有 温 升 产 生 , 源层 的温 有 度 与热 沉 温 度 ( 0 o 相 等 。稳 态 条件 下 的驱 动 2 C) 电流设 定 为 30 0mA。 0
D OI:1 3 88 g b 011 20 01 0. 7 /fx 2 3 2. 84
l 引

体激 光器热 阻 的方 法主要 有热绘 仪 ( hr l l . T e o ma p t t) e 法 、 长漂 移 法 和端 电压 法 。这 些 方 r 波 法 基于不 同的测量 原理来 实现对 温升 和热阻 的测 量 。本文采 用波长 漂移法 对激 光二极管 进行 热阻
不 能及 时散掉 , 使 激光 器 有 源 区 的温 度急 速 上 会 升, 导致 波 长红 移 、 出功 率和 转换 效 率 降低 , 输 严 重 时会使 激光 器 的 寿命 减 少甚 至 失效 。可 见 , 热 效 应 已经 成为一个 制约 大功率半 导体激 光器发 展
2 波 长 漂 移 法 原 理
马 祥柱 ,霍 晋 轶 ,曲 ,杜 石 磊 ,王 宇
( .长春理工大学 高功率半导体激光 国家重点实验室 ,吉林 长春 I 2 .海特光 电有限责任公 司, 北京 10 8 ) 0 0 3 102 ; 30 2
摘要 : 采用波长漂移法对基于 Cm ut -on封装类型的不同尺寸芯片的热阻进行测量, 得到了使热阻最小的最
佳 芯片尺寸和铟焊料厚度。测量结果表明 , 在铟焊料厚度为 1 m、 0 输出功率 为 2W、 条宽为 20 I 腔长为 0 m、 x
20 0 m时 , 光 器 片 的 热 阻 最 小值 为 2O c w 。在 铟 焊 料 厚 度 为 5 m 和 1 m两 种 条 件 下 , 腔 长 0 激 . 1c/ 0 对 为 20 0 m 的 不 同 条 宽 的激 光 器 芯 片 的 热 阻 进行 了测 量 , 铟焊 料 厚 度 为 5 m 时 , 光 器 芯 片 的 热 阻 由原 0 在 激
第3 2卷
第2 期
发 光 学 报
CHI NES J E OURNAL OF L UM I NES CENCE
2 1 年 2月 01
文 章 编 号 : 0 07 3 (0 )20 8 - 10 —02 2 1 0 -140 1 4
C mo n 封装 不 同激 光 器芯 片尺 寸 的热 阻 分 析 — ut
也可写 为 :
A = 12 / .4 E , () 2
温 度 升高 时 , 有源 区材 料 的禁 带 宽度 E 会 变窄 ,
相应地激射波长会随温度的升高而变长 , 即波长
红移。波长红移有两个引起原因 , 一是 由于谐振
腔 的折射 率变化 , 是 由于热 膨 胀 使谐 振 腔 尺寸 二 变 大 。激 光二极 管峰值 波长 变化与其 结温 变化成
收稿 日期 : 000 -0 2 1 -63 ;修 订 日期 : 000 —1 2 1 -92 基 金项 目 :国家 自然科 学基 金 (0 70 4 资 助项 目 6 96 4 ) 作者简介 :马祥柱( 9 5一) 18 ,男 , 吉林长春人 , 主要从事激光物理与新型激光器的研究。 E m i: x nzu6 @ 13 ci, e:(4 85 3 0 — a mai gh2 2 .o T l 03 )5 8 3 9 l a 6 n 1
的不 可忽视 的问题 ¨ 引。激 光 器 的散 热 能力 常 用
热 阻来衡量 , 阻是 有 源 区 的温升 与 发 热功 率 的 热 比值 , 分析 激光 器 的热 阻对 如 何更 好 地设 计 激 光 器 的散 热 具 有 重要 意 义 。芯 片 常 采 用倒 装 的 形 式 , P面向下封装 到 C m u t 沉上 , 即 . on 热 这是 因为
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