镀膜设备图片
11180131真空镀膜实验报告
真空镀膜预习报告摘要：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。
物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。
本实验中用到的是蒸发镀膜法来进行真空镀膜。
从而了解真空镀膜的原理和操作。
关键词：真空镀膜原子转移气象沉积技术蒸发法引言：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。
物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。
在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等，因此蒸发法受到了相对较大程度的重视。
但另一方面，溅射法也具有自己的一些优势，包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好等。
同时，现代技术对于合金薄膜材料的需求也促进了各种高速溅射方法以及高钝靶材，高钝气体制备技术的发展，这些都使得溅射法制备的薄膜质量得到了很大的改善。
如今，由于气相中各组分能够充分的均匀混合，制备的材料组分均匀，易于掺杂，制备温度低，适合大尺寸薄膜的制备，并且能够在形状不规则的衬底上生长薄膜等优点，不仅上述两种物理气相沉积方法已经大量应用于各个技术领域之中，而且为了充分利用这两种方法各自的优点，还开发出了许多介于上述两种方法之间的新的薄膜沉积技术。
基本原理真空镀膜是在真空室中进行的（一般气压低于1.3×10-2Pa），当需要蒸发的材料（金属或电介质）加热到一定温度时，材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能，于是大量分子或原子从液态或直接从固态（如SiO2、ZnS）汽化。
真空镀膜实验报告
真空镀膜实验报告真空镀膜实验报告摘要：本实验在获得真空环境的基础上，在真空室内进⾏镀膜。
在实验中需要复习获得真空的步骤和注意事项，学会使⽤蒸发镀膜设备，和在玻璃上镀锡的操作⽅法。
关键词：真空镀膜蒸发镀膜引⾔：真空镀膜⼜叫物理⽓相沉积，它是利⽤某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒⼦束轰击时物质表⾯原⼦的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原⼦转移过程。
物理⽓相沉积技术中最为基础的两种⽅法就是蒸发法和溅射法。
在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对于溅射法具有⼀些明显的优势，包括较⾼的沉积速度，相对较⾼的真空度以及由此导致的较⾼的薄膜质量等，因此蒸发法受到了相对教⼤程度的重视。
但另⼀⽅⾯，溅射法也有⾃⼰的优势，包括在沉积多元合⾦薄膜时化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着⼒较好等。
真空镀膜的操作是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原⼦或分⼦能⾃由地弥布到容器的器壁上。
当把⼀些加⼯好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原⼦或分⼦就会吸附在基板上逐渐形成⼀层薄膜。
正⽂：⼀、实验原理1、真空泵简介（1）机械泵机械泵通过不断改变泵内吸⽓空腔的容积，使被抽容器内⽓体的体积不断膨胀压缩从⽽获得真空，常⽤的是旋⽚式机械泵。
它主要由定⼦、转⼦、旋⽚、弹簧等组成。
机械泵的极限真空度为Pa 110 ，它主要由机械泵油的饱和蒸汽压和泵的机械加⼯精度决定的。
当达到极限真空度时，抽⽓和漏⽓的速度相等，真空度不再变化。
如果将两个机械泵组合起来，可以将真空度提⾼⼀个数量级。
旋⽚式机械泵使⽤注意：1）检查油槽中油液⾯的⾼度是否符合规定，机械泵转⼦的转动⽅向与规定⽅向是否⼀致；2）机械泵停⽌⼯作时，要⽴即使进⽓⼝与⼤⽓相通，防⽌回油现象。
这步由机械泵上的电磁阀⾃动进⾏。
3）机械泵不宜⼯作过长，否则会影响使⽤寿命。
（2）扩散泵扩散泵利⽤⽓体扩散现象来抽⽓的。
利⽤⾼速定向喷射的油分⼦在喷嘴出⼝处的蒸汽流中形成⼀低压，将扩散进⼊蒸汽流的⽓体分⼦带⾄泵⼝被前级泵抽⾛。
PECVD
第二组这些参数主要是调整温度、压强和等离子体浓度的均匀性；
10.膜厚与折射率不匹配
原因：(1).工艺腔压强异常；
(2).总气流和气流比率超出界限；
平均功率为 = 361.1W
6.等离子体的沉积方向
插片时硅片载体被工艺点固定，在硅片和石墨舟片接触很紧密的情况下（即硅片本身不弯曲，插片不翘起），等离D膜的作用、简述膜的特性。
1、氮化硅膜的减反效果
减反膜是利用了光的干涉原理，两个振幅相同，波程相同的光波叠加，结果光波的振幅加强。如果有两个光波振幅相同，波程相差λ/2，则这两个光波叠加，结果相互抵消了。减反膜就是利用了这个原理。在硅片的表面镀上薄膜，使得在薄膜的前后两个表面产生的反射光相互干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。
从上面的数据中可以看出，这样的片子肯定是Jo片，所以这种片子也是一定要返工的；
6.异常色差，如下图所示：
原因：制绒槽的风刀堵住所致；
解决：更换风刀；
7.边缘色斑印，如下图所示，镀膜后该区域依然较明显：
原因：(1).清洗间出来的片子吹不干；
(2).石英舟不干净；
解决：(1).检查到底是什么原因导致，是酸洗不脱水还是风刀吹不干导致，视实际情况解决；
125单晶：1700 mTorr ，大约相当于226.65 Pa。
2.镀膜工艺温度
管式PECVD工艺时温度为430℃--450℃
3.镀膜工艺 气体流量比
156多晶： =5000sccm：600sccm (单位为每分钟标准立方厘米)
镀膜工艺简介AF,AG,AR 20190601
涂层硬度： 测试条件：使用7H三菱铅笔，1KG压力，摩擦速度60次/分钟，摩擦行程40mm，摩 擦次数1次 表面无划痕
人工汗液
摩擦测试仪
摩擦测试仪
AR抗（减）反射增透膜简介
• AR膜又称减反射膜又称增透膜，
• 主要功能:减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元 件的透光量。
AF镀膜产品应用领域：
手机、平板、车载、电视、LED等玻璃显示屏
AF生产工艺简介
真空蒸镀：在真空条件下，采用一定的加 热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并 使之气化，粒子飞至基材表面凝聚成膜的 工艺方法。
真空溅镀：利用辉光放电将氩气(Ar)离子 撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积 在基板表面形成薄膜。
AG防炫膜简介
AG镀膜产品特性： 1、反射红外线：降低红外线在玻璃表面的通透率来减少入室红外线光； 2、增强透光率：在反射红外线光线的同时增强其他光源的透过，不影响室内采 光效果 3、防眩光：将光源发出的光通过漫反射改变反射强光对观察者的视觉刺激
AG镀膜产品应用领域： 1、手机、车载导航、电子黑板、电视屏幕、电脑屏幕、精密仪器仪表屏幕、医 疗设备窗口、液晶显示器视窗、电子产品视窗、笔记本触板、无线鼠标触板等； 2、高级画廊和美术馆的名贵字画的镜框，使字画和图片长期保存，永不褪色； 3、博物馆、档案馆等贵重文物保护。
• 减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技 术中重要的研究课题.
• 在很多应用领域中，增透膜是不可缺少的，否则，无法达到应用的要求。 就拿一 个由18块透镜组成的35mm的自动变焦的照相机来说，假定每个玻璃和空气的界 面有4%的反射，没有增透的镜头光透过率为27%，镀有一层膜（剩余的反射为 1.3%）的镜头光透过率为66%，镀多层膜（剩余的反射为0.5%）的为85%。
原子层沉积-Beneq
倍耐克 – 卓越的薄膜设备和技术供应商原子层沉积(ALD)是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。
原子层沉积(ALD)也是一种用于高级纳米技术研究的有效方法。
典型的原子层沉积(ALD)应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。
针对目前的市场需要， 倍耐克公司通过提供开创性应用技术和可接受的购置成本的原子层沉积设备为企业的快速发展提供了必要的条件。
介绍原子层沉积(ALD)可归类于一种化学气相沉积技术。
在该技术开发的初期，它被用于生产纳米叠加结构的绝缘体(Al 2O 3/TiO 2)和薄膜电致发光显示器（TFEL）的硫化锌(ZnS)发光膜。
得益于原子层沉积(ALD)技术的发展，这种显示器在80年代中期开始大规模的生产。
原子层沉积技术特有的属性和工艺的高可重复性是这种显示器能够成功工业化生产的关键因素。
原子层沉积(ALD)是一种成熟的技术，如其在半导体等工业的广泛应用。
事实上，ALD在众所周知的摩尔定律的实现过程中扮演了非常重要的角色。
同时原子层沉积(ALD)技术还引发了许多前所未有的新的应用领域的发展。
今天原子层沉积(ALD)技术已经应用到了各种各样的工业领域，其中包括光伏、光学、化学、水气阻挡层、有机印刷电子、珠宝保护和医疗行业-- 更多的工业领域正处于不断发展中。
原子层沉积(ALD)可以说是纳米技术以及其他材料和薄膜研究的关键组成部分。
原子层沉积(ALD)技术曾被认为是比较慢的、适合具有高附加值的薄膜制备技术；不适用于制备厚的薄膜，如几个微米厚的薄膜，至少不是一种低成本的方法。
实际情况完全相反，原子层沉积(ALD)技术对制备较厚的薄膜没有真正的困难，而且总的生产成本也不高。
大批量，自动化的工艺流程和可靠的，易操作的设备是成功的工业应用的关键。
Beneq的原子层沉积设备是建立在25年苛刻的24/7工业条件下连续生产的经验基础之上的，就像前面提到的TFEL显示器制造。
光学镀膜基础知识PPT
Ø消偏振分光膜（单波长，宽带的NPBS)
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u滤光片
• 一般，我们把改变光束性质或颜色的膜叫做滤光膜 • 常见的有：
Ø干涉截止滤光片
• 用于分离两个波段 ，故又称二向色镜 。在分色、合色， 隔紫外、隔红外等 场合运用广泛。
• a.性能指标图 • b.应用用途： • 冷光膜、舞厅里色
彩变幻的旋转灯等
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Ø带通滤光片
• 带通滤光片 • 在光学薄膜学，1899年出现
1. 机械泵 2. 并路阀 3. 电阻规1 4. 罗茨泵 5. 预阀 6. 扩散泵 7. 低温冷阱 8. 冷阱压缩机 9. 压缩空气 10. 低阀 11. 高阀 12. 电阻规2 13. 电离规 14. 晶振探头
1.1 为什么要镀膜？
l 举个简单的例子，比如我们佩带的镀膜眼镜片。为什么 要镀膜？
Ø 减反射膜(增透膜)，为多层膜。
•
无论树脂或玻璃镜片其透光率都不能达到100%，会有部分光线被镜片的两个表
面反射回来，折射率越高的镜片反射率也越高。树脂4%、玻璃4.3%。
•
镜片的反射可使光线透过率减少并在视网膜形成干扰像而影响成像的质量，并
的法布里-玻珞干涉仪，是一 种最有意义的进展，它是干 涉带通滤光片的一种基本结 构。
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Ø金属滤光片 • 金属滤光膜的一般
特性曲线 • 示例图片：
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2018中国十大电镀设备品牌排行榜-电镀设备品牌厂商
电镀设备产品介绍&供应商目录概述：在企业发展和对产品质量、成本、交期、环保等提出更高的要求时，电镀设备供应商与采购商之间合作、相互依存的关系越来越紧密，供应商之间竞争已成为整个供应链的竞争。
从而电镀设备需要的成品、半成品、原材料、配件、机械等供应链产品和优质电镀设备供应商已经大势所趋。
标签：电镀设备厂家，电镀设备图片，电镀设备价格，电镀设备标价来源：一呼百应平台（互联网+制造服务平台）附加说明：更新日期：2018年07月03日一呼百应平台完整版的电镀设备供应商数据占用版面过大，因受限于百度文库文件上传大小、篇幅限制，仅仅只上传一部分。
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出师表两汉：诸葛亮先帝创业未半而中道崩殂，今天下三分，益州疲弊，此诚危急存亡之秋也。
然侍卫之臣不懈于内，忠志之士忘身于外者，盖追先帝之殊遇，欲报之于陛下也。
诚宜开张圣听，以光先帝遗德，恢弘志士之气，不宜妄自菲薄，引喻失义，以塞忠谏之路也。
宫中府中，俱为一体；陟罚臧否，不宜异同。
若有作奸犯科及为忠善者，宜付有司论其刑赏，以昭陛下平明之理；不宜偏私，使内外异法也。
侍中、侍郎郭攸之、费祎、董允等，此皆良实，志虑忠纯，是以先帝简拔以遗陛下：愚以为宫中之事，事无大小，悉以咨之，然后施行，必能裨补阙漏，有所广益。
将军向宠，性行淑均，晓畅军事，试用于昔日，先帝称之曰“能”，是以众议举宠为督：愚以为营中之事，悉以咨之，必能使行阵和睦，优劣得所。
亲贤臣，远小人，此先汉所以兴隆也；亲小人，远贤臣，此后汉所以倾颓也。
先帝在时，每与臣论此事，未尝不叹息痛恨于桓、灵也。
侍中、尚书、长史、参军，此悉贞良死节之臣，愿陛下亲之、信之，则汉室之隆，可计日而待也。
臣本布衣，躬耕于南阳，苟全性命于乱世，不求闻达于诸侯。
先帝不以臣卑鄙，猥自枉屈，三顾臣于草庐之中，咨臣以当世之事，由是感激，遂许先帝以驱驰。
后值倾覆，受任于败军之际，奉命于危难之间，尔来二十有一年矣。
真空镀膜设备工作原理
真空镀膜设备工作原理
首先，设备会通过抽气系统将工作室内的气体抽除，建立真空环境。
通常会使用机械泵、分子泵等组合进行抽空，以确保工作室内的气压降至所需的真空度。
接下来，通过加热系统对待镀膜物进行加热处理。
加热的目的是提高待镀膜物的表面活性，使其更容易与镀膜材料反应。
加热方式可以采用电加热、电子束加热、感应加热等。
加热过程中，设备会监控和控制加热温度，以确保待镀膜物的温度在适宜的范围内。
当待镀膜物达到一定温度后，镀膜材料开始加入工作室。
镀膜材料以固体、液体或气体形式进入工作室，然后在真空的环境下蒸发、溅射或离子细化。
镀膜材料通过物理或化学反应与待镀膜物表面发生作用，形成所需的镀膜。
在镀膜过程中，设备通常还会设置有适当的控制装置，例如离子源、磁控溅射源等，来实现对镀膜材料的流量、能量等参数的精细控制。
这些控制装置有助于优化镀膜质量和性能。
最后，当镀膜完成后，设备会开始退室过程，将工作室内的气体重新排出，恢复大气压环境。
通常会通过相应的抽气装置将气体排出去，以确保工作室内的真空度降为正常大气压。
总之，真空镀膜设备通过抽空、加热、镀膜和退室等步骤实现对待镀膜物表面的镀膜。
通过控制镀膜材料的流量、能量等参数，可以实现对镀膜质量和性能的精细调控。
真空镀膜设备广泛应用于电子、光学、材料等领域，可以提供具有特殊功能和外观的表面涂层。