镀膜工艺培训课件
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镀膜技术PVD-PPT幻灯片课件
5
Hale Waihona Puke 最早出现的金属沉积工艺钨W(Tm=3380℃) 钽Ta(Tm=2980℃) 钼Mo(Tm=2630℃)
6
蒸发装置的选择和运用很重要
热效率：热传导和热辐射对薄膜制备是不利的 (必须使坩埚或电极冷却)
For example, 在1500°C下蒸发Al: 选用合适的蒸发源, 所需能量为2.4kW.h/kg; 用电阻丝蒸发,所需能量为7-20kW.h/kg; 用TiB2电阻加热蒸发, 所需能量为50-100kW.h/kg;
溅射：常用的物理气相沉积方法。
溅射 RF磁控溅射 DC磁控溅射 离子束溅射 —反应溅射，活性气体，生长化合物薄膜。
分子束外延：MBE，超高真空，缓慢蒸发过程，多蒸发源，生长外延的单晶薄 膜。(ALE, MLE)
1
PVD的概念：在真空度较高的环境下，通过加热或高能
粒子轰击的方法使源材料逸出沉积物质粒子（可以是原子、 分子或离子），这些粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。 其技术关键在于：如何将源材料转变为气相粒子（而非CVD 的化学反应）！
② 单个入射离子轰击出的产物粒子数与入射离子的能量/质量都有关；
均可用弹性碰撞理论解释！
22
③ 溅射产物粒子的平均速度 >> 蒸发出的粒子。
溅射镀膜的基本物理过程：
溅射镀膜何以实现？
气体放电 等离子体 带电离子 电场作用 离子加速 高能离子 撞击靶材 溅射 发射靶材原子 飞向基板 形成 沉积 获得薄膜！
所以可蒸发材料受到限制； 蒸发率低； 加热速度不高，蒸发时待蒸发材料如为合金或化合物，
则有可能分解或蒸发速率不同，造成薄膜成分偏离蒸发物 材料成分。
高温时，钽和金形成合金，铝、铁、镍、 钴等与钨、钼、钽等形成合金
《镀膜工艺》课件
激光镀膜：利用激光照射靶材，使其表 面原子或分子溅射出来，在基材表面形 成薄膜
电子束蒸发镀膜：利用电子束加热靶材， 使其在真空环境下蒸发，在基材表面形 成薄膜
化学镀膜工艺
化学镀膜工艺简介 化学镀膜工艺的分类 化学镀膜工艺的应用领域 化学镀膜工艺的发展趋势
复合镀膜工艺
原理：通过在基材表面沉积多层不同性质的薄膜，形成复合膜层 特点：具有多种功能，如耐磨、耐腐蚀、抗反射等 应用：广泛应用于光学、电子、机械等领域 工艺流程：包括预处理、沉积、后处理等步骤
固化阶段：通过加热、光 照等方法使镀膜材料固化
检测阶段：检查镀膜层的 厚度、均匀性等性能指标
后处理阶段：对镀膜后的 工件进行清洗、抛光等处 理，提高其表面质量
后处理
清洗：去除残留 的化学物质和杂 质
干燥：去除水分， 防止腐蚀和氧化
抛光：提高表面 光洁度，改善外 观
检验：检查镀膜 质量，确保符合 标准要求
研发方向：环保、 节能、高效、多功 能
应用领域：电子、 光学、生物、医疗、 航空航天等
研发成果：新型纳 米材料、有机无机 复合材料、生物材 料等
未来展望：新材料 的研发和应用将推 动镀膜工艺的发展 ，提高产品质量和 性能，拓展应用领 域。
镀膜工艺的绿色化与可持续发展
绿色镀膜：采用 环保材料，减少 对环境的污染
镀膜工艺流程
前处理
目的：去除工件表面的油污、锈迹等杂质 步骤：清洗、除油、除锈、除氧化皮等 设备：清洗机、除油机、除锈机等 材料：清洗剂、除油剂、除锈剂等 注意事项：确保工件表面清洁，避免污染后续镀膜过程
镀膜
准备阶段：选择合适的镀 膜材料和设备
清洗阶段：去除工件表面 的油污、锈迹等
镀膜阶段：将镀膜材料均 匀地涂覆在工件表面
电子束蒸发镀膜：利用电子束加热靶材， 使其在真空环境下蒸发，在基材表面形 成薄膜
化学镀膜工艺
化学镀膜工艺简介 化学镀膜工艺的分类 化学镀膜工艺的应用领域 化学镀膜工艺的发展趋势
复合镀膜工艺
原理：通过在基材表面沉积多层不同性质的薄膜，形成复合膜层 特点：具有多种功能，如耐磨、耐腐蚀、抗反射等 应用：广泛应用于光学、电子、机械等领域 工艺流程：包括预处理、沉积、后处理等步骤
固化阶段：通过加热、光 照等方法使镀膜材料固化
检测阶段：检查镀膜层的 厚度、均匀性等性能指标
后处理阶段：对镀膜后的 工件进行清洗、抛光等处 理，提高其表面质量
后处理
清洗：去除残留 的化学物质和杂 质
干燥：去除水分， 防止腐蚀和氧化
抛光：提高表面 光洁度，改善外 观
检验：检查镀膜 质量，确保符合 标准要求
研发方向：环保、 节能、高效、多功 能
应用领域：电子、 光学、生物、医疗、 航空航天等
研发成果：新型纳 米材料、有机无机 复合材料、生物材 料等
未来展望：新材料 的研发和应用将推 动镀膜工艺的发展 ，提高产品质量和 性能，拓展应用领 域。
镀膜工艺的绿色化与可持续发展
绿色镀膜：采用 环保材料，减少 对环境的污染
镀膜工艺流程
前处理
目的：去除工件表面的油污、锈迹等杂质 步骤：清洗、除油、除锈、除氧化皮等 设备：清洗机、除油机、除锈机等 材料：清洗剂、除油剂、除锈剂等 注意事项：确保工件表面清洁，避免污染后续镀膜过程
镀膜
准备阶段：选择合适的镀 膜材料和设备
清洗阶段：去除工件表面 的油污、锈迹等
镀膜阶段：将镀膜材料均 匀地涂覆在工件表面
真空镀膜(ncvm)工艺培训教材ppt-课件
真空镀膜(NCVM)项目 工程师培训教材
编写人：张玉立 核准人：张经理
日期:08年03月20日
前 言：
• 1>.真空镀膜行业兴起背景：随着欧盟RoHS 指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。 传统高污染之电镀行业已不符合环保要求， 必将被新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有 废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势， 必将兴起并普及。
• 因镀膜层太薄，故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻，这就要求涂装室 洁净度极高。同时产品外观面积越大，不良率就可能就越高（目前奥科生 产车间洁净度为10000级，喷涂室、烤 箱、镀膜车间洁净度3000级）。
•
镀膜厚度目前主要通过光透过率及反射率来控制，镀层越厚，透光
率越差，反射率越高。
8
二．真空镀膜的工艺特性:
2
• 一．真空镀膜技术及设备两百年发展史(1805-2007)
•1>. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离 子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。气 相生成法又可分为物理气相沉积法（physical Vapor Deposition简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
7
• 二．真空镀膜的工艺特性:
• 2. 纳米级厚度、膜厚均匀。真空镀膜膜层厚度仅数SHI十至数百纳米
(一般≤0.2um)，膜层各部位厚度极为均匀。
• 例：镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材 相同，银镀层小于5nm时不能导电。各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度， 结合第1条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平，以达到理想 的镜面效果。
望远镜镜面镀铝成功。 • 1947年 美国国家光学实验室（DCLI）建立，用光透过率来控制薄膜的厚度。 • 1950年 溅射理论开始建立,半导体工业开始起步,各种微电子工业开始起步,塑料装饰膜开
编写人：张玉立 核准人：张经理
日期:08年03月20日
前 言：
• 1>.真空镀膜行业兴起背景：随着欧盟RoHS 指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。 传统高污染之电镀行业已不符合环保要求， 必将被新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有 废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势， 必将兴起并普及。
• 因镀膜层太薄，故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻，这就要求涂装室 洁净度极高。同时产品外观面积越大，不良率就可能就越高（目前奥科生 产车间洁净度为10000级，喷涂室、烤 箱、镀膜车间洁净度3000级）。
•
镀膜厚度目前主要通过光透过率及反射率来控制，镀层越厚，透光
率越差，反射率越高。
8
二．真空镀膜的工艺特性:
2
• 一．真空镀膜技术及设备两百年发展史(1805-2007)
•1>. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离 子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。气 相生成法又可分为物理气相沉积法（physical Vapor Deposition简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
7
• 二．真空镀膜的工艺特性:
• 2. 纳米级厚度、膜厚均匀。真空镀膜膜层厚度仅数SHI十至数百纳米
(一般≤0.2um)，膜层各部位厚度极为均匀。
• 例：镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材 相同，银镀层小于5nm时不能导电。各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度， 结合第1条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平，以达到理想 的镜面效果。
望远镜镜面镀铝成功。 • 1947年 美国国家光学实验室（DCLI）建立，用光透过率来控制薄膜的厚度。 • 1950年 溅射理论开始建立,半导体工业开始起步,各种微电子工业开始起步,塑料装饰膜开
真空镀膜(ncvm)工艺培训教材PPT课件
颜色不纯
由于反应不完全或杂质污染，膜层可能呈 现出不纯或斑驳的颜色。
分析方法
X射线衍射(XRD)
能谱分析(EDS)
分析膜层的晶体结构和相组成。
附着力测试
对膜层进行元素分析，了解各元 素的分布和比例。
通过划痕、拉拔等试验测定膜层 与基材之间的附着力。
显微观察
通过金相显微镜观察膜层的微观 结构，了解其均匀性、孔隙和缺 陷。
05
真空镀膜(NCVM)问题与 解决方案
常见问题
表面粗糙度大
镀膜后的表面粗糙，影响外观和使用性能 。
膜层不均匀
镀膜过程中，由于气体流动、温度分布不 均或反应物供应问题，可能导致膜层在表 面分布不均。
附着力差
镀膜层与基材之间可能存在弱附着力，导 致镀膜容易剥落。
孔隙率过高
膜层中存在过多的孔隙，影响其防护和装 饰效果。
04
真空镀膜(NCVM)技术参 数与优化
工艺参数
真空度
真空镀膜过程中，需要控制真空室的 真空度，以确保膜层的均匀性和附着 力。
温度
镀膜过程中，基材的温度对膜层的附 着力和性能有影响，需根据不同材料 和镀膜要求进行温度控制。
镀膜时间
镀膜时间的长短直接影响膜层的厚度 和均匀性，需根据工艺要求进行精确 控制。
防护眼镜
保护操作人员的眼睛免受镀膜过程中产生的 有害物质和紫外线的伤害。
夹具
用于固定基材，确保其在镀膜过程中位置稳 定。
手套
保护操作人员的手部免受镀膜过程中产生的 有害物质和高温的伤害。
03
真空镀膜(NCVM)工艺流 程
前处理
表面清洗
使用有机溶剂和超声波清洗技术去除 工件表面的污垢、油脂和杂质，以确 保镀膜层的附着力。
镀膜培训教材
1.什么是镀膜玻璃？答：应用物理或化学方法在玻璃表面沉积金属或金属化合物薄膜，使玻璃表面具有一定的反射太阳能的作用。
这种沉积了薄膜的玻璃通常被称为镀膜玻璃。
2．镀膜玻璃有那几种生产方法？工程玻璃镀膜线采用的是哪种生产方法？答：蒸发沉积、离子沉积、溅射沉积。
此三种属于物理沉积。
热分解气相沉积、等离子体气相沉积皆属于化学沉积。
工程玻璃镀膜线采用的是溅射沉积法。
3．工程玻璃镀膜线生产的镀膜玻璃分为哪两大类？试将现有牌号按此两大类进行划分。
答：工程玻璃镀膜线生产的镀膜玻璃分为阳光控制膜和低辐射膜（LOW-E）两大类。
阳光控制膜有AC系列、SC系列、BD系列、TS系列等。
低辐射膜有LE系列、CE系列、LER系列、LET系列、TE系列、RE系列等。
4．请举出标准锡基LOW-E玻璃的膜层结构，并说明低辐射膜的基本作用原理和各膜层的作用。
答：GLASS/SnOx/Ag/NiCr/SnOx银是自然界中辐射率最低的物质，在玻璃上镀一层10~30纳米的金属银层，就可以使玻璃的辐射率从0.84降低至0.04-0.12,这是低辐射膜的基本作用原理—玻璃经过这种工艺处理后，其辐射热损耗可以减少90%，将其制成低辐射中空玻璃以后，热阻可以比普通中空玻璃再提高一倍以上。
SnOx在LOW-E中的作用有：a调节透反射及色，b.能比较好的结合GLASS、Ag层，提高结合强度。
C.顶层SnOx起到保护和隔离空气的作用。
NiCr起到在镀顶层SnOx时保护Ag层不被迅速氧化的作用。
5．何为第二面LOW-E和第三面LOW-E？分别有哪些系列？答：一片低辐射中空玻璃从室外到室内依次为第一到第四面，客户从室外向室内看。
由于膜层总在中空玻璃腔体内，即总在第二面或第三面。
第二面LOW-E指中空玻璃室外片为膜片，客户从室外向室内看到的是室外片的玻璃面颜色，所以在生产时需要控制的是该膜片的玻璃面颜色，即Rg、ag*、bg*。
第二面LOW-E 有CE系列、LER系列、LET系列、TE系列、RE系列等。
镀膜工艺介绍.pptx
1、溅射原理
第2页/共14页
第3页/共14页
第4页/共14页
进口室 缓冲室 输送室
溅射室
输送室 缓冲室 进口室
第5页/共14页
平面靶
旋转靶
第6页/共14页
• 前提:以S=4m/min走速计算
• 一次单银调片时间约为12分钟 • 试镀时间约为12分钟 • 产品从上片到出片时间约为17分钟 • 连续生产时的产能=S×2.44×装载率×60
2、同一编号的TS系列仅是对应钢化后的TB系列， 和钢化前的TB系列颜色会相差很多。即使是钢化后TB 系列与TS相比也只是近似，原则上不能混用。
第12页/共14页
TB系列与Super系列对应关系
Super系列 TB系列
SuperⅠ
SuperⅢ
SuperⅣ
SuperⅤ
Ces11-80/TB Ceb14-60/TB Ceb14-50/TB Cef16-50/TB
D
中低透 光
多数高 反
双银
字3
字4
字5
数 基片 数字 反射 数字 透过 字
字 颜色
色
率母
1 白玻 1
中性 色
2 F绿 2
银色
3 灰玻 3 4 茶玻 4Biblioteka 蓝色 8-85 8%- S
灰色
85%
字6
含 字 特殊 义母
TS 新结 构
TB 可钢 化
南 玻
Y 耀皮
5 蓝玻
V Varicon
第11页/共14页
1、字8缺省表示老结构Low-e，但现在有时后 新结构后也不加“TS”。新老结构颜色只是近似。
1、钢化前和钢化后的颜色不一样 2、SuperⅠ和SuperⅠ+钢化颜色变化规律不一样
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进口室 缓冲室 输送室
溅射室
输送室 缓冲室 进口室
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平面靶
旋转靶
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• 前提:以S=4m/min走速计算
• 一次单银调片时间约为12分钟 • 试镀时间约为12分钟 • 产品从上片到出片时间约为17分钟 • 连续生产时的产能=S×2.44×装载率×60
2、同一编号的TS系列仅是对应钢化后的TB系列， 和钢化前的TB系列颜色会相差很多。即使是钢化后TB 系列与TS相比也只是近似，原则上不能混用。
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TB系列与Super系列对应关系
Super系列 TB系列
SuperⅠ
SuperⅢ
SuperⅣ
SuperⅤ
Ces11-80/TB Ceb14-60/TB Ceb14-50/TB Cef16-50/TB
D
中低透 光
多数高 反
双银
字3
字4
字5
数 基片 数字 反射 数字 透过 字
字 颜色
色
率母
1 白玻 1
中性 色
2 F绿 2
银色
3 灰玻 3 4 茶玻 4Biblioteka 蓝色 8-85 8%- S
灰色
85%
字6
含 字 特殊 义母
TS 新结 构
TB 可钢 化
南 玻
Y 耀皮
5 蓝玻
V Varicon
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1、字8缺省表示老结构Low-e，但现在有时后 新结构后也不加“TS”。新老结构颜色只是近似。
1、钢化前和钢化后的颜色不一样 2、SuperⅠ和SuperⅠ+钢化颜色变化规律不一样
电镀培训课件共60张PPT
电镀 利用电解使金属或合金沉积在制件表面， 形成均匀，致密，结合力良好的金属层的过 程。
电镀技术基础
电镀原理图 阳极：失去电子提供镀层 金属离子（氧化反应） 阳极反应： M = M+ + e 阴极：得到电子将离子还 原为金属（还原反应） 阴极反应： M+ + e = M 电子：从阳极经电源到阴极 电流：从正极经电解液到负极 镀层金属离子：从阳极经电解液到阴极。
不同基体材料磨光转速选择
基体材料
磨轮直径/mm
200
250
300
350
400
转速/（r/min）
铸铁、钢、镍、铬
2800
2300
1800
1600
1400
铜及其合金、银、锌
2400
1900
1500
1300
1200
铝及其合金、铅、锡
1900
1500
1200
1000
900
塑料
1500
1200
1000
900
前处理
电镀
后处理
标准施工与基本技能
影响镀层质量的主要因素
10%
5%
80%
镉层质量不合格
80%
90%
100%
累计影响度%
100
25
50
0
75
其它原因
主槽
前处理
后处理
95%
5%
标准施工与基本技能
前处理 1、打磨：打磨也叫磨光，就是在特制的皮布轮外圆上黏附金刚砂或其它磨料，在高速旋转下除去待电镀件表面的氧化皮或对待电镀件表面进行光亮精饰的前处理加工方法。 常用的打磨材料有：人造金刚砂、刚玉、金刚砂
电镀技术基础
电镀原理图 阳极：失去电子提供镀层 金属离子（氧化反应） 阳极反应： M = M+ + e 阴极：得到电子将离子还 原为金属（还原反应） 阴极反应： M+ + e = M 电子：从阳极经电源到阴极 电流：从正极经电解液到负极 镀层金属离子：从阳极经电解液到阴极。
不同基体材料磨光转速选择
基体材料
磨轮直径/mm
200
250
300
350
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转速/（r/min）
铸铁、钢、镍、铬
2800
2300
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1600
1400
铜及其合金、银、锌
2400
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铝及其合金、铅、锡
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塑料
1500
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900
前处理
电镀
后处理
标准施工与基本技能
影响镀层质量的主要因素
10%
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镉层质量不合格
80%
90%
100%
累计影响度%
100
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其它原因
主槽
前处理
后处理
95%
5%
标准施工与基本技能
前处理 1、打磨：打磨也叫磨光，就是在特制的皮布轮外圆上黏附金刚砂或其它磨料，在高速旋转下除去待电镀件表面的氧化皮或对待电镀件表面进行光亮精饰的前处理加工方法。 常用的打磨材料有：人造金刚砂、刚玉、金刚砂
镀膜工艺简介ppt课件
11
12
二、真空溅射镀膜
13
THANK YOU
SUCCESS
2019/5/6
可编辑
1.真空溅射镀膜的定 义
给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。
15
16
2.磁控溅射镀膜的定义 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的 氩离子和电子，电子飞向基片，氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量 的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。
17
3.辉光放电的定义 辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产 生的一种气体放电现象。
18
直流溅射：适用于金属材料
射频溅射：是适用于各种 金属和非金属材料的一种 溅射沉积方法
19
4.真空溅射镀膜的优缺点
20
三、真空离子镀膜
21
1.真空离子镀膜的定义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离 子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在 基片上。
7
8
9
4.热蒸发原理及特点
������ 热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温 度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。
特点：装置便宜、操作简单广泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等导体 材料。
10
5.E-Beam蒸发原理 热电子由灯丝发射后，被加速阳极加速，获得动能轰击到 处于阳极的蒸发材料上，使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀 膜。 特点：多用于要求纯度极高的膜、绝缘物的蒸镀和高熔点 物质的蒸镀
PVD镀膜工艺简介
一、PVD的定义及分 类
12
二、真空溅射镀膜
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THANK YOU
SUCCESS
2019/5/6
可编辑
1.真空溅射镀膜的定 义
给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。
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2.磁控溅射镀膜的定义 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的 氩离子和电子，电子飞向基片，氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量 的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。
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3.辉光放电的定义 辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产 生的一种气体放电现象。
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直流溅射：适用于金属材料
射频溅射：是适用于各种 金属和非金属材料的一种 溅射沉积方法
19
4.真空溅射镀膜的优缺点
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三、真空离子镀膜
21
1.真空离子镀膜的定义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离 子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在 基片上。
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4.热蒸发原理及特点
������ 热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温 度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。
特点：装置便宜、操作简单广泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等导体 材料。
10
5.E-Beam蒸发原理 热电子由灯丝发射后，被加速阳极加速，获得动能轰击到 处于阳极的蒸发材料上，使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀 膜。 特点：多用于要求纯度极高的膜、绝缘物的蒸镀和高熔点 物质的蒸镀
PVD镀膜工艺简介
一、PVD的定义及分 类
镀膜工序安全培训PPT课件
管路
靶凳是否稳定
2020/2/15
6
课程内容
5.做6S期间的安全隐患
• 传送皮带 • 气瓶 • 腔体两侧的连接管路和带电线路 • 猫眼处的安全打扫
2020/2/15
7
考试内容
• 请简述镀膜工序有安全隐患的工具、设备和玻璃（简述20点， 每点5分）
2020/2/15
8
镀膜工序安全培训
2020/2/15
1
主要内容
• 课程内容
• 有安全隐患的工具 • 有安全隐患的设备 • 玻璃 • 换靶安全事项 • 做6S期间的安全隐患
• 考试
工具
• 角磨机 • 戒刀 • 叉车 • 玻璃刀
• 安全带 • 气瓶 • 气钉枪 • 钢带打包钳
2020/2/15
3
课程内容
2.有安全隐患的设备
行车
贴膜机 撒粉机
过渡台
有安全隐 患的设备
自动上、 卸片台
吊夹
清洗机
2020/2/15
4
课程内容
3.玻璃
• 放置 • 转运 • 摆片 • 分锅传送 • 贴片和均匀性 • 清扫玻璃碎片
2020/2/15
5
课程内容
4.换靶安全事项
吊靶时检查安全事项
挂钩
《汽车镀膜知识》课件
清洗车辆
去除污渍和杂质
清洗车辆是镀膜前的重要步骤， 可以有效去除车身表面的污渍、 灰尘、油脂等杂质，确保车身表 面干净。
注意事项
清洗车辆时要注意不要使用含有 腐蚀性成分的清洗剂，避免对车 身表面造成损害。 Nhomakorabea 喷涂镀膜剂
选择合适的镀膜剂
01
根据不同的需求和车身材质选择合适的镀膜剂，确保镀膜效果
和持久性。
封釉
通过将特殊的釉剂涂抹在车漆表面，形成一层保护层，提高车漆的 硬度和光泽度。
镀晶
通过将硬度极高的材料涂抹在车漆表面，形成一层晶体般的保护层 ，提高车漆的抗划痕和抗氧化能力。
车漆保养的注意事项
避免使用含有研磨剂 的清洁剂或蜡，以免 损伤车漆。
定期进行车漆保养和 清洁，保持车漆的光 泽和整洁。
避免将车辆长时间停 放在暴晒或潮湿的环 境中，以免对车漆造 成损害。
氟素镀膜材料的化学性质稳定，能够有效抵抗酸雨、氧 化剂等化学物质的侵蚀，防止漆面变色和老化。
氟素镀膜材料的施工工艺较为复杂，需要专业的设备和 技能，因此成本较高。
硅酮镀膜材料
硅酮镀膜材料是一种有机 硅聚合物，具有优异的耐 候性、耐腐蚀性和耐磨损 性。
硅酮镀膜材料的施工工艺 简单，对环境无害，是环 保型的汽车漆面保护材料 。
增强车漆硬度
汽车镀膜能够增加车漆表面的硬度，减少划痕和磨损，提高车漆的抗 刮性能。
汽车镀膜的保持时间
优质镀膜产品
保持时间在1-2年左右，需 要定期进行镀膜保养和维 护。
中等镀膜产品
保持时间在6-12个月左右 ，需要定期进行镀膜保养 和维护。
普通镀膜产品
保持时间在3-6个月左右， 需要定期进行镀膜保养和 维护。
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真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜，但其他金 属如铬也可通过蒸发沉淀；厚度在30um左右
真空鍍膜 ❖ 蒸鍍原理：
真空鍍膜
❖ 真空蒸镀具有如下特点： （1）大大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了
成本，复合用铝箔厚度多为0。07mm，而镀铝薄膜的铝层厚 度约为0．5um左右，其耗铝量约为铝箔的1／140～1／180 ，且生产速度可高达450m／min。
電鍍的基本構成元素
❖ 外部電路 ❖ 陰極、或鍍件(work)、掛具(rack)。 ❖ 電鍍液(bath solution)。 ❖ 陽極(anode)。 ❖ 鍍槽( plating tank ) ❖ 加熱或是冷卻器(heating or colling coil )
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2015.01.13 v1r0
電鍍前處理流程
真空鍍膜 ❖ 真空镀膜：
真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属
（或者金属化合物）真以空蒸气镀相的形式沉积到材
料表面（真通空镀常膜 是非金真属空溅材镀料），属于物理气
相工艺。
离子镀
真空鍍膜
❖ 真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）
真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸 发或升华，使之在工件或基材表面析出的过程
•高流鎳
全光澤鎳
•微孔鎳
沙丁鎳(霧鎳)
•鎳合金(古銅)
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真空鍍膜
❖ 前言
真空镀膜作为一种新兴的镀膜技术，其产品表面有超强的金属质 感被越来越多的应用在化妆品、手机等电子产品的外壳、汽车标 志、汽车车灯等的表面处理，其膜面不仅亮度高，质感细腻逼真 ，可做出多种靓丽色彩，同时它还有制作成本较低，有利于环境 保护，较少受到基材材质限制的优点。
粒子碰撞原理：
Ar+
氣體 靶材
基材 靶材原子等粒子
Ar+
氣體
靶材
PAGE 01
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2015.01.13 v1r0
主要工艺流程：
前处理
装配
清洗处理
真空溅镀
UV照射烘干
UV光油底漆
提高基材待镀层的附着性
UV光油面漆
UV照射烘干
成品
提高基材已镀层的硬度和配色
PAGE 03
真空溅镀也可根据基材和靶材的特性直接溅射不用涂底漆，真空溅镀的镀层可通过调 节电流大小和时间来垒加，但不能太厚，太厚了表面原子垒加会出现小小的空洞间隙。 厚度范围0.2~2um。
（5）镀铝层导电性能好，能消除静电效应；其封口性 能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证 了包装的密封性能。
（6）对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。
真空鍍膜
❖ 真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求： （1）耐热性好，基材必须能耐受蒸发
源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。 （2）从薄膜基材上产生的挥发性物质
一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使 用RF交流溅镀,基本的原理是在真 空中利用辉光放电 (glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面 ，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面 ，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜 。
真空賤鍍
❖ 分類上架 (依素材外觀選擇適合掛具)
❖ 脫脂清洗 (溫度.濃度.時間 )
❖ 粗化 (溫度.濃度.時間)
❖ 中和 (溫度.濃度.時間)
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 敏化 (溫度.濃度.時間 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 活化 (溫度.濃度.時間 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 化學鎳完成
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電鍍處理流程(一)
❖ 上架 (選擇合適掛具 )
❖ 超音波清洗 (時間. 電流 )
❖ 鍍銅 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 鍍鎳 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小.PH 值 )
❖ 選擇以下六種不同電鍍鎳層色澤及功能性
半光澤鎳
真空鍍膜工藝介紹
©CymMetrik. All rights reserved.
李振強2015.02.04
電鍍
電鍍(Electroplating)
❖ 電鍍(electroplating)被定義為一種電沈積過程 (electrodepos- ition process)， 是利用電極 (electrode)通過電流，使金屬附著於 物體表面 上， 其目的是在改變物體表面之特性 或尺 寸
3 電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層 (deposit)，改變基材表面性質或尺寸。例如 賦予金屬光澤美觀、物品的防鏽、防止磨耗 、提高 導電度、潤滑性、強度、耐熱性、耐 候性、熱處理之防止滲碳、氮化 、尺寸錯誤 或磨耗之另件之修補。
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要少；对吸湿性大的基材，在镀膜前理。 （3）基材应具有一定的强度和表面平
滑度。 （4）对蒸镀层的粘接性良好；对于PP
、PE等非极性材料，蒸镀前应进行表面处理 、以提高与镀层的粘接性。
真空賤鍍
❖ 真空溅镀：
通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法。 在真空状充入惰性气体(Ar)，并在塑胶基材（ 阳极）和金属靶材（阴极）之间加入高压直流 电，由于辉光放电（glow discharge）产生的 电子激发惰性气体产生氩气正离子，正离子向 阴极靶材高速运动，将靶材原子轰出，沉积在 塑胶基材上形成薄膜
（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现针孔 和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、 光线等的阻隔性提高。
（3）具有极佳的金属光泽，光反射率可达97％；且可 以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的 。
（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或 透明窗口，能看到内装物。
真空賤鍍
❖ 賤鍍原理
主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材 (target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。
溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速 度却比蒸镀慢很多。
新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以 加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击 机率增加, 提高溅镀速率。
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PVD主要生產設備
PVD真空爐
PVD真空爐
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真空鍍膜 ❖ 蒸鍍原理：
真空鍍膜
❖ 真空蒸镀具有如下特点： （1）大大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了
成本，复合用铝箔厚度多为0。07mm，而镀铝薄膜的铝层厚 度约为0．5um左右，其耗铝量约为铝箔的1／140～1／180 ，且生产速度可高达450m／min。
電鍍的基本構成元素
❖ 外部電路 ❖ 陰極、或鍍件(work)、掛具(rack)。 ❖ 電鍍液(bath solution)。 ❖ 陽極(anode)。 ❖ 鍍槽( plating tank ) ❖ 加熱或是冷卻器(heating or colling coil )
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電鍍前處理流程
真空鍍膜 ❖ 真空镀膜：
真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属
（或者金属化合物）真以空蒸气镀相的形式沉积到材
料表面（真通空镀常膜 是非金真属空溅材镀料），属于物理气
相工艺。
离子镀
真空鍍膜
❖ 真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）
真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸 发或升华，使之在工件或基材表面析出的过程
•高流鎳
全光澤鎳
•微孔鎳
沙丁鎳(霧鎳)
•鎳合金(古銅)
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真空鍍膜
❖ 前言
真空镀膜作为一种新兴的镀膜技术，其产品表面有超强的金属质 感被越来越多的应用在化妆品、手机等电子产品的外壳、汽车标 志、汽车车灯等的表面处理，其膜面不仅亮度高，质感细腻逼真 ，可做出多种靓丽色彩，同时它还有制作成本较低，有利于环境 保护，较少受到基材材质限制的优点。
粒子碰撞原理：
Ar+
氣體 靶材
基材 靶材原子等粒子
Ar+
氣體
靶材
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主要工艺流程：
前处理
装配
清洗处理
真空溅镀
UV照射烘干
UV光油底漆
提高基材待镀层的附着性
UV光油面漆
UV照射烘干
成品
提高基材已镀层的硬度和配色
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真空溅镀也可根据基材和靶材的特性直接溅射不用涂底漆，真空溅镀的镀层可通过调 节电流大小和时间来垒加，但不能太厚，太厚了表面原子垒加会出现小小的空洞间隙。 厚度范围0.2~2um。
（5）镀铝层导电性能好，能消除静电效应；其封口性 能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证 了包装的密封性能。
（6）对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。
真空鍍膜
❖ 真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求： （1）耐热性好，基材必须能耐受蒸发
源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。 （2）从薄膜基材上产生的挥发性物质
一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使 用RF交流溅镀,基本的原理是在真 空中利用辉光放电 (glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面 ，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面 ，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜 。
真空賤鍍
❖ 分類上架 (依素材外觀選擇適合掛具)
❖ 脫脂清洗 (溫度.濃度.時間 )
❖ 粗化 (溫度.濃度.時間)
❖ 中和 (溫度.濃度.時間)
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 敏化 (溫度.濃度.時間 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 活化 (溫度.濃度.時間 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 化學鎳完成
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2015.01.13 v1r0
電鍍處理流程(一)
❖ 上架 (選擇合適掛具 )
❖ 超音波清洗 (時間. 電流 )
❖ 鍍銅 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小 )
❖ 水洗 (自來水連續循環 )
❖ 鍍鎳 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小.PH 值 )
❖ 選擇以下六種不同電鍍鎳層色澤及功能性
半光澤鎳
真空鍍膜工藝介紹
©CymMetrik. All rights reserved.
李振強2015.02.04
電鍍
電鍍(Electroplating)
❖ 電鍍(electroplating)被定義為一種電沈積過程 (electrodepos- ition process)， 是利用電極 (electrode)通過電流，使金屬附著於 物體表面 上， 其目的是在改變物體表面之特性 或尺 寸
3 電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層 (deposit)，改變基材表面性質或尺寸。例如 賦予金屬光澤美觀、物品的防鏽、防止磨耗 、提高 導電度、潤滑性、強度、耐熱性、耐 候性、熱處理之防止滲碳、氮化 、尺寸錯誤 或磨耗之另件之修補。
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2015.01.13 v1r0
要少；对吸湿性大的基材，在镀膜前理。 （3）基材应具有一定的强度和表面平
滑度。 （4）对蒸镀层的粘接性良好；对于PP
、PE等非极性材料，蒸镀前应进行表面处理 、以提高与镀层的粘接性。
真空賤鍍
❖ 真空溅镀：
通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法。 在真空状充入惰性气体(Ar)，并在塑胶基材（ 阳极）和金属靶材（阴极）之间加入高压直流 电，由于辉光放电（glow discharge）产生的 电子激发惰性气体产生氩气正离子，正离子向 阴极靶材高速运动，将靶材原子轰出，沉积在 塑胶基材上形成薄膜
（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现针孔 和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、 光线等的阻隔性提高。
（3）具有极佳的金属光泽，光反射率可达97％；且可 以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的 。
（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或 透明窗口，能看到内装物。
真空賤鍍
❖ 賤鍍原理
主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材 (target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。
溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速 度却比蒸镀慢很多。
新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以 加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击 机率增加, 提高溅镀速率。
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PVD主要生產設備
PVD真空爐
PVD真空爐
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