[工学]半导体物理2010第六章PPT课件

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【精品】半导体物理(SEMICONDUCTOR PHYSICS )PPT课件

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• 适当波长的光照可以改变半导体的导电能力
如在绝缘衬底上制备的硫化镉(CdS)薄膜,无光照时的暗电阻为几十 MΩ,当受光照后电阻值可以下降为几十KΩ
• 此外,半导体的导电能力还随电场、磁场等的作用而改变
• 本课程的内容安排
以元素半导体硅(Si)和锗(Ge)为对象: • 介绍了半导体的晶体结构和缺陷,定义了晶向和晶面 • 讨论了半导体中的电子状态与能带结构,介绍了杂质半导体及其 杂质能级 • 在对半导体中载流子统计的基础上分析了影响因素,讨论了非平 衡载流子的产生与复合 • 对半导体中载流子的漂移运动和半导体的导电性进行了讨论,介 绍了载流子的扩散运动,建立了连续性方程 • 简要介绍了半导体表面的相关知识
• 化学比偏离还可能形成所谓反结构缺陷,如GaAs晶体中As 的成份偏多,不仅形成Ga空位,而且As原子还可占据Ga空 位,称为反结构缺陷。
• 此外高能粒子轰击半导体时,也会使原子脱离正常格点位 置,形成间隙原子、空位以及空位聚积成的空位团等。
• 位错是晶体中的另一种缺陷,它是一种线缺陷。
• 半导体单晶制备和器件生产的许多步骤都在高温下进行,因而在 晶体中会产生一定应力。
共价键方向是四面体对称的,即共价键是从正四面体中心原子出 发指向它的四个顶角原子,共价键之间的夹角为109°28´,这种正四面 体称为共价四面体。
图中原子间的二条连线表示共有一对价电子,二条
线的方向表示共价键方向。
共价四面体中如果把原子粗
略看成圆球并且最近邻的原
子彼此相切,圆球半径就称 为共价四面体半径。
图1.6 两种不同的晶列
• 晶列的取向称为晶向。 • 为表示晶向,从一个格点O沿某个晶向到另一格点P作位移 矢量R,如图1.7,则
R=l1a+l2b+l3c • 若l1:l2:l3不是互质的,通过

半导体物理学第六章1

半导体物理学第六章1

⎡ ⎢⎣ E
+
1 q
( dEF dx

dEi dx
⎤ )⎥⎦
Jn
=
nμn
dEF dx
同理:
Jp
=
pμ p
dEF dx
(6-8)
(6-7)
以上两式说明通过pn结的电流密度与费米能级的变化
有关,对于平衡p-n结,Jn、Jp均为零
所以可推得:dEF = 0, 即费米能级为常数,各处相等 dx
4 平衡pn结的接触电势差
N ( x) N A ( x) ND
x < xj, NA > ND x > xj, NA < ND
具有上述杂质分布的pn结称为缓变结。
xj
x
若净杂质分布是随距离线性变化 的,则称为线性缓变结
ND − NA = α j(x − xj)
小结
合金结和高表面浓度的浅扩散结一般可认为是突 变结。注入结也可看做突变结。
Si02
扩散P型杂质
P
N-硅
N-硅
N
PN结的制作方法
PN结的制作方法—离子注入法:FET中的二极管
Si02
注入P型杂质
P
N-硅
N-硅
N
PN结的制作方法—外延生长法:如LED,LD, 高频晶体管
Si02
P型杂质
P
N-硅
N-硅
N
PN结的杂质分布
①突变结杂质分布:在pn结交界面处,杂质浓度 由NA(p型)突变为ND(n型)。
EV
pn结热平衡的标准为各区费米能级处处相等,净 电流为0,这一结论还可以从电流密度方程导出
设流过pn结总电子电流密度为Jn,假定电场E沿x方向, 结区电子浓度n只随x变化:

半导体物理课件 第六章(2015.11.20)

半导体物理课件 第六章(2015.11.20)

低空间电荷减少 ♦当pn结上外加的反向电压增加,势垒高度增
加空间电荷增加
26
偏压上升(含正负): 变窄
P区
空穴补偿 电子补偿
n区
偏压下降(含正负) : 变宽
P区
空穴释放 电子释放
n区
2015/12/26
Semiconductor Physics
27
②扩散电容 CD —当pn结上外加电压变化,扩散区的非平衡 载流子的积累相应变化所对应的电容效应. ♦当正向偏臵电压增加,扩散区内的非平衡载 流子积累很快增加 ♦在反向偏臵下,非平衡载流子数变化不大,扩 散电容 可忽略 pn结的势垒电容和扩散电容都随外加电压而变 化-- CT 和CD都是微分电容: C=dQ/dV
x xp
xn - x
eV ( x ) kT
n np 0
n nn0
eV ( x ) kT
p pp0
p pn0
n( x ) n p 0 e
p( x) p p 0e
12

平衡p-n结载流子浓度分布的基本特点: ♦ 同一种载流子在势垒区两边的浓度关系服 从玻尔兹曼关系 ♦ 处处都有n•p=ni2 ♦ 势垒区是高阻区(常称作耗尽层)
1. 热击穿
pn结的反向扩散流由平衡少子产生:
pno = ni2/ND
npo = ni2/ NA
产生电流正比于ni
反向电流密切依赖于本征载流子浓度。 |VR |
反向偏压
Pc
功 耗
Tj
结温
ni
IR
IR
击穿
ni2∝T3 exp(-Eg0/KT)
43
2. 隧道击穿
隧道效应---电子具有波动性,它可以一定几率穿过能量 比其高的势垒区,这种现象称作隧道效应。

半导体物理第六章PPT课件课件

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电子和空穴的扩散方程可进一步变换为下式:
上述两式就是在掺杂和组分均匀的条件下,半导体材 料中过剩载流子浓度随着时间和空间变化规律的方程。
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扩散方程的物理意义: 与时间相关的扩散方程描述过剩载流子浓度随着时间和 空间位置的变化规律。
《半导体物理第六章》PPT课件来自这一节将详细讨论过剩载流子运动的分析方法。
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6.2.1 连续性方程 如下图所示的一个微分体积元,一束一维空穴流在
x处进入微分体积元,又在x+dx处离开微分体积元。 空穴的流量:Fpx+,单位:个/cm2-s,则有下式成立:
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6.3.1 双极输运方程的推导
利用方程: 扩散方程; 泊松方程;
(泊松方程能建立过剩电子浓度及过剩空穴浓度与内 建电场之间的关系),其表达式为:
其中εS是半导体材料的介电常数。 《半导体物理第六章》PPT课件
扩散方程中的
项不能忽略。
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双级输运方程的推导: 半导体中的电子和空穴是成对产生的,因此电子和空 穴的产生率相等,即:
Eapp:外加电场; Eint:内建电场。
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内建电场倾向于将过剩电子和过剩空穴保 持在同一空间位置,因此这些带负电的过剩电 子和带正电的过剩空穴就会以同一个等效的迁 移率或扩散系数共同进行漂移或扩散运动。 这种现象称为双极扩散或双极输运过程。
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§6.3 双极输运
在第5章中,导出的电子电流密度方程和空穴电流密 度方程中,引起漂移电流的电场指的是外加的电场。

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重要性
半导体物理学是现代电子科技和信息 科技的基础,对微电子、光电子、电 力电子等领域的发展具有至关重要的 作用。
半导体物理学的发展历程
19世纪末期
半导体概念的形成,科学家开始认识到 某些物质具有导电性介于金属和绝缘体
之间。
20世纪中叶
晶体管的商业化应用,集成电路的发 明,推动了电子科技和信息科技的发
半导体中的热电效应
总结词
解释热电效应的原理及其在半导体中的应用。
详细描述
当半导体受到温度梯度作用时,会在两端产生电压差 ,这一现象被称为热电效应。热电效应的原理在于不 同温度下,半导体内部载流子的分布不同,导致出现 电势差。热电效应在温差发电等领域有应用价值,可 以通过优化半导体的材料和结构来提高热电转换效率 。
分析器件在长时间使用或恶劣环 境下的性能退化,以提高其可靠 性。
THANKS
THANK YOU FOR YOUR WATCHING
06
半导体材料与工艺
半导体材料的分类和特性
元素半导体
如硅、锗等,具有稳定的化学性质和良好的半导 体特性。
化合物半导体
如砷化镓、磷化铟等,具有较高的电子迁移率和 光学性能。
宽禁带半导体
如金刚石、氮化镓等,具有高热导率和禁带宽度 大等特点。
半导体材料的制备和加工
气相沉积
通过化学气相沉积或物理气相沉积方法制备 薄膜。
05
半导体器件的工作原理
二极管的工作原理
总结词
二极管是半导体器件中最简单的一种 ,其工作原理基于PN结的单向导电性 。
详细描述
二极管由一个P型半导体和一个N型半 导体结合而成,在交界处形成PN结。 当正向电压施加时,电子从N区流向P 区,空穴从P区流向N区,形成电流; 当反向电压施加时,电流极小或无电流 。

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§1.2.4电子在周期场中的运动——能带论
2、电子在周期场中的运动
布洛赫曾经证明,满足式(1-13)的波函数一定具有如下
形式: k x uk (x)ei2 kx
(1-14)
式中k为波矢,uk (x)是一个与晶格同周期的周期性函数, 即:
uk (x) uk (x na)
式中n为整数。
§1.2半导体中的电子状态和能带
§1.2.4电子在周期场中的运动——能带论
2、电子在周期场中的运动 式(1-13)具有式(1-14)形式的解,这一结论称为布洛赫
定理。具有式(1-14)形式的波函数称为布洛赫波函数 晶体中的电子运动服从布洛赫定理:
晶体中的电子是以调幅平面波在晶体中传播。 这个波函数称为布洛赫波函数。
§1.1 晶体结构预备知识,半导体晶体结构 2.几种晶格结构
如果只考虑晶格的周期性,可用固体物理学原胞表示:
简立方原胞:与晶胞相同,含一个原子。

体心立方原胞:为棱长
3 2
a
的简立方,含一个原子。

面心立方原胞:为棱长
2 2
a
的菱立方,由面心立方体对
角线的;两个原子和六个面心原子构成,含一个原子。
§1.2半导体中的电子状态和能带
§1.2.4电子在周期场中的运动——能带论
1、自由电子的运动状态 对于波矢为k的运动状态,自由电子的能
量E,动量p,速度v均有确定的数值。 波矢k可用以描述自由电子的运动状态,
不同的k值标志自由电子的不同状态 自由电子的E和k的关系曲线,呈抛物线
形状。 由于波矢k的连续变化,自由电子的能量
(e)(100)面上的投影
§1.1 晶体结构预备知识,半导体晶体结构 4.闪锌矿型结构

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在电场
②当电流密度一定时, dEF/dx与载流子浓
度成反比 ③上述讨论也适用于电子子系及空穴子系
(用准费米能级取代费米能级):
J =n
dEF dx
J =p
dEF dx
35
36
★ 正向偏压下的p-n结
①势垒: ♦ 外电压主要降落
于势垒区 ♦ 加正向偏压V, 势
垒高度下降为 e(VD-V),
荷区的产生—复合作用。 P型区和N型区的电阻率都足够低,外加电压全部降落
在过渡区上。
57
准中性区的载流子运动情况
稳态时, 假设GL=0
0

DN
d 2np dx2

n p
n
......x

xp

0

DP
d 2pn dx2
边界条件:

pn
p
......x

xn
图6.4
欧姆接触边界
以及工作温度
24
③接触电势差:
♦ pn结的势垒高度—eVD 接触电势差—VD
♦ 对非简并半导体,饱和电离近似,接触 电势为:
VD

kT e
ln nn0 np0

kT e
ln
NDNA ni2
♦ VD与二边掺杂有关,
与Eg有关
25
电势
图6-8
电子势能(能带)
26
④平衡p-n结的载流子浓度分布: ♦ 当电势零点取x=-xp处,则有: EC (x) EC qV (x)
52
53
54
理想二极管方程
PN结正偏时
55
理想二极管方程
PN结反偏时

半导体物理学刘恩科全部章节ppt

半导体物理学刘恩科全部章节ppt

原因: “轨道杂化”(sp3) p 导带 空带
s 价带 满带
禁带
32N
0
电子
2NN
4N
电子
二、半导体中电子的状态和能带
微观粒子的波粒二象性
实验验证:
戴维逊-革末实验:电流出现周期性变化
I
将电子看成粒子则无法解释


阴级 U
Ni单晶

1927年戴维孙和革末用加速后的电子投射到在镍(Ni)晶体 特选晶面上进行电子反射时的干涉实验
二、半导体中电子的状态和能带
➢微观粒子的波粒二象性
– 微观粒子的粒子性:
各种微观粒子都有其独特的特征:如质量、电荷等 同种微观粒子具有等同性
微观粒子的运动表现粒子运动的特性:动量、能量
– 微观粒子的波动性:
微观粒子的运动表现波动的特性:波长、频率 但微观粒子的波动不是电磁波,而是徳布罗意波
➢微观粒子的波粒二象性
由两种原子结构和混合键
– Ⅲ-Ⅴ族和Ⅱ-Ⅵ族二元化合物半导体绝大多数具 – 有闪锌矿型结构:
• 闪锌矿型结构和混合键
– 注意几点:
1. 正四面体结构中心也有一个原子,但顶角原子与中心 原子不同,因而其结合方式虽以共价结合为主,但具 有不同程度的离子性,称极性半导体
2. 固体物理学原胞同金刚石型结构,但有2个不同原子
3. 结晶学原胞可以看成两种不同原子的面心立方晶胞沿 立方体空间对角线互相错开1/4长度套构而成,属于双 原子复式晶格
4. 一个晶胞中共有8个原子,两种原子各有4个
纤锌矿型结构
材料: Ⅱ-Ⅵ族二元化合物半导体
例: ZnS、ZnSe、CdS、CdSe
– 此时定态薛定谔方程为:
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nno
ND , npo
ni2 NA
VD1 qEF nEFpkq 0TlnND niN 2A
接触电势差VD和pn结两边的掺杂浓度、温度、材料 的禁带宽度有关。一定温度下,突变结两边掺杂浓度 越高,VD越大;禁带宽度越大- ,ni越小,VD也越大. 15
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.5 pn结载流子分布
-
13
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.4 pn结接触电势差
平衡pn结的空间电荷区两端的电势差VD称为pn结 接触电势差或内建电势差,相应的qVD称为pn结势垒 高度.
从能带图中可以看出,势垒高度正好补偿了两个半 导体的费米能级的差异,即
qV DEFnEFp
令nn0和np0分别表示n区和p区平衡电子浓度,则
n n on ie x E F k p 0 T nE i - n p 0 n ie x E F k p 0 T pE i
14
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.4 pn结接触电势差
两式相除取对数得:
lnnno 1 np0 k0T
EFnEFp
若半导体处于强电离区,则
平衡pn结中费米能级处处相等恰好标志了每一种 载流子的扩散电流和漂移电流相互抵消,没有净电流 流过pn结,这一结论也可从-电流密度方程式推出。 9
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.3 平衡pn结的能带图
证明如下:
考虑电子电流,流过pn结的电子总电流密度为:
Jn nqnqDn ddnx
由爱因斯坦关系,则
J n qn n k q 0 Td d n xnn q k q 0 Td dlx n
由平衡非简并半导体电子浓度公式:
n
ni
exp
EF Ei - k0T
10
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.3 平衡pn结的能带图
得到:
dlnn 1 dE FdE i
dx k0T dx dx
Jp
p p
dE F dx
dE F J p dx p p
-
12
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.3 平衡pn结的能带图
上两式表示了费米能级随位置的变化和电流密度之间 的关系.对于平衡pn结,Jn和Jp均为零,因此有:
dEF dx
0,EF
常数
上述关系式还说明当电流密度一定时,载流子浓度大 的地方,EF随位置变化小,而载流子浓度小的地方,EF 随位置变化较大。
空间电荷区(pn结、势垒区、耗尽层):
由带正电的电离施主和带负电的电离受主杂质构成,存在 内建电场,电场方向由n区指向p区.当pn结达到平衡时,净电 流为零,空间电荷区宽度一定。
中性区+空间电荷区- +中性区
6
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.2 平衡pn结的形成
空间电荷区内的电势分布:
由于内建电场的存在,空间电荷区内电势V(x)由n区向p区 不断降低,而电子的电势能-qV(x)则由n区向p区不断升高 (电势越高的地方电子的能量越低)。
合金结和高表面浓度的浅扩散结一般可认为是 突变结,结中杂质分布表示为:
xxj,NxNA xxj,NxND
边界两侧可认为只含有一种导电类型的杂质.
-
3
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.1 pn结中的杂质分布
⒉线性缓变结 低表面浓度的深扩散结中,杂质浓度从p区到n
区是逐渐变化的, 为缓变结.若杂质分布可用x=xj处 杂质分布曲线的切线表示,则称为线性缓变结,可表 示为:
取p区电势为零,并且p区导带底能量为零,势垒区中 一点x的电势V(x)为正值,且越接近n区的点电势越高. 到势垒区靠近n一侧边界xn处的电势最高为VD,用xn和 -xp分别代表n区和p区势垒区的边界.势垒区内点x处 的电子的附加电势能为E(x)=-qV(x).
对非简并半导体,考虑内建电场的附加电势后:
N D N A jx x j
式中的αj是x=xj处切线的斜率,称为杂质浓度梯度.
-
4
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.2 平衡pn结的形成
-
5
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.2 平衡pn结的形成
载流子的两种运动:
扩散运动:多子在浓度差作用下定向移动
漂移运动:在内建电场的作用下载流子的定向移动,阻碍了 扩散运动的进行.
返回
-
7
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.3 平衡pn结的能带图
返回1
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8
返回3
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.3 平衡pn结的能带图
当两块半导体形成pn结时,电子将从费米能级高的 n区流向费米能级低的p区。当pn结处于平衡状态 时,两者的费米能级达到一致.此时,n区整个能带比 p区整个能带低,空间电荷区内的能带产生弯曲,弯曲 的高度即为qVD.当电子从势能低的n区向势能高的p 区运动时,必须克服这一势能高坡,对空穴也一样,所 以也称空间电荷区为势垒区.
Jnnqnq 1dቤተ መጻሕፍቲ ባይዱF E xddiE x
而本征费米能级Ei的变化与电子电势能-qV(x)的变 化一致,所以:
diEqdV xq
dx dx
-
11
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.3 平衡pn结的能带图
带入后得到电子总电流密度:
Jn
n n
dE F dx
dE F J n dx n n
同理,空穴总电流密度为:
n (x)n n 0ex E c p k n 0 T E (x) n n 0ex qp (V x k )0 T qD V
第六章 pn结
在同一块半导体材料中若同时有两种不同的导电类 型时,交界面处形成了pn结。pn结是很多半导体器 件如结型晶体管、集成电路等的基本结构,了解和掌 握其性质具有重大意义。
本章重点讨论了pn结的形成过程和能带情况,并对 其电流电压特性、电容效应及击穿特性等性质进行了 介绍。
-
1
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.1 pn结中的杂质分布
在一块n型(或p型)半导体单晶上,用合金法、扩 散法、生长法、离子注入法等方法将另一种导电类 型的杂质掺入其中,使这块单晶的不同区域分别具 有n型和p型的导电类型,~在两者的交界面处就形成 了pn结.
-
2
§6.1 pn结及其能带图 §6.1.1 pn结中的杂质分布
根据pn结中杂质分布的不同, pn结可分为突变 结和线性缓变结两种. ⒈突变结
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