半导体异质结及其在光电子学中的应用 #

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半导体异质结及其在电子和光电子中的应用——2000年诺贝尔物理奖评述

半导体异质结及其在电子和光电子中的应用——2000年诺贝尔物理奖评述
 ̄ OCVDI概念后 M

到 半 导 体异 质 结 的 最 重 要优 越性 是 :载 流 子 的超
中 的 应 用 也 提 出 了 许 多 有 益 的 构 想 。 几 年 以后 ,到
尔 费罗 夫 (h rs I l rv、美 国加 利福 尼亚 大 学 Z o . f o)  ̄ Ae 的克勒 默 《 eb r K ome)和德 州 仪 器公 司 的基 H re re r t
尔 比 ( c .i y,以表 彰他 们 为现代 信 息技术 , J ksKl ) a b
生长 技术 ,从 美 国贝尔实 验室卓 以和先生 的开创性 工作 ,又经过 张立 纲 、曾焕添 等人 出色 的工 作 ,使 分 子 束外 延 ( E)成 为 Ⅲ一 MB V族 化 合 物 半 导 体 异
质 结 量子 阱 生长 的重 要 手 段 。在 马纳 新 维 特 ( H. Ma a i 最 早 提 出 金 属 有 机 物 化 学 汽 相 淀 积 [  ̄v ) n t
即使其 导 电类型不 同 ,都 为同质结 。
2 0世 纪 3 O年 代初 期 ,苏 联列 宁格 勒 约飞 技术 物 理研 究 所 的 学者 就 开始 了对半 导 体 异 质结 构 的 探 索 。在 此 前后 ,弗伦 克 ( a .rn 1 Y .Fek )预见 了激 I 子现 象并发 展 了半导 体异 质结 中的激 子理论 。
俄 罗 斯 科 学 院 圣 彼 得 堡 约 飞 技 术 物 理 研 究 所 的 阿
作 为 晶体 管 的发 明者 , 肖克 利 ( S o ke ) w. c l h y 在 第 一个 关 于 p n结 晶体 管 的专 利 中 、就 提 出 用宽 禁带发 射 区来 实现单 向注入 的建议 。但 是 ,早 期异 质结 理论 最 重要 的开拓 者 当 属美 国学 者 赫伯 特 ・ 克 勒 默 。早 在 1 5 9 7年 ,他 就预 言异 质 结 有着 比同质 结 大得 多 的注入效 率 ,同时对 异质 结在 太阳能 电池

半导体光电子学 §2.1 异质结及其能带图

半导体光电子学 §2.1  异质结及其能带图

p
n
+
-+
-
-+
势扩中 垒散性
区区区
一.pN异型异质结
由电子型半导体中电离施主和空穴型半 导体受主组成。
Ec x1 x2
Ev
(E g2
x2 ) (Eg1
x1 )
Eg x Eg Ec
二.突变同型异质结
❖ nN , pP
1.同型异质结由多数载流子相互扩散形成空间电荷区
2.同型异质结性质 → 扩散
4. Eg: X: Φ:
不同, 能带不同
F:
x1
Ec1
Ev1
1
Ec Eg1
Ev
-+
x1 x2 1 2 x1 Eg1 x2 Eg 2
1
2 Ec2
-+
F
+
Ev
Ev 2
形成结后能带
三.缓变异质结
1.能带不连续性小时,尖峰、尖谷淡化
2.在外加电场作用下,缓变结与突变结有相同的性
第二章 异质结
§2 – 1 异质结及其能带图
①异质结:两种禁带宽度不同的半导体材料,通过一定 的生长方法所形成的结。
②分 类
按电荷分布 按掺杂类型
突变结
缓变结 同型异质结 p-P,n-N
异型异质结 p-N,n-P
③ 能带图 界面上静电场是不连续的;功函数Φ;电子
亲和势X 电子势能增加方向
真空能级
质,Ec
、Ev

E
有一定的关系
g
加正向偏压 v f 时,外加电场与内建电场方
向相反,空间电荷相应减少,势垒区宽度减少, 扩散运动超过了漂移运动 qvD q(vD v f ) , 载流子扩散运动超过了漂移运动→成为正向电流。

电子学中的异质结半导体

电子学中的异质结半导体

电子学中的异质结半导体异质结半导体是指由不同材料组成的半导体结构,其中包括一层P型半导体和一层N型半导体。

这种半导体结构是电子学领域中最常见的半导体结构之一,也是最重要的一种。

它的应用范围非常广泛,包括太阳能电池、光电导、激光二极管等。

异质结半导体的构成和性质在异质结半导体中,P型半导体和N型半导体按照一定的形状和尺寸堆叠在一起,形成一个异质结。

这种结构是由一层带正电荷的区域和一层带负电荷的区域组成的,这两层区域之间的界面叫做“界面活性区”。

异质结半导体的主要特性是它可以在不同的区域之间形成电势差,从而引起电子的流动。

当这种电势差足够大时,电子会从N 型半导体向P型半导体流动,这就产生了电流。

而这种电流将在异质结上产生一个电场,这个电场可以在异质结中制造一个电能谷。

当电子从N型半导体向P型半导体流动并进入电能谷时,这些电子就会被束缚在谷底,因此它们可以在很长一段时间内停留在谷底而不被扰动。

应用范围异质结半导体的应用范围非常广泛,包括太阳能电池、光电导、激光二极管等。

因为异质结半导体具有非常好的电子特性,它可以在电路中扮演非常重要的角色。

例如,它可以被用作能够将光转换为电的装置。

这种装置可以将太阳光转换成电能,从而用于为家庭和工业提供动力。

另一个异质结半导体的重要应用是在半导体激光器中。

这种器件可以产生极高的光功率,因此被广泛用于各种各样的科学研究和工业应用中。

激光器还可以被用作多种多样的应用,如激光切割、激光标记、激光通讯等。

结语总之,异质结半导体是电子学领域中非常重要的一种半导体结构,它具有非常优异的电特性和物理性质,因此被广泛应用于太阳能电池、光电导、激光二极管等。

作为一种非常先进的电子器件,异质结半导体不仅可以满足当今各种应用的需求,还可以帮助我们开发更多新的应用。

异质结原理及对应的半导体发光机制

异质结原理及对应的半导体发光机制

异质结原理及对应的半导体发光机制异质结原理是指由两种或多种材料组成的不同半导体构成的结构。

它可以利用两种半导体之间能带结构的差异,实现电子和空穴的注入、传输和复合,从而实现发光。

异质结发光是一种重要的光电子器件,具有广泛的应用前景,如发光二极管(LED)、半导体激光器(LD)等。

异质结发光机制主要包括共价键发光、能带发光和电子-空穴复合发光。

共价键发光是最早被发现和研究的半导体发光机制。

在共价键发光中,异质结的两侧半导体材料的禁带宽度不同,电子从宽禁带一侧通过隧穿效应传输到窄禁带一侧,与窄禁带一侧的空穴复合,从而释放能量并发射光子。

共价键发光的发射光谱范围较窄,通常在近红外到红外区域。

能带发光是将发光材料能带结构的差异转化为发光的机制。

在能带发光中,异质结的两侧半导体材料的导带和价带的位置不同,能带之间存在能隙。

当电子从宽能隙一侧的导带跃迁到窄能隙一侧的价带时,释放的能量将以光子的形式辐射出去。

能带发光的发射光谱范围通常较宽,可以覆盖可见光和近红外区域。

电子-空穴复合发光是异质结最常见的发光机制。

在这种机制下,电子从宽禁带一侧注入到窄禁带一侧的导带,与窄禁带一侧的空穴发生复合,并释放能量。

复合可以通过辐射发光、非辐射发光或热失活等方式进行。

其中,辐射发光是最常见的发光方式,同样也是半导体激光器工作的基本原理。

电子-空穴复合发光具有发射光谱宽、效率高等特点,可用于制备高效的发光器件。

总之,异质结原理和相应的半导体发光机制在材料和器件的设计中具有重要作用。

研究和应用这些原理和机制,可以开发出更高效、更稳定的发光材料和器件,推动光电子技术的发展。

半导体异质结的作用

半导体异质结的作用

半导体异质结的作用
1.提升光生电子-空穴对分离迁移效率:通过结合两种晶体结构、原子间距与膨胀系数
相近的半导体材料,异质结能够促进光生电子-空穴对的分离与迁移。

这种分离迁移效率的提升有助于增强光吸收能力及提高半导体材料的稳定性。

2.形成内建电场:异质结通常以内建电场的形式促进光生电子-空穴对的分离与迁移。

在p-n结中,p型半导体主要以正电荷(空穴)导电,而n型半导体主要以负电荷(电子)导电。

当它们构成异质结后,正负电荷受电磁力的影响互相吸引,最终在两种半导体的界面处形成电偶层,构成方向为n指向p的内建电场。

这个内建电场有助于光生电子与空穴分别向两侧迁移,一方面促进了光生电子-空穴对的产生,另一方面也减小了光生电子与空穴相遇复合的几率。

3.在电子器件中的应用:半导体异质结构对半导体技术具有重大影响,是高频晶体管
和光电子器件的关键成分。

例如,在双极晶体管中,当异质结用作基极-发射极结时,会产生极高的正向增益和低反向增益,从而转化为非常好的高频工作和低漏电流。

在场效应晶体管中,异质结用于高电子迁移率晶体管,可以在更高的频率下工作。

异质结在光电子器件中的应用

异质结在光电子器件中的应用

异质结在光电子器件中的应用在实际的光电子器件中,往往包含一个或多个异质结。

这是因为异质结是由具有不同的电学性质和光学性质的半导体组成的,还可以通过适当的晶体生长技术控制异质结势垒的性状,因此异质结在扩大光电子器件的使用范围,提高光电子器件性能,控制某些特殊用途的器件等方面起到了突出的作用。

在光纤通信、光信息处理等方面的具体应用如下:1异质结光电二极管光电二极管是利用光生伏打效应工作的器件,工作时要加上反向偏压,光照使结的空间电荷区和扩散区内产生大量的非平和载流子,这些非平衡载流子被内建电场和反向偏压电场漂移,就会形成很大的光电流。

其工作特性曲线如下图所示:图2.1 光电二极管的工作特性曲线光电二极管往往作为光电探测器使用,此时希望它有宽的光谱响应范围和高的光电转化率。

在包含有异质结的光电二极管中,宽带隙半导体成为窄带隙半导体的入射窗口,利用此窗口效应,可以使光电二极管的光谱响应范围加宽。

图2.2(a)画的是由宽带隙E g1和窄带隙E g2两种半导体组成的异质结,在入射光子能量满足E g1>hv> E g2的条件下,入射光就能透过半导体1而被半导体2吸收。

显然,透过谱与吸收谱的曲线重叠部分是该光电探测器的工作波段范围。

图2.2(b)是同质结光电探测器响应的情况,显然同质结的工作波段范围是很窄的。

光子能量/ev12E =E 入射光光子能量/ev12E >E 入射光(a )(b )图2.2 异质结光带二极管和同质结光电二极管的光谱特性2异质结光电晶体管图2.3分别是InP/InGaAs 异质结光电晶体管的典型结构图和能带图。

发射区由宽禁带的n 型InP 材料做成,基区和收集区由窄禁带的InGaAs 材料做成。

光电晶体管工作时一般采用基区浮置的方式,以减少引线分布电容。

在集电极和发射极之间加电压,使发射极对基区正向偏置,而集电极对基区反向偏置。

入射光子流照在宽带发射区上,当光的波长合适时发射区基本是透明的,光在窄带区中靠近宽带一侧被吸收而产生电子-空穴对。

半导体光电子学第二章第四章解析

半导体光电子学第二章第四章解析

j
q
n
p0 Dn Ln
pn0 Dp Lp
e
qV kT
1
真空能级 x2
EC F2
φ2
Eg2
EV
n
x3 EC
φ3
Eg3
F3 EV
P
n
真空能级
x2
φ2
F Eg2
x3
φ3
Eg3
P
二、突变同型异质结
真空能级
x1 EC
F1
φ1
Eg1
EV
N
x2
EC F2
φ2
Eg2
EV
n
N
真空能级
x1 EC
φ1
F
Eg1
n
异质结:两种禁带宽度不同的半导体材料,通
过一定的生长方法所形成的结。 半导体中是两种不同单晶半导体材料之间的晶体 界面,也可以说是由两种基本物理参数不同的半 导体单晶材料构成的晶体界面,不同的物理参数 包括Eg,功函数(φ),电子亲和势(χ),介电 常数(ε)。
同质结:由两种禁带宽度相同的半导体材料构成的
同质结:由两种禁带宽度相同的半导体材料构成
的结。
p
n
突变结:在交界面处,杂质浓度由NA(p型)突变为
ND(n型),具有这种杂质分布的p-n 结称为突变结。
缓变结:杂质浓度从p区到n区是逐渐变化的,通常称为缓变结。
空间电荷区-耗尽层
空间电荷 空间电荷区 内建电场 电势差VD
XN
XP
N
P
2.1 异质结及其能带图
第二章 异 质 结
前言:半导体同质结 2.1异质结及其能带图 2.2异质结在半导体光电子学器件中的作用 2.3异质结中的晶格匹配 2.4 对注入激光器异质结材料的要求 2.5 异质结对载流子的限制 小结

异质结半导体光电器件的性能及其应用

异质结半导体光电器件的性能及其应用

异质结半导体光电器件的性能及其应用引言半导体器件是现代电子工业的基石。

光电器件则利用半导体材料的光电特性,将光信号转换为电信号或将电信号转换为光信号。

这一系列器件主要包括光电二极管、光电探测器、光伏电池、激光器等,异质结半导体光电器件就是其中的一类。

在现代信息产业的快速发展中,随着光通信、光储存等光信息传输方面的广泛应用,异质结半导体光电器件也因其优良的光电性能得到了越来越广泛的应用。

第一部分异质结半导体光电器件的基本结构和原理1.异质结半导体器件的定义异质结半导体器件是指在半导体材料中掺杂有不同种类、不同平衡状态的离子时,形成的p-n结构的一种半导体器件。

通俗地解释,即是将不同的材料拼接在一起制成的半导体。

在异质结半导体器件中,相邻两层材料的应变、电参数等会发生突变,产生了一些有趣的物理现象。

2.基本结构与原理异质结半导体器件的制作方法一般有两种,即普通外延法和ELO(epitaxial lateral overgrowth)法。

普通外延法利用外延片在具有特定晶向的热源上,使单晶材料慢慢生长。

而ELO法则是将异质结材料生长在原始外延层上,通过晶面迭合的形式来增长相邻两层不同的半导体材料。

异质结半导体光电器件的基本结构包括n型半导体(即电子数量较多的材料)和p型半导体(即电子数量较少的材料)在一个区域内通过熔合生长。

在两种半导体材料结合的边界处形成一种电子半径和空穴半径不同的势垒,这一势垒就是异质结。

在异质结中,由于两边材料的性质不同,电子和空穴会在其中产生很多反弹。

在异质结界面处,电子的能量稍微超过势垒时,便需要产生一次反弹,并产生一些能量。

这种现象就叫做载流子的分离,分离后的载流子在材料中随即极快地运动,被读取器或传输线接收。

第二部分异质结半导体光电器件的应用光电二极管是一种利用光电效应,将光信号转换为电信号的器件。

它基于光电效应,将光子能量转换为电子能量,从而形成电流。

不同材料的光电二极管光谱响应范围不同,但都受到材料的电子云的约束。

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/ 异质结概念的提出和发展
异质结意指不同物质之间的界面 (即结) , 而半 导体异质结则专指不同单晶半导体之间的晶体 界 面 # 从能带论角度来看, 异质结是指不同禁带宽度的半 导体的界面; 反之, 如果界面两侧由具有相同禁带宽度 的半导体组成, 即使其导电类型不同, 都为同质结 # 在 /1 世纪 81 年代初期, 前苏联列宁格勒约飞 技术物理研究所的学者就开始了对半导体异质结的 探索, 作为晶体管的发明者, 肖克利 ( =# >"*<?&(@) 在 第一个关于 A : B 结晶体管的专利中, 就提出用宽禁
81 卷(/11, 年)P 期
器并在实验上得到实现, 才翻开了半导体激光器新 的一页 ! "#$% 年, 苏联的 &’()*+, 小组、 美国贝尔实验 室的 - ! ./0/123 和 4! 5! 6/7312 等发表了激动人心的 以异质结为基础的半导体激光器室温连续激射, 他 们在 8/&1 增益有源区两侧引入了高带隙低折射率 的 &’8/&1 势垒层, 势垒限制作用增强, 注入载流子 的利用效率大幅度提高, 又具有约束波导的功能, 这 也是半导体激光器的第二里程碑 ! 从此, 摆脱了杜瓦 瓶的连续工作的半导体激光器才开始得到了真正的 应用, 使光通信、 光存储、 光信息处理、 光计算等应用 都进入了新的时期 ! 其后, 美国、 前苏联、 英国、 日本 以及包括巴西、 波兰和中国在内的许多大学和研究 所都展开了异质结和! 9 "族化合物电子和光电子 器件的研究热潮 ! 此时, 人们意识到半导体异质结的 最重要的优越性是: 载流子的超注入, 对光场的限制 和对电子的限制 ! 此间许多能体现异质结特点的器 件相继推出, 包括低阈值室温连续工作的双异质结 激发器、 高效发光二极管、 异质结太阳电池、 异质结 双极晶体管、 异质结 : 9 7 9 : 9 7 半导体闸流管、 红 外和可见波段光转换器以及高效冷阴极等 ! 此外, 人 们还着力寻找晶格匹配的异质结, 努力进行材料系 的开拓, 并开始探讨用周期性的异质结代替 ; 9 6 腔形成光反馈实现受激发射, 即后来的分布反馈激 光器 ! 图 " 为同质结与双异质结半导体激光器示意 图!
带发射区来实现单向注入的建议 # 但是, 早期异质结 理论最重要的开拓者当数美国学者 3()4()5 6)*(7() # 早在 ,-.0 年, 他就预言异质结有着比同质结大得多 的注入效率, 同时对异质结在太阳能电池中的应用 也提出了许多有益的构想 # 到 ,-28 年前后, 前苏联 学者 %&’()*+ 和美国的 6)*(7() 各自独立地提出基于 双异质结的激光器的概念 # %&’()*+ 提出利用双注入 获得高密度的载流子注入和反转粒子数密度的可行 性, 并特别指出, 同质结激光器在温度较高时, 要实 现连续激射是不可能的 # 应该说, 现在的半导体器件, 不能不考虑采用异 质结构以全面提高其性能, 没有异质结, 很难想象当 今固体物理学会是什么样子 #
*+,-./0 和 4./-5-. 则是由于他们在半导体异质结 及其在电子和光电子学中的应用方面的突出贡献而 获奖 ( 本文仅就这两位诺贝尔物理奖获得者在异质结 及其在光电子学中的应用方面的贡献作一评述 (
#
?@?
两位诺贝尔物理奖获得者简历
-AB , B 2CD:6=E 简历 &’ ( ) ( *+,-./0, #V%" 年 % 月 #U 日出生于白俄罗斯
结构激光器的概念, 是这一领域的先 驱者之一 # 到 91 年代时, 这种理念和 相应的技术才被大量应用开来 # 在到
美国加利福尼亚大学后他转向实验研究, 着力于应 用这些技术于新材料系, 自 ,-9. 年以来, 他们研究 集中在! : "族半导体材料方面, 因为他认为这些 材料将可能为未来的新器件提供基础 # 目前他的研 究集中在两个十分不同的领域, 一是带有超导电极 的半导体和超导体混合结构, 二是在强电场下半导 体超晶格中的电流输运及其导致的布洛赫 ( ;&*<") 振荡 # 由于他的贡献, 他得到多种奖项, /111 年获得 诺贝尔物理奖 #
3()4()5 教授 6)*(7()
8
半导体激光器的室温连续激射
让我们首先回顾一个半导体激光器发展初期的
轨迹吧! 电子回旋共振技术取得 /1 世纪 .1 年代后期, 了突破性的进展, 发现电子在磁分裂能级间可能产 生粒子数反转, 国际科学界力图开发出新型大功率 微波激射源微波相干振荡器, 称之为 7CD() # 与此同 时, 国际光学界的科学家也提出了一种新的科学思 想: 如果把基质中分裂能级的能量间隔加大, 移到光 频域, 就有可能在这样的能级体系中实现光的受激 发射和振荡, 从而获得高强度的单色相干光输出 # 这 一思想激励着国际著名实验室 (如美国的贝尔实验 室、 $;E、 FG% 和前苏联科学院列别捷夫研究所等) 中的科学家们开展相应的实验探索 # ,-21 年, 美国 首次研制成功第一台掺 G) 红宝石激光器, 随后苏联 的巴索夫院士又以电子束泵浦的方法在化合物半导 体 HC%D 中首次实现了受激光发射 # 美国 HI 公司的 F# J# 3C&&, ,-2/ 年 - 月, $;E 公 司的 E# $ # JC5"CB 和 E$K 的 K# E# LMND5 等人各自独立 宣布实现了半导体激光器的低温脉冲受激发射, 这 是半导体激光器的第一里程碑, 此时是在 HC%D 衬底 上进行热扩散形成 OJ 结的, 属同质结 # 在此期间, 人们尽管在条形的制作、 通过解理形成谐振腔、 欧姆 接触等技术方面取得重大突破, 但正如 %&’()*+ 所预 言的那样, 一直只能在低温脉冲下工作 # 6)*(7() 建议用双异质结来限制有源区中的载 流子, 他指出用异质结间的注入现象, 可以实现很多 间接带半导体的激射, 也可改善直接带半导体的激 射 # 历史证明, 只有当异质结的概念引入半导体激光 ・ /1, ・
!"# $ # %&’()*+ 教授
器件中的应用研究 # ,-01 年, 他首先实现了半导体 激光器在室温连续条件下的受激发射, 为此, 他荣获 /111 年度诺贝尔物理奖 # 目前他任俄罗斯圣彼得堡 约飞技术物理研究所所长, 俄罗斯科学院副院长 # !"# $%&’%&( )&*%+%& 简历 3()4()5 6)*(7() 于 ,-./ 年获得德 国哥廷根大学理论物理学博士学位, 其论文是研究当年新发明的晶体管 中的热电子效应 # 毕业后他一直致力 于研究半导体物理、 半导体技术和半 导体器件 # ,-28 年, 他提出了双异质
=1>? @;7ABC1D;
( !"#$%$&$’ () *’+%,("-&,$(. /01#%,# , 20%"’#’ 3,4-’+1 () *,%’",’# ,5’%6%"7 #"""$%, 20%"4 )
E’- ?/2-+ F.;G- ;A F’<H;8H !""" I7H 7I7.J-J 2< 3’- K/<7+ :I-J;H’ *87J-5< /, :8;-A8-H I;3’ /A- ’7+,
!""# T "! T "U 收到
#
物理
的维捷布斯克 # ,-./ 年毕业于列宁格 勒的乌里扬诺夫电子技术学院电子 系 # 他曾经获得物理学和数学博士学 位 # 他长期担任列宁格勒约飞技术物 理研究所所长, 苏联科学院副院长 # 他于 ,-01—,-0, 年间作为访问学者 在美 国 伊 利 诺 伊 大 学 短 期 工 作 # 从 他一直致力于半导体异质 ,-2/ 年起, 结及其在半导体电子器件和光电子
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摘 要 关键词
Байду номын сангаас


院圣彼得堡约飞技术物理研究所的 &’( )( *+,-./0、 美国加利福尼亚大学的 1-.2-.3 4./-5-. 和美国德克萨斯仪器公司的 以表彰他们为现代信息技术, 特别是他们发明的高速晶体管、 激光二极管和集成电路 (芯片) 所作出的奠 6789 :( 4;+2<, 基性贡献 ( 4;+2< 由于发明并发展了集成电路技术而获奖, 通过这项发明, 微电子学成为所有现代技术的基础 ( 4;+2< 的 获奖成果已有另文 (见 !""# 年第 % 期 《物理》 ) 评述 ( *+,-./0 和 4./-5-. 则是由于他们在半导体异质结及其在电子和光 电子学中的应用方面的突出贡献而获奖 ( 该文仅就这两位诺贝尔物理奖得主在异质结及其在光电子中的应用方面的 贡献进行评述 ( 诺贝尔奖, 物理, 异质结, 光电子学
瑞典皇家科学院 !""" 年 #" 月 #" 日 宣 布, 将 他们是俄 !""" 年度诺贝尔物理奖授予三位科学家, 罗斯科学院圣彼得堡约飞技术物理研究所的 &’ ( ) ( 美国加利福尼亚大学的 1-.2-.3 4./-5-. 和美 *+,-./0、 国德克萨斯仪器公司的 6789 : ( 4;+2<, 以表彰他们为 现代信息技术, 特别是他们发明的高速晶体管、 激光 二极管和集成电路 (芯片) 所作出的奠基性贡献 ( 4;+2< 由于发明并发展了集成电路技术而获奖, 通过这项发明, 微电子学成为所有现代技术的基础 ( (见 !""# 年 第 % 期 《物 4;+2< 的获奖成果已有另文 理》 ) 评述 ( ・ !"" ・
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