正向电压及氧化时间对ZAlSi12微弧氧化陶瓷层特性的影响

合集下载

微弧氧化过程中不同阶段超声波作用对陶瓷层的影响

微弧氧化过程中不同阶段超声波作用对陶瓷层的影响

微弧氧化过程中不同阶段超声波作用对陶瓷层的影响姜桂荣;蔡景瑞;夏永红;杨亚倩;陈翯;李国龙;刘凯;吴来磊;沈德久【期刊名称】《燕山大学学报》【年(卷),期】2013(000)005【摘要】The introduction of ultrasonic treatment on the micro-arc oxidation process is proven to effectively increase the growth rate and quality of the ceramic coatings. In this paper, the ultrasonic treatment is introduced in three stages of the micro-arc oxidation processes by controlling the introduction time of ultrasonic treatment. The cross-section morphologies, element content, phase structure, surface micro-structure and corrosion resistance of micro-arc oxidation coatings are examined byX-ray diffraction, scan-ning electron microscopy and potentiodynamic polarization, respectively. The results suggest that the ultrasonic treatment has effect on the three stages of micro-arc oxidation process. The thickness of ceramic coatings increases, in particular, the effect gets more pronounced in the later stage. When ultrasonic processing is introduced in the early stage, the content of -Al2O3 in the coating in-creases, while the content of Si and P are the highest, greatly enhancing the corrosion resistance. The -Al2O3 is dominant when ultrasonic processing is introduced in the later stage.%研究发现在微弧氧化过程中引入超声波作用能够提高陶瓷层生长速率和质量。

氧化时间对铝合金微弧氧化膜层结构及耐腐蚀性能的影响

氧化时间对铝合金微弧氧化膜层结构及耐腐蚀性能的影响

氧化时间对铝合金微弧氧化膜层结构及耐腐蚀性能的影响方雷;马运柱;刘文胜;刘阳;刘超;颜焕元【期刊名称】《粉末冶金材料科学与工程》【年(卷),期】2018(023)005【摘要】在硅酸盐体系(Na2SiO3+KOH)电解液中,采用微弧氧化技术在5052铝合金表面原位生成微弧氧化膜层.并利用SEM、EDS和XRD等仪器设备,分析微弧氧化膜层形貌、元素分布和相组成,着重分析氧化时间对膜层厚度、表面孔隙率和最大孔洞直径及膜层耐腐蚀性的影响.结果表明:微弧氧化膜层表面有典型的\"火山堆积\"形貌生成,且膜层厚度、表面孔隙率和最大孔洞直径随氧化时间的增加而增大;膜层主要元素为O和Al,相组成为γ-Al2O3和α-Al2O3,且主要为γ-Al2O3;微弧氧化处理可显著提高试样的耐腐蚀性能,腐蚀电流密度至少下降2个数量级,电化学阻抗模值|Z|至少增加2个数量级,随氧化时间从10 min延长到50 min试样的耐腐蚀性能先提升后降低,氧化时间为20 min的试样耐腐蚀性能最好.【总页数】8页(P503-510)【作者】方雷;马运柱;刘文胜;刘阳;刘超;颜焕元【作者单位】中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙 410083;中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙 410083;中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙 410083;中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙 410083;中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙 410083;中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙 410083【正文语种】中文【中图分类】TG178【相关文献】1.氧化时间对钛合金钻杆微弧氧化膜层结构和性能的影响 [J], 陈孝文;李仁仆;张德芬;唐瑜;陈文贤;邹波;蒋丽;梁晟;施太和;2.稀土铈掺杂石墨烯对7050铝合金微弧氧化膜层结构与性能的影响 [J], 宗玙; 宋仁国; 花天顺; 蔡思伟3.氧化时间对2A12铝合金微弧氧化膜层组织及耐腐蚀性能的影响 [J], 陈庚;苗景国;方琴;章友谊;赵锦秀4.铸铝合金微弧氧化时间对陶瓷膜微观结构及性能的影响 [J], 戈云杰;宋仁国;王超;郭燕清;陈亮;项南;宋若希5.石墨烯纳米片对D16T铝合金微弧氧化膜层结构与性能的影响 [J], 刘婉颖;刘颖;陈龙;林元华;石云升;高婷艳;邱宇洪因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。

氧化时间对微弧氧化涂层冲击微动磨损行为的影响

氧化时间对微弧氧化涂层冲击微动磨损行为的影响

氧化时间对微弧氧化涂层冲击微动磨损行为的影响
氧化时间是指微弧氧化涂层在氧化过程中所处的时间,它对微弧氧化涂层的冲击微动磨损行为有着重要的影响。

随着氧化时间的增加,微弧氧化涂层的表面形貌和结构会发生显著变化,从而影响其冲击微动磨损性能。

首先,随着氧化时间的增加,微弧氧化涂层的表面形貌会发生变化。

初始阶段的微弧氧化涂层表面比较光滑,颗粒分布均匀。

随着氧化时间的延长,涂层表面会出现细小的裂纹和孔洞,这些微观缺陷会对涂层的冲击磨损性能产生重要影响。

裂纹和孔洞的形成会使得涂层表面更容易受到冲击载荷的破坏,从而导致冲击微动磨损程度的增加。

其次,氧化时间还会影响微弧氧化涂层的结构特征。

研究发现,随着氧化时间的延长,涂层内部的陶瓷氧化物层会变厚,并且晶体尺寸会增大。

这些变化会使得涂层的硬度和抗磨性能提高,从而减小冲击微动磨损程度。

一方面,陶瓷氧化物层的增厚可以提高涂层的耐磨性能,减少表面的磨损程度。

另一方面,晶体尺寸的增大可以增强涂层的密实性和强度,提高其抵抗冲击破坏的能力。

总之,氧化时间对微弧氧化涂层的冲击微动磨损行为有重要影响。

适当延长氧化时间可以改善涂层的耐磨性能和抗冲击破坏能力。

然而,过长的氧化时间可能会导致表面缺陷的增加,从而降低涂层的冲击微动磨损性能。

因此,在实际应用中需要根据具体情况选择适当的氧化时间,以实现最佳的涂层性能。

电压对镁合金微弧氧化膜层性能的影响

电压对镁合金微弧氧化膜层性能的影响
resis啪ce displays tlle tendency which fiI_st iIlcrcases and men reduces wim me ove“oltage洫creasiIlg.When the
oVer_Vol切ge is 100~150 V,the ceramic leVel cofmsion resist踟ce is good.Thercfore,tlle micro-arc oxidation of Mg
为镁合金微弧氧化表面处理技术研究: 电话:139i9126086;E-rmil:sws@lut.伽
即生成一层很薄的绝缘膜层,当施加的电压达到 一定值时,绝缘膜上某一薄弱处与电解液界面的 气泡在强电压下被击穿,产生火花放电,此即为起 弧电压。过电压就是实际施加电压与起弧电压的 差值。本文在不同的过电压下进行微弧氧化实验. 研究过电压对膜层的厚度、表面形貌以及耐蚀性 的影响。
图2为不同过电压处理时微弧氧化膜层表面 形貌。由图2(a)可看出,膜层致密,表面平整,具有 良好的仿形性,表面具有细小的棒状熔融物。这是 由于在过电压较小时,电流密度较小.放电强度 低,反应比较缓慢,孔隙尺寸小。由图2(d)可看出, 膜层表面熔融物为块状,且出现了较大的孔隙,但 大孔隙的数量较少。图2(b)和图2(c)为中间阶段, 由此可见膜层表面的熔融物为颗粒状且依次增 大,孔隙尺寸逐渐增大且大孔隙数量也增多。因
for sur缸e en百ne硎ng[J】. Su慨e锄d Coating Technolo鼢
1999。122:73—93. 【3】 韩夏云,龙晋明.镁及镁合金应用与表面处理现状及发展
【J】.轻金属,2003,2:48·51.
【4] Kurzc P,KD,sm枷w,Schneider H G. Application fieldes of ANOF layers柚d composites【J】. Cryst.胁.Techn01.。

微弧氧化中放电和冷却时间对膜层生长及性能影响的研究

微弧氧化中放电和冷却时间对膜层生长及性能影响的研究

微弧氧化中放电和冷却时间对膜层生长及性能影响的研究微弧氧化技术是一种金属表面处理方法,通过在金属表面产生微弧放电,形成陶瓷类膜层,提高金属表面的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。

在微弧氧化过程中,放电和冷却时间是两个重要的参数,对膜层的生长和性能有着显著的影响。

本文通过对微弧氧化中放电和冷却时间对膜层生长及性能的影响进行研究,旨在深入了解微弧氧化的工艺参数对膜层形成机理的影响。

首先,我们对微弧氧化实验进行了设计,确定了放电时间和冷却时间的范围。

然后,选择了常见的工程材料铝合金作为实验材料,将试样一端暴露在电解液中,形成阳极,另一端连接负极,作为对比。

在微弧氧化实验中,将放电时间分别设置为5秒、10秒和15秒,冷却时间分别设置为5秒、10秒和15秒。

在实验过程中,我们观察了微弧氧化过程中膜层的生长情况,并对其表面形貌进行了扫描电子显微镜观察。

实验结果显示,随着放电时间的增加,膜层的厚度逐渐增加。

当放电时间为15秒时,膜层厚度最大。

此外,随着冷却时间的增加,膜层的致密性逐渐增加,表面形貌变得更加光滑。

当冷却时间为15秒时,膜层的致密性最好。

为了进一步研究微弧氧化中放电和冷却时间对膜层的性能影响,我们进行了一系列物理性能测试。

例如,我们测试了膜层的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。

实验结果显示,随着放电时间的增加,膜层的硬度逐渐增加,且具有更好的耐磨性和耐腐蚀性。

对于冷却时间,我们观察到膜层的硬度、耐磨性和耐腐蚀性随着冷却时间的增加而增加。

进一步分析实验结果,我们认为微弧氧化中的放电时间主要影响膜层的厚度,而冷却时间主要影响膜层的致密性和物理性能。

在放电过程中,较长的放电时间能够提供更多的能量,使得膜层更加厚实。

而较长的冷却时间能够确保膜层的致密性良好,减少气孔和缺陷的形成。

总之,本研究通过对微弧氧化中放电和冷却时间对膜层生长及性能影响的研究,深入探讨了微弧氧化的工艺参数对膜层形成机理的影响。

实验结果表明,适当调控放电和冷却时间能够获得具有优异性能的膜层,为微弧氧化工艺的工程应用提供了理论和实验依据。

2A12铝合金微弧氧化陶瓷层的电化学腐蚀行为

2A12铝合金微弧氧化陶瓷层的电化学腐蚀行为

2A12铝合金微弧氧化陶瓷层的电化学腐蚀行为孙志华;刘明;王志申;国大鹏;陆峰;汤智慧【摘要】采用电化学方法研究了2A12铝合金基体、硬质阳极氧化膜层、不同厚度2A12铝合金微弧氧化陶瓷层的腐蚀性能.结果表明,微弧氧化处理的铝合金样品耐蚀性能强烈地依赖于陶瓷层的厚度,陶瓷层越厚其耐腐蚀能力越强.随着微弧氧化时间的延长,陶瓷层回扫曲线的腐蚀电位逐渐高于正扫的腐蚀电位,说明没有局部腐蚀倾向,陶瓷层表面发生了再钝化,抗点蚀能力增强.采用局部电化学阻抗技术获得的微弧氧化陶瓷层表面阻抗的分布图结果表明,铝合金微弧氧化陶瓷层表面的阻抗分布很不均匀,与其表面形貌一致;微弧氧化60 min的陶瓷层表面的阻抗值在1.0×104~8.0×104 Ω之间,而微弧氧化90 min的陶瓷层表面的阻抗值在1.8×105~1.4×106 Ω之间.随着微弧氧化时间的延长,阻抗逐渐增大.【期刊名称】《腐蚀与防护》【年(卷),期】2014(035)004【总页数】5页(P352-356)【关键词】铝合金;微弧氧化;电化学腐蚀行为【作者】孙志华;刘明;王志申;国大鹏;陆峰;汤智慧【作者单位】中国航空工业集团公司北京航空材料研究院,北京100095;中国航空工业集团公司北京航空材料研究院,北京100095;中国航空工业集团公司北京航空材料研究院,北京100095;中国航空工业集团公司北京航空材料研究院,北京100095;中国航空工业集团公司北京航空材料研究院,北京100095;中国航空工业集团公司北京航空材料研究院,北京100095【正文语种】中文【中图分类】TG174.4铝合金由于其强度高和优良的抗蚀性,被广泛应用于航空、航天等领域。

但由于其硬度低,抗腐蚀性能差,限制了其应用。

铝合金阳极氧化主要有铬酸和硫酸阳极化处理,处理后表面可得到硬度高、抗腐蚀的多孔氧化膜,具有较高的化学稳定性、吸附性,可作为涂装底层;若对其作各种染色和着色处理,也可增强表面装饰性能。

电源参数对铝合金表面微弧氧化陶瓷膜的影响研究

电源参数对铝合金表面微弧氧化陶瓷膜的影响研究

电源参数对铝合金表面微弧氧化陶瓷膜的影响研究随着科技的不断发展,对铝合金表面进行微弧氧化陶瓷膜处理已经成为一种常见的表面处理技术。

电源参数是微弧氧化陶瓷膜制备过程中的关键因素之一,对陶瓷膜的生成和性能具有重要影响。

本文将从电源参数的角度对其对铝合金表面微弧氧化陶瓷膜的影响进行研究。

首先,电源电压是影响微弧氧化陶瓷膜性能的重要参数之一、在一定范围内增加电源电压,可以提高微弧氧化过程中的放电能量和放电频率,从而增加膜层的硬度和致密性,并改善膜层的耐腐蚀性能。

然而,当电源电压过高时,容易产生过大的放电能量和频率,导致放电时的熔融和溅射现象,从而降低膜层的性能。

因此,在进行微弧氧化陶瓷膜处理时,应选择合适的电源电压,以获得良好的膜层性能。

其次,电源频率也是影响微弧氧化陶瓷膜性能的重要参数。

频率的改变能影响放电过程中的电流密度和气体离子的动能,进而影响微弧氧化陶瓷膜的形成和性能。

一般来说,提高电源频率可以增加电流密度和气体离子的动能,从而促进膜层生长,并提高陶瓷膜的致密性和硬度。

但是,如果电源频率过高,容易造成过大的电流密度和气体离子的动能,引起放电时的熔融、溅射等现象,从而降低膜层的质量。

此外,电源波形也会对微弧氧化陶瓷膜的形成和性能产生影响。

在微弧氧化陶瓷膜处理过程中,常用的波形包括直流、交流等。

直流电源可以提供稳定的放电能量,有利于均匀的膜层生长,但容易产生气体产生的析出物,降低膜层的质量。

交流电源的使用可以改善膜层表面的均匀性,并提高膜层的硬度和致密性。

因此,在选择电源波形时,需根据需要综合考虑。

最后,电源参数对微弧氧化陶瓷膜的影响还与其他因素之间的相互作用有关。

例如,当电源电压和频率同时提高时,放电能量和频率也会随之增加,从而对微弧氧化陶瓷膜性能产生综合影响。

此外,还需要考虑其他因素如阳极材料、电解质溶液浓度等对微弧氧化陶瓷膜的影响。

综上所述,电源参数是影响铝合金表面微弧氧化陶瓷膜制备过程中的重要因素之一、通过合理选择电源电压、频率和波形等参数,可以获得具有良好性能的微弧氧化陶瓷膜。

《2024年高温氧化预处理及升压速率对铝合金微弧氧化的影响》范文

《2024年高温氧化预处理及升压速率对铝合金微弧氧化的影响》范文

《高温氧化预处理及升压速率对铝合金微弧氧化的影响》篇一一、引言铝合金因具有良好的力学性能、加工性能以及优良的耐腐蚀性而被广泛应用于各个工业领域。

为了进一步改善铝合金的表面性能,微弧氧化技术应运而生。

该技术是在传统阳极氧化基础上发展而来,利用瞬时高电压激发电解液中的微弧放电现象,在铝合金表面形成一层致密的陶瓷膜,从而提高其硬度和耐腐蚀性。

然而,微弧氧化过程中涉及到的工艺参数众多,如高温氧化预处理、升压速率等对微弧氧化的效果有着重要影响。

本文旨在研究高温氧化预处理及升压速率对铝合金微弧氧化的影响,为实际生产提供理论支持。

二、实验材料与方法1. 材料准备实验选用的铝合金材料为XXXX,具有优良的机械性能和加工性能。

实验前,将铝合金样品进行清洗、打磨和抛光处理,以去除表面杂质和杂质层。

2. 实验方法(1)高温氧化预处理:将铝合金样品置于高温氧化炉中,在一定的温度和时间条件下进行预处理。

考察不同温度和时间对铝合金表面性质的影响。

(2)微弧氧化处理:采用微弧氧化设备对预处理后的铝合金样品进行微弧氧化处理。

在处理过程中,调整升压速率等参数,观察其对微弧氧化效果的影响。

3. 测试与表征采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)等手段对微弧氧化后的铝合金样品进行表面形貌、结构及成分分析。

三、高温氧化预处理的影响高温氧化预处理是微弧氧化过程中重要的前期准备步骤。

在高温条件下,铝合金表面会发生氧化反应,形成一层致密的氧化膜。

这层膜能够提高铝合金的表面粗糙度,有利于后续的微弧氧化过程。

实验结果表明,在一定温度范围内,随着温度的升高和时间的延长,铝合金表面的氧化程度逐渐加深,形成的氧化膜更加致密。

这有利于提高微弧氧化的效果,使陶瓷膜更加均匀、致密。

然而,当温度过高或时间过长时,可能会导致铝合金表面过度氧化,形成过厚的氧化膜,反而影响微弧氧化的效果。

四、升压速率的影响升压速率是微弧氧化过程中的重要参数之一。

升压速率过快或过慢都会对微弧氧化的效果产生不良影响。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

为研究铸铝 合金表面微 弧氧化过程 , 探索 陶瓷层形 成 规律 ,本文对 Z 1i2进行微 弧氧 化 ,研 究正 向电压 A Sl 及氧 化时 间对 其成膜过程 的影响规律 , 以便为 该技术进

步推广应用奠 定技术基础 。
・基 金 项 目:内 蒙古 科技 攻 关 资助 项 目 (0 42 2 2 o0 0 ) 收到 稿件 日期 :20 —62 0 70 —5 通 讯作 者 : 吕 凯 作 者 简 介 : 吕 凯 (9 3 ) 18 - ,男 , 内蒙 古 包头 人 , 在读 硕 士研 究 生 ,主 要研 究 方 向为 铸 造铝 合 金表 面微 弧 氧 化技 术 a
( 内蒙 古工业大 学 材料科 学与工程学 院 ,内蒙古 呼和 浩特 0 0 5 ) 10 1 摘 要: Z 1i2因为含 s 量 高,其微 弧氧化 过程 不 AS1 i
同于其 它铸造 铝合金 。铸铝合金 中 s i的存 在不 利于在
其表 面进行微 弧氧化 。因此 ,研 究正 向电压 、氧化 时 间
因此 ,适 宜的氧化 时间为 4 mi。 8 n 关键词 : Z 1i2 A S1 ;微弧氧 化;正 向电压 ;氧化时 间 中图分类号 : T 7 . G144 文献标 识码 :A
1 高 压 电源 2 控 制 器 3 冷 却 装置 入 水 口
文章编号 : 10 —7 l2 0 ) 0 1 3 (0 7增刊一0 10 9 4 8 -3
于 国防和 国 民经济建 设中 。 目前 ,铸造 铝合金在 诸如发动机 缸体 、活塞等 许多
3 实验 结果 与讨 论
31 电压对微 弧氧 化陶瓷层的影晌 .
固定微 弧氧化 时间为 4 mi ,在 高于起 弧 电压 ,负 8 n
向电压为 10 的前提 下 ,于 电解液 中分别采取 不同 的 2V
膜 层很不均 匀 。
合金 的研 究 已经展 开【 州 ,但 是对 Z 1i2表面微 弧氧 AS1
化的研 究很 少 。由于铸造铝合金 中 C 、 u Mg元素 的含 量 极少, i s 含量较 高 ,不利于微弧 氧化 的进行 ,陶瓷层 的 形 成条件也 不同于其它铸 造铝合金 , 能否采用 微弧氧 化 技 术在 其表 面 形成类 似 陶瓷 层及 各 因素 对微 弧氧 化 过 程 的影响规律 尚不清楚 ,相关文献报 道也鲜 见于报端 。
的组成 ;M — l M W 型立式万 能摩擦磨损 试验机进行耐 磨 性实验 。
瓷层 [,不仅 具有金属 的强度和韧 性,又兼有 陶瓷材料 1 】 的耐 磨性 ,耐腐蚀 性 以及 耐高温 性【 。获得 的陶瓷层 2 ~I 性 能较阳极氧化 更为优异 【。其膜 厚可达 20 0 g 5 】 0  ̄3 0 m, 硬度 可达 80 10 H 酬 这 使得该项 技术广泛 的应用 0 6 0 Vt,
图 1 微 弧氧化系统 结构 示 意图
Fi ti r wi fm ir — xia i n g 1Setngd a ngo c o o d to
采用 H C 2 C 一5型 电涡流 测厚仪测量 陶瓷层厚度 ;荷 兰飞利浦 A D一0型全 自动粉 末衍射仪 测试陶瓷层 中相 P 1
2 实验 材 料 与 方 法
实 验 材 料 为 Z 1i2 铸造 铝 合 金 。 试 样 尺 寸 为 A S1
4 mm×2 mm×5 0 0 mm。 微弧氧 化处理 工艺过程为 : 纸 砂 打磨— —超 声 波 去 油清 洗—— 清水 冲 洗—— 微 弧氧 化
— —
对 Z S1 A1i2微弧 氧化 陶瓷层 特性 的影 响规律 , 于获得 对 良好 的陶瓷表 面层有 着重要 的意义 处理 ,装置示 意图如 图 1 所示 。电解液采用 硅 酸钠+ 氢氧 化钠 +E A 二钠体 系 ,蒸馏水 配制 。电 DT 解液 温度控制 在 2  ̄4 ℃。 0 0
陶瓷层性 能最佳 ,膜层厚度 达 19 m。氧化 时间为 0 6g ~
4 m n时 , 层 生 长 速 度 快 , 过 4 mi 后 , 长 缓 慢 。 8i 膜 超 8 n 生
电压及 氧化 时 间对 Z S1 微 弧氧化 陶瓷层 厚度 的影 A1i 2 响规 律 ,并 对膜层进 行 了磨损试验 。采用 XR D分析 陶
瓷层 的相组 成 。研究 结果显示 ,电压为 4 0 /2 V 时, 4 V 10
清水冲 洗—— 干燥 。 使用 WHD 3 一0型多功能微 弧氧
汽车零件 中广泛应 用 , 使得开 发铸 造铝合 金系列材 料的
微弧氧化 工艺显得 尤为重要 。 于铸铝系 列 中的一些 铝 对
正 向 电压 ,对试样 进行微 弧氧 化试验 。测得 的陶瓷层厚 度 与正 向电压之 间 的关系 曲线如 图 2所示 。 由图 2可见 ,起 弧后 ,随着正 向 电压 的升 高,陶瓷 层 的厚度 增加 。在 4 0 4 V 之 间,增加较为缓慢 , 1 ̄4 0 这 说 明此 区间 正 向 电压 的变 化对 陶瓷 层 的厚度 影响 较 小 。正向 电压增 至 4 5 时 ,陶瓷层 厚度明显增加 ,但 5V 试样表 面烧损严重 ,且大 块剥落 ,发 出剧 烈 的爆 鸣声。 这 是 由于过 高 的 电压 导 致 已形 成 的氧 化膜 被剧 烈 的放 电能量击 穿而损坏造 成 的, 并且在 测试膜厚 的过程发现
维普资讯
吕 凯 等 : 向电压 及 氧 化时 间对 Z 1i2微 弧氧 化 陶 瓷 层特 性 的 影 响 正 A Sl
48 01
正 向 电压 及 氧 化 时 间对 Z S l 弧 氧 化 陶 瓷层 特 性 的 影 响 A1i2微
吕 凯 ,刘向 东,池 波,张雅 萍,张 静 ,刘晓丽,乌 迪
4不锈钢 电解槽
5 T件 6 电解液
7冷却装置出水口
1 引 言
微弧氧 化 作 为一种 新 兴 的材 料表 面 改性 和强 化技 术 ,是在 A1 、Mg i 金属及其合金 基体上 通过高压 、T 等 电弧放 电, 使基 体发生氧 化并最终形成 陶瓷层 氧化膜 的
处理 工艺 。 由微 弧氧化 技术制得 的试样 表面为 氧化铝陶
相关文档
最新文档