LEF生成工具abstract培训材料
上海EDMF编撰的培训资料
Technical Requirements for the Registration Dossier of EDMF/COS/CTD and Filing strategies in EU countriesEDMF/COS/CTD注册文件的技术要求及在欧盟国家的文件编撰策略Technical Requirements技术要求•EDMF compilation in CTD format CTD格式的EDMF的编撰:•a) Module 3.2. S. Drug Substance模块3.2. S. 药物物质•b) Module 2.3 Quality Overall Summary模块2.3 质量概述•CEP Procedure versus the DMF Procedure CEP程序对DMF程序•Filing strategies in EU countries在欧盟国家的文件编撰策略•Certification of suitability to the monographs of the European Pharmacopoeia针对欧洲药典专论的适应性证书•Procedure ,Submission of the Dossier, Content of the Dossier/Expert Report, Assessment, Timetable, Follow-up程序，文件递交，文件内容/专家报告，评估，时间表，后续工作How to get the guideline from the Internet ? 如何从互联网得到指南?•www.emea.eu.int•Human medicine or vet medicine人用药或兽药•Guidance documents指南文件•ICH•QWP•Approved guidelines批准的指南•Guidelines under discussion讨论中的指南Filing strategies文件编撰策略•CEP•ASMF/EDMF procedure ASMF/EDMF程序•???CEP Procedure versus the DMF Procedure CEP 程序对DMF 程序•Guideline on Summary of requirements for active substances in the quality part of the dossier针对文件质量部分中活性物质要求的概述的指南•Classification of active substances活性物质的分类:1.New active substances used for the first time in a medicinal product在药品中第一次使用的新的活性成分2.Existing active substances not described in the European Pharmacopoeia在欧洲药典中没有描述的现有的活性物质3.Existing active substances described in the European Pharmacopoeia在欧洲药典中有描述的现有的活性物质Application for a marketing authorisation of a Medicinal Product药品市场许可申请requires information on the Active Substance (AS) 活性物质(AS)的要求信息:1.Certificate of suitability to the Monograph of the European Monograph针对欧洲药典专论的适应性证书2.Active Substance Master File (ASMF ) procedure活性物质主文件(ASMF ) 程序3.Full details of manufacture完整的制造细节Feasible ways to submit可行的递交方式Depending on the classification of the AS取决于活性物质的分类1.For new active substances and substances not described in the Ph.Eur. :ASMF/EDMF对于在欧洲药典中没有描述的物质和新的活性物质: ASMF/EDMF2.For existing substances, descrribed in the Ph.Eur. : CEP or ASMF/EDMF对于在欧洲药典中描述的现有的活性物质: CEP 或ASMF/EDMFThe AS manufacturer provides either AS 制造商提供下列两者中的一个:•No 1) CEP or第1，CEP或•No 2 the ASMF/EDMF (Applicants part be included in the MA) 第2，ASMF/EDMF (MA包括此申请部分)Submission of the CEP/ CEP的递交Generally avoiding any subsequent reassessment通常应避免下列任何的重新评估AS manufacturer submits作为制造商递交:•copy of the most curent CEP最新的CEP的复印件•Written asurance that no significant changes in the manufacturing method have taken place书面保证：在采用的制造方法中没有发生重大变更Applicant submits申请人递交:•Results of batch analysis demonstrating compliance with the Ph.Eur. Monograph批分析结果要证明符合欧洲药典专论的要求ASMF/EDMF procedure ASMF/EDMF程序Guideline on Active Substance Master File procedure活性物质主文件程序的指南:CPMP/QWP/227/02Terms European Drug Master File (EDMF) and Active Substance Master File (ASMF) are interchangable欧洲药物主文件(EDMF)和活性物质主文件(ASMF)的条款可以通用Overview EDMF content EDMF内容概览Template letter of access and covering letter准阅信和封面信的模板ASMF/EDMF procedure ASMF/EDMF程序Overall content of the ASMF/EDMF as indicated in NTA/CTD format Module 3按照NTA/CTD格式模块3的指示做ASMF/EDMF的全部内容AP contains information non-condidental AP包含非保密的信息RP contains remaining information such as RP包含剩余的如下信息:•Detailed information on the manufacturing steps (reaction conditions, temperature etc.) 制造步骤的详细信息(反应条件，温度，等等)•Evaluation of critical steps关键步骤的评估•Quality control during manufacture制造中的质量控制•Validation验证ASMF/EDMF Submission ASMF/EDMF递交EDMF can only be submitted in support of an MAAEDMF只能在MAA的支持下递交EDMF Holder should submit to the MA holder(EDMF的持有者递交到MA的持有者): ✓Copy of the latest version of the AP (AP的最近版本的复印件)✓Copy of the QOS( QOS的复印件)✓Letter of access AP contains information non-condidental EDMF Holder should submit to the authoritiesEDMF持有者应当把AP包含的非保密内容的准阅信递交到官方部门✓Complete EDMF with covering letter有封面信的完整EDMF✓Letter of access准阅信✓Preparation and Filing of EDMF/ASMF for COS/CEP applicationies申请COS/CEP的EDMF/ASMF文件制作Technical Requirements技术要求•EDMF compilation in CTD format CTD格式的EDMF的编写:•a) Module 3.2. S. Drug Substance模块3.2. S. 药物物质•b) Module 2.3 Quality Overall Summary模块2.3 质量综述•CEP Procedure versus the DMF Procedure CEP程序对DMF程序•Filing strategies in EU countries欧盟国家的文件编排策略•Certification of suitability to the monographs of the European Pharmacopoeia欧洲药典专论的适应性证明•Procedure ,Submission of the Dossier, Content of the Dossier/Expert Report,Assessment, Timetable, Follow-up程序，文件的递交，文件目录/专家报告，评估，时间表，跟踪执行Certification procedure COS证明程序•Application at the EDQM (European Directorate for the Quality of Medicines) 在EDQM 申请（药品质量欧洲理事会）•How to apply ? 怎样申请？•Application form申请表•Procedere程序•Timetable时间表CEP Certification of suitability to the monographs of the Ph. Eur. CEP欧洲药典专论的适应性证明Scope范围:•CEP is intended for substances for which a monograph ( general or specific) has been adopted CEP是针对那些已经被某个专论（大体的或详细的）所采用的物质•Organic or inorganic ( active or excipients) 有机的或无机的（活性成分或赋形剂）•Substances produced by fermentation发酵产生的物质•Products with the risk of TSE有TSE风险的产品The CEP certifies that by applying the relevant monograph (if necessary with annex ) it is possible to ensure that all possible impurities from this particular route of manufacture can be fully controlled. 通过应用相关的专论（附件，如果必要）CEP 证明，从特别的制造路线生产的所有可能的杂质都是能够被完全控制的。
Abstract图形界面的使用说课讲解
Adjust Step
Create Boundary Pins
当开关关闭时，整条Net都定义
为Pin，并且每一次改变走向都
增加编号。例如：en1、en2等
A
当开关打开，在boundary的边
缘位置创建Pin，默认情况以
参数设置
Pins Step Extract Step Abstract Step Verify Step
Pins Step
Map Text Boundary Blocks
（label layer） // （（layer label）（layer drawing））
通配符方式的 Power和Ground定义
菜单说明
数据准备及建库流程
Tech.lef GDS Schematic Library PDK library
1、新建library
Abstract& （启动） 与Virtuoso在相同目录启动。以便共用
cds.lib文件。
建库 新建一个Library，以避免抽取过程对
Layout的影响。
3、导入GDS
此时，可以先关闭Abstract，用Virtuoso 完成接下来的操作。
将gds导入新库，并添加tf文件。 在这里要注意，gds必须是DRC、LVS等 检查都已通过的最终版本。
4、添加Schematic View
将Schematic.view拷贝到新的Library。 以便提取过程中读取Net信息。
Abstract图形界面的使用
IP用到的Abstract功能
生成LEF文件 提取Antenna信息
abstract教程
教程：使用abstract工具从DFFII中生成LEF教程：使用abstract工具从DFFII中生成LEF (1)DFFII到LEF提取的概述 (1)打开单元库同时检查工艺文件数据 (2)启动abstract生成工具 (2)打开工作单元库 (2)管脚提取过程 (3)提取视图过程 (4)抽象视图过程 (6)验证过程 (8)导出物理视图数据LEF (8)该教程介绍从DFFII中生成供布局布线工具使用的LEF的方法。
该教程将使用一个典型的abstract生成流程。
这没有包括全部的abstract功能的使用介绍。
简单的lef提取库数据该教程使用的数据存放的目录路径为：DFFII到LEF提取的概述从DFFII到生成LEF的过程可以总结如下几个步骤：1.打开单元库同时检查工艺文件数据在这一步中，我们将启动abstract工具并且打开指定工作的单元库。
在这一步需要检查工艺文件的正确性和完整性。
abstract工具能够通过cds.lib文件直接打开DFFII中现有的单元库而直接完成该步骤。
2.生成abstract物理视图只要工艺文件正确及包含有需要提取的单元数据的库，我们就可以进行从版图到abstract物理视图的提取工作了。
3.abstract物理视图LEF数据的生成从DFFII中生成LEF流程的最终步骤为使用abstract工具生成单元的物理视图数据。
打开单元库同时检查工艺文件数据启动abstract生成工具1.改变教程文件所在的当前目录路径记住：改变的教程目录路径下的层次化文件路径要与原路径目录层次化一致。
2.启动abstractabstract工具启动后的图形界面如下：打开工作单元库在这一步将打开名为amspll的单元库，该单元库包含有教程所需要的数据。
1.选择file->libraru-open to display，图形界面如下。
2.选择amspll库并且点击ok按钮打开相应的单元库。
在这一步工具对工艺文件进行必要的正确性验证，如果出现问题将显示出来。
工具培训
EPF模型3- Process
• 过程描述了一个特定工作的做法。这个工作可能有一个相关性的小范 围，在某些情况下，过程可作为能力模式来描述，或者可以作为一个 完整的项目生命周期，在某些情况下可以作为一个提交过程。为了完 成工作，一个过程可以重复使用方法元素，甚至组合方法元素为一个 结构和序列；
• 过程有两种主要类型： 提交过程：一个特定过程，其描述了一个实施一个特定项目类型的完整
2. EPF的流程框架模型
EPF模型1-过程体系框架
Method content describes what is to be produced, These method content descriptions are independent of a development lifecycle;
EPF模型8- delivery process
• A delivery process is a special process describing a complete and integrated approach for performing a specific project type. It provides a complete lifecycle model that has been detailed by sequencing method content in breakdown structures.
2024年ispLEVER培训教程-(多应用版)
ispLEVER培训教程-(多应用版)ispLEVER培训教程一、概述ispLEVER是MentorGraphics公司推出的一款功能强大的电子设计自动化（EDA）软件，广泛应用于集成电路（IC）的设计与验证。
本教程旨在帮助用户快速掌握ispLEVER的基本操作，了解其各项功能，为IC设计工作提供有力支持。
二、教程结构1.ispLEVER简介：介绍ispLEVER的基本概念、功能和特点。
2.ispLEVER安装与启动：指导用户完成ispLEVER的安装、启动及环境配置。
3.ispLEVER基本操作：讲解ispLEVER的基本操作，包括项目管理、文件操作、视图切换等。
4.ispLEVER设计流程：介绍ispLEVER的设计流程，包括原理图设计、布局布线、版图绘制等。
5.ispLEVER高级功能：讲解ispLEVER的高级功能，如时序分析、功耗分析、DFM等。
6.ispLEVER实用技巧：分享ispLEVER的使用技巧，提高设计效率。
7.ispLEVER常见问题解答：解答用户在使用ispLEVER过程中可能遇到的问题。
三、ispLEVER简介ispLEVER是一款基于Windows操作系统的EDA软件，支持多种IC设计流程，包括数字、模拟、混合信号等。
其主要特点如下：1.高度集成：ispLEVER集成了原理图设计、布局布线、版图绘制、仿真验证等功能，用户可以在一个平台上完成整个设计流程。
2.强大的仿真引擎：ispLEVER内置了多种仿真引擎，如DC、AC、TRAN、NOISE等，可满足不同类型电路的仿真需求。
3.丰富的库资源：ispLEVER提供了丰富的器件库和工艺库，支持多种工艺节点，方便用户进行设计。
4.易学易用：ispLEVER界面友好，操作简便，支持快捷键和鼠标操作，降低用户学习成本。
5.高效的设计流程：ispLEVER支持层次化设计，可提高设计复用率；支持团队协作，提高设计效率。
四、ispLEVER安装与启动1.安装前准备：确保计算机满足ispLEVER的系统要求，如操作系统、内存、硬盘空间等。
FloEF教材D培训讲义(全套)
EFD培训讲义
• Lecture 1 - EFD介绍 • Lecture 2 - 向导 • Lecture 3 - 边界条件&初始条件 • Lecture 4 - 目标设定&其它条件 • Lecture 5 - 项目建立 • Lecture 6 - 计算域&求解 • Lecture 7 - 获取结果 • Lecture 8 – 计算网格
• 导热 • 材料 • 初始温度
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Surface-to-surface Radiation
• 求解包括固体间换热的情况。 • 固体温度很高且/或气体稀疏。 • 与对流换热相比，固体表面之间的辐射换热更
为显著。
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Satellite exposure to sun radiation
Trajectory
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• 使用滑条, 你可以选择八个等级之中的任何一个 – The first level ：能最快给出结果，但是精度不高. – The eighth level：能给出最准确的结果，但是需要 比较长的时间计算收敛.
• 几何分辨率（Geometry Resolution）选项： 也可以 影响初始网格。可以在 Initial Mesh对话框中修改, 或 者在 Local Initial Mesh 对话框中修改局部几何分辨 率。
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NIKA GmbH 8
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Step6: 初始与环境条件
.
对于 External分析
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• 在参数定义（Parameter Definition）可以手 工设置初始（环境）条件，或者是采用其他项 目的结果作为当前项目的初始（环境）条件: – 选择 User Defined：手动设置 – 选择 Transferred ：采用其他计算的结果
Abstract提取LEF详细流程[forencounter]
![Abstract提取LEF详细流程[forencounter]](https://img.taocdn.com/s3/m/c1e1c862f5335a8102d220d7.png)
LEF
prMastersliceLayers( ;( layers : listed in order of lowest (closest to substrate) to highest ) ;( -------------------------------------------------------------------- ) ( AA GT )
By Leiu Leiuy iuy
Abstract
END M1
LEF
LAYER V1 TYPE CUT ; SPACING 0M2 TYPE ROUTING ; WIDTH 0.60 ; SPACING 0.50 ; OFFSET 0.70 ; PITCH 1.40 ; DIRECTION VERTICAL ; RESISTANCE RPERSQ 0.06100000 ; THICKNESS 0.00000060 ; END M2
CIW
LEF
lefout.list
virtuoso
3
20
By Leiu Leiuy iuy
Abstract
ok
#****** # Preview export LEF # # # # TECH LIB NAME: STDCell_SMIC035_LEF # TECH FILE NAME: techfile.cds #****** Preview sub-version 5.10.41_USR2.19.52
"default" "default"
prRoutingPitch( ;( layer ;( ----( M1 ( M2 ( M3 ) ;prRoutingPitch 1 20 pitch ) ----- ) 1.4 ) 1.4 ) 1.4 )
Abstract提取LEF说明
Abstract 提取LEF详细说明以我实际项目PLL_TOP_RAD_V2为例：需要提取LEF所需要的GDS (PLL_TOP_RAD_V2.gds) , gds相对应的的map ）, 以及tf (HL55LP_HS_RVT_V1p2d.tech.lef) 1.第一步，启动软件，终端窗口输入abstrct 启动软件，点击菜单File->New，新建一个名为PLL_TOP_RAD_V2的库，点击“OK”完成。
2.导入提取所需要的工艺LEF 和gds文件。
LEF导入：点击File->LEF ，在Import LEF窗口中输入所需要的tech.lef文件名及正确的路径。
确认View : abstract ，勾选上Overwrite ，点击“OK”完成导入LEF文件。
如果这步有警告或者错误请务必排查出问题所在，不然后面的步骤很难顺利完成。
GDS以及MAP导入：在GDSII 中输入framview gds 文件的路径及文件名。
Layer Map Table 一栏中输入工艺对应的map 文件，点击“OK”完成。
4.选中导入进来的Core中的CELL 点菜单Cells -> Move.. , Move Selected Cells 到Block, 点击OK 完成。
把PLL_TOP_RAD_V2 单元从Core移到了Block。
5.接下来的步骤进入到FLOW的流程，一步一步的完成。
首先是Flow -> Pin ,Map 一栏，详细情况如下图：在Map 栏中，Map text labels to pins 中(M3 M3) 说明，第一个M3指版图中我用的M3层打的pin，第二个M3就是金属三那一层，意思是我M3的pin 我用的M3 去打的label 。
（可明白？）其它工艺有可能是(M3txt M3)的表述，具体取决于你map 和lvs rule里面所有定义层的pin 在做LVS能够识别到的label 所打的层。
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Abstract 培训指导
1.准备工作：
为了在abstract中可以对需要进行abstract提取的单元进行编辑和view。
需要有版图的display.drf。
$ cp ~/../libs/smic18/mixed_signal/techfile/display.drf .
必须文件：
带有工艺信息的lef库文件：/export/homeO5/libs/smic18/std_cell/2003q3v2/aci/sc-x/lef/ smic18_6lm.lef
gdsII mapping文件：/export/homeO5/libs/smic18/std_cell/2003q3v2/aci/sc-x/gds2/ layer_table
（以smic 0.18um 工艺为例）
2.启动abstract
$ abstract
3.建立库
File-> library -> new 填入建立的库名，这里为smic18_abs. 库的管理和版图设计一样，见cds.lib。
这时会出现错误的提示，原因是库中没有工艺方面的信息，如金属层的定义，等等。
下面通过导入带有工艺信息的lef库来解决这个问题。
4.导入lef库
File-> import -> lef，选中overwrite technology。
出现以下log，
此时，读者可以打开smic18_6lm.lef文件才学习lef文件中关于工艺信息的定义，如METAL1、VIA12、METAL2的定义，以及线宽、间距等定义。
5.导入gds 文件
在导入gdsII文件时需要map文件，以对应gdsII中的层号与lef中的层次的名称。
特别
需要注意的是这里的map文件不是版图设计时使用的techfile中对应的gdsII map文件，而是要根据lef库中与工艺及层次定义，来对应gdsII 层号与lef层次的关系。
layer mapping文件的内容：
File-> import ->gds，default Bin 选 block。
（如果对标准单元进行abstract，选core）
这里导入的gdsII文件为encounter training中的pmult32。
这里可以通过cells-> edit ->layout来启动版图工具编辑和view导入的版图。
注意版图层次名称和gdsII及版图设计时的关系。
找到端口标注的label的层次。
由于在电源环的METAL5和 METAL6上没有标注电源，因此这里在电源环上采用METAL5(lbl)或METAL6(lbl)标注上VDD和VSS，同时，将pin上的金属层由drawing改到pin的purpose 上，例如out[63]的METAL3(drw)改为METAL3(pn)，其他类似，然后保持，关闭。
6.提取端口
根据端口（包括电源）的名称及使用的层次，填写pin提取表。
输出为out[0:63]，采用正则表达out。
运行完毕将显示正确结果。
如果问题可以进入cells-> edit ->pins进行debug。
此时，cells-> terminal properties查看提取的端口是否正确。
以下extract和abstract步骤，对于block和core不同类型的提取，设置会不同。
以下首先以block为例，说明extract和abstract 步骤，然后在说明core的extract和abstract步骤。
7.extract
由于是block的提取，signal net和power net不需要提取出来。
因此，采用工具的默认设计即可。
8.abstract
signal nets选择create boundary pins，以便在block的边界处创建pin。
而电源根据需要创建boundary pins 或ring pins （创建ring pins首先需要在extract时创建power的nets）。
由于是提取block，因此site和Grids项目都不需要填写。
请注意Blockage项目中的layer blockage为cover。
请大家对比一下电源的boundary pins 和ring pins之间的不同。
9.导出lef文件
File-> export ->lef，选择export geometry LEF data，tech lef data不需要导出。
以下为core的extract和abstract步骤。
7.extract
在create pins 项目上将需要创建pin的图层选中，而其他的去掉选择。
8.abstract
在site项目define new site name给出一个新site的名称。
项参数。
File-> export ->lef，选择export geometry LEF data，tech lef data不需要导出。