半导体物理试卷b答案
半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案⼀、填空题1.纯净半导体Si 中掺错误!未找到引⽤源。
族元素的杂质,当杂质电离时释放电⼦。
这种杂质称施主杂质;相应的半导体称N 型半导体。
2.当半导体中载流⼦浓度的分布不均匀时,载流⼦将做扩散运动;在半导体存在外加电压情况下,载流⼦将做漂移运动。
3.n o p o =n i 2标志着半导体处于平衡状态,当半导体掺⼊的杂质含量改变时,乘积n o p o 改变否?不变;当温度变化时,n o p o 改变否?改变。
4.⾮平衡载流⼦通过复合作⽤⽽消失,⾮平衡载流⼦的平均⽣存时间叫做寿命τ,寿命τ与复合中⼼在禁带中的位置密切相关,对于强p 型和强n 型材料,⼩注⼊时寿命τn 为,寿命τp 为 .5.迁移率是反映载流⼦在电场作⽤下运动难易程度的物理量,扩散系数是反映有浓度梯度时载 qn n 0=µ ,称为爱因斯坦关系式。
6.半导体中的载流⼦主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射和晶格振动散射。
前者在电离施主或电离受主形成的库伦势场下起主要作⽤,后者在温度⾼下起主要作⽤。
7.半导体中浅能级杂质的主要作⽤是影响半导体中载流⼦浓度和导电类型;深能级杂质所起的主要作⽤对载流⼦进⾏复合作⽤。
8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲含铝1015cm -3 ⼄. 含硼和磷各1017 cm -3 丙含镓1017 cm -3 室温下,这些样品的电阻率由⾼到低的顺序是⼄甲丙。
样品的电⼦迁移率由⾼到低的顺序是甲丙⼄。
费⽶能级由⾼到低的顺序是⼄> 甲> 丙。
9.对n 型半导体,如果以E F 和E C 的相对位置作为衡量简并化与⾮简并化的标准,那么 T k E E F C 02>- 为⾮简并条件; T k E E F C 020≤-< 为弱简并条件; 0≤-F C E E 为简并条件。
10.当P-N 结施加反向偏压增⼤到某⼀数值时,反向电流密度突然开始迅速增⼤的现象称为 PN 结击穿,其种类为:雪崩击穿、和齐纳击穿(或隧道击穿)。
半导体物理试题B参考答案和评分标准

二00四至二00五学年第一学期一、选择填空(含多选题)(18分)1、与半导体相比较,绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量( A );A、比半导体的大, B、比半导体的小,C、与半导体的相等。
2、室温下,半导体Si掺硼的浓度为1014cm-3,同时掺有浓度为1.1×1015cm-3的磷,则电子浓度约为( B ),空穴浓度为( D),费M能级为(G);将该半导体由室温度升至570K,则多子浓度约为(F),少子浓度为(F),费M能级为(I)。
(已知:室温下,n i≈1.5×1010cm-3,570K时,n i≈2×1017cm-3)A、1014cm-3B、1015cm-3C、1.1×1015cm-3D、2.25×105cm-3E、1.2×1015cm-3F、2×1017cm-3G、高于E i H、低于E i I、等于E i3、施主杂质电离后向半导体提供( B ),受主杂质电离后向半导体提供( A ),本征激发后向半导体提供( A B );A、空穴,B、电子。
4、对于一定的p型半导体材料,掺杂浓度降低将导致禁带宽度(B (A)),本征流子浓度(B(C)),功函数( C );A、增加,B、不变,C、减少。
5、对于一定的n型半导体材料,温度一定时,减少掺杂浓度,将导致( D )靠近E i;A、E c,B、E v,C、E g,D、E F。
6、热平衡时,半导体中的电子浓度与空穴浓度之积为常数,它只与( C D )有关,而与(A B )无关;A、杂质浓度B、杂质类型C、禁带宽度,D、温度。
7、表面态中性能级位于费M能级以上时,该表面态为(A);A、施主态B、受主态C、电中性8、当施主能级E D与费M能级E F相等时,电离施主的浓度为施主浓度的( C )倍;A、1, B、1/2, C、1/3, D、1/4。
9、最有效的复合中心能级位置在(D)附近;最有利陷阱作用的能级位置在(C)附近,常见的是E陷阱。
半导体物理期末试卷(含部分答案

一、填空题1.纯净半导体Si 中掺V 族元素的杂质,当杂质电离时释放 电子 。
这种杂质称 施主 杂质;相应的半导体称 N 型半导体。
2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做 扩散 运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做 漂移 运动。
3.n o p o =n i 2标志着半导体处于 平衡 状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积n o p o 改变否?不变 ;当温度变化时,n o p o 改变否? 改变 。
4.非平衡载流子通过 复合作用 而消失, 非平衡载流子的平均生存时间 叫做寿命τ,寿命τ与 复合中心 在 禁带 中的位置密切相关,对于强p 型和 强n 型材料,小注入时寿命τn 为 ,寿命τp 为 .5. 迁移率 是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量, 扩散系数 是反映有浓度梯度时载 qn n 0=μ ,称为 爱因斯坦 关系式。
6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射 和 晶格振动散射 。
前者在 电离施主或电离受主形成的库伦势场 下起主要作用,后者在 温度高 下起主要作用。
7.半导体中浅能级杂质的主要作用是 影响半导体中载流子浓度和导电类型 ;深能级杂质所起的主要作用 对载流子进行复合作用 。
8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲 含铝1015cm -3 乙. 含硼和磷各1017 cm -3 丙 含镓1017 cm -3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是 乙 甲 丙 。
样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙 。
费米能级由高到低的顺序是 乙> 甲> 丙 。
9.对n 型半导体,如果以E F 和E C 的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么 T k E E F C 02>- 为非简并条件; T k E E F C 020≤-< 为弱简并条件; 0≤-F C E E 为简并条件。
10.当P-N 结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为 PN 结击穿 ,其种类为: 雪崩击穿 、和 齐纳击穿(或隧道击穿) 。
半导体物理试卷b答案

一、名词解释(本大题共5题每题4分,共20分)1. 直接复合:导带中的电子越过禁带直接跃迁到价带,与价带中的空穴复合,这样的复合过程称为直接复合。
2.本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体称为本征半导体,它的电子和空穴数量相同。
3.简并半导体:半导体中电子分布不符合波尔兹满分布的半导体称为简并半导体。
过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△n=n-n0和空穴△p=p-p0称为过剩载流子。
4. 有效质量、纵向有效质量与横向有效质量答:有效质量:由于半导体中载流子既受到外场力作用,又受到半导体内部周期性势场作用。
有效概括了半导体内部周期性势场的作用,使外场力和载流子加速度直接联系起来。
在直接由实验测得的有效质量后,可以很方便的解决电子的运动规律。
5. 等电子复合中心等电子复合中心:在III- V族化合物半导体中掺入一定量与主原子等价的某种杂质原子,取代格点上的原子。
由于杂质原子与主原子之间电性上的差别,中性杂质原子可以束缚电子或空穴而成为带电中心。
带电中心吸引与被束缚载流子符号相反的载流子,形成一个激子束缚态。
这种激子束缚态叫做等电子复合中心。
二、选择题(本大题共5题每题3分,共15分)1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲.含铝1×10-15cm-3乙.含硼和磷各1×10-17cm-3丙.含镓1×10-17cm-3室温下,这些样品的电子迁移率由高到低的顺序是(C )甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙 D. 丙甲乙3.有效复合中心的能级必靠近( A )A.禁带中部B.导带C.价带D.费米能级4.当一种n 型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.1/n 0B.1/△nC.1/p 0D.1/△p5.半导体中载流子的扩散系数决定于其中的( A )A.散射机构B. 复合机构C.杂质浓变梯度D.表面复合速度6.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. SiB. GeC. GaAsD. GaN三、简答题(20分)1.请描述小注入条件正向偏置和反向偏置下的pn 结中载流子的运动情况,写出其电流密度方程,请解释为什么pn 结具有单向导电性? (10分)解:在p-n 结两端加正向偏压V F , V F 基本全落在势垒区上,由于正向偏压产生的电场与内建电场方向相反,势垒区的电场强度减弱,势垒高度由平衡时的qV D 下降到q(V D -V F ),耗尽区变窄,因而扩散电流大于漂移电流,产生正向注入。
半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案半导体物理,考试,复习,试卷一、填空题1.纯净半导体Si中掺错误!未找到引用源。
族元素的杂质,当杂质电离时释放电子。
这种杂质称施主杂质;相应的半导体称N 型半导体。
2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做扩散运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做漂移运动。
3.nopo=ni2标志着半导体处于平衡状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积nopo改变否?不变;当温度变化时,nopo改变否?改变。
4.非平衡载流子通过复合作用而消失,非平衡载流子的平均生存时间叫做寿命τ,寿命τ与复合中心在禁带中的位置密切相关,对于强p型和强n型材料,小注入时寿命τn为,寿命τp为5.迁移率是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量,扩散系数是反映有浓度梯度时载n爱因斯坦关系式。
6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射和晶格振动散射。
前者在电离施主或电离受主形成的库伦势场下起主要作用,后者在温度高下起主要作用。
7.半导体中浅能级杂质的主要作用是影响半导体中载流子浓度和导电类型;深能级杂质所起的主要作用对载流子进行复合作用。
8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲含铝1015cm-3 乙. 含硼和磷各1017 cm-3 丙含镓1017 cm-3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是乙甲丙。
样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙。
费米能级由高到低的顺序是乙甲丙。
9.对n型半导体,如果以EF和EC的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么EC EF 2k0T为非简并条件;0 EC EF 2k0T为弱简并条件;EC EF 010.当P-N结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为PN结击穿,其种类为:雪崩击穿、和齐纳击穿(或隧道击穿)。
11.指出下图各表示的是什么类型半导体?12. 以长声学波为主要散射机构时,电子迁移率μn与温度的-3/2 次方成正比13 半导体中载流子的扩散系数决定于其中的载流子的浓度梯度。
电子科技大学2009半导体物理期末考试试题答卷B试题参考答案

电子科技大学二零九至二零一零学年第一学期期末考试半导体物理课程考试题B卷(120分钟)考试形式:闭卷考试日期2010年元月18日课程成绩构成:平时10 分,期中 5 分,实验15 分,期末70 分9.有效质量概括了晶体内部势场对载流子的作用,可通过回旋共振实验来测量。
10.某N型Si半导体的功函数W S是4.3eV,金属Al的功函数W m是4.2 eV,该半导体和金属接触时的界面将会形成反阻挡层接触/欧姆接触。
11. 有效复合中心的能级位置靠近禁带中心能级/本征费米能级/E i。
12. MIS结构中半导体表面处于临界强反型时,表面少子浓度等于内部多子浓度,表面反型13. 金属和n 型半导体接触形成肖特基势垒,若外加正向偏压于金属,则半导体表面电子势二、选择题(共15分,每题1 分)导体 5. 空间实验室中失重状态下生长的GaAs 与地面生长的GaAs 相比,载流子迁移率要高,这A. 无杂质污染B. 晶体生长更完整C. 化学配比更合理 A. 复合机构B. 散射机构C. 禁带宽度D. 晶体结构7. 若某材料电阻率随温度升高而单调下降,该材料是 A 。
A. 本征半导体B. 杂质半导体C. 金属导体A. 上升c) 掺入浓度1016 cm-3的P原子,浓度为1015 cm-3的B原子;d) 纯净硅。
A. abcdB. cdbaC. adcbD. dabc12. 以下4种不同掺杂情况的半导体,热平衡时室温下少子浓度最高的是 D 。
A. 掺入浓度1015 cm-3 P原子的Si半导体;B. 掺入浓度1014 cm -3 B 原子的Si 半导体;C. 掺入浓度1015 cm -3 P 原子Ge 半导体;D. 掺入浓度1014 cm -3 B 原子Ge 半导体。
(已知室温时:Si 的本征载流子浓度310105.1-⨯=cm n i ,Ge 的本征载流子浓度313104.2-⨯=cm n i )13. 直接复合时,小注入的P 型半导体的非平衡载流子寿命 τd 决定于 B 。
最新电子科技大学半导体物理期末考试试卷b试题答案

电子科技大学二零 九 至二零 一零 学年第 一 学期期 末 考试半导体物理 课程考试题 B 卷 ( 120分钟) 考试形式: 闭卷 考试日期 2010年 元月 18日课程成绩构成:平时 10 分, 期中 5 分, 实验 15 分, 期末 70 分一、填空题: (共16分,每空1 分)1. 简并半导体一般是 重 掺杂半导体,忽略。
3.5. 在半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,它们具有 杂质补偿 的作用,在制造各种半导体器件时,往往利用这种作用改变半导体的导电性能。
6. ZnO 是一种宽禁带半导体,真空制备过程中通常会导致材料缺氧形成氧空位,存在氧空位的ZnO 半导体为 N/电子 型半导体。
9. 有效质量 概括了晶体内部势场对载流子的作用,可通过回旋共振实验来测量。
10. 某N 型Si 半导体的功函数W S 是4.3eV ,金属Al 的功函数W m 是4.2 eV , 该半导体和金属接触时的界面将会形成 反阻挡层接触/欧姆接触 。
11. 有效复合中心的能级位置靠近 禁带中心能级/本征费米能级/E i。
12. MIS 结构中半导体表面处于临界强反型时,表面少子浓度等于内部多子浓度,表面13. 金属和n 型半导体接触形成肖特基势垒,若外加正向偏压于金属,则半导体表面电二、选择题(共15分,每题1 分)1. 如果对半导体进行重掺杂,会出现的现象是 D 。
A. 禁带变宽B. 少子迁移率增大C. 多子浓度减小D.简并化2. 已知室温下Si 的本征载流子浓度为310105.1-⨯=cm n i 。
处于稳态的某掺杂Si 半导体中电子浓度315105.1-⨯=cm n ,空穴浓度为312105.1-⨯=cm p ,则该半导体 A 。
A.存在小注入的非平衡载流子 B. 存在大注入的非平衡载流子 C. 处于热平衡态 D. 是简并半导体3. 下面说法错误的是 D 。
A. 若半导体导带中发现电子的几率为0,则该半导体必定处于绝对零度B. 计算简并半导体载流子浓度时不能用波尔兹曼统计代替费米统计C. 处于低温弱电离区的半导体,其迁移率和电导率都随温度升高而增大D. 半导体中,导带电子都处于导带底E c 能级位置4. 下面说法正确的是 D 。
半导体物理试卷b答案教学文案

半导体物理试卷b答案一、名词解释(本大题共5题每题4分,共20分)1. 直接复合:导带中的电子越过禁带直接跃迁到价带,与价带中的空穴复合,这样的复合过程称为直接复合。
2.本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体称为本征半导体,它的电子和空穴数量相同。
3.简并半导体:半导体中电子分布不符合波尔兹满分布的半导体称为简并半导体。
过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△n=n-n0和空穴△p=p-p0称为过剩载流子。
4. 有效质量、纵向有效质量与横向有效质量答:有效质量:由于半导体中载流子既受到外场力作用,又受到半导体内部周期性势场作用。
有效概括了半导体内部周期性势场的作用,使外场力和载流子加速度直接联系起来。
在直接由实验测得的有效质量后,可以很方便的解决电子的运动规律。
5. 等电子复合中心等电子复合中心:在III- V族化合物半导体中掺入一定量与主原子等价的某种杂质原子,取代格点上的原子。
由于杂质原子与主原子之间电性上的差别,中性杂质原子可以束缚电子或空穴而成为带电中心。
带电中心吸引与被束缚载流子符号相反的载流子,形成一个激子束缚态。
这种激子束缚态叫做等电子复合中心。
二、选择题(本大题共5题每题3分,共15分)1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲.含铝1×10-15cm-3乙.含硼和磷各1×10-17cm-3丙.含镓1×10-17cm-3室温下,这些样品的电子迁移率由高到低的顺序是(C )甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙D. 丙甲乙3.有效复合中心的能级必靠近( A )A.禁带中部B.导带C.价带D.费米能级4.当一种n型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.1/n0B.1/△nC.1/p0D.1/△p5.半导体中载流子的扩散系数决定于其中的( A )A.散射机构B. 复合机构C.杂质浓变梯度D.表面复合速度6.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. SiB. GeC. GaAsD. GaN三、简答题(20分)1.请描述小注入条件正向偏置和反向偏置下的pn结中载流子的运动情况,写出其电流密度方程,请解释为什么pn结具有单向导电性?(10分)解:在p-n结两端加正向偏压V F, V F基本全落在势垒区上,由于正向偏压产生的电场与内建电场方向相反,势垒区的电场强度减弱,势垒高度由平衡时的qV D下降到q(V D-V F),耗尽区变窄,因而扩散电流大于漂移电流,产生正向注入。
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一、名词解释(本大题共5题每题4分,共20分)1. 直接复合:导带中的电子越过禁带直接跃迁到价带,与价带中的空穴复合,这样的复合过程称为直接复合。
2.本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体称为本征半导体,它的电子和空穴数量相同。
3.简并半导体:半导体中电子分布不符合波尔兹满分布的半导体称为简并半导体。
过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△n=n-n0和空穴△p=p-p0称为过剩载流子。
4. 有效质量、纵向有效质量与横向有效质量答:有效质量:由于半导体中载流子既受到外场力作用,又受到半导体内部周期性势场作用。
有效概括了半导体内部周期性势场的作用,使外场力和载流子加速度直接联系起来。
在直接由实验测得的有效质量后,可以很方便的解决电子的运动规律。
5. 等电子复合中心等电子复合中心:在III- V族化合物半导体中掺入一定量与主原子等价的某种杂质原子,取代格点上的原子。
由于杂质原子与主原子之间电性上的差别,中性杂质原子可以束缚电子或空穴而成为带电中心。
带电中心吸引与被束缚载流子符号相反的载流子,形成一个激子束缚态。
这种激子束缚态叫做等电子复合中心。
二、选择题(本大题共5题每题3分,共15分)1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲.含铝1×10-15cm-3乙.含硼和磷各1×10-17cm-3丙.含镓1×10-17cm-3室温下,这些样品的电子迁移率由高到低的顺序是(C )甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙 D. 丙甲乙3.有效复合中心的能级必靠近( A )A.禁带中部B.导带C.价带D.费米能级4.当一种n 型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.1/n 0B.1/△nC.1/p 0D.1/△p5.半导体中载流子的扩散系数决定于其中的( A )A.散射机构B. 复合机构C.杂质浓变梯度D.表面复合速度6.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. SiB. GeC. GaAsD. GaN三、简答题(20分)1.请描述小注入条件正向偏置和反向偏置下的pn 结中载流子的运动情况,写出其电流密度方程,请解释为什么pn 结具有单向导电性? (10分)解:在p-n 结两端加正向偏压V F , V F 基本全落在势垒区上,由于正向偏压产生的电场与内建电场方向相反,势垒区的电场强度减弱,势垒高度由平衡时的qV D 下降到q(V D -V F ),耗尽区变窄,因而扩散电流大于漂移电流,产生正向注入。
过剩电子在p 区边界的结累,使-x Tp 处的电子浓度由热平衡值n 0p 上升并向p 区内部扩散,经过一个扩散长度L n 后,又基本恢复到n 0p 。
在-x Tp 处电子浓度为n(-x Tp ),同理,空穴向n 区注入时,在n 区一侧x Tn 处的空穴浓度上升到p(x Tn ),经Lp 后,恢复到p 0n 。
反向电压V R 在势垒区产生的电场与内建电场方向一致,因而势垒区的电场增强,空间电荷数量增加,势垒区变宽,势垒高度由qV D 增高到q(V D +V R ).势垒区电场增强增强,破坏了原来载流子扩散运动和漂移运动的平衡,漂移运动大于扩散运动。
这时,在区边界处的空穴被势垒区电场逐向p 区,p 区边界的电子被逐向n 区。
当这些少数载流子被电场驱走后,内部少子就来补充,形成了反向偏压下的空穴扩散电流和电子扩散电流。
(6分) 电流密度方程:exp 1 D s B qV j j k T ⎡⎤⎛⎫=-⎢⎥ ⎪⎝⎭⎣⎦(2分) 正向偏置时随偏置电压指数上升,反向偏压时,反向扩散电流与V 无关,它正比于少子浓度,数值是很小的,因此可以认为是单向导电。
(2分)2. 在一维情况下,描写非平衡态半导体中载流子(空穴)运动规律的连续方程为:22p p p p pE p p p p D E p g t x x x μμτ∂∂∂∂∆=---+∂∂∂∂,请说明上述等式两边各个单项所代表的物理意义。
(10分) 答:p t∂∂――在x 处,t 时刻单位时间、单位体积中空穴的增加数;(2分) 22p p D x∂∂――由于扩散,单位时间、单位体积中空穴的积累数;(2分)p p E p E p x xμμ∂∂--∂∂―由于漂移,单位时间、单位体积中空穴的积累数;(2分) p pτ∆-――由于复合,单位时间、单位体积中空穴的消失数;(2分)p g ――由于其他原因,单位时间、单位体积中空穴的产生数。
(2分)四、计算题(共5小题,每题9分,共45分)1.设E - E F 分别为3k 0T ,分别用费米分布函数和玻尔兹曼分布函数计算电子占据该能级的概率。
解:费米分布函数为,当E -E F 等于3k 0T 时,f =0.047玻耳兹曼分布函数为,当E -EF 等于3k 0T 时,f =0.050上述结果显示在费米能级附近费米分布和玻耳兹曼分布有一定的差距。
2. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:2222100()()3C h k k h k E k m m -=+和22221003()6v h k h k E k m m =-; m 0为电子惯性质量,k 1=1/(2a);a =0.314nm 。
试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量;③价带顶电子有效质量;解:①禁带宽度EgT k E E F e E f 0/)(11)(-+=T k E E B o Fe Ef --=)(根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值:k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ; 由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ; ∴Eg =E min -E max =021212m k h =20248a m h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV ②导带底电子有效质量m n0202022382322m h m h m h dkE d C =+=;∴ m n =022283/m dk E d h C = ③价带顶电子有效质量m’02226m h dk E d V -=,∴0222'61/m dk E d h m V n -== 3、 Si 原子加到GaAs 材料中,取代Ga 原子成为施主杂质或取代As 原子成为受主杂质。
假定Si 原子浓度为11310cm -,其中5%取代As 原子,95%取代Ga 原子,并在室温下全部离化。
求:①施主和受主杂质浓度;②电子和空穴浓度及费米能级位置;③导电类型及电阻率。
(n i =1.6×106cm -3,μn =8000cm 2/VS, μp =400cm 2/VS )解:(1)取代As 的Si 为受主杂质,故受主杂质浓度为1193105%510/A N cm =⨯=⨯ 取代Ga 的Si 为施主杂质,故施主杂质浓度为111031095%9.510/D N cm =⨯=⨯(2)施主杂质和受主杂质全部电离,D A N N 所以10309.010/D A n N N cm =-=⨯26230100(1.610)28/9.010i n p cm n ⨯===⨯因为 0F iB E E K T i n n e -=10069.010ln 0.026ln 0.2841.610F i B i n E E K T eV eV n ⨯-===⨯ 所以费米能级在在禁带中线上0.284eV 处(3)DA N N 易知此材料为n 型半导体 191001181701.61085009.010n cm qu n ρ-===Ω⨯⨯⨯⨯ 4. 在室温下,本征Ge 的电阻率为47cm Ω⋅。
试求:1) 本征载流子的浓度,若掺入锑杂质使每610个锗原子中有一个杂质原子;2) 计算室温下电子浓度和空穴浓度。
设杂质全部电离,锗原子的浓度为2234.410cm -⨯;3) 试求该杂质锗材料的电阻率。
(设23600/n u cm V s =⋅,21700/p u cm V s =⋅且不随杂质变化。
)解:(1)本征半导体的表达式为:1()i n p n q u u ρ=+ 1()i n p n q u u ρ=+()()119133147 1.6021036001700 2.510cm --⎡⎤=⨯⨯⨯+=⨯⎣⎦ 施主杂质原子的浓度为()2261634.41010 4.410D N cm --=⨯⨯=⨯因为杂质全部电离,故()163014.410D n N cm ==⨯ 所以()()21321030160 2.51011.42104.410i np cm n ⨯===⨯⨯其电阻率为116191 4.410 1.602103600n i nn qu ρ--⎡⎤==⨯⨯⨯⨯⎣⎦()23.9410cm -=⨯Ω∙ 5. 由电阻率为4cm .Ω的p 型Ge 和0.4cm .Ω的n 型Ge 半导体组成一个p-n 结,计算在室温(300K )时内建电势V D 和势垒宽度x D 。
已知在上述电阻率下,p 区的空穴迁移率,./16502S V cm p =μ n 区的电子迁移率S V cm n ./30002=μ,Ge 的本征载流子浓度313/105.2cm n i ⨯=,真空介电常数.16,/1085.8120=⨯=-s m F εε (10分) 解:15319111 4.34100.4 1.6103600n n nn n nq n cm q σμρρμ--==⇒===⨯⨯⨯⨯(2分) 143p 191119.19104 1.6101700p p p p pq p cm q σμρρμ--==⇒===⨯⨯⨯⨯ (2分) ()2315142219131.3810300 4.34109.1910ln ln 0.22671.610 2.510D i KT np V V q n --⨯⨯⨯⨯⨯===⨯⨯ (3分) 1/1141512421910514528.8510160.2267 4.34109.19101.610 4.34109.1910 72.2710s D A D D D A cm N N x V q N N εε---⎡⎤⎛⎫⨯⨯⨯⨯⨯+⨯⎢⎥ ⎪⨯⨯⨯⨯⎝⎡⎤⎛⎫+=⎭⎣⎦=⨯=⎢⎥ ⎪⎝⎭⎣⎦ (3分)。