半导体物理试题汇总
半导体物理学试题库完整

半导体物理学试题库完整1.能够传导电荷的有效质量与能量函数对于波矢的二阶导数成反比。
有效质量的引入反映了晶体材料内部势场的作用。
2.半导体导带中的电子浓度取决于状态密度(即量子态按能量如何分布)和费米分布函数(即电子在不同能量的量子态上如何分布)。
3.当两种不同半导体接触后,费米能级较高的半导体界面一侧带正电。
在达到热平衡后,两者的费米能级相等。
4.半导体硅的价带极大值位于空间第一布里渊区的中央,其导带极小值位于[100]方向上距布里渊区边界约0.85倍处。
因此,它属于间接带隙半导体。
5.形成间隙原子和空位成对的点缺陷称为弗仑克耳缺陷。
形成原子空位而无间隙原子的点缺陷称为肖特基缺陷。
6.在一定温度下,与费米能级持平的量子态上的电子占据概率为1/2.高于费米能级2kT能级处的占据概率为1/1+exp(2)。
7.从能带角度来看,锗、硅属于间接带隙半导体,而砷化稼属于直接带隙半导体。
后者有利于光子的吸收和发射。
8.通常将服从XXX分布的电子系统称为非简并性系统,将服从费米分布的电子系统称为简并性系统。
9.对于同一种半导体材料,其电子浓度和空穴浓度的乘积与温度有关。
而对于不同的半导体材料,其浓度积在一定的温度下将取决于禁带宽度的大小。
10.半导体的晶格结构形式多种多样。
常见的Ge和Si材料,其原子均通过共价键四面体相互结合,属于金刚石结构;与Ge和Si晶格结构类似,两种不同元素形成的化合物半导体通过共价键四面体还可以形成闪锌矿和纤锌矿等两种晶格结构。
11.如果电子从价带顶跃迁到导带底时XXX不发生变化,则具有这种能带结构的半导体称为直接禁带半导体。
否则称为间接禁带半导体。
A。
在质量较大的原子组成的半导体中,存在着空穴。
B。
空穴主要存在于价带顶附近曲率较大的等能面上。
C。
同样,空穴也可以存在于价带顶附近曲率较小的等能面上。
D。
空穴也可以出现在自旋-轨道耦合分裂出来的能带上。
12.电子在导带能级中分布的概率表达式是exp(-E-Ec)/(kT),其中E为能级,Ec为导带底能级,k为玻尔兹曼常数,T为温度。
《半导体物理学》试题与及答案

练习1-课后习题7
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
锑化铟的禁带宽度E g = 0.18 e V ,相对介电常数 εr = 17 ,电子的 有效质量mn∗ = 0.015 m0, m 0为电子的惯性质量,求 ⅰ)施主杂质的电离能, ⅱ)施主的弱束缚电子基态轨道半径。
解:
练习2
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
所以样品的电导率为: q(n0 n p0 p )
代入数据得,电导率为2.62 ×1013S/cm 所以,电场强度 E J 1.996103 mA / cm
作业-课后习题2
第四章 半导体的导电性
试计算本征Si 在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1450cm2/V·S 和500cm2/V·S。当掺入百万分之一的As 后,设杂质全部电离,试计算其电 导率。比本征Si 的电导率增大了多少倍?(ni=1.5×1010cm-3; Si原子浓度为 =5.0×1022cm-3,假定掺杂后电子迁移率为900cm2/V·S)
m0为电子惯性质量,k1=1/2a; a=0.314nm。试求: (1)禁带宽度; (2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量; (4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
练习2-课后习题2
第一章 半导体中的电子状态
2.晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m和107V/m 的电 场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
所以,300k时,
nT 300
(1.05 1019
5.7
1018 )
exp(
0.67 1.61019 21.381023 300)
1.961013cm3
77k时,
半导体物理与器件考核试卷

B.硅化
C.硼化
D.镍化
17.在半导体工艺中,以下哪些步骤属于前道工艺?()
A.光刻
B.蚀刻
C.离子注入
D.镀膜
18.以下哪些材料常用于半导体器件的互连?()
A.铝
B.铜导线
C.镓
D.硅
19.在半导体物理中,以下哪些现象与载流子的复合有关?()
A.发射
B.复合
C.陷阱
D.所有上述现象
20.以下哪些因素会影响半导体激光器的阈值电流?()
半导体物理与器件考核试卷
考生姓名:__________答题日期:__________得分:__________判卷人:__________
一、单项选择题(本题共20小题,每小题1分,共20分,在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的)
1.半导体的导电性能介于导体和绝缘体之间,主要因为其()
C. Nitrogen(氮的)
D. Excess electrons(过剩电子)
5. P-N结在反向偏置时,其内部的电场强度()
A.减小
B.增大
C.消失
D.不变
6.以下哪个不是太阳能电池的工作原理?()
A.光电效应
B.热电效应
C.光生伏特效应
D.量子效应
7.在MOSFET(金属-氧化物-半导体场效应晶体管)中,MOS电容的C-V特性曲线中,积累区对应于()
18. A, B
19. D
20. D
三、填空题
1.禁带
2.电子
3.降低
4.金属-氧化物-半导体
5.温度
6.栅氧化层质量
7.紫外光
8.能级
9.玻尔兹曼分布
10.温度
半导体物理试题及答案

半导体物理试题及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电能力介于导体和绝缘体之间,这是由于()。
A. 半导体的原子结构B. 半导体的电子结构C. 半导体的能带结构D. 半导体的晶格结构答案:C2. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带需要()。
A. 吸收能量B. 释放能量C. 吸收光子D. 释放光子答案:A3. PN结形成的基础是()。
A. 杂质掺杂B. 温度变化C. 压力变化D. 磁场变化答案:A4. 半导体器件中的载流子主要是指()。
A. 电子B. 空穴C. 电子和空穴D. 光子答案:C5. 半导体的掺杂浓度越高,其导电性能()。
A. 越好B. 越差C. 不变D. 先变好再变差答案:A二、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体的导电性能可以通过改变其________来调节。
答案:掺杂浓度2. 半导体的能带结构中,价带和导带之间的能量差称为________。
答案:带隙3. 在半导体中,电子和空穴的复合现象称为________。
答案:复合4. 半导体器件中的二极管具有单向导电性,其导通方向是从________到________。
答案:阳极阴极5. 半导体的PN结在外加正向电压时,其内部电场会________。
答案:减弱三、简答题(每题10分,共30分)1. 简述半导体的掺杂原理。
答案:半导体的掺杂原理是指通过向半导体材料中掺入少量的杂质元素,改变其电子结构,从而调节其导电性能。
掺入的杂质元素可以是施主杂质(如磷、砷等),它们会向半导体中引入额外的电子,形成N型半导体;也可以是受主杂质(如硼、铝等),它们会在半导体中形成空穴,形成P型半导体。
2. 描述PN结的工作原理。
答案:PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。
在PN结中,P型半导体的空穴会向N型半导体扩散,而N型半导体的电子会向P型半导体扩散。
由于扩散作用,会在PN结的交界面形成一个内建电场,该电场会阻止更多的载流子通过PN结。
半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案半导体物理,考试,复习,试卷一、填空题1.纯净半导体Si中掺错误!未找到引用源。
族元素的杂质,当杂质电离时释放电子。
这种杂质称施主杂质;相应的半导体称N 型半导体。
2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做扩散运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做漂移运动。
3.nopo=ni2标志着半导体处于平衡状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积nopo改变否?不变;当温度变化时,nopo改变否?改变。
4.非平衡载流子通过复合作用而消失,非平衡载流子的平均生存时间叫做寿命τ,寿命τ与复合中心在禁带中的位置密切相关,对于强p型和强n型材料,小注入时寿命τn为,寿命τp为5.迁移率是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量,扩散系数是反映有浓度梯度时载n爱因斯坦关系式。
6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射和晶格振动散射。
前者在电离施主或电离受主形成的库伦势场下起主要作用,后者在温度高下起主要作用。
7.半导体中浅能级杂质的主要作用是影响半导体中载流子浓度和导电类型;深能级杂质所起的主要作用对载流子进行复合作用。
8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲含铝1015cm-3 乙. 含硼和磷各1017 cm-3 丙含镓1017 cm-3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是乙甲丙。
样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙。
费米能级由高到低的顺序是乙甲丙。
9.对n型半导体,如果以EF和EC的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么EC EF 2k0T为非简并条件;0 EC EF 2k0T为弱简并条件;EC EF 010.当P-N结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为PN结击穿,其种类为:雪崩击穿、和齐纳击穿(或隧道击穿)。
11.指出下图各表示的是什么类型半导体?12. 以长声学波为主要散射机构时,电子迁移率μn与温度的-3/2 次方成正比13 半导体中载流子的扩散系数决定于其中的载流子的浓度梯度。
半导体物理试卷

半导体物理试卷一.填空题(20分)1.半导体的晶格结构有、和。
2.本征激发是指电子激发成为电子的过程。
3.pn 结电容包括和。
4.在简并化的重掺杂半导体中,n 型半导体的费米能级进入,p 型半导体费米能级进入。
5.半导体载流子在运动中会遭到散射,其根本原因是。
二.选择题(20分)1.能带底电子的有效质量为m n *,则1/m n *等于()。
A.(d 2E/dk 2)k=0/h 2B.(d 2E/dk 2) k=0/hC. (d 2E/dk 2) k=0/k 2D. (d 2E/dk 2) k=0/k2.下列式中为费米分布函数的是()。
A.)exp(21110Tk E E f -+ B.)exp(2110T-+C.)exp(110Tk E E f -+ D. )exp(0Tk E E f --3.已知n 型硅半导体中电子的寿命为350us,电子的迁移率为3600cm 2/vs ,则电子的扩散长度为()A.0.15cm B 0.1 6cm C 0.17cm D 0.18cm 4.300k 时,硅的本征电导率为2*105Ω.cm,如果电子和空穴的迁移率分别为1300cm 2/vs ,500cm 2/vs ,则本征硅的载流子浓度为()。
A.1.7*1010B.1.8*1010C.1.9*1010D.2*10105.导带阶等于()A .Ec-Ev B.Eg 2-Eg 1 C.χ1-χ2 D.Eg 2-Eg 1-(χ1-χ2) 6.发生弱简并的条件是()A. Ec- E F ≦0B.Ec-E F 〉2k 0TC.0≦ Ec- E F ≦2k 0TD.以上都不对7.对于n 型半导体,满足小注入的条件是() A.0n p n >>?=?B.0n p n <<>?=?8.pn 结空间电荷区又称为()A.反型层C.堆积层D.以上都不对9. 在MIS 结构中,当金属板上加的电压为开启电压时,表面势VS=()A.V BB.2 V BC.3 V BD.4 V B10.下列杂质掺入硅中为施主杂质的是()A. AlB. GaC. InD. P 三.简答题(10分)1.以As 掺入Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和n 型半导体。
半导体物理学题库

半导体物理学题库半导体物理学是研究半导体材料物理性质和内部微观过程的学科,它对于现代电子技术的发展起着至关重要的作用。
为了帮助大家更好地学习和掌握这门学科,我们精心整理了一份半导体物理学题库。
一、选择题1、以下哪种材料不是常见的半导体?()A 硅B 锗C 铜D 砷化镓答案:C解析:铜是导体,不是半导体。
硅、锗和砷化镓都是常见的半导体材料。
2、半导体中载流子的主要类型有()A 电子和空穴B 正离子和负离子C 质子和中子D 原子和分子答案:A解析:在半导体中,参与导电的载流子主要是电子和空穴。
3、本征半导体的电导率主要取决于()A 温度B 杂质浓度C 晶体结构D 外加电场答案:A解析:本征半导体的电导率主要由温度决定,温度升高,本征激发增强,载流子浓度增加,电导率增大。
4、施主杂质在半导体中提供()A 电子B 空穴C 电子和空穴D 既不提供电子也不提供空穴答案:A解析:施主杂质能够释放电子,从而增加半导体中的电子浓度。
5、受主杂质在半导体中提供()A 电子B 空穴C 电子和空穴D 既不提供电子也不提供空穴答案:B解析:受主杂质能够接受电子,从而增加半导体中的空穴浓度。
二、填空题1、半导体的能带结构中,导带和价带之间的能量间隔称为________。
答案:禁带宽度2、常见的半导体晶体结构有________、________和________。
答案:金刚石结构、闪锌矿结构、纤锌矿结构3、本征半导体中,电子浓度和空穴浓度的乘积是一个________。
答案:常数4、半导体中的扩散电流是由________引起的。
答案:载流子浓度梯度5、当半导体处于热平衡状态时,费米能级的位置在________。
答案:禁带中央附近三、简答题1、简述半导体的导电机制。
答:半导体的导电机制主要依靠电子和空穴两种载流子。
在本征半导体中,温度升高时,价带中的电子获得能量跃迁到导带,形成电子空穴对,从而产生导电能力。
在外加电场作用下,电子和空穴分别向相反的方向移动,形成电流。
半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。
A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。
A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。
A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。
A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。
A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。
A、变大,变小;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。
7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。
A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。
A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。
A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。
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半导体物理学考题 A (2010年1月)解答一、(20分)简述下列问题:1.(5分)布洛赫定理。
解答:在周期性势场中运动的电子,若势函数V(x)具有晶格的周期性,即:)x (V )na x (V =+,则晶体中电子的波函数具有如下形式:)x (u e )x (k ikx=ψ,其中,)x (u k 为具有晶格周期性的函数,即:)x (u )na x (u k k =+2.(5分)说明费米能级的物理意义;试画出N 型半导体的费米能级随温度的变化曲线。
解答:费米能级E F 是反映电子在各个能级中分布情况的参数。
能量为E F 的量子态被电子占据的几率为1/2。
N 型半导体的费米能级随温度变化曲线如右图所示:(2分)3、(5分)金属和N 型半导体紧密接触,接触前,二者的真空能级相等,S M W W <。
试画出金属—半导体接触的能带图,标明接触电势差、空间电荷区和内建电场方向。
解答:4.(5分)比较说明施主能级、复合中心和陷阱在半导体中的作用及其区别。
解答:施主能级:半导体中的杂质在禁带中产生的距离能带较近的能级。
可以通过杂质电离过程向半导体导带提供电子,因而提高半导体的电导率;(1分)复合中心:半导体中的一些杂质或缺陷,它们在禁带中引入离导带底和价带顶都比较远的局域化能级,非平衡载流子(电子和空穴)可以通过复合中心进行间接复合,因此复合中心很大程度上影响着非平衡载流子的寿命。
(1分)陷阱:是指杂质或缺陷能级对某一种非平衡载流子的显著积累作用,其所俘获的非平衡载流子数目可以与导带或价带中非平衡载流子数目相比拟。
陷阱的作用可以显著增加光电导的灵敏度以及使光电导的衰减时间显著增长。
(1分)浅施主能级对载流子的俘获作用较弱;有效复合中心对电子和空穴的俘获系数相差不大,而且,其对非平衡载流子的俘获几率要大于载流子发射回能带的几率。
一般说来,只有杂质的能级比费米能级离导带底或价带顶更远的深能级杂质,才能成为有效的复合中心。
而有效的陷阱则要求其对电子和空穴的俘获几率必须有很大差别,如有效的电子陷阱,其对电子的俘获几率远大于对空穴的俘获几率,因此才能保持对电子的显著积累作用。
一般来说,当杂质能级与平衡时费米能级重合时,是最有效的陷阱中心。
(2分)Cv FNFME iECidV二、(15分)设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近的能量)k (E c 为:m)k k (m 3k )k (E 21222c -+= 价带极大值附近)k (E v 为: mk 3m 6k )k (E 22212v -= 式中m 为电子质量,ak 1π=求出:⑴.禁带宽度;⑵.导带底电子的有效质量和价带顶空穴的有效质量;⑶.导带底的电子跃迁到价带顶时准动量的改变量,能量的改变量。
解答:⑴. 求禁带宽度E g (7分)根据 , 可求出对应导带能量极小值E c-min 的k 值1min c k 43k =-,则212k k c min c k m 4)k (E E min c ==-=- 根据 , 可求出对应价带能量极大值E v-max 的k 值0k maxv =-,则212k k v max v k m6)k (E E max v ==-=-则22222212maxv min c g m a 48h m a 12k m 12E E E =π==-=-- ⑵.求导带底电子有效质量(3分),则求价带顶空穴有效质量(3分),⑶.准动量改变量:(2分)能量改变量:=-Eg =-22222ma 48h ma 12-=π0m )k k (2m 3k 2dk )k (dE 122c =-+= 0mk 6dk )k (dE 2v =-= m 38m 2m 32dk )k (E d 2222c 2 =+=m 83dk )k (E d /m 2c 22*n == m 6dk )k (E d 22v 2 -=m 61dk )k (E d /m m 2v 22*n *p =-=-= a8h3a 43k 43)k k (k 1min c max v -=-=-=-=-- π∆三、(10分)一个有杂质补偿的硅半导体,已知掺入的受主浓度315a cm 10N -=。
设室温下费米能级恰好与施主能级E d 重合,电子浓度315cm105n -⨯=,试求出:(1)平衡少子浓度;(2)样品中的施主浓度N d (设)2g d =; (3)电离杂质和中性杂质的浓度各是多少? 解答:(1)(2分)()34152102105.4105105.1-⨯=⨯⨯==cm n n p i(2)(4分)室温时,一般半导体都未进入本征激发区,可忽略本征激发。
而n>N a ,表明为N 型半导体。
所以受主全部电离。
电中性条件为:1exp +⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-=-=+kTE E g N n N N n df d dd d a , 由于d f E E =,则 1+=+d dg N Na n , )(108.1)10105(3))(1(3161515-⨯=+⨯⨯=++=cm N n g N a d d(3)(4分)电离施主浓度315106-⨯=+=-cm N n n N a d d中性施主浓度316102.1)(-⨯=+-=cm N n N n a d d电离受主浓度31510-=cm Na 中性受主浓度0=a p四、(10分)试用一维非均匀掺杂(掺杂浓度随x 的增加而下降)的非简并p 型半导体模型导出爱因斯坦关系式:ekTD pp=μ 解答:由于掺杂浓度不均匀,电离后空穴浓度也不均匀,形成扩散电流dxdp eD pp -=j 空穴向右扩散的结果,使左边形成负电荷区,右边形成正电荷区,产生反x 方向的自建电场E i ,导致漂移电流i 'j pE e p p μ=热平衡情况下,自建电场引起的漂移电流与扩散电流彼此抵消,总的电流密度为零: 0e =-i p p pE dxdpeD μ+ 而dxdVE -=,有电场存在时,在各处产生附加势能)(x eV -,使能带发生倾斜。
设x 处价带顶为)()(x eV E x E v v -=,则x 处的空穴浓度为⎪⎭⎫⎝⎛---=kT ))x (eV E (E exp N )x (p V F V则iV F V E kTpe dx dV kT e p dx dV kT e kT )x (eV E E exp N dx dp =-=⎪⎭⎫ ⎝⎛-⋅⎪⎭⎫ ⎝⎛+--= 故0pE e E kTepD e -i p i p =+μ 得ekTD pp=μ 得证。
五、(15分)(1)试证明,一般情况下,本征半导体的电阻率不是最高电阻率;(2)最高电阻率是本征电阻率的多少倍?(3)若p n μμ>,最高电阻率的半导体是N 型还是P 型? 解答:(1)(8分)电阻率)(1112p in pn nnn e pe ne μμμμσρ+=+==令 p i n nn n n f μμ2)(+=,当)(n f 为最小值时,ρ为最大值。
令 0)(22=-=p i n nn dn n df μμ,得到: n p i n n μμ= 此时,02)(3222>=p i nn dn n f d μ,则 )(n f 为最小值,ρ为最大值:pn i p n i p n i e n n n e μμμμμμρ2111max =+⋅= 而本征半导体电阻率为:)(1p n i i e n μμρ+=一般情况下,p n μμ>,所以,max ρρ≠i ,得证。
(2)(3分) pn pn i μμμμρρ2max += (3)(4分)已知npin n μμ=, 若p n μμ>,则i n n <,i i n nn p >=2,即n p >,所以,最高电阻率的半导体是P 型半导体。
六、(15分) 光照射如图所示P 型样品,假设光被均匀地吸收,电子-空穴对的产生率为G (小注入),少子的寿命为τ,开始光照(t=0)时,过剩少子浓度为零。
⑴.求出在光照开始后任意时刻t 的过剩少子浓度;⑵.不考虑表面复合,求出在光照达到稳定时的过剩少子浓度分布;(3). 当x=0的表面的表面复合速度为S 时,求出样品中稳态的过剩少子浓度分布。
解答:(1).(5分)由于无外场作用,且光被均匀吸收,非平衡载流子产生均匀,则连续性方程为:,则 令所以 ,由边界条件:t=0,(2).(5分)无表面复合,光照达到稳定时,过剩载流子浓度将不再随时间变化:(3)(5分)当x =0处有表面复合,则引起载流子向x -方向的扩散,此时,稳态连续性方程为:022=+∆-∆G n dx n d D n n τ,则 222nnL G n dx n d τ-∆=∆ 令 n G n n τ-∆=∆', 则有:n nL x L x n Be AeG x n //)(++=∆-τ设样品无穷大,而)(x n ∆是有限值,因此,B =0,则 nL x n Ae G x n /)(-+=∆τ在x=0处,表面复合率=扩散流密度,即:0x 0x nn S dxnd D ==⋅=∆∆, 则 )(A G S A L D n nn+=-τ 得到 n n n n SL D G SL A +-=τ, 所以, )1()(/n L x nn nn e SL D SL G x n -+-=∆τG n t n +∆-=∂∆∂τn G t n∆-=∂∆∂ττ有,'τG n n -∆=∆得到,’‘τn t n ∆-=∂∆∂τ/'t Ae n -=∆ττ/)(t Ae G t n -+=∆τG A n -=∆=得到,0)1()(/ττt e G t n --=∆ττG n G nt n =∆=+∆-=∂∆∂,00X七、(15分)半导体光吸收有哪几种?描述各种吸收过程及其吸收谱的特点,给出相应吸收能量阈值。
解答:半导体光吸收:本征吸收,激子吸收,杂质吸收,自由载流子吸收,晶格振动吸收 (1分) 1、(3分)本征吸收:电子由价带向导带的跃迁所引起的光吸收。
吸收谱为连续谱,在高能端。
吸收阈值为:g E h ≥ν(直接跃迁),p g E E h -≥ν(间接跃迁)2、(3分)激子吸收:价带中的电子吸收g E h <ν的光子,从价带激发,但还不足以进入导带成为自由电子,因库仑作用仍然和价带中留下的空穴联系起来,形成束缚态,即为激子,所引起的光吸收为激子吸收。
吸收谱在低温时才可观察到,在能量略低于本征吸收限处,为分立谱,并渐与本征吸收谱相连。
吸收能量阈值为:1ex E Eg -3、(3分)杂质吸收:占据杂质能级的电子或空穴的跃迁所引起的光吸收。
分为中性杂质吸收和电离杂质吸收,吸收谱皆为连续谱,中性杂质吸收谱在吸收谱的较低能量侧,吸收能量阈值为:I E ;电离杂质吸收谱相对于中性杂质吸收谱在能量较高侧,吸收能量阈值为:I g E E - 4、(3分)自由载流子吸收:自由载流子在同一能带内的跃迁引起的吸收。