薄膜光学技术_第03章 01 真空及真空镀膜机
光学薄膜技术第三章--薄膜制造技术

光学薄膜技术第三章——薄膜制造技术—-—-———-—--—--———————-—-——--——-—作者:—--—-————-——--—-————-———————-———日期:第三章薄膜制造技术光学薄膜可以采用物理汽相沉积(PVD)和化学液相沉积(CLD)两种工艺来获得.CLD工艺简单,制造成本低,但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差,较难获得多层膜,废水废气对环境造成污染,已很少使用.PVD需要使用真空镀膜机,制造成本高,但膜层厚度能够精确控制,膜层强度好,目前已广泛使用。
PVD分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。
制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识用物理方法制作薄膜,概括起来就是给制作薄膜的物质加上热能或动量,使它分解为原子、分子或少数几个原子、分子的集合体(从广义来说,就是使其蒸发),并使它们在其他位置重新结合或凝聚.在这个过程中,如果大气与蒸发中的物质同时存在,那就会产生如下一些问题:①蒸发物质的直线前进受妨碍而形成雾状微粒,难以制得均匀平整的薄膜;②空气分子进入薄膜而形成杂质;③空气中的活性分子与薄膜形成化合物;④蒸发用的加热器及蒸发物质等与空气分子发生反应形成化合物,从而不能进行正常的蒸发等等.因此,必须把空气分子从制作薄膜的设备中排除出去,这个过程称为抽气。
空气压力低于一个大气压的状态称为真空,而把产生真空的装置叫做真空泵,抽成真空的容器叫做真空室,把包括真空泵和真空室在内的设备叫做真空设备.制作薄膜最重要的装备是真空设备.真空设备大致可分为两类:高真空设备和超高真空设备.二者真空度不同,这两种真空设备的抽气系统基本上是相同的,但所用的真空泵和真空阀不同,而且用于真空室和抽气系统的材料也不同,下图是典型的高真空设备的原理图,制作薄膜所用的高真空设备大多都属于这一类.下图是超高真空设备的原理图,在原理上,它与高真空设备没有什么不同,但是,为了稍稍改善抽气时空气的流动性,超高真空设备不太使用管子,多数将超高真空用的真空泵直接与真空室连接,一般还要装上辅助真空泵(如钛吸气泵)来辅助超高真空泵。
《薄膜物理与技术》课程教学大纲

《薄膜物理与技术》课程教学大纲课程代码:ABCL0527课程中文名称: 薄膜物理与技术课程英文名称:Thin film physics and technology课程性质:选修课程学分数:1.5课程学时数:24授课对象:新能源材料与器件专业本课程的前导课程:《材料表面与界面》、《近代物理概论》、《材料科学基础》、《固体物理》、《材料物理性能》一、课程简介本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法,包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成,薄膜的结构与缺陷,薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
通过本课程的讲授,使学生在薄膜物理基础部分,懂得薄膜形成物理过程及其特征,薄膜的电磁学、光学、力学、化学等性质。
在薄膜技术部分初步掌握各种成膜技术的基本内容以及薄膜性能的检测。
二、教学基本内容和要求掌握物理、化学气相沉积法制膜技术,了解其它一些成膜技术。
学会对不同需求的薄膜,应选用不同的制膜技术。
了解各种薄膜形成的过程及其物理特性。
理解并能运用热力学界面能理论及原子聚集理论解释薄膜形成过程中的一些现象,了解薄膜结构及分析方法,理解薄膜材料的一些基本特性,为薄膜的应用打下良好的基础。
以下分章节介绍:第一章真空技术基础课程教学内容:真空的基础知识及真空的获得和测量。
课程重点、难点:真空获得的一些手段及常用的测量方法。
课程教学要求:掌握真空、平均自由程的概念,真空各种单位的换算,平均自由程、碰撞频率、碰撞频率的长度分布率的公式,高真空镀膜机的系统结构及抽气的基本过程。
理解蒸汽、理想气体的概念,余弦散射率,真空中气体的来源,机械泵、扩散泵、分子泵以及热偶真空计和电离真空计的工作原理。
了解真空的划分,气体的流动状态的划分,气体分子的速度分布,超高真空泵的工作原理。
第二章真空蒸发镀膜法课程教学内容:真空蒸发原理,蒸发源的蒸发特性及膜厚分布,蒸发源的类型,合金及化合物的蒸发,膜厚和淀积速率的测量与监控。
真空镀膜技术

真空镀膜技术真空镀膜技术是一种先进的表面处理技术,它可以在各种材料表面上形成一层薄膜,从而改变其物理、化学和光学性质。
这种技术已经广泛应用于电子、光学、航空航天、汽车、医疗和建筑等领域,成为现代工业中不可或缺的一部分。
真空镀膜技术的原理是利用真空环境下的物理和化学反应,将金属、合金、陶瓷、聚合物等材料蒸发或溅射到基材表面上,形成一层薄膜。
这种薄膜可以具有不同的功能,如增强材料的硬度、耐磨性、耐腐蚀性、导电性、光学透明性等。
真空镀膜技术可以通过控制薄膜的厚度、成分和结构来实现不同的功能。
真空镀膜技术的应用非常广泛。
在电子领域,它可以用于制造集成电路、显示器、太阳能电池等。
在光学领域,它可以用于制造反射镜、透镜、滤光片等。
在航空航天领域,它可以用于制造发动机叶片、航空仪表等。
在汽车领域,它可以用于制造车灯、镜面等。
在医疗领域,它可以用于制造人工关节、牙科修复材料等。
在建筑领域,它可以用于制造玻璃幕墙、防紫外线涂料等。
真空镀膜技术的优点是显而易见的。
首先,它可以在不改变基材性质的情况下,改变其表面性质,从而实现不同的功能。
其次,它可以制造出高质量、高精度的薄膜,具有良好的光学、电学和机械性能。
再次,它可以在大面积、复杂形状的基材上进行镀膜,具有很高的生产效率。
最后,它可以使用多种材料进行镀膜,具有很高的灵活性和适应性。
当然,真空镀膜技术也存在一些挑战和限制。
首先,它需要高昂的设备和技术投入,成本较高。
其次,它对基材表面的处理要求较高,需要进行清洗、抛光等处理,否则会影响薄膜的质量。
再次,它对环境的要求较高,需要在无尘、无湿、无氧的环境下进行。
最后,它的应用范围受到材料的限制,某些材料不适合进行真空镀膜。
总的来说,真空镀膜技术是一种非常重要的表面处理技术,具有广泛的应用前景。
随着科技的不断进步和应用领域的不断扩展,真空镀膜技术将会得到更加广泛的应用和发展。
《真空镀膜设备》课件

通过自动化和智能化的技术手段,降低人工成本和操作难度。
节能减排技术
研究节能减排技术在真空镀膜设备中的应用,以降低能耗和减少环 境污染。
高效清洗与维护技术
开发高效、环保的清洗和维护技术,以降低设备维护成本和延长设 备使用寿命。
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真空泵的工作原理
利用机械或物理的方法,从真空系统中排除气体分子 。
真空度的测量与控制
使用真空计测量真空度,通过调节阀门或泵的工作状 态来控制真空度。
真空室的清洁与维护
定期清洁真空室,确保其内部无残留物,以保持高真 空度。
镀膜材料的蒸发与凝结
01
蒸发源的选择
根据镀膜材料的不同,选择相应 的蒸发源,如电阻加热、电子束 加热等。
设备。
高精度
能够实现纳米级薄膜厚度的控 制。
高质量
镀膜过程中无杂质混入,薄膜 纯度高。
长寿命
设备结构稳定,维护成本低。
真空镀膜设备的应用领域
01
02
03
光学领域
镀膜在眼镜、相机镜头、 太阳能集热管等方面有广 泛应用。
电子领域
镀膜在集成电路、电子元 件、平板显示器等方面有 重要应用。
装饰领域
镀膜在金属工艺品、高档 家具、钟表等方面有装饰 作用。
01
03
真空系统的维护和保养对于设备的正常运行至关重要 ,定期检查和清洁各部件,确保其正常运转,是保证
设备性能和延长使用寿命的关键。
04
为了保证设备的稳定运行和延长使用寿命,真空系统 的设计和制造需要充分考虑材料的选择、密封性能以 及各部件之间的连接与配合。
加热系统
加热系统是实现真空镀膜工艺的重要部分,其主 要功能是为工件和/或镀膜材料提供所需的热量。
薄膜物理与技术-1真空技术基础PPT课件

目录
• 真空技术基础 • 真空获得技术 • 真空测量技术 • 真空镀膜技术 • 薄膜性能检测技术
01 真空技术基础
真空定义与特性
真空定义
真空是指在给定的空间内,气体压力 低于一个大气压的状态。在真空技术 中,通常使用托斯卡或帕斯卡作为压 力单位。
真空特性
而实现气体的压缩和排除。
分子泵特性
抽气速率高、工作压力范围广、无 油污染、维护简单等。
分子泵分类
直联型分子泵、侧流型分子泵、复 合型分子泵等。
扩散泵抽气原理与特性
扩散泵抽气原理
利用加热的吸气剂将气体分子吸 进吸气剂表面,再通过扩散作用 将气体分子从吸气剂表面传递到 泵的出口,从而实现气体的排除。
扩散泵特性
真空技术的分类与应用
真空技术的分类
根据应用需求,真空技术可分为真空镀膜、真空热处理、真空电子器件制造等。
真空技术的应用
真空技术在科学研究、工业生产、航空航天、电子工业等领域有广泛应用,如 电子显微镜、太阳能电池、平板显示器的制造等。
02 真空获得技术
机械泵抽气原理与特性
机械泵抽气原理
机械泵分类
真空具有低气体压力的特性,这使得 物质在真空中表现出不同的物理和化 学性质。例如,气体分子间的碰撞减 少,气体分子的平均自由程增加。
真空的度量与单位
真空度
真空度是指真空空间内的气体压 力,通常用压力范围来表示,如 低真空、中真空、高真空和超高 真空。
真空单位
常用的真空单位有帕斯卡(Pa)、 托斯卡(Torr)和巴(bar)。1 Torr = 133.322368 Pascal。
利用高速旋转的叶轮将气体吸入,通 过压缩和排出来实现气体压缩和排除。
《真空镀膜技术》课件

镀膜时间过长或过短都会影响薄膜的 质量和性能,需要根据工艺要求进行 选择。
04
真空镀膜技术的研究进展
高性能薄膜材料的制备与应用
高性能薄膜材料的制备
随着科技的发展,真空镀膜技术已经能够制备出具有优异性能的薄膜材料,如金刚石薄膜、类金刚石 薄膜、氮化钛薄膜等。这些高性能薄膜材料在刀具、模具、航空航天等领域具有广泛的应用前景。
详细描述
金属薄膜主要用于制造各种电子器件,如集 成电路、微电子器件、传感器等。通过在电 子器件表面镀制金属薄膜,可以起到导电、 导热、抗氧化等作用,提高电子器件的性能 和稳定性。此外,金属薄膜还可以用于制造
磁性材料,如磁记录介质、磁流体等。
功能薄膜的制备与应用
要点一
总结词
功能薄膜在真空镀膜技术中具有广泛的应用前景,可用于 制造各种新型材料和器件。
VS
面临的挑战
尽管真空镀膜技术具有广泛的应用前景和 巨大的发展潜力,但仍面临许多挑战和难 点。例如,如何提高薄膜的附着力和稳定 性、如何降低生产成本和提高生产效率等 。
05
真空镀膜技术的应用实例
光学薄膜的制备与应用
总结词
光学薄膜在真空镀膜技术中具有广泛应用, 主要用于提高光学器件的性能和降低光损失 。
光学领域
用于制造光学元件,如反射镜 、光学窗口等,提高其光学性 能和抗磨损能力。
建筑领域
用于建筑玻璃、陶瓷等材料的 表面装饰和防护,提高其美观 度和耐久性。
02
真空镀膜技术的基本原理
真空环境的形成与维持
真空环境的形成
通过机械泵、分子泵、离子泵等抽气 设备,将容器内的气体逐渐抽出,形 成真空状态。
关闭加热系统和真空泵, 完成镀膜过程。
真空镀膜机的工作原理

真空镀膜机的工作原理真空镀膜机是一种常用于制备薄膜的设备,它通过在真空环境中沉积原子或分子来形成一层膜。
其工作原理如下:1. 真空环境的建立:首先,真空镀膜机会通过使用真空泵将工作室内的气体排出,以建立一个低压环境。
这个过程称为抽气。
一般来说,常见的压力范围为10^-3 Pa到10^-8 Pa。
2. 加热源:真空镀膜机通常配备一个加热源,用于提供能量以使膜材料在表面上蒸发并形成薄膜。
加热源可以是电阻丝、电子束或激光,具体取决于所使用的膜材料和制备过程。
3. 蒸发源:蒸发源是真空镀膜机中最重要的部分之一,它可以提供原子或分子,以用于形成薄膜。
常见的蒸发源包括热腔源、电子枪和离子束源。
蒸发源将膜材料加热至其蒸发温度,从而导致材料从固态直接转变为气态。
4. 材料输送:蒸发源会将蒸发的膜材料从源头输送到待沉积的基底表面。
材料输送系统通常由磁控溅射、电子束或离子束等技术组成。
这些技术可以控制蒸发材料的方向和速率,以确保均匀沉积在基底表面上。
5. 沉积过程:一旦膜材料进入基底表面,它会沉积在其表面形成一层膜。
膜的厚度可以通过控制蒸发源的蒸发速率和沉积时间来调节。
在膜沉积过程中,为了确保膜的质量,通常需要进一步优化膜的结构和性能。
6. 监测和控制:真空镀膜机需要一定的监测和控制系统来监测和控制各个参数,以确保薄膜的质量和均匀性。
常见的监测技术包括压力计用于测量真空度,光学薄膜监测仪用于测量膜的厚度和光学性能,以及温度传感器用于监测和控制加热源的温度。
7. 辅助设备:为了更好地实现膜的沉积,真空镀膜机还可以配备气体进料系统、冷却系统和旋转台等辅助设备。
气体进料系统用于控制腔体内的气氛,冷却系统用于冷却基底表面以帮助膜材料的沉积,旋转台用于改变基底表面的角度和位置。
总的来说,真空镀膜机的工作原理是通过将材料加热至其蒸发温度,产生的原子或分子在真空环境下在基底表面沉积,形成一层薄膜。
通过控制各个参数和使用适当的监测和控制系统,可以实现高质量和均匀的薄膜制备。
真空镀膜工艺介绍

真空镀膜工艺介绍真空镀膜是一种利用真空条件下进行表面薄膜沉积的工艺方法。
通过将材料加热到蒸发温度并使气体或金属源蒸发,然后使蒸发物质沉积在基材表面上,形成薄膜。
真空镀膜技术广泛应用于光学、电子、航空航天、建筑和装饰等领域。
真空镀膜工艺大致分为四个主要步骤。
首先是蒸发源制备,该步骤包括选择适当的材料作为蒸发源,通常为金属或化合物。
然后,将蒸发源放置在真空室中的加热系统中,加热到材料的蒸发温度。
蒸发温度取决于材料的熔点和所要制备的薄膜的特性。
第二步是真空系统的准备,通常需要将真空室抽真空以减少残留气体的影响。
真空级别通常达到10^-3或更高,以确保在蒸发过程中气体分子对薄膜形成的影响最小化。
真空系统还应具备稳定的真空度和泄漏度,以确保蒸发过程的可重复性和稳定性。
接下来是薄膜沉积过程,通常有三种主要的薄膜沉积技术:蒸发沉积、溅射沉积和反应蒸发沉积。
在蒸发沉积中,蒸发源加热到蒸发温度时,蒸发的材料由于热蒸汽的运动而扩散到基材表面,形成均匀的薄膜。
溅射沉积是将高速离子束或电子束轰击材料表面,将材料溅射到基材表面上,形成薄膜。
反应蒸发沉积是通过在蒸发源和基材之间引入可反应的气体,使其与蒸发物质反应生成薄膜。
最后是工艺的监控和控制。
在薄膜沉积过程中,应对薄膜的厚度、成分和结构进行监控和控制。
常用的技术包括薄膜厚度测量、光学薄膜监控和电子束控制。
这些技术可以保证薄膜具有所需的光学、电学和机械性能。
真空镀膜工艺有许多优点。
首先,真空条件下薄膜的成分和结构可以得到精确控制,可实现针对不同应用的需求。
其次,真空镀膜过程不会产生污染和氧化,可以得到高质量的薄膜。
此外,真空镀膜具有高效、节能的特点,是一种相对环保的表面处理技术。
总而言之,真空镀膜是一种应用广泛的表面处理技术,可以用于制备具有各种功能的薄膜。
通过合理选择材料、优化工艺参数和精确的监控,可以获得具有高质量、可重复性和稳定性的薄膜,满足不同领域的需求。
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2) .低温泵的特点
①.真正的无油真空泵:利用低温冷板来冷凝、吸附气体而 获得和保持真空,清洁无污染; ②.抽速快:特别是对H2O、H2等气体抽速很大,因而排气 速度比其他真空泵快,大大提高产品产出量; ③.运行费用低:运行时只需电力和冷却水,不需液氮等低 温液体,操作简单方便; ④.适应性强:真空腔内无运动部件,来自外界的干扰或来 自真空系统的微粒不影响低温泵工作; ⑤.可以安装在任何方位; ⑥.运动部件少且低速运行,寿命长; ⑦.可以达到10-7 Pa的极限真空度,甚至可达10-9 Pa。
Q1=C1·(T—T0)
Q2:— 灯丝引线的热传导损失
Q2=C2·(T—T0)
Q3:— 气体碰撞的热传导损失
Q3=C3·( T—T0)P
其中:C1,C2,C3是常数,T是灯丝的温度, T0是管壁的 温度。
工作时,灯丝加热功率一定: 加热与散热达到热平衡,
Q灯丝=Q1+Q2+Q3; 当气压变化时,灯丝温度随之变化,以保持平衡态。
显然,气压越高,平衡态所对应的灯丝温度越低。
因此,用热电偶测出灯丝的温度,就可以换算出 相应的环境压强。
特点:仪器结构简单、使用方便 缺点:测量区域内,指示值呈非线性、测量结果与气 体种类- 阴极灯丝 2- 栅极(正电压) 3- 板极/离子收集极
(1)灵敏度与气体种类有关; (2)压强大于10-1Pa时,灯丝易于烧毁;
“真空泵”——用于抽出容器内气体的机器。抽气机。
真空泵主要性能参数:
抽气速率(体积流率):L/s, m3/s; 极限真空:可以抽达的最低压强(最高真空度); 启动压强:泵无损启动,并有抽气作用时的进气
口压强;
前级压强:泵排气口压强; 最大前级压强(反压强):超过了就会使泵损坏
或不能正常工作的前级压强。
干法制备薄膜需要使用真空镀膜机,制 造成本高,但膜层厚度可以精确控制, 膜层强度好,无污染,已广泛采用。
PVD技术
1. 热蒸发技术 2. 溅射技术 3. 离子镀技术 4. 离子辅助镀技术
3.1 真空及真空镀膜机
“真空”是干法镀膜的基础,是光学镀膜机的基础。
本节将解答下列问题: PVD为什么要在真空中进行? 真空用哪些参数计量? PVD所需要的真空条件是如何确定的? 真空如何获得?
第三章 薄膜制造技术
薄膜的制备方法
湿法
镀 膜 方 法
干法
电镀 化学镀
CVD
PVD
常压CVD
低压CVD 高温、中温
光CVD
PECVD
射频、直流、射频直 流、直流脉冲、微波
金属有机物热分解CVD
热蒸发 离子束辅助蒸发 溅射 离子镀
湿法制备薄膜工艺简单,制造成本低, 但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差, 较难获得多层膜,有污染。
工作压强: 104Pa~10-1Pa
109
105
101
102
104 105
真空泵入口压强Pa
3. 旋片式机械泵
1). 结构
抽、排气工作 由旋片完成;
油封的作用是 密封和润滑。
2)、工作过程
3). 工作原理
根据Boyle-Malotte定律:P·V=R·T
若 将原压强为P0的容器体积V扩展△V, 且温度T不变,
1、真空基础
(1)PVD与真空
1). 热蒸发工艺过程:
2). 大气PVD存在的问题
常温常压下, 空气分子质量密度:1.28×10-6 g /mm3 每克气体分子含分子个数:2.08 ×1022个/g ——气体分子距离:3.34×10-6mm ——气体分子的空间密度:2.68×1016个/mm3
因此, A. 空气中活性气体分子与膜层、膜料、蒸发器反应; B. 空气分子进入膜层成为杂质; C. 蒸发膜料大多因碰撞而无法直线到达被镀件。
热阴极电离真空计的优点:
(1)测出的是总压强; (2)反应迅速,可连续读数,可远程控制; (3)电离计就可测量到5х10-5Pa,如改进后可测量到10-7Pa (4)规管小,易于连接到被测量处; (5)电离真空计校准曲线直线范围宽,通常在10-1--10-5 Pa间; (6)对机械振动不敏感;
热阴极电离真空计的缺点:
2. 常见真空泵
直联泵
(1). 常见真空泵的分类
A. 气体传输泵: ——能使气体不断吸入和排出而达到抽气目的。
a、变容式: ——泵腔容积周期性变化完成排吸气。 如:油封旋片式机械泵;滑阀泵;罗茨泵。
b、动量传递泵: ——用高速旋转的叶片或高速射流,把动量传递给气体分
子,使气体分子连续的、不断地从入口向出口运动。
(3) PVD所需真空度
当温度和气体种类一定时,
1).分子平均自由程
1
0.667 2 (cm)
2 2n
P
3P
n 气体分子密度
分子直径
P 压强(Pa)
2).分子碰撞率
N p N0 1 ed 1 e3Pd 2
d “源 ~ 件”间距(cm)
3).PVD要求分子碰撞率<10%,若,d=0.5m
1). 罗茨泵的分类
罗茨真空泵(简称罗茨泵)是一种旋转 式变容真空泵。它是由罗茨鼓风机演变 而来的。 直排大气的低真空罗茨泵; 中真空罗茨泵(又称机械增压泵); 高真空多级罗茨泵。
2).结构及工作过程
3).罗茨泵的特点
在较宽的压强范围内有较大的抽速; 起动快,能立即工作; 对被抽气体中含有的灰尘和水蒸气不敏感; 转子不必润滑,泵腔内无油; 振动小,转子动平衡条件较好,没有排气阀; 驱动功率小,机械摩擦损失小; 结构紧凑,占地面积小; 运转维护费用低。
课堂论题十一
1、薄膜光学原理解决的问题
①有膜光学零件表面光谱反射率、透射率的计算方法 ②常见光学薄膜惯用膜系结构 ③规则膜系光谱反射、透射特性及其计算方法
2、必须掌握的概念和方法
①单层薄膜光谱反射、透射特性及其计算方法 ②规则膜系(LH)m光谱反射、透射特性及其计算方法 ③减反射膜系设计的基本思想方法 ④光学薄膜的偏振效应特性计算方法 ⑤薄膜光谱反射、透射特性与膜系结构参数之间的关系 ⑥所有标注以“说明”、“注意”、“显然”的问题
互换关系为: 1 Torr =1/760 atm=1mmHg=1.33mbar=133.3Pa
几种压强单位的换算关系
C. 真空区间被划分为:
目前尚无统一规定,常见的划分为: 粗真空,低,高,超高,极高。
粗真空 105-102 Pa 低真空 102-10-1Pa 高真空 10-1-10-6 Pa 超高真空 10-6-10-10 Pa 极高真空 10-10 Pa -
3.2.3、真空测量
1.热电偶真空计
——以某一中间变 量与气体压强的关系为 依据的间接测量。
热电偶真空计 1). 结构:
Pt-铂灯丝; A,B-热偶丝; O-热偶接点. 2). 测量范围: 102 ~ 10 - 1Pa
3). 原理
——低气压(100~10-2)下气体的热传导与压强成正比。
因为: 灯丝通电后,其热量散失的途径有三: Q1:— 灯丝辐射损失
启动压强: 1.013×105Pa(1个标准大气压) 工作压强: 1.013×105Pa~1.333 ×10-1Pa 极限真空:5 ×10-2Pa
②抽速: 油封旋片式机械泵的理论抽速为 Sth z n VS
其中:Z 刮片数目,n 转子转速,VS 泵腔容积
实际抽速并非始终如此,在开始抽大气和容器压强较 低(小于1Pa)时,机械泵的抽速都大大低于理论抽速。
级导流管蒸发,利于获得高极限真空,小污染。
3). 性能
①.指标
启动压强:10-1Pa 最大前级压强:1Pa 工作压强: 10-1Pa~10 -6Pa 极限真空:10-7Pa
②.值得注意的问题
A. 油扩散泵既不能直接抽大气,也不能直接向大气中排气; B.油扩散泵必须在有水冷的条件下使用。
5. 罗茨泵
直联泵(高速)的抽速明显高于普通机械泵。
直联泵:电动机直接驱动泵转子,把转速提高到1400r/min以上
4. 油扩散泵
直腔泵
凸腔泵
1). 结构
工作物质— 高纯真空油;
加热器— 为油汽化加热;
泵芯— 为油蒸汽导向;
2). 工作原理
①气体分子扩散,油蒸气分子动量传递; ②多级喷嘴“接力”并阻止“反扩散”(气,油); ③分馏分级(图示),重馏分低蒸气压油蒸气沿中心高
7. 低温真空泵
利用低 温冷凝和低 温吸附原理 抽气的容积 式真空泵, 是无油高真 空环境获得 设备。
1). 工作原理
低温冷凝:用液He冷却固体表面达4.2K, 空气中除H2、He以外,大部分气体的饱和蒸气 都低于1Pa,即空气中主要气体成分都会被冷凝, 即达到抽真空的目的。
低温吸附:在低温表面上粘贴一些固体吸 附剂,气体分子打到这些多孔的吸附剂上而被 捕集。
2). 测量范围: 10-1 ~ 10 -6Pa
B A
F
FG
FG
Ip
mV
A
mA
G
F
3). 原理
——热阴极灯丝1发射热电子,在栅极2(加速极) 和板极3(离子收集极/反射阴极)作用下,在三个电极之 间来回振荡,其撞击中性气体粒子产生电子和离子,其间:
Ii=kIeP Ie——阴极发射的电子流;
Ii——板极收集的离子流; 显然,当热阴极灯丝的加热功率一定时,Ie一定,则, P与Ii成正比。
则 扩展容积后的压强P1 由 P1 ·(V+ △ V)=R ·T
P0·V=R·T 得 P1 ·(V+ △ V)= P0·V 即 P1= P0·V/ (V+ △ V) 显然,容器体积扩展△V时,压强P0下降为P1。