真空镀膜机基本技术要求
镀膜机安全技术操作规程（三篇）
镀膜机安全技术操作规程镀膜机是一种常用的表面涂覆设备，用于给物体表面增加一层薄膜，提高其耐磨、防腐蚀等性能。
由于涉及到化学物品和高温等危险因素，因此在操作镀膜机时必须严格遵守安全技术操作规程，以确保操作人员和设备的安全。
以下是镀膜机的安全技术操作规程，共计2000字。
一、使用前的准备工作1.操作人员必须接受相关的安全培训和操作指导，熟悉设备的结构和工作原理。
2.检查设备的各个部位，如输送带、喷涂系统、加热系统等，确保其正常运行，并进行必要的维护和保养。
3.确认所有的安全设施完好，如安全门、安全防护网、紧急停机按钮等。
二、穿戴个人防护装备1.操作人员必须穿戴适当的个人防护装备，如安全帽、安全鞋、护目镜、防护手套等。
2.针对具体镀膜材料和工艺，选择合适的防护服和口罩。
三、操作过程中的安全控制1.在操作镀膜机前，必须确保操作区域的绝对干燥，以避免与湿气产生反应或发生事故。
2.严禁在操作过程中穿插其他人员或随意接近设备。
3.确保机器运行稳定后再进行下一步操作，以免因异常造成安全事故。
4.操作人员必须时刻关注设备运行状态，发现异常情况及时采取应急措施，如关闭设备、紧急停机等。
5.禁止在操作过程中使用手机等与操作无关的电子设备。
6.严禁将任何非操作材料放入喷涂系统，以避免发生化学反应或堵塞设备。
四、应急措施和事故处理1.设备操作过程中，如发现异常燃烧、爆炸或其他突发事故，应第一时间切断电源，并立即报警和呼叫专业人员进行应急处理。
2.若发生泄漏、溢出等事故，应密切关注涉及范围的浓度是否达到爆炸或有毒的程度，确保工作区域的人员安全，及时进行清理和处理。
3.在事故处理中，操作人员必须穿戴好个人防护装备，并按照应急预案进行处置，有条件的情况下可启动应急喷淋系统或其他应急设备。
五、日常维护和保养1.设备日常维护和保养必须由专业人员进行，如定期检查设备运行情况、清理设备内部、更换易损件等。
2.定期组织设备的安全检查和保养记录，及时处理设备的故障和隐患，确保设备的正常运行和使用安全。
真空镀膜技术
电子枪对光谱的影响主要是焦斑的形状、位臵、大小在成膜的影响。 特别是高精度的膜系，和大规模生产的成品率要求电子枪的焦斑要稳定。
薄膜厚度的测量
金膜新蒸发时，薄层较软，大约一周后，金膜硬度趋于稳定，膜层 牢固度也趋于稳定。
（4）铬 Cr Cr膜在可见区具有很好的中性，膜层非常牢固透明度、折射率、机械牢固度和化学稳 定性以及抗高能辐射。
（1）透明度
短波吸收或本征吸收I：主 要是由光子作用使电子由 价带跃迁到导带引起的；
真空度的单位：
真空度以压强为单位来度量，压强高表示真空度低。压强 低标识真空度高。
真空度的国际单位是帕斯卡简称帕（Pa）。 毫米汞柱（mmHg）：1mmHg＝133.3Pa 托（Torr）：1Torr＝1/760atm=133.3Pa 巴（Bar）：1Bar＝105Pa
平均自由程
气体分子之间相邻两次碰撞的距离，其统计平均值为平均自 由程。 l=1/(√2πς2n)=kT /(√2πς2P）
电阻蒸发系统采用单相调功器对电阻蒸发源的功率进行调 节控制，蒸发源在两组以上时，通过选择开关选择。
工作原理：
电子束蒸发是利用 在一定真空条件下，加 高压产生电子束，通过 特定磁场的作用，按照 一定的路线，轰击蒸发 物质，产生蒸发。
在电子束蒸发装置 中，被蒸发的物质放置 于水冷的干坩埚中，电 子束只轰击到其中很少 的一部分，而其余大部 分物质在坩埚的冷却作 用下一直处于低温状态， 因此，可以避免坩埚材 料蒸发引起的污染。
(2) 硫化物
典型的硫化物材料是硫化锌（ZnS）。
真空镀膜技术简介
5.现状 5.现状
由于真空镀膜起步较晚，又受真空技术的限制，前期发展较慢， 属于新的技术。目前，国外一些发达的国家应用较为广泛。国内起步 更晚，受技术的限制，应用范围较少，潜力较大，待进一部开发。
（二）
1.常用的镀膜设备（外形） 1.常用的镀膜设备（外形） 常用的镀膜设备 1.1. 电镀法、化学镀法一般是以槽体流水线的形式进行的，设 备较为大型，昂贵。 1.2. 箱式真空镀膜机（立式）：单门、双门。 1.3. 卷绕式真空镀膜机（卧式）。 1.4. 间歇式镀膜机（立式）：两箱、三箱。 1.5. 大型镀膜流水线：根据客户要求进行设计。 这里没有涉及CVD镀膜设备 这里没有涉及CVD镀膜设备
4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构1 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构 真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构1
4.1. 真空蒸镀镀膜机的相关参数 4.1.1. 真空室尺寸 4.1.2. 最高加热温度 4.1.3. 高、低真空泵抽速 4.1.4. 膜厚控制精度 4.1.5. 蒸发器的参数 4.1.6. 离子源的参数 4.1.7. 连续镀层和时间 4.1.8. 充气系统的参数 4.1.9. 深冷的参数 4.1.10. 操作系统、软件 另外：冷却水、压缩空气、电 量
内容概要
（二）.镀膜的设备
1.常见的镀膜设备 1.常见的镀膜设备 2.常见的真空镀膜机 2.常见的真空镀膜机 3.各国的真空镀膜机的现状 3.各国的真空镀膜机的现状 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构
（三）.真空镀膜的工艺
1.工艺参数 1.工艺参数 2.塑料件真空镀膜工艺流程 2.塑料件真空镀膜工艺流程 3.镀膜制品的品质参数 3.镀膜制品的品质参数
3.定义2 定义2
电子束加热蒸镀是将膜料放入水冷铜坩埚中，利用高能量密度的 电子束加热，使膜料熔融气化并凝结在基体表面成膜。 为了改善附着力，增加膜的致密性，镀膜前，镀膜过程中辅助离 子束进行轰击的镀膜方法称为离子束辅助蒸镀。
真空镀膜技术工艺流程
真空镀膜技术工艺流程真空镀膜技术是一种在真空条件下将金属薄膜或其他材料沉积到基材表面的工艺。
它广泛应用于光学、电子、汽车、建筑等领域，用于提高材料的光学性能、耐腐蚀性能和装饰性能。
下面将介绍真空镀膜技术的工艺流程。
1. 基材准备首先，需要准备待镀膜的基材。
基材可以是玻璃、塑料、金属等材料，不同的基材需要采用不同的预处理工艺。
通常情况下，基材需要进行清洗、去油、去尘等处理，以确保镀膜的附着力和质量。
2. 蒸发材料准备在真空镀膜工艺中，需要使用一种或多种蒸发材料作为镀膜材料。
这些蒸发材料可以是金属、氧化物、氮化物等。
在镀膜前，需要将这些材料加工成均匀的块状或颗粒状，以便于在真空条件下进行蒸发。
3. 真空系统抽真空在进行镀膜之前，需要将反应室内的气体抽空，建立起一定的真空度。
通常情况下，真空系统会采用机械泵、分子泵等设备进行抽真空，直到达到所需的真空度为止。
4. 加热基材在真空镀膜过程中，基材通常需要加热到一定温度。
加热可以提高蒸发材料的蒸发速率，同时也有助于提高镀膜的致密性和附着力。
加热温度的选择需要根据具体的镀膜材料和基材来确定。
5. 蒸发镀膜当真空度和基材温度达到要求后，开始蒸发镀膜。
蒸发材料被加热后，会蒸发成气体或蒸汽，并沉积到基材表面上。
在镀膜过程中，可以通过控制蒸发材料的温度、蒸发速率和镀膜时间来控制镀膜的厚度和性能。
6. 辅助工艺在镀膜过程中，可能需要进行一些辅助工艺来改善镀膜的性能。
例如，可以通过离子轰击、辅助加热、喷洒惰性气体等手段来提高镀膜的致密性和光学性能。
7. 检测和包装镀膜完成后，需要对镀膜膜层进行检测，以确保其质量和性能符合要求。
常用的检测手段包括光学测量、显微镜观察、机械性能测试等。
最后，对镀膜产品进行包装，以防止镀膜层受到污染或损坏。
总结真空镀膜技术是一种高精度、高效率的表面处理技术，可以为材料赋予特定的光学、电子、机械等性能。
通过控制镀膜工艺流程中的各个环节，可以实现对镀膜膜层厚度、组分、结构和性能的精确控制。
真空镀膜(PVD)工艺介绍
编撰：张学章真空镀膜(PVD)工艺介绍真空镀膜(PVD)工艺知识介绍2010年01月20日拟订:张玉立讲解:刘红彪目录1. 真空镀膜技术及设备发展;2. 真空镀膜的工艺基本流程;3.真空镀膜的工艺特性;4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;6.真空镀膜新工艺展示;7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍；前言真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。
传统高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被新兴环保工艺取代。
而真空镀膜没有废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起并普及。
1：真空镀膜技术及设备发展1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。
气相生成法又可分为物理气相沉积法（简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
我们今天主要介绍的是物理气相沉积法。
由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。
惰性气体等离子状态Ar+2：真空镀膜的工艺基本流程素材检检组装治具擦拭产品底涂上下料喷底涂、IR镀膜上下料镀膜（PVD)喷面漆、IR（颜色）下治具检验包装IR 烘烤不导电真空上料PVD 技术操作简易流程图片技术操作简易流程图片：塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
高纯度锡金属作为蒸发材料进行物理气相沉积镀膜，镀层金属膜层厚度为纳米级（30-50NM ）金属原子微观上不连接，从而保证不导电性能，同时具备较强的金属质感。
塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
UV 涂层膜厚，表面硬度（IR 烤箱温度、UV 紫外光固化能量、波峰值）精确控制，严格测试。
通过制程各项工程参数（如真空度、电流、电压、时间、膜材用量）的精确控制及严格的品质监测流程、设备（镀层阻抗测量、网络分析仪RF 射频测试）确保制程品质稳定。
VM(真空镀膜)技术应用与介绍
工作中学习，学习后工作 做比说重要，习比学有效
21
Thank you！
22
VM膜层结构图 面漆厚度10um 金属漆厚度0.5~10um 底漆厚度10um
基材
粗糙度需在0.5um以下
9
七、VM与其它镀膜比较的优缺点
项次 工艺
VM
底漆+镀膜+面漆 喷涂UV漆
水电镀
1.镀铜+镀镍 2.镀铜+镀镍+镀铬 不需要
传统烤漆
底漆+中漆+面漆 喷涂UV漆
工
艺
镀层保护 镀层材料 镀层光泽 镀层颜色 镀层硬度 镀层厚度 镀层附着性
8-1 发 雾
不良描述：表面发白起雾现象，失去镜面光泽的金属效果 产生原因： 1.底漆固化不彻底 2.镀膜层太薄，呈现基材底色 3.环境湿度过高 改善对策： 1.增加底漆固化时间 2.增厚金属膜层 3.除湿干燥处理
NG
OK
12
八、30065卡托----VM常见不良现象、原因及改善对策
8-2 颗 粒
高温高湿 光泽（对样品）
震动
UV底漆 Ti SUS Cr AI SiO SiO2 UV中漆 色浆 UV面漆
面漆固化 镀金属膜 喷底漆
终检 喷面漆 底漆固化
工
艺
制
程
20
十一、总结
1.多看，多听: 接触新的事物时, 多看一看周围的人是如何处理,对新环境的未知, 多听一听前辈们的指导提点. 2.多问: 在不熟悉这个行业时，会发现自己很多东西都不懂，这个时候就 要多问一问前辈，每解决一个问题，对于我们自己，都是又成长 了一步 3.多学，多做,多思考： 活到老，学到老，多学才能让自己更加智慧，多做才能让我们适应 生存，多思考才能让自己解决每一道坎
真空镀膜机详细镀膜方法
真空镀膜机详细镀膜方法真空镀膜技术是一种应用广泛的表面加工技术，可以为各种材料表面提供不同颜色、不同功能的涂层。
如何进行真空镀膜，是一个需要掌握的基本技术。
本文将详细介绍真空镀膜的方法及其优缺点。
一、真空镀膜的基本原理真空镀膜技术是一种在真空环境下对材料表面进行涂层加工的技术。
通过真空系统将膜材料蒸发，沉积在基材表面，形成涂层。
在镀膜过程中需要注意的是：不同材料的膜材料，在蒸发、沉积的过程中有不同的温度和气压要求；基材表面也需要钝化处理，以保证表面涂层的附着性。
二、真空镀膜的优缺点优点：（1）沉积速度快，可制备厚度、均匀度好的涂层。
（2）具有高质量、高透明度、高硬度、高耐磨性及耐高温等特点。
（3）涂层成分稳定，能耐受环境变化，具有长时间稳定性。
缺点：（1）设备及材料投入成本高，要求专业技术人员操作。
（2）镀膜工艺步骤复杂，环境控制要求高。
（3）镀膜过程中会有一定的污染，对真空系统要求高。
三、真空镀膜的具体过程真空镀膜的过程通常包括五个步骤：1. 清洗和钝化处理在进行真空镀膜之前，需要对基材表面进行钝化处理，以提高涂层附着性。
清洗方法需要根据基材的情况和涂层的要求来确定。
通常会采取化学清洗、氧化清洗和机械打磨等方法，以使表面清洁、光滑。
2. 蒸发材料的制备膜材料的蒸发过程需要保证蒸发速度、蒸发量及蒸发均匀度。
膜材料通常选用纯度高、化学稳定的材料，如金属或半导体材料。
制备膜材料的方法也因材料而异，如金属材料可采用电功率热源加热蒸发、电子束蒸发、离子束蒸发等方法，而半导体材料可采用溅射等方法。
3. 准备真空环境真空镀膜需要在高真空环境下进行。
可以使用單純管和机械泵联合的方式轻松地在低真空状态下达到高真空状态。
具体环境控制要求根据不同的蒸发材料有所不同。
4. 蒸发沉积蒸发沉积是最核心的步骤，也是关键的涂层制备过程。
在蒸发材料制备完成后，通过真空系统控制蒸发材料温度和气压，将蒸发材料蒸发并沉积在基材表面。
真空镀膜机对环境要求
⑥设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压 力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。
⑦设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间
导电的尘埃或气体存在。 此外，真空镀膜设备所在实验室或车间应保
持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无
否清洗，又直接影响设备的性能。如果空气中含 有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真
空度很难的。众所周，油封式机械泵不宜抽除对
金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘 埃的气体。水蒸气为可凝性气体，当大量抽除可
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
真空对环境的要求，一般包括真空设备对所
处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周
围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零 件或表面要求两个方面。这两个方面是有密切联
系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常
使用；而真空设备的真空室或装入里面的零件是
凝性气体时，对泵油的污染会更加严重，结果使
泵的体、眼无题、粉
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或
分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒
的集合，而颗粒是指能够一个一个计数的微小物 质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态
由于真空镀膜机要在真空条件下，因此该设
备要满足真空对环境的要求。制定的各种真空镀
膜机的行业标准（包括真空镀膜设备通用技术条 件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
5、供电电源：380V 三相 50Hz 或 220V 单相
50Hz(由所用电器需要而定)；电压波动范围： 342-399V 或 198-231V；
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
频率波动范围：49-51Hz. 6、设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热
水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
的位置。 6、合理布置加热装置，一般加热器结构布
局应使被镀工件温升均匀一致。 7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
计应使工件膜层均匀 8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和
离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常
说明书中写明。
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
7、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有
引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间 导电的尘埃或气体存在。
东
1ct0f5c9c 易博
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷பைடு நூலகம்过后，趴在桌子
放电装置，维持稳定
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电
阻值的大小，均按 GB/T11164-1999 中的 4.4.6
1、环境温度：10-30oC 2、相对湿度：不大于 75%
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
3、冷却水进水温度：不高于 25oC 4、冷却水质：城市自来水或相当质量的水
1、真空镀膜机中的真空管道、静态密封零
部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合 GB/T6070 的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室
上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空 度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
处安装电场屏蔽装置。 3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在
泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱 4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
板装置。观察窗应能观察到沉积源的情况以及其
他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜
过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理 匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体