真空镀膜机技术参数
真空镀膜机基本技术要求
5、供电电源：380V 三相 50Hz 或 220V 单相
50Hz(由所用电器需要而定)；电压波动范围： 342-399V 或 198-231V；
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
频率波动范围：49-51Hz. 6、设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热
水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
的位置。 6、合理布置加热装置，一般加热器结构布
局应使被镀工件温升均匀一致。 7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
计应使工件膜层均匀 8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和
离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常
说明书中写明。
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
7、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有
引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间 导电的尘埃或气体存在。
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着填答的方框，久久不能下笔，一番迷பைடு நூலகம்过后，趴在桌子
放电装置，维持稳定
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电
阻值的大小，均按 GB/T11164-1999 中的 4.4.6
1、环境温度：10-30oC 2、相对湿度：不大于 75%
着填答的方框，久久不能下笔，一番迷惘过后，趴在桌子
3、冷却水进水温度：不高于 25oC 4、冷却水质：城市自来水或相当质量的水
1、真空镀膜机中的真空管道、静态密封零
部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合 GB/T6070 的规定。
DM-450A真空镀膜机
到 位 免 费安 装 调试 长 期负 责维 修 咨询 定 期
技术培 训 服 务全 面 而 且 周 到 主要技 术性 能参数 镀 膜室尺寸
540mm
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DM-450C真空镀膜机
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热蒸发式真空镀膜仪技术参数
热蒸发式真空镀膜仪技术参数1. 工作条件1.1电力供应：380V（±6%），50Hz，功率不高于15KW，地线对地电阻4Ω1.2工作温度：15︒C-25︒C1.3工作湿度：< 60% (20︒C)1.5仪器运行的持久性：仪器可连续使用1.6 仪器的工作状态：较强的防震抗磁能力，工作稳定1.7 仪器设备的安全性：符合放射线防护安全标准和电器安全标准2. 设备用途：实现热蒸发式碳膜喷镀。
特别用于低温单颗粒三维重构中的的低温样品载网支持膜制备，确保样品制备中载网支持膜的导电性和良好的支撑性能。
3. 技术规格3.1 真空镀膜腔室尺寸不小于Ø350×H350mm3.2 真空镀膜腔室配有观察窗。
3.3 真空系统为无油系统。
*3.4 极限真空：≤5×10-5Pa*3.5 暴露大气10分钟内并充干燥氮气开始抽气，30分钟真空度≤6×10-4Pa，两小时内真空度≤1×10-4Pa。
3.6 设两组蒸碳电极，并配备直径3mm碳棒卡套。
蒸发电源为2kW/8V直流恒流电源3.7 蒸碳电极周围配备挡板，实现定向碳棒喷镀，降低真空腔体表面污染3.8 在样品与蒸发源间设有高度可调的电动挡板3.9 样品台可在电机驱动下绕自身轴线旋转，也可静止喷镀。
3.10 留出供inficon-SQC310C膜厚仪进行膜厚测量的接口注：*表示必须满足且重要的指标4. 技术文件：4.1 投标人应提供仪器主体及主要附件的详细的操作，安装，及调整说明书。
4.2投标人应提供电子版说明书。
5.技术服务5.1 设备安装、调试和验收5.1.1现场安装；现场调试；按照买方和卖方双方同意的标准对主机、附件，软件的性能和功能进行测试；在买方对主机、附件，软件的性能和功能进行测试合格的基础上，由买方授权人签字验收。
5.1.2服务：在中国设立两家或以上的固定维修站，并配备专业维修工程师，北京地区至少1名工程师，能提供及时有效的售后服务。
ZZ1100箱式真空镀膜机说明书
1、概述本设备采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。
整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。
蒸发室全部采用不锈钢制造，外有可通冷、热水的护罩，可对壁进行加热(热水器选配)或冷却。
蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各种接头。
阀门采用气动，操作方便，使用可靠。
液氮冷阱和水冷挡板设计为一整体。
蒸发室抽气口也设置一光学密封机械挡板，因此可使蒸发室的油污染降低到极低的程度。
本设备配备的抽气元件抽速较大，因此具有抽气时间短，工作真空度高，生产周期短等特点。
本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜。
是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。
2、主要技术数据2.1真空：2.1.1极限真空：2×10-4Pa。
2.1.2恢复真空：从大气→2×10-3Pa≤10min。
2.2 蒸发室：2.2.1直径：内部为φ1100mm。
2.2.2内腔尺寸：φ1100×1300mm。
2.2.3底板上有45个φ33.5通孔和2个斜光路孔。
3.3工件夹具：2.3.1外径φ1000mm。
2.3.2锥形球面夹具：2.3.3夹具转速N=3～31r.p.m。
2.4基片烘烤：可安装上下烘烤装置或其中一种，上烘烤为电阻丝（管状加热器）18KW(350℃全烘烤)；下烘烤为碘钨灯8KW(选配)，最高烘烤温度350℃，有上下烘烤接口。
2.5电阻蒸发电极：由技术协议确定，功率5KW/只。
2.6 2.7离子轰击：轰击电压0—300V2.8抽气系统2.8.1 主泵：K-630高真空油扩散泵，抽速12000L/s2.8.2 前级泵：ZJP-300罗茨泵，抽速300L/s2.8.3 2X-70机械泵：抽速70L/s2.9光路系统：2.9.1透、反射光路。
2.9.2六位(12位)比较片，另留一石英探头位置。
2.10其它2.10.1电源：3相220V/380V 50Hz2.10.2总功率：约40KW2.10.3耗水：约30L/min2.10.4压缩空气：5～6Mpa2.10.5水压:0.2～0.25MPa2.10.6总重量：（包括控电柜）约5吨2.10.7外型尺寸：主机：1390×3500×2300（宽×深×高）控电柜：1400×600×2100（宽×深×高）3、工作原理及结构说明该镀膜机由主机、控电柜二部份组成。
ZZ1100箱式真空镀膜机说明书解析
1、概述本设备采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。
整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。
蒸发室全部采用不锈钢制造，外有可通冷、热水的护罩，可对壁进行加热(热水器选配)或冷却。
蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各种接头。
阀门采用气动，操作方便，使用可靠。
液氮冷阱和水冷挡板设计为一整体。
蒸发室抽气口也设置一光学密封机械挡板，因此可使蒸发室的油污染降低到极低的程度。
本设备配备的抽气元件抽速较大，因此具有抽气时间短，工作真空度高，生产周期短等特点。
本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜。
是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。
2、主要技术数据2.1真空：2.1.1极限真空：2×10-4Pa。
2.1.2恢复真空：从大气→2×10-3Pa≤10min。
2.2 蒸发室：2.2.1直径：内部为φ1100mm。
2.2.2内腔尺寸：φ1100×1300mm。
2.2.3底板上有45个φ33.5通孔和2个斜光路孔。
3.3工件夹具：2.3.1外径φ1000mm。
2.3.2锥形球面夹具：2.3.3夹具转速N=3～31r.p.m。
2.4基片烘烤：可安装上下烘烤装置或其中一种，上烘烤为电阻丝（管状加热器）18KW(350℃全烘烤)；下烘烤为碘钨灯8KW(选配)，最高烘烤温度350℃，有上下烘烤接口。
2.5电阻蒸发电极：由技术协议确定，功率5KW/只。
2.6 2.7离子轰击：轰击电压0—300V2.8抽气系统2.8.1 主泵：K-630高真空油扩散泵，抽速12000L/s2.8.2 前级泵：ZJP-300罗茨泵，抽速300L/s2.8.3 2X-70机械泵：抽速70L/s2.9光路系统：2.9.1透、反射光路。
2.9.2六位(12位)比较片，另留一石英探头位置。
2.10其它2.10.1电源：3相220V/380V 50Hz2.10.2总功率：约40KW2.10.3耗水：约30L/min2.10.4压缩空气：5～6Mpa2.10.5水压:0.2～0.25MPa2.10.6总重量：（包括控电柜）约5吨2.10.7外型尺寸：主机：1390×3500×2300（宽×深×高）控电柜：1400×600×2100（宽×深×高）3、工作原理及结构说明该镀膜机由主机、控电柜二部份组成。
ZZ-1880型有机玻璃真空镀膜机
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主 要 技 术参 数
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真空卷绕镀膜设备通用技术要求
真空卷绕镀膜设备通用技术要求一、设备概述真空卷绕镀膜设备是一种在真空环境中，通过物理或化学方法，将金属、非金属或其他材料均匀地沉积或涂覆在薄膜或基材上的设备。
它广泛应用于电子、光学、装饰、医疗等领域，可以用于制造各种高性能和高精度的薄膜产品。
二、设备通用技术要求1. 设备设计应符合安全、环保和人性化的原则，易于操作和维护，能够实现高效、稳定和连续的镀膜生产。
2. 设备应具备完整的电气控制系统，能够实现自动控制和调节，包括温度、真空度、镀膜厚度等关键参数。
3. 设备应具备有效的清洗和防污染措施，能够保证设备的清洁度和薄膜的质量。
4. 设备应具备可靠的机械传动系统，能够保证设备的稳定运行和长寿命。
5. 设备应具备完整的真空系统，能够保证设备的真空度和清洁度。
6. 设备应具备完善的冷却系统，能够保证设备的正常运行和防止热变形。
7. 设备应具备安全保护装置，能够防止意外事故的发生。
8. 设备应符合相关的环保要求，能够实现废气、废水和固废的合理处理。
9. 设备应具备良好的可维修性和可维护性，方便进行定期的检修和保养。
10. 设备应具备稳定的性能和可靠的质量，能够保证生产的顺利进行和产品的质量稳定。
三、设备的关键技术参数1. 镀膜材料：设备的镀膜材料应具备高纯度、高密度、高附着力和良好的稳定性。
2. 镀膜厚度：设备的镀膜厚度应具备高精度和高均匀性，能够满足产品的性能要求。
3. 真空度：设备的真空度应能够达到一定的水平，以保证薄膜的质量和性能。
4. 温度：设备的温度控制应精确稳定，以保证镀膜材料的熔融和结晶过程。
5. 清洁度：设备的清洁度应能够达到一定的水平，以保证薄膜的质量和性能。
6. 生产效率：设备的生产效率应能够满足生产的需求，以提高生产的效率和降低成本。
7. 自动化程度：设备的自动化程度应高，能够实现自动控制和调节，减少人工操作和提高生产效率。
8. 安全性：设备的安全性应符合相关的标准和规范，能够保证操作人员的安全和设备的稳定运行。