真空镀膜技术及应用
真空镀膜技术
真空镀膜技术一、概述真空镀膜技术是一种利用真空条件下的物理或化学反应，将金属或非金属材料沉积在基材表面形成一层薄膜的技术。
该技术具有广泛的应用领域，包括光学、电子、医疗、环保等。
二、原理真空镀膜技术利用真空条件下的物理或化学反应，将金属或非金属材料沉积在基材表面形成一层薄膜。
其主要原理包括：1. 离子镀膜：利用离子轰击基材表面使其表面活性增强，然后通过离子束轰击目标材料产生离子和原子，最终在基材表面形成一层薄膜。
2. 蒸发镀膜：将目标材料加热至其沸点以上，在真空环境中使其升华并沉积在基材表面形成一层薄膜。
3. 磁控溅射镀膜：利用高能量离子轰击靶材产生靶材原子，并通过磁场控制靶材原子沉积在基材表面形成一层薄膜。
三、设备真空镀膜技术需要使用专门的设备，主要包括：1. 真空镀膜机：包括离子镀膜机、蒸发镀膜机和磁控溅射镀膜机等。
2. 真空泵：用于将反应室内的气体抽出，使其达到真空状态。
3. 控制系统：用于控制反应室内的温度、压力、离子束能量等参数。
四、应用真空镀膜技术具有广泛的应用领域，包括：1. 光学：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层反射或透过特定波长光线的薄膜，制作光学器件如反射镜、滤光片等。
2. 电子：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层导电或绝缘的薄膜，制作电子元器件如晶体管、集成电路等。
3. 医疗：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层生物相容性好的涂层，制作医疗器械如人工关节、心脏起搏器等。
4. 环保：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层具有催化作用的薄膜，制作环保设备如汽车尾气净化器、工业废气处理设备等。
五、优势真空镀膜技术具有以下优势：1. 薄膜厚度可控：通过控制反应条件和时间，可以精确控制薄膜的厚度。
2. 薄膜质量高：在真空环境中进行反应，可以避免杂质和气体的污染，从而保证薄膜质量高。
3. 应用广泛：真空镀膜技术可以应用于多种材料和领域，具有广泛的应用前景。
六、挑战真空镀膜技术面临以下挑战：1. 成本高：真空镀膜设备和耗材成本较高，限制了其在大规模生产中的应用。
真空镀膜技术
真空镀膜技术真空镀膜技术是一种先进的表面处理技术，它可以在各种材料表面上形成一层薄膜，从而改变其物理、化学和光学性质。
这种技术已经广泛应用于电子、光学、航空航天、汽车、医疗和建筑等领域，成为现代工业中不可或缺的一部分。
真空镀膜技术的原理是利用真空环境下的物理和化学反应，将金属、合金、陶瓷、聚合物等材料蒸发或溅射到基材表面上，形成一层薄膜。
这种薄膜可以具有不同的功能，如增强材料的硬度、耐磨性、耐腐蚀性、导电性、光学透明性等。
真空镀膜技术可以通过控制薄膜的厚度、成分和结构来实现不同的功能。
真空镀膜技术的应用非常广泛。
在电子领域，它可以用于制造集成电路、显示器、太阳能电池等。
在光学领域，它可以用于制造反射镜、透镜、滤光片等。
在航空航天领域，它可以用于制造发动机叶片、航空仪表等。
在汽车领域，它可以用于制造车灯、镜面等。
在医疗领域，它可以用于制造人工关节、牙科修复材料等。
在建筑领域，它可以用于制造玻璃幕墙、防紫外线涂料等。
真空镀膜技术的优点是显而易见的。
首先，它可以在不改变基材性质的情况下，改变其表面性质，从而实现不同的功能。
其次，它可以制造出高质量、高精度的薄膜，具有良好的光学、电学和机械性能。
再次，它可以在大面积、复杂形状的基材上进行镀膜，具有很高的生产效率。
最后，它可以使用多种材料进行镀膜，具有很高的灵活性和适应性。
当然，真空镀膜技术也存在一些挑战和限制。
首先，它需要高昂的设备和技术投入，成本较高。
其次，它对基材表面的处理要求较高，需要进行清洗、抛光等处理，否则会影响薄膜的质量。
再次，它对环境的要求较高，需要在无尘、无湿、无氧的环境下进行。
最后，它的应用范围受到材料的限制，某些材料不适合进行真空镀膜。
总的来说，真空镀膜技术是一种非常重要的表面处理技术，具有广泛的应用前景。
随着科技的不断进步和应用领域的不断扩展，真空镀膜技术将会得到更加广泛的应用和发展。
真空镀膜技术
电子枪对光谱的影响主要是焦斑的形状、位臵、大小在成膜的影响。 特别是高精度的膜系，和大规模生产的成品率要求电子枪的焦斑要稳定。
薄膜厚度的测量
金膜新蒸发时，薄层较软，大约一周后，金膜硬度趋于稳定，膜层 牢固度也趋于稳定。
（4）铬 Cr Cr膜在可见区具有很好的中性，膜层非常牢固透明度、折射率、机械牢固度和化学稳 定性以及抗高能辐射。
（1）透明度
短波吸收或本征吸收I：主 要是由光子作用使电子由 价带跃迁到导带引起的；
真空度的单位：
真空度以压强为单位来度量，压强高表示真空度低。压强 低标识真空度高。
真空度的国际单位是帕斯卡简称帕（Pa）。 毫米汞柱（mmHg）：1mmHg＝133.3Pa 托（Torr）：1Torr＝1/760atm=133.3Pa 巴（Bar）：1Bar＝105Pa
平均自由程
气体分子之间相邻两次碰撞的距离，其统计平均值为平均自 由程。 l=1/(√2πς2n)=kT /(√2πς2P）
电阻蒸发系统采用单相调功器对电阻蒸发源的功率进行调 节控制，蒸发源在两组以上时，通过选择开关选择。
工作原理：
电子束蒸发是利用 在一定真空条件下，加 高压产生电子束，通过 特定磁场的作用，按照 一定的路线，轰击蒸发 物质，产生蒸发。
在电子束蒸发装置 中，被蒸发的物质放置 于水冷的干坩埚中，电 子束只轰击到其中很少 的一部分，而其余大部 分物质在坩埚的冷却作 用下一直处于低温状态， 因此，可以避免坩埚材 料蒸发引起的污染。
(2) 硫化物
典型的硫化物材料是硫化锌（ZnS）。
af真空镀膜工艺
af真空镀膜工艺AF真空镀膜工艺是一种常用的表面处理技术，广泛应用于光学、电子、材料等领域。
本文将介绍AF真空镀膜工艺的原理、应用及其优势。
一、AF真空镀膜工艺的原理AF真空镀膜工艺是指在真空环境下，利用物理或化学的方法将一层或多层材料沉积在基板表面，形成一种具有特定功能的薄膜。
该工艺主要包括蒸发、溅射和离子镀三种方式。
1. 蒸发镀膜：将待镀材料置于加热源中，使其升华并沉积在基板表面。
这种方式适用于高熔点材料的镀膜，如金属和氧化物材料。
2. 溅射镀膜：通过物理碰撞的方式使材料从靶上脱落，并在基板表面沉积。
这种方式适用于大多数材料的镀膜，如金属、合金和化合物材料。
3. 离子镀膜：利用离子轰击的方式使材料离子化，并在基板上形成薄膜。
这种方式适用于高质量的镀膜，如光学薄膜和陶瓷薄膜。
二、AF真空镀膜工艺的应用AF真空镀膜工艺在各个领域都有广泛的应用。
1. 光学领域：AF真空镀膜工艺可以制备具有特定光学性质的薄膜，如反射镜、透镜、滤光片等。
这些光学元件广泛应用于激光器、光纤通信、太阳能电池等领域。
2. 电子领域：AF真空镀膜工艺可以制备导电薄膜、隔热薄膜和保护膜等。
这些薄膜常用于液晶显示器、太阳能电池、半导体器件等电子产品中。
3. 材料领域：AF真空镀膜工艺可以改善材料的表面性能，如硬度、耐磨性和抗腐蚀性等。
这些材料广泛应用于航空航天、汽车制造、工具制造等行业。
三、AF真空镀膜工艺的优势AF真空镀膜工艺相比传统的表面处理方法具有以下优势。
1. 高纯度：在真空环境下进行镀膜，可以避免杂质的污染，获得高纯度的薄膜。
2. 高均匀性：通过控制沉积速率和沉积时间，可以获得均匀的薄膜厚度和成分。
3. 高精度：AF真空镀膜工艺可以控制薄膜的厚度和成分，从而实现对光学、电学和磁学性能的精确调控。
4. 环保节能：AF真空镀膜工艺不需要使用有害溶剂和化学试剂，减少了对环境的污染，并且能耗较低。
5. 多功能性：AF真空镀膜工艺可以制备多层复合膜、多层堆积膜和纳米薄膜等，满足不同领域的需求。
真空镀膜(PVD 技术)
真空镀膜（PVD 技术）1. 真空涂层技术的发展真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。
由于该技术需在高温下进行（工艺温度高于1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。
到了上世纪七十年代末，开始出现PVD（物理气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间PVD 涂层技术得到迅猛发展，究其原因：（1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保；（2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要；（3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果；（4）此外，PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。
真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD （中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。
目前较为成熟的PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。
多弧镀设备结构简单，容易操作。
多弧镀的不足之处是，在用传统的DC 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3 um 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。
而且，薄膜表面开始变朦。
多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。
可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。
在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，最后再利用多弧镀达到最终稳定的表面涂层颜色的新方法。
2. 技术原理PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
VM(真空镀膜)技术应用与介绍
工作中学习，学习后工作 做比说重要，习比学有效
21
Thank you！
22
VM膜层结构图 面漆厚度10um 金属漆厚度0.5~10um 底漆厚度10um
基材
粗糙度需在0.5um以下
9
七、VM与其它镀膜比较的优缺点
项次 工艺
VM
底漆+镀膜+面漆 喷涂UV漆
水电镀
1.镀铜+镀镍 2.镀铜+镀镍+镀铬 不需要
传统烤漆
底漆+中漆+面漆 喷涂UV漆
工
艺
镀层保护 镀层材料 镀层光泽 镀层颜色 镀层硬度 镀层厚度 镀层附着性
8-1 发 雾
不良描述：表面发白起雾现象，失去镜面光泽的金属效果 产生原因： 1.底漆固化不彻底 2.镀膜层太薄，呈现基材底色 3.环境湿度过高 改善对策： 1.增加底漆固化时间 2.增厚金属膜层 3.除湿干燥处理
NG
OK
12
八、30065卡托----VM常见不良现象、原因及改善对策
8-2 颗 粒
高温高湿 光泽（对样品）
震动
UV底漆 Ti SUS Cr AI SiO SiO2 UV中漆 色浆 UV面漆
面漆固化 镀金属膜 喷底漆
终检 喷面漆 底漆固化
工
艺
制
程
20
十一、总结
1.多看，多听: 接触新的事物时, 多看一看周围的人是如何处理,对新环境的未知, 多听一听前辈们的指导提点. 2.多问: 在不熟悉这个行业时，会发现自己很多东西都不懂，这个时候就 要多问一问前辈，每解决一个问题，对于我们自己，都是又成长 了一步 3.多学，多做,多思考： 活到老，学到老，多学才能让自己更加智慧，多做才能让我们适应 生存，多思考才能让自己解决每一道坎
《真空镀膜技术》课件
镀膜时间过长或过短都会影响薄膜的 质量和性能，需要根据工艺要求进行 选择。
04
真空镀膜技术的研究进展
高性能薄膜材料的制备与应用
高性能薄膜材料的制备
随着科技的发展，真空镀膜技术已经能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如金刚石薄膜、类金刚石 薄膜、氮化钛薄膜等。这些高性能薄膜材料在刀具、模具、航空航天等领域具有广泛的应用前景。
详细描述
金属薄膜主要用于制造各种电子器件，如集 成电路、微电子器件、传感器等。通过在电 子器件表面镀制金属薄膜，可以起到导电、 导热、抗氧化等作用，提高电子器件的性能 和稳定性。此外，金属薄膜还可以用于制造
磁性材料，如磁记录介质、磁流体等。
功能薄膜的制备与应用
要点一
总结词
功能薄膜在真空镀膜技术中具有广泛的应用前景，可用于 制造各种新型材料和器件。
VS
面临的挑战
尽管真空镀膜技术具有广泛的应用前景和 巨大的发展潜力，但仍面临许多挑战和难 点。例如，如何提高薄膜的附着力和稳定 性、如何降低生产成本和提高生产效率等 。
05
真空镀膜技术的应用实例
光学薄膜的制备与应用
总结词
光学薄膜在真空镀膜技术中具有广泛应用， 主要用于提高光学器件的性能和降低光损失 。
光学领域
用于制造光学元件，如反射镜 、光学窗口等，提高其光学性 能和抗磨损能力。
建筑领域
用于建筑玻璃、陶瓷等材料的 表面装饰和防护，提高其美观 度和耐久性。
02
真空镀膜技术的基本原理
真空环境的形成与维持
真空环境的形成
通过机械泵、分子泵、离子泵等抽气 设备，将容器内的气体逐渐抽出，形 成真空状态。
关闭加热系统和真空泵， 完成镀膜过程。
pvd真空镀膜原理
pvd真空镀膜原理
PVD真空镀膜原理是基于物理气相沉积（PVD）技术的一个镀膜过程。
在该过程中，通过将材料加热到高温，并在低压下蒸发，形成薄膜并沉积在物体表面。
本文将详细阐述PVD真空镀膜原理及其应用。
一、准备工作
首先，需要将所需材料加入到熔融或固态加热器中，并将试件放置在沉积室内。
在开始蒸发前，需要将原料加热到一定温度，以使其变为蒸汽。
同时，要保证沉积室内的低压状态，使蒸发出的原料可以被吸附在试件表面。
二、蒸发过程
在低压状态下，原料加热器的温度升高，形成蒸汽。
蒸汽会沉积在试件表面，形成一个薄膜。
原料进入室内后首先经过气体介质，达到前室与后室间相对稳定的负压状态，然后通过中介层传递到材料表面，沉积在表面上形成膜层。
三、膜层形成
蒸发速率和失踪速率是影响膜层形成的两个主要因素。
如果蒸发速率比失踪速率快，就会在试件表面形成薄膜。
如果失踪速率比蒸发速率快，试件表面就不会形成薄膜。
因此，需要准确控制压力和温度，以保证形成均匀和质量稳定的薄膜。
四、应用
PVD真空镀膜技术广泛应用于表面处理、防腐蚀、电子器件等领域。
例如，在电子器件领域中，可以使用该技术制造光阴极、太阳能电池、LED、半导体器件等。
在航空、汽车、医疗等领域中，也可以使用它来提高材料的耐磨性、抗腐蚀性等性能。
总之，PVD真空镀膜技术是一种高效、环保和可靠的表面处理技术。
通过准确控制蒸发速率和失踪速率，可以形成具有高质量和均匀性的薄膜，大大提高了材料的性能和实用性。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
镀膜常见的分类
镀膜技术是表面技术的一类.
常见的分类：a.湿式镀膜法；b.干式镀膜法.
湿式镀膜法可分电镀法、化学镀法.
干式镀膜法常称真空镀膜法、气相沉积法。可分为：物理气相沉 积(Physical Vapor Deposition\PVD),化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition\CVD)。
真空镀膜在光学行业的应用
人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以 及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀 膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。这一 类属于 偏振膜，和各种带通滤光片。
真空镀膜在电子行业的应用
制造电阻、电容等元件。
真空镀膜在汽车行业的应用
真空镀膜技术在汽车行业的应用：
起装饰作用的镀膜，如汽车标牌，内饰件、外饰件。 在汽车玻璃上，镀一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清 洁玻璃。
车灯的反射镜和后视镜镀铝，起到高反射光的作用。
汽车轮毂镀铝，用来替代化学电镀，达到环保的要求。
真空离子镀钛是广泛应用的工业超硬薄膜技术，以其高硬度、 低磨损率、低磨擦系数、强抗腐蚀性、抗黏着性等优越的使用 性能，汽车上的镀膜零件有活塞，活塞环，汽门挺杆，凹轮轴 等。
这里没有涉及CVD镀膜设备
常见的镀膜机的镀膜方式
电阻蒸发镀膜机（立式双门、立式钟罩、卧式滚筒、卧式卷绕）。 电子束蒸发镀膜机（箱式单门，精密度高）。 离子束辅助蒸发镀膜机（箱式单门，电子束，精密度高，致密性好）。 磁控溅射镀膜机（立式单双门、卧式）。
莱宝镀膜机
光学镀膜机
车灯镀膜机
真空蒸镀镀膜机的相关参数
塑料件真空镀膜工艺流程
前处理清洗
装工件 真空镀膜
烘烤 抽真空
充气
喷底漆 离子清洗 开门取工件
镀膜制品的品质参数
根据不同的产品不同的要求具体品质要求也不一样，但基 本的品质要求如下：
1. 外观（色泽、麻点、赃污 、刮痕） 2. 附着力 3. 性能测试（拉膜、水煮、摩擦、耐腐蚀）
感谢您的支持 Thanks for your support
真空镀膜的定义
在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发（或溅射），使其沉积在 被涂覆的物体（称基片、基板或基体）上的方法称为真空镀膜法。 真空蒸镀简称蒸镀，是在真空条件下，用一定的方法加热镀膜材料 （简称膜料）使之气化，并沉积在工件表面形成固态薄膜。 以动量传递的方法，用荷能粒子轰击材料表面，使其表面原子获得足 够的能量而飞逸出来的过程称为溅射。磁控溅射是一种高溅射速率、 低基片加热的溅射技术，称为高速低温溅射技术。 离子镀膜技术简称离子镀，离子镀是在真空条件下，利用气体放电使 气体或被蒸发物质部分电离，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用 的同时把蒸发物质或其反应产物沉积在基片上。
辅助: 冰水机、过滤器、空压机、稳压电源
真空镀膜的工艺参数
1. 真空度 2. 温度 3. 蒸发速率 4. 膜厚（光控、晶控） 5. 充气量 6. 工件架转速 7. 蒸发能量 8. 冷却水温、水压 9. 料的纯度、填料高度 10. 离子源相关参数（时间、能量） 11. 腔内洁净度 12. 均匀性 13. 重复性（稳定性） 14. 膜系层数、稳定性
真空镀膜的现状
由于我国真空镀膜起步较晚，又受真空技术的限制，前期发展 较慢，属于新的技术。目前，国外一些发达的国家应用较为广 泛。国内起步更晚，受技术的限制，应用范围较少，潜力较大， 待进一部开发。
常见的镀膜机的外形
箱式真空镀膜机（立式）：单门、双门。 卷绕式真空镀膜机（卧式）。 间歇式镀膜机（立式）：两箱、三箱。 大型镀膜流水线：根据客户要求进行设计。
镀膜技术在集成电路制造中制作晶体管路中的保护层（SiO2、 Si3N4）、电极管线（多晶硅、铝、铜及其合金）等多是采用 CVD技术。
在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其 变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中大多数利用的 是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工 业化、低价格制作、因此采用薄膜的情况很多。
真空镀膜的方法
电阻加热蒸镀是用丝状或片状的钨、钼、钽高熔点金属做成适当形状 的蒸发源，将膜料放在其中，接通电源，电阻直接加热膜料而使其蒸 发，或者把膜料放入Al2O3、BeO等坩埚中进行间接电阻加热蒸发。 电子束加热蒸镀是将膜料放入水冷铜坩埚中，利用高能量密度的电子 束加热，使膜料熔融气化并凝结在基体表面成膜。 为了改善附着力，增加膜的致密性，镀膜前，镀膜过程中辅助离子 束进行轰击的镀膜方法称为离子束辅助蒸镀。
真空镀膜技术及应用
主要内容
镀膜常见的分类 真空镀膜的历史 真空镀膜的定义 真空镀膜的方法 真空镀膜在光学行业的应用 真空镀膜在半导体行业的应用 真空镀膜在汽车行业的应用 真空镀膜在其他行业的应用 真空镀膜的现状 常见的真空镀膜机的外形 常见的镀膜机的镀膜方式 莱宝镀膜机 光学镀膜机 车灯镀膜机 真空蒸镀镀膜机的相关参数 真空镀膜机的结构 真空镀膜的工艺参数 塑料件真空镀膜工艺流程 镀膜制品的品质参数
真空镀膜在其他行业的应用
随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、 灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生 洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。
在生活中我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、 铣刀、模具等，这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。
真空蒸镀镀膜机的相关参数
1.真空室尺寸 2.最高加热温度 3.高、低真空泵抽速 4.膜厚控制精度 5.蒸发器的参数 6.离子源的参数 7.连续镀层和时间 8.充气系统的参数 9.深冷的参数 10.操作系统、软件
另外：冷却水、压缩空气、电量
真空镀膜机的结构
真空镀膜机的结构（单门箱式）
主要的结构是：枪、泵、規、室 1.真空室 2.工件架 3.加热器 4.高、低真空泵 5.真空计（规） 6.膜厚控制仪 7.蒸发源(磁控溅射：靶材； 蒸镀：膜料） 8.离子源 9.气体流量计 10.深冷 11.防污板 12.操作系统（软件） 13.各连接阀门
所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且几乎所有类型的 平板显示器件都需要使用ITO膜，以满足透明电器的要求。可以毫不夸 张的说：没有薄膜技术就没有平板显示器件。
飞机的钛合金紧固件，原来采用电镀方法镀镉。但在镀镉中含有氢， 所以在飞行过程中，受到大气、海水的腐蚀，镀层上容易产生“镉脆”， 甚至引起“空难”。1964年，采用离子镀方法在钛合金紧固件上镀铝， 解决了飞机零件的“镉脆”问题。在离子镀技术中，由于给工件施加负 偏压，可以形成“伪扩散层”、细化膜层组织，因此可以显著提高膜层 的耐腐蚀性能。
PVD一般可分为：真空蒸发镀膜、真空溅射（Sputtering)镀膜、 真空离子镀膜。 按照不同的分类方法每一类又可以分出多种，不再一一细说，重 点说明一下真空蒸镀里的电阻加热蒸镀、电子束加热蒸镀、离子 束辅助蒸镀和溅射里的磁控溅射镀膜。
真空镀膜的历史
真空镀膜技术是近30年来迅速发展的一门新技术，应用较早，但受 真空技术和其它相关技术的限制，发展速度较慢。直到二战时期， 法西斯德国将这一技术服务于战争，制备各种军用光学镜片和反光 镜，从而使这一技术在光学工业中得到迅速发展，并且逐渐形成了 薄膜光学，成为光学的重要的分支。它不只是真空应用技术，而是 综合了物理、化学一系列的新技术的结果。