抛光粉知识讲义
抛光知识及抛光技能
抛光工序基础知识一、抛光的本质：抛光的过程是十分复杂的，经过大量的实验研究，大致可以归纳为三种理论：机械磨削理论、化学作用理论和热的表面流动理论。
迄今为止，一种综合性的观点被人们所承认，即抛光的本质是机械、化学和物理三种作用的错综复杂的过程。
二、抛光的目的：光学零件的抛光是获得光学表面最主要的工序。
目的一：去除精磨的破坏层，达到规定的表面质量要求。
目的二：精修面型，达到图纸要求的光圈和局部光圈，最后形成透明规则的表面。
三、影响抛光效率的工艺因素1．抛光机转速和压力。
在高速抛光中速度和压力的增加与抛光速率的提高近似成线形关系。
2．抛光液的影响。
实验表明，对于聚氨酯模，液温在30~35之间为宜；抛光液的浓度从0~15%抛光速率成线形增加，当超过30%时反而降低；抛光液的酸度，对抛光质量、抛光速率和加工表面的腐蚀影响都很大，通常PH值应控制在6~7之间的弱酸性为好；抛光液的供给量，流量过大或过小抛光速率都降低，其大小应与抛光液的浓度和温度等参数配合；抛光粉的粒度，其粒度应根据表面疵病要求选择，一般表面疵病要求较高时，采用粒度较细的抛光粉。
3. 玻璃种类及精磨后的表面粗糙度等，对抛光效率和零件的表面质量都有重要影响。
抛光技能1．光圈的识别：a)三个概念：1、被检光学表面的曲率半径相对于参考表面曲率半径的偏差称半径偏差。
2、被检光学表面与参考光学表面在两个相互垂直方向上产生的光圈数不等所对应的偏差称像散偏差。
3、被检光学表面与参考光学表面在任一方向上所产生的干涉条纹的局部不规则程度称局部偏差。
半径偏差像散偏差局部偏差b)高低光圈的判定高光圈：为正i.周边加压时，光带向边缘移动。
ii.一边加压时，光带中心和施力点一致。
周边加压一侧加压低光圈：为负1．周边加压时，光带向中心移动。
2．一边加压时，光带中心和施力点相反。
周边加压一侧加压2、光圈的度量1）在光圈数多的情况下，以有效检验范围内直径方向上最多条纹数的一半来度量。
稀土抛光粉成份
稀土抛光粉成份1. 引言稀土抛光粉是一种常用的磨料材料，广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的表面抛光和修整。
本文将对稀土抛光粉的成份进行详细介绍，包括其主要成分、制备方法以及应用领域等方面。
2. 主要成分稀土抛光粉的主要成分是稀土氧化物，主要包括氧化铈、氧化镨、氧化钕等。
这些稀土元素具有良好的化学活性和物理性质，能够有效地与被抛光材料发生反应，实现表面的修整和抛光效果。
稀土抛光粉还可能添加少量的助剂和填料，以改善其物理性能和加工性能。
常见的助剂包括硅酸盐、硅胶等，填料则可以选择氧化铁、氧化锆等材料。
3. 制备方法稀土抛光粉的制备方法多种多样，下面介绍其中两种常见的制备方法：3.1 水热法水热法是一种常用的制备稀土抛光粉的方法。
具体步骤如下：1.将适量的稀土氧化物和助剂按照一定比例混合均匀；2.加入适量的水溶液，形成混合物；3.将混合物置于高温高压容器中，进行水热反应；4.反应结束后，将得到的沉淀物进行过滤、洗涤和干燥处理，最终得到稀土抛光粉。
3.2 共沉淀法共沉淀法是另一种常见的制备稀土抛光粉的方法。
具体步骤如下：1.将适量的稀土氧化物和助剂按照一定比例溶解在酸性溶液中；2.加入适量的沉淀剂，使稀土元素与沉淀剂发生反应生成沉淀物；3.进行搅拌、静置等处理，促使沉淀物充分析出；4.将得到的沉淀物进行过滤、洗涤和干燥处理，最终得到稀土抛光粉。
4. 应用领域稀土抛光粉具有广泛的应用领域，主要包括以下几个方面：4.1 金属材料抛光稀土抛光粉可以用于金属材料的抛光和修整，如不锈钢、铝合金等。
它能够有效去除金属表面的划痕和氧化层，提高金属材料的表面光洁度和美观度。
4.2 陶瓷材料抛光稀土抛光粉也可以用于陶瓷材料的抛光和修整，如陶瓷砖、陶瓷器皿等。
它能够使陶瓷表面更加平滑细腻，增加其装饰效果。
4.3 玻璃材料抛光稀土抛光粉在玻璃制造工艺中也有广泛应用。
它能够去除玻璃表面的毛刺和气泡，提高玻璃的透明度和质感。
4.4 其他领域应用除了上述应用领域外，稀土抛光粉还可以在电子、光学、化工等领域得到应用。
抛光粉资料
平磨工序的技术要领氧化铈抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，与传统抛光粉-铁红粉相比，不污染环境，易于从沾着物上除去等优点。
广泛的应用到平板玻璃、光学玻璃、荧光屏、光学玻璃零件、示玻管、眼镜片，不锈钢、水晶制品、陶瓷制品等各种抛光加工领域的最终抛光，用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30～60分钟。
.淡黄或黄褐色助粉末。
密度7．13g／cm3。
熔点2397℃。
不溶于水和碱，微溶于酸。
在2000℃温度和15Mpa压力下，可用氢还原氧化铈得到三氧化二铈,温度游离在2000℃间，压力游离在5Mpa压力时，氧化铈呈微黄略带红色,还有粉红色，其性能是做抛光材料。
详细内容名称：氧化铈;cerous oxide分子式：Ce02分子量:172．13CAS 号：12014-56-1规格:按纯度分为：低纯：纯度不高于99％，高纯：99.9％~99.99％，超高纯99.999％以上按粒度分为：粗粉、微米级、亚纳米级、纳米级安全说明:产品无毒、无味、无刺激、安全可靠，性能稳定，与水及有机物不发生化学反应，是优质玻璃澄清剂、脱色剂及化工助剂。
主要用作玻璃脱色剂、玻璃抛光粉、也是制备金属铈的原料，高纯氧化铈也用于生产稀士发光材料.溶于水，能溶于强无机酸。
用作玻璃的脱色、澄清剂、高级抛光粉，还用于陶瓷电工、化工等行业。
稀土在各种玻璃中主要作用（1）稀土抛光作用??稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，与传统抛光粉—铁红粉相比，不污染环境，易于从沾着物上除去等优点。
用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30～60分钟。
所以，稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的优点。
而且能改变抛光质量和操作环境。
一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。
氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物，是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。
稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。
大理石抛光粉
POLIGEM铂力坚类庄黄白粉一、产品介绍类庄臣黄粉，产品外观、颜色、形状与原装庄臣粉几乎一致。
富含晶钻因子，可抛出玉石般光泽；超强的抛光能力，只需一分钟快速起光实现从3度至85度的跨越。
抛光和结晶双重功效，可抛光翻新轻微磨损石面，使石材表面快速恢复光泽。
二、适用石材对每种含有钙质的石料都会效果完美，特别是西班牙米黄、埃及米黄、金碧辉煌、咖网等黄色石材。
采用湿式研磨不用磨干磨亮，大大节省用量，降低物料成本，提高工作效率。
对于爵士白、雅士白、白沙米黄等难抛光石材，可采用先湿抛，再抛干的方法，达到晶亮效果。
三、使用技巧1. 常见石材可用湿抛方式，如：西班牙米黄、埃及米黄、啡网。
2. 不易抛光石材如：人造石、白沙米黄、大花白、爵士白，须用干抛方式，干抛过程中，及时更换百洁垫，特别是在快抛干之前必须更换。
3. 本产品为黄色粉末状，湿抛使用时，请加适量水搅和均匀，根据石材材质不同，研磨时间1-3分钟，一般磨到石面出现白浆即可。
4. 湿抛用红色百洁垫；干抛可用红色或白色百洁垫。
5. 湿抛完成后，须用清水漂洗干净、晾干；干抛完成后，不用漂洗，只需推尘吸尘即可。
6. 部分石材可磨片跳号，500#或1000后即可抛光，省略2000#、3000#。
7. 抛光完成晾干后，光泽度可达到85度以上，如再用干净白色百洁垫干抛一遍，可提高光泽度5-10度。
8. 如出现不起光现象，可重复以前工序1-2遍，同时注意：1）翻新基础；2）药剂用量；3）用水多少;4)研磨时间；5）百洁垫等；6）干抛或湿抛。
四、用量10-15g/m2 ，60-100m2/kg，根据石材材质不同，用量变化。
五、包装1kg/桶5kg/桶20kg/桶25kg/桶。
抛光材料抛光粉的用途及成分
抛光材料中要进行抛光，要用到抛光粉，因为抛光材料抛光粉起着磨削工件的作用。
对此，对抛光粉的要求微粉强度硬度大，颗粒尺寸均匀，外形成多角形且不易破碎，这样才能保证试样抛光的品质。
抛光微粉在金相制样中供做抛光悬浮液、喷雾抛光剂、抛光材料抛光膏添加剂。
在原GB2477-1983磨料粒度及其组成标准中规定微粉标记为W，俗称;微标，W是汉语;微字拼音的字头。
GB-2477-1983中规定共分9级，即丛W63至W5。
W5以下还划分五级，即W3.5、W2.5、W1.5、W1.0、W0.5。
上述标准已为新标准GB/T2481-1998所取代。
新标准定义粗磨粒从F4-F220共26个号，基本粒筛空径尺寸从4.75mm至63微米范围内。
抛光材料抛光粉磨料种类:
金刚石:颗粒尖锐、锋利，磨削作用佳，寿命长，变形层少；适用于各种材料的粗、精抛光
碳化硅（金刚砂）：绿色，颗粒较粗；用于磨光和粗抛光
氧化铝（刚玉）：白色透明，外形呈多角状；粗抛光和精抛光
氧化铬：绿色，具有很高硬度，比氧化铝抛光能力差；适用于淬火后的合金钢、高速钢、以及钛合金抛光
氧化镁：白色，粒度极细且均匀，外形锐利呈八面体；适用于铝、镁及其合金和钢中非金属夹杂物的抛光
抛光材料抛光粉磨料粒度:
W0.5 W1 W1.5 W2.5 W3.5 W5 W7
W10 W14 W20 W28 W40 W50 W63
240＃ 220＃ 180＃ 150＃ 120＃ 100＃ 90＃
80＃ 70＃ 60＃ 46＃ 36＃
根据用户的需求，还提供符合DIN848、JIS6002等国外标准粒度的抛光材料
磨料载体:悬浮液，研磨膏，微粉。
抛光粉知识讲义
抛光粉知识讲义抛光粉是抛光工序使用的主要材料之一，它的性能以及与其它工艺条件的合理匹配对抛光零件的加工效率和表面质量都有重要影响。
一、抛光粉的作用和种类：在抛光过程中抛光粉有两种作用，即机械作用和胶体化学作用。
这两种作用是同时存在的，在抛光开始阶段，抛光粉首先去除玻璃表面凸凹层。
这时机械作用占主要地位。
但玻璃呈现抛光面后大量抛光粉颗粒开始与玻璃表面进行分子接触，由于抛光粉具有一定的化学活性即具有强烈晶格缺陷各质量的联系能量较大，通过化学吸附作用把玻璃表面分子吸附出来使玻璃材料被出除，抛光粉的作用与其种类和性能相关。
其一是抛光粉颗粒的坚硬特性。
在模具与机床的作用下，对玻璃表面的硅胶层进行微小的切削使玻璃露出新表面进而得以水解。
其二是抛光粉颗粒表面的吸附特性使硅胶层分子级程度被抛光粉吸附而剥落。
两种作用在抛光粉使用寿命中自始至终存在。
都是以尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果，但由于抛光是用较细颗粒抛光粉。
所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行，由于模具与工件表面相当吻合因此抛光时切向力特别大，从而使玻璃表面的微痕结构被切削掉逐渐形成光滑的表面。
二、抛光粉的构成：抛光粉的基本成分是一些金属氧化物，如铁、铈、铝、锆、钛、铬等金属氧化物（常用氧化铈）它们经高温焙烧冷却分选而成。
抛光粉的晶格结构有斜方晶体系、立方晶体系、单斜晶体系，颗粒形状有形成球形、边缘有絮状物，有形成多边形，棱角明显还有粉末状。
三、抛光粉的特性：a)抛光粉直接作用于玻璃表面，其粒度和硬度对机械磨削作用都有重要影响，抛光粉粒度在一定范围内，粒度愈大研磨速度越高，抛光粉的硬度越大抛光效率越高，大颗粒的抛光粉虽然有利于机械磨削作用但有效面积小效率并不高，反之抛光粉颗粒太小虽有效表面大但不利于微小切削作用抛光效率也不高。
b)水与玻璃表面的硅酸盐起水解反应，使玻璃表面的碱金属或碱土金属溶解出来生成氢氧化物使用权抛光液变成碱性，玻璃是否容易抛光取决于表面水解后生成的腐蚀层，抛光速度则决于破坏层腐蚀层的难易程度，一般来讲大多数光学玻璃是不耐碱，至于耐酸的程度则视光学玻璃的牌号而异，酸度较大时对玻璃的侵蚀严重。
氧化铈抛光粉
成分结构
氧化铈抛光粉主要成份为二氧化铈（CeO2），其次分别为氧化镧（La2O3）、氧化镨（Pr2O3）、氧氟化镧 （LaOF），此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。
生产原料
目前，我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种：(1)氧化铈 (CeO2)，由混合稀土盐类经分离后所得 (w(CeO2)=99%)；(2)混合稀土氢氧化物 (RE(OH)3)，为稀土精矿 (w(REO)≥50%)化学处理后的中间原料 (w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)；(3)混合氯化稀土(RECl3)，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土 (主要含La，Ce，Pr和Nd，w(REO)≥45%，w(CeO2)≥50%)；(4)高品位稀土精矿(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)， 有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。
主要设备有 :氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
主要指标 :产品中 w(REO)=90%， w(CeO2) =80% ～ 85% ;稀土回收率约 95% ;平均粒度 0.4微米 ～ 1.
应用领域
由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光 学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。
氧化铈抛光粉
用于玻璃抛光的抛光粉
01 产品简介
03 成分结构 05 生产工艺
目录
02 发展历史 04 生产原料 06 应用领域
氧化铈抛光粉广泛用于玻璃抛光，具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高的优点。
产品简介
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
图册(2张)氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉，其切削力和使用寿命也由低到高。
稀土抛光粉抛光效率及机理的研究
稀土抛光粉抛光效率及机理的研究1. 引言在现代工业中，抛光技术被广泛用于提高材料的光洁度和表面质量。
稀土抛光粉作为一种重要的抛光材料，被广泛应用于金属、玻璃、塑料等领域。
本文将探讨稀土抛光粉的抛光效率及机理，以加深对该抛光材料的认识。
2. 稀土抛光粉的种类稀土抛光粉根据其成分可以分为单一稀土抛光粉和复合稀土抛光粉两大类。
单一稀土抛光粉主要包括氧化铈、氧化镨、氧化钕等，而复合稀土抛光粉则是在单一元素的基础上，加入其他稀土元素，如氧化铈镨、氧化铈钕等。
3. 稀土抛光粉的抛光效率研究3.1 实验方法为了研究稀土抛光粉的抛光效率，我们设计了以下实验方法：1.准备不同颗粒大小的金属试样；2.在相同的实验条件下，分别使用不同类型的稀土抛光粉进行抛光；3.测量抛光前后试样表面的光洁度，并记录抛光时间。
3.2 实验结果与分析实验结果表明，使用复合稀土抛光粉的抛光效率明显高于使用单一稀土抛光粉。
其中，氧化铈镨复合稀土抛光粉的抛光效率最高，可在短时间内获得较高的光洁度。
这说明复合稀土抛光粉的抛光效率受到不同元素的相互作用的影响。
4. 稀土抛光粉的抛光机理研究4.1 表面化学反应机理稀土抛光粉的抛光效果与其与材料表面的化学反应密切相关。
稀土元素在抛光过程中可以氧化和还原，与材料表面形成氧化物和金属配合物等化合物。
这些化合物的生成过程使材料表面发生变化，从而达到抛光的效果。
4.2 磨料磨削机理除了表面化学反应机理外，稀土抛光粉还通过磨料磨削机理对材料表面进行抛光。
稀土抛光粉中的颗粒在与材料接触时，通过磨擦和撞击的方式，去除材料表面的粗糙度和缺陷，从而改善光洁度和表面质量。
5. 稀土抛光粉的应用前景稀土抛光粉由于其优异的抛光效果和机理，正被广泛应用于各个领域。
在电子行业中，稀土抛光粉可用于制备高光洁度的显示屏和光学元件；在航空航天领域，稀土抛光粉可用于抛光飞机和卫星的外壳，提高其表面质量和抗腐蚀性能。
结论通过对稀土抛光粉的抛光效率及机理的研究，我们可以得出以下结论：1.复合稀土抛光粉的抛光效率优于单一稀土抛光粉；2.稀土抛光粉的抛光机理包括表面化学反应机理和磨料磨削机理；3.稀土抛光粉有广阔的应用前景。
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抛光粉知识讲义
抛光粉是抛光工序使用的主要材料之一，它的性能以及与其它工艺条件的合理匹配对抛光零件的加工效率和表面质量都有重要影响。
一、抛光粉的作用和种类：
在抛光过程中抛光粉有两种作用，即机械作用和胶体化学作用。
这两种作用是同时存在的，在抛光开始阶段，抛光粉首先去除玻璃表面凸凹层。
这时机械作用占主要地位。
但玻璃呈现抛光面后大量抛光粉颗粒开始与玻璃表面进行分子接触，由于抛光粉具有一定的化学活性即具有强烈晶格缺陷各质量的联系能量较大，通过化学吸附作用把玻璃表面分子吸附出来使玻璃材料被出除，抛光粉的作用与其种类和性能相关。
其一是抛光粉颗粒的坚硬特性。
在模具与机床的作用下，对玻璃表面的硅胶层进行微小的切削使玻璃露出新表面进而得以水解。
其二是抛光粉颗粒表面的吸附特性使硅胶层分子级程度被抛光粉吸附而剥落。
两种作用在抛光粉使用寿命中自始至终存在。
都是以尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果，但由于抛光是用较细颗粒抛光粉。
所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行，由于模具与工件表面相当吻合因此抛光时切向力特别大，从而使玻璃表面的微痕结构被切削掉逐渐形成光滑的表面。
二、抛光粉的构成：
抛光粉的基本成分是一些金属氧化物，如铁、铈、铝、锆、钛、铬等金属氧化物（常用氧化铈）它们经高温焙烧冷却分选而成。
抛光粉的晶格结构有斜方晶体系、立方晶体系、单斜晶体系，颗粒形状有形成球形、边缘有絮状物，有形成多边形，棱角明显还有粉末状。
三、抛光粉的特性：
a)抛光粉直接作用于玻璃表面，其粒度和硬度对机械磨削作用都有重要影响，
抛光粉粒度在一定范围内，粒度愈大研磨速度越高，抛光粉的硬度越大抛光效率越高，大颗粒的抛光粉虽然有利于机械磨削作用但有效面积小效率并不高，反之抛光粉颗粒太小虽有效表面大但不利于微小切削作用抛光效率也不高。
b)水与玻璃表面的硅酸盐起水解反应，使玻璃表面的碱金属或碱土金属溶解
出来生成氢氧化物使用权抛光液变成碱性，玻璃是否容易抛光取决于表面水解后生成的腐蚀层，抛光速度则决于破坏层腐蚀层的难易程度，一般来讲大多数光学玻璃是不耐碱，至于耐酸的程度则视光学玻璃的牌号而异，酸度较大时对玻璃的侵蚀严重。
c)PH值保持弱酸较好，对加工LAK、LASF、SK、SF等硝材其耐水性、耐酸
性不是很好有选择使用抛光粉可以有效消除ャ，磨耗度大的硝材选粒度小的抛光粉避免产生キ，磨耗度小硝材要选用粒度大的抛光粉能提高效率，只有保证研磨量才不会造成ス。
d)若太偏酸会使抛光皮普通绿打滑没有磨削力，但强碱会使镜片ャ，所以抛
光粉偏碱对加工一些易ャ镜片有选择加入柠檬酸防止了ャ产生。
e)一般用比重计来测量抛光液浓度，设定为1.015-1.025，硬硝材浓度大点软
硝材浓度相对小点，选择抛光粉以生产出良品数量进行比较。
f)抛光液浓度从0-15%逐渐增加时，抛光速度成线性增长，当浓度增加到超
过30%时反而降低，这是由于水量不足，过多的抛光粉堆积在玻璃表面上抛光压力不能有效发挥，故抛光速度降低，太低时降低了工件表面温度同时也减少了抛光粉颗粒的微小切削作用，抛光液的流量太小抛光供给不足，不利于机械磨削作用和热量散发，流量太大工件表面温度低不利于化学作用，同时工件与模具之间的吻合性差。
g)抛光粉每次添加后需测量浓度，过浓时加水冲淡、过淡时需加抛光粉使之
达到标准，更换一般7-10天。
当材质较好品质相对稳定时可以适当延长使用周期但中途须多次过滤和及时更换薄的变绿的抛光皮，更换过勤新抛光粉反而不能加工出面形精度良品来；异常作业异常处理。
通常品质稳定易加工的部番为了节约约辅料更换周期可以延长多次过滤并予以增加，保持其浓度。
四、抛光液浓度管理：
抛光液浓度根据标准测定，4H/次，以比重计浮出水面稳定后读数。
抛光液清洁度是保证加工良品的重要条件之一，一般采用二至三层过滤补救袜进行过滤防止玻璃硬粒与杂质流入抛光桶内。
针对抛光液浓度与清洁度，我们要进行点检制成表格，由技术员或班长点检并记录在研磨液管理表上。