横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响
横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析

第31卷第1期2010年1月焊 接 学 报T RANS ACTI O NS OF T HE CH I N A W E LD I N G I N STI T UTI O NVol .31 No .1January 2010收稿日期:2008-09-03基金项目:国家自然科学基金(50775019)横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析 孟建兵, 徐文骥, 王续跃, 宋文庆 (大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁大连 116024)摘 要:以外加横向交变磁场作用下的等离子体弧为研究对象,建立了等离子体弧摆动幅度和热流密度分布的数学模型.对横向交变磁约束下的等离子体弧射流特性进行理论研究,并分析工艺参数和励磁强度对横向交变磁约束等离子体弧形态和特性的影响规律.结果表明,横向交变磁场可有效控制等离子体弧形态和位置,等离子体弧在横向交变磁场作用下,分布范围增大、热流密度梯度减小.其摆动幅度随磁场强度的增加而增大,但过高的磁场强度会使等离子体弧变得不稳定;相同励磁强度下,气流量和弧电流越小、喷嘴到工件的距离越大,则摆动幅度越大;而工件表面的等离子体弧热流密度分布随励磁强度的增强趋于平坦化;相同励磁条件下,热流密度峰值随气体流量和弧电流的增大而增大、随喷嘴到工件距离的增大而减小.关键词:横向交变磁场;等离子体弧;摆动幅度;热流密度分布中图分类号:TG403 文献标识码:A 文章编号:0253-360X (2010)01-0075-05孟建兵0 序 言近年来,、切割、喷涂等材料加工领域得到广泛应用,其射流特性直接影响着上述工艺的加工效果.由于气体放电的雪崩效应和等离子体弧柱的自磁压缩,可使能量集中在很小的区域内,且弧柱中的电流密度和温度分布具有较大的梯度变化.对于等离子体弧清洗[1]、等离子体弧柔性成形、大面积表面改性处理等工艺来说,则不希望热源过分集中,而是需要形态和位置(加热区域宽度)可控的等离子体弧来获得较高的工艺质量和效率.为此,一些学者尝试引入外加横向磁场,通过扩展等离子体弧柱横截面、使弧柱内电流密度和温度的分布平坦化,以获得热流密度和加热区域可控的等离子体弧(“软”等离子体弧).文献[2]通过定量分析阳极弧根随励磁强度变化而变化的轨迹方程,给出横向磁场作用下的焊弧不是直线形状而是弯弧状的结论;文献[3]通过试验发现横向磁约束下等离子体弧存在加速和偏转减速两个阶段,并分析了产生偏转减速的原因;文献[4]通过数值模拟的方法分析了外加横向恒定磁场作用下电弧气动力学特性,发现偏转角度与射流长度成正比,与弧电流成反比.可见,目前对“软”等离子体弧的研究工作主要侧重于采用外加横向恒定磁场作用方式,而对横向交变磁场作用方式下的等离子体弧研究鲜有报道.文中在上述研究的基础上,通过分析横向交变磁场作用等离子体弧的原理和特点,分别建立等离子体弧摆动幅度和热流密度分布的数学模型,为分析横向交变磁场作用下弧电流、气体流量、悬距等相关工艺参数和励磁强度对等离子体弧形态和特性的影响规律提供有效途径.1 基体原理当如图1所示的试验装置工作时,平行的两个线圈在电流的激励下产生横向交变磁场(励磁电流取正弦波形),而喷嘴与工件间的转移型等离子体弧受磁靴导入的垂直横向交变磁场作用,以同样的频率作往复摆动.其原理为:与外加磁场具有可作用性的等离子体弧是由大量带电粒子组成的,因而通过研究单个带电粒子在外加横向交变磁场中的运动,就可推断宏观上即等离子体弧在相应磁场中的摆动规律.忽略粒子间的相互作用以及粒子运动所产生的自感应磁场,则带电粒子在横向交变磁场中受到洛伦兹力作用而做回转运动,其回转半径为r =m v QB(1)式中:m 为粒子质量(kg );v 为粒子速度(m /s );Q 为76 焊 接 学 报第31卷粒子电量(C );B 为磁感应强度(T ).图1 横向交变磁约束等离子体弧发生装置F i g 11 Gene ra t o r de vi ce o f p l a sm a a rc i n ET AM F2 数学模型2.1 摆动幅度模型设等离子体从喷嘴出口运动到工件表面所需时间为t,当励磁频率f <1/2t 时,等离子体弧的摆动幅度与励磁频率无关.交变磁场的方向平行与图2中的“y ”轴,由于带电粒子受洛伦兹力作用而发生回转,使得等离子体弧在横向交变磁场作用下作同样频率的往复摆动,此时任意一段等离子体弧的电磁力可表示为F =B Id(2)式中:I 为等离子体弧电流(A );d 为任意一段等离子体弧长度(m ).由牛顿第一定律可知,电磁力F 也可表示为F =m d a sin α(3)式中:m d 为此段等离子体弧的质量(kg );a 为此段等离子体弧的加速度(m /s 2).t 时刻等离子体弧对应质量m d 结合式(1),式(2)并考虑α较小时α≈sinα,则回转半径表示为r =m d a sin αB I α=ρqta 60B I =ρqv60B I(4)式中:q 为气体流量(L /m in ).设横向交变磁场频率为f,等离子体从喷嘴喷射到工件表面的时间为t 0,当1/2f µt 0时,则任意时刻,横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面的摆动幅度可表示为l =r -r 2-D2(5)式中:D 为喷嘴到工件表面间的距离(m ).当回转半径r <D 时,等离子体弧将变得不稳定,为了使交变磁场作用下等离子体保持稳定,回转半径r µD.当r ≥D 即tg α≈sin α时,通过上述公式联立,则等离子体弧在工件表面摆动的最大幅度可近似表示为l 0=60I BD2ρQv(6)图2 横向交变磁场作用下摆动幅度示意图F i g 12 Mo vem en t o f p l a sm a a rc i n e xte rna l T AM F2.2 热流密度分布模型为建立工件表面热流密度分布数学模型,对施加横向交变磁场前后的等离子体弧作如下假设:扣除对流、辐射散热的影响(约占10%),则工件表面等离子体弧有效热量W (W )全部转移到工件中;无外加磁场作用时,投射在工件表面上的等离子体弧近似为圆状分布,分布半径为R 0;施加横向交变磁场,等离子体弧在工件表面的形态近似为椭圆,其短轴为R 0、长轴为(R 0+l 0),如图3所示;此外,dR 、d x 环面上等离子体弧热流密度均匀分布.图3 工件表面等离子体弧形态分布近似图F i g 13 Fo r m d is tri bu ti o n o f p l a sm a a rc o n ano de su rfa ce则工件表面等离子体弧平均热流密度分布可表示为J r =WπR 20(7)设摆动等离子体弧在工件表面上的一点到弧中心O 的距离为R ,则d t 时刻,d S 面积微元流过的热第1期孟建兵,等:横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析77 量为d Q J=J[πR0(R+d R)-πR0R]d t(8)励磁电流波形为正弦波形,则横向交变磁场作用下,等离子体弧在工件表面上任一点移动位移为x=l0sinωt+R(9)分别对式(9)两边求关于时间t的导数,把d t代入式(8)并联立式(9),则QJ可表示为Q J=∫∫WωR0・d R・d xl20-(x-R)2(10)定义等离子体弧摆动的1/2周期内,单位时间内工件表面等离子体弧流入工件的热量为W′,并考虑工件表面等离子体弧热流密度与热功率存在如下关系,即J=W′S=d W′πR(x+d x)-πR0x(11)通过上述公式的联立,则横向交变磁场作用下,在1/2个摆动周期内,阳极工件表面上等离子体弧从(-l-R0)运动到(l0+R0),其中任意x点处的热流密度分布数学模型为当-l-R0<x<-l0+R0时J(x)=W(πR)2π2+arcsinR0+xl0(12)当-l+R0≤x≤l0-R0时J(x)=W(πR)2arcsinR0-xl0+arcsinR0+xl0(13)当l-R0<x<l0+R0时J(x)=W(πR)2arcsinR0-xl0+π2(14)3 计算结果与分析整个系统包括等离子体弧发生装置和横向交变磁场励磁装置,如图1所示.其中前者的工艺参数如表1所示,后者的磁感应强度由HT102交直流特斯拉计测得.实际采用的励磁频率50Hz,半个励磁周期所用时间10m s,远大于等离子体运动到工件表面的最长时间0.78m s,即上述试验条件下的等离子体弧摆动幅度与励磁频率无关.3.1 工艺参数对摆动幅度的影响3.1.1 气体流量对摆动幅度的影响当其它试验参数保持不变,即I=15A,D= 7mm,在不同氩气流量作用下(q=4,5,6L/m in),等离子体弧摆动幅度的变化规律如图4所示.等离子体弧摆动幅度随励磁磁场强度的增加而增加,当磁场强度达到临界值后,摆动幅度将达到极大值.表1 等离子体弧发生装置的工艺参数Tab l e1 P a ram e te rs o f p l a sm a a rc gene ra t o r de vi ce 工作电流I/A氩气流量q/(L・m in-1)喷嘴悬距D/mm弧速度v1/(mm・s-1) 155712.5205725.8255736.315478.95156713.3155611.9155813.2而在相同励磁强度位置处(B=10mT),等离子体弧摆动幅度随氩气流量的增大而减小.这是因为:其它工艺参数不变,工作气体流量的增加导致喷嘴出口处等离子体速度升高,而速度的升高将缩短等离子体经过横向交变磁场区域的时间,从而使得等离子体弧的摆幅随之减小.图4 氩气流量对摆动幅度的影响F i g14 Effe c t o f q o n o sc ill a ti ng am p litude3.1.2 工作电流对摆动幅度的影响当其它试验参数保持不变,即q=5L/m in,D= 7mm时,不同弧电流作用下(I=15,20,25A),等离子体弧摆动幅度的变化规律如图5所示.在相同励图5 弧电流对摆动幅度的影响F i g15 Effec t o f Io n o sc ill a ti ng am p litude78 焊 接 学 报第31卷磁强度位置处(B =15mT ),等离子体弧摆动幅度随弧电流的增大而减小.这是因为:其它工艺参数不变时,一方面等离子弧电流的增加有使摆动幅度加大的趋势;另一方面,等离子弧电流的增加导致喷嘴出口处等离子体速度急剧升高,而速度剧增导致等离子体弧摆动幅度减小的趋势要强于工作电流增加所引起的摆动幅度增大的趋势,最终使得等离子体弧的摆幅随弧电流的增大而减小.3.1.3 喷嘴悬距对摆动幅度的影响当其它试验参数保持不变,即I =15A ,q =5L /m in,则不同喷嘴出口与工件间距离下(D =6,7,8mm ),等离子体弧摆动幅度的变化规律如图6所示.在相同励磁强度位置处(B =15mT ),等离子体弧摆动幅度随喷嘴出口到工件悬距的增加而增大.这是因为:喷嘴出口到工件间悬距的加大,意味着弧长的增加.一方面,弧长的增大对出口处的等离子体速度影响很小;另一方面,弧长的增大使得横向交变磁场作用下的等离子体从喷嘴运动到工件表面的时间增加,移动轨迹的长度变大,在工件表面上的投影变长,即摆动幅度随喷嘴出口到工件距离的加大而显著增加.图6 喷嘴悬距对摆动幅度的影响F i g 16 Effe c t o f D o n o sc ill a ti ng am p litude3.2 工艺参数对热流密度的影响3.2.1 气体流量对热流密度的影响当其它试验参数不变,即I =15A,D =7mm ,B =15mT,R 0=2mm ,在不同氩气流量(q =4,5,6L /m in )下,横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面上的热流密度分布情况如图7所示:随气体流量的加大,等离子体弧在工件表面的热流密度分布半径减小,而弧柱中心的热流密度随之增大;并且弧中心附近区域的热流密度分布随气流量的增加而越来越集中.3.2.2 工作电流对热流密度的影响当其它试验参数不变,即q =5L /m in,D =7mm,图7 气体流量对热流密度的影响F i g 17 Effe c t o f q o n d is tri bu ti o n o f hea t fl ux de n s ityB =15mT,R 0=2mm ,在不同弧电流(I =15,20,25A )下,横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面上的热流密度分布情况如图8所示:随弧电流的增大,等离子体弧在工件表面的热流密度分布半径减小,在弧中心的热流密度随之增大;并且弧中心附近区域的热流密度分布随电流的增加而越来越集中.图8 弧电流对热流密度的影响F i g 18 Effec t o f I o n d is tri bu ti o n o f he a t fl ux den sity3.2.3 喷嘴悬距对热流密度的影响当其它试验参数不变,即q =5L /m in,I =15A,B =15mT,R 0=2mm ,则不同悬距(D =6,7,8mm ),横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面上的热流密度分布情况如图9所示:随喷嘴出口与工件间图9 喷嘴悬距对热流密度的影响F i g 19 Effec t o f D o n d istri bu ti o n o f he a t fl ux de n s ity第1期孟建兵,等:横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析79 距离的增大,等离子体弧在工件表面的热流密度分布半径增加,在弧中心处的热流密度随之减小;并且弧中心附近区域的热流密度随悬距的增大而越来越平坦化.4 试验验证当I =15A,q =5L /m in,D =6mm 时,施加横向交变磁场作用前后的等离子体弧形态见图10.其中,B =15mT 时,等离子体弧摆动幅度的试验测量值为3.0mm ,与上述条件下的摆动幅度模型计算值2.8mm 相比,误差小于7%.上述试验条件下,施加横向交变磁场作用前后,等离子体弧在工件表面的热流密度分布见图11.其中,B =0时的热流密度模型计算峰值95.5W /mm 2,与无励磁作用的热流密度高斯分布[5]的理论峰值101.6W /mm 2的误差小于6%.而B =15mT 时的热流密度分布,与无励磁作用下的高斯分布值和模型计算值相比,其分布范围更广,内部热流梯度较小,即热流密度分布更加均匀.5 结 论(1)建立了等离子体弧摆动幅度和热流密度分布模型,从而掌握了气体流量、弧电流等参数对横向交变磁场作用下等离子体弧特性的影响规律.(2)随横向交变励磁强度的增大,等离子体弧的摆动幅度增加.当磁感应强度相同时,摆动幅度随弧电流和气体流量的增加而减小,随喷嘴悬距的增大而增大.(3)弧电流和气流量越大,热流密度分布半径越小,而内部梯度和中心处的热流密度值增加;增大喷嘴出口到工件的距离,则工件表面上的热流密度分布半径随之加大,而中心处的热流密度值和内部梯度减小,即等离子体弧内的热流密度分布随悬距的增加而更加平坦化.参考文献:[1] Meng J B,Xu W J,Song W Q.Modeling of reactive kinetics inthe metal surface conta m inant cleaning using at m os pheric p ressure p las ma arc[J ].App lied Surface Science,2008,254(21):6826-6830.[2] Takeda K,Nakamura Y .Plas ma behavi or under an altrnatingmagnetic field per pendcular t o the p las ma arc current[C ]∥The 6th in terna ti onal Conference on GasD ischarge and TheirApp lica 2ti ons,Edinburgh,1980.[3] Sobyanin D B,Gavril ov,Podgorny L borat ory investigati onof p las ma jet interacti on with transverse magnetic field [J ].Ad 2vance Space Research,2002,29(9):1345-1349.[4] Zhainakov A,U rus ov R M,U rus ova T E .Numerical si m ulati on ofgas dyna m ic fl ows f or med by an electric arc in external transverse magnetic field[J ].H igh Temperature,2002,40(2):171-175.[5] Fassani R N S,Trevisan O V.Analytical modeling of multi 2passwelding p r ocess with distributed heated s ource[J ].Journal B razil 2ian Society of Mechanical Science Engineering,2003,25(3):302-305.作者简介:孟建兵,男,1978年出生,博士研究生.主要研究方向为大气常压等离子体弧特性及应用方面的研究.发表论文7篇.Em a il :jianbing meng@ⅣMA I N T OP I CS,ABSTRACTS&KEY WORDS2010,Vol.31,No.1Abstract: Experi m ental study and ther mal elastic2p lastic finite ele ment method(FE M)of p late surfacing were carried out for304L stainless steel,and rati onality of assu med material p r operties under high te mperature in calculati on was verified by consistency of experi m ental results and nu merical si m ulati on re2 sults.On this basis,ther mal elastic2p lastic FE M was app lied t o welding of dome and cylinder shell of independent liquid tank of 304L stainless steel LNG carrier,and structural welding defor m2 ati on was p redicted successfully.Key words: 304L stainless steel;material p r operties un2 der high te mperature;ther mal elastic2p lastic FE M;welding de2 for mati on;large comp licated structureW eld i n g behav i or of two curren t pha se rel a ti on s for tw i n2 w i re pulsed M AG weld i n g W E N Yuan mei1,2,HUANG Sh2 isheng1,WU Kaiyuan1,LAO Zhengp ing1(1.School ofM echan2 ical Engineering,South China University of Technol ogy,Guang2 zhou510640,China;2.Faculty of I nf or mati on Engineering, Guangdong University of Technol ogy,Guangzhou510006,Chi2 na).p59-62,66Abstract: Based on the high2s peed video system with e2 lectrical signals analyzer in synchr onous,the electrical signals and the phot ographs of molten dr op let under certain welding pa2 rameters were collected,the electrical arc shape and dr op let transfer pattern of welding p r ocess in t w in2wire pulsed MAG welding were studied.It is observed that when the pulse current exerted on the fr ont wire and rear wire by turns,the shape of arcs p resents the cl ock cover f or m,and has no influence on each other.W hen the pulse current exerted on the fr ont wire and the rear wire in phase,the arcs attract each other and the arc is in2 cor porated as a peach.The weld appearance of the synchr onous pulse current is good and the concom itant is great noise and s mog.The weld appearance of the alternating pulse current is t olerable.Key words: pulsed MAG welding;t w in2wire;dr op let transfer;shape of arcI n terpol a ti on a lgor ith m and si m ul a ti on of auto2weld i n g s ad2 dle2shaped nozzle of heavy pressure vessels DUAN Tiequn1,SH I Guangyuan1,Y U Dan2,Y ANG Kefei2(1.Harbin University of Science and Technol ogy,Harbin150080,China;2.Harbin W elding I nstitute,Harbin150080,China).p63-66Abstract: According t o the welding p r ocesses of nozzle of heavy p ressure vessels,this paper intr oduced the structure and p rinci p le of the aut omatic welding machine,and als o p resenteed the math metical model and si m p lified inter polati on algorith m which used t w o collaborative axis t o f or m a s pace fitting saddle2 shaped welding bead.The si m ulati on results indicate that the t w o2axis inter polati on algorith m can meet the require ments of the aut omatic welding.Key words: heavy p ressure vessels;aut omatic welding machine;inter polati on algorith m;si m ulati on M i crostructure and m echan i ca l property of Ag2Cu2T i f illers added w ith rare earth l an thanu m Y ANG Changyong,XU J iuhua,D I N G W enfeng,F U Yucan,CHE N Zhenzhen(J iangsu Key Laborat ory of Precisi on and M icr o2manufacturing Technol o2 gy,Nanjing University of Aer onautics&A str onautics,Nanjing 210016,China).p67-70,74Abstract: The effect of lanthanu m(La)on the m icr o2 structure,m icr ohardness of Ag2Cu2Ti filler app lied in brazed CBN t ools and the shear strength of brazed j oint bet w een Ag2Cu2 Ti filler and0.45%C steel substrate were researched.The re2 sults indicated that the additi on of La could accelerate the all o2 ying of filler all oy,i m p r ove the m icr ohardness of Ag2Cu2Ti filler all oy and shear strength of brazed j oint bet w een Ag2Cu2Ti filler and0.45%C steel substrate.The content of La added in Ag2Cu2 Ti all oy filler should be less than0.5wt%.Key words: rare earth La;Ag2Cu2Ti filler;m icr ostruc2 ture;mechanical p r opertyEffects of appli ed long itud i n a l magneti c f i eld on pl a s ma arc hardfac i n g m i crostructure and property L I U Zhengjun, S ONG Xingkui,SHAO Da wei,ZHAO Q ian,ZHANG Shixin, CHE NGM inghua(Materials Science and Engineering Acade my, Shenyang University of Technol ogy,Shenyang110023,China). p71-74Abstract: T o contr ol the shape and distributi on of hard phase,l ongitudinal magnetic field was app lied during p las ma hardfacing of Fe5all oy.The hardness,wearing,m icr ostructure and X2ray diffracti on analysis of the hardfacing layer were tested as well as the structure and p r operty of the handfacing layer of the powder.The results showed that the layer had higher hard2 ness and better wearing with magnetic field than the layer for med without magnetic field.The p r operties of hardfacing layer were op ti m u m when the magnetic field current was3A and the m icr o2 structures of all oy hardfacing layer obtained ideal hard phase such as Cr7C3,Cr B ect and s olid s oluti onαandγwere refined sufficiently.Key words: p las ma arc surfacing welding;magnetic field;hard phasePerfor mance of DC pl a s ma arc i n externa l tran sverse a lter2 na ti n g magneti c f i eld M E NG J ianbing,XU W enji,WANG Xuyue,S ONG W enqing(Key Laborat ory f or Precisi on and Non2 traditi onal Machining Technol ogy of M inistry of Educati on, Dalian University of Technol ogy,Dalian116024,L iaoning,Chi2 na).p75-79Abstract: T wo mathe matical models are devel oped t o de2 scribe the oscillating a mp litude of the p las ma arc al ong the metal surface and the heat fl ow density distributi on of p las ma arc on the metal surface res pectively.The behavi or of p las ma arc jet under an external transverse sinus oidal alternating magnetic field i m2 posed per pendicular t o the p las ma current is analyzed theoretical2 ly,and the effect of p r ocess para meters such as gas fl ow rate, arc current,magnetic fl ow density and the distance fr om the noz2 zle outlet t o the anode workp iece on the f or m and distributi on of2010,Vol.31,No.1T RANS ACTI O NS OF T HE CH I N A W ELD I N G I N STI T UTI O NⅤp las ma arc are als o in vestigated.The results show that it is fea2 sible t o contr ol the shape and heat fl ow density of the p las ma arc for the transverse alternating magnetic field,which can expand the area of p las ma arc ther mal treat m ent and flat the heat fl ow density upon the workp iece.Further more,the oscillating amp li2 tude of p las ma arc increases and the heat fl ow density gradient upon the workp iece decreases with the magnetic fl ow density en2 hancing.However,an overly str ong magnetic field coil results in the p las ma arc unstable.Under the same magnetic fl ow density, less gas fl ow rate and arc current,l onger distance fr om the nozzle outlet t o the anode causes the oscillating a mp litude t o increase. Contrarily,the more gas fl ow rate and arc current,the more heat fl ow density peak increases.Moreover,l onger distance fr om noz2 zle outlet t o workp iece descends the heat fl ow density peak.Key words: transverse alternating magnetic field(T A MF); p las ma arc;oscillating a mplitude;heat fl o w density distributi onExper i m en t a l i n vesti ga ti on on i m pact toughness i n h i gh2te m2 pera ture of BH W35steel welded jo i n t WANG Xian2 gyun1,2,WANG W enxian1,L I J ie mu2,WANG Baodong3(1. College ofM aterials Science and Engineering,Taiyuan University of Technol ogy,Taiyuan030024,China;2.Taiyuan Boiler Gr oup Co.L td.,Taiyuan030021,China;3.Shanxi Zhongt ong High2 Technol ogy Co.,Taigu030008,Shanxi,China).p80-84 Abstract: Aut omatic submerged2arc welding and shielded metal arc welding were e mp l oyed by H10M n2N i M oA welding wires,E70152D2electr ode foll owed by the post w eld heat2treat2 ment syste m s of nor malizing,dra wing te mper and stress relief an2 nealing.I m pact tests on welded j oint and base metal at20℃、100℃、200℃and350℃were carried out.Further more,SE M fract ograph,metall ograph and che m ical compositi ons of welding sea m were analyzed.The results indicate that the highest hard2 ness of HAZ was:270.5HV in S AW;235.2HV in S MAW,the t oughness increases greatly compared with conditi ons at r oom te mperature.Peak value of i m pact t oughness of S AW is at100℃,S MAW is at200℃,which is cl ose t o that of base metal. The i m pact t oughness in HAZ is better than that in welding sea m,and it is better in S MAW than that in S AW.The i m pact t oughness of welded j oint is upward96.33J at r oom te mperature, it is upward120J in welded j oint at350℃,and186J in base metal,which indicate that the t oughness of welded j oint and base metal ars in their best at r oom and high2te mperature.SE M frac2 t ograph indicates that all i m pact fractures exhibit ductile di m p le, the better t oughness,the more obvi ous tearing feature of ductile di m p le.The larger the ductile di m p le is,the more obvi ous non2 unif or m distributi on is.Key words: BH W35steel;welded j oint;metall ograph and hardness;i m pact t oughness;fract ographFuzzy P I speed con trol for weld i n g w i re feed syste m ba sed on st a te observer and feedforward DU Hong wang1,3,L I U Zheng2,ZHAO Yanan1,XU J ian wei1,L I U Gang1(1.College of Mechanical and Electrical Engineerin,Harbin Engineering Uni2 versity,Harbin150001,China;2.College of Computer Science and Technol ogy,Harbin Engineering University,Harbin 150001,China;3.College of Aut omati on,Harbin Engineering University,Harbin150001,China).p85-88Abstract: W elding wire feeding device is an i m portant component of welding r obot,stabilizati on and reliability of weld2 ing wire feed is the essential for welding quality.The resistance was highly nonlinear and both wire feed rate and welding quality are severely affected by the resistance.A state observer was a2 dop ted t o evaluate the resistance,and then the observed resist2 ance was for ward fed in order t o increase s peed res ponse and e2 li m inate the i m pact of resistance on the welding wire feed sys2 te m.Because of DC mot or da mp ing,the steady2state characteris2 tics can be i m p r oved and the steady2state err or can be inhibited when conventi onal P I contr ol is adop ted.The fuzzy contr ol and P I contr ol arc organically intr oduced by means of dyna m ic re2 s ponse of fuzzy contr ol and steady2state perfor mance of P I con2 tr ol,it is reliable t o achieve stable weld wire feeding.The si m u2 lati ons indicate that there are fast s peed res ponse,s mall over2 shoot and str ong r obustness with state observer and f or ward feed, the dyna m ic and static characteristics of fuzzy P I contr ol are bet2 ter than P I contr ol.Key words: wire feed device;sub merged2arc welding; state observer;feedfor ward;fuzzy P I contr olEffect of hybr i d2pulse square2wave curren t frequency on m i2 crostructure and m echan i ca l properti es of5A06a lu m i n u m a lloy welds CONG Baoqiang,Q I Bojin,ZHOU Xingguo, LUO Jun(School of Mechanical Engineering and Aut omati on, Beihang University,Beijing100191,China).p89-92 Abstract: A novel ultrafast2convert hybrid2pulse square2 wave variable polarity arc welding technol ogy f or alu m inu m all oy is devel oped.Based on the hybrid2pulse variable polarity TI G welding technique,the effect of hybrid2pulse square2wave current frequency on the m icr ostructure and mechanical p r operties of 5A06welds is researched.The experi m ental results show that, compared with no hybrid2pulse current,the weld mechanical p r operties are decreased when the pulse current frequency is less than20kHz.Under the conditi on of pulse current frequency up t o40kHz,the size of crystal grains and degree of welds s often2 ing are decreased,tensile strength of weld j oints is i m p r oved ob2 vi ously.The rates of weld tensile strength and percentage el onga2 ti on t o base metal are95.8%and84.8%,res pectively.Key words: ultrafast convert;hybrid high2frequency pulse;pulse frequency;variable polarity;alu m inu m all oyW avelet detecti on a lgor ith m of short2c i rcu it si gna l i n CO2 arc weld i n g ba sed on D SP TI A N Songya,G U Haitao,F U W eiliang,SH I Rusen,XU Huizhe(College ofM echanical&E2 lectrical Engineering,Hohai University,Changzhou213022, J iangsu,China).p93-96Abstract: According t o algorith m a’tr ous and analysis of CO2arc voltage characteristic byW avelet Toolbox in M atlab,the wavelet algorith m which is suitable for detecti on of short2circuit signal in p ractical CO2welding p r ocess is derived.D ifferent。
胆甾相液晶的光学性质

•一、胆甾相液晶的光学性质胆甾相液晶同其他液晶态物质一样,既有液体的流动性、形变性、粘性,又具有晶体光学各向异性,是一种优良的非线性光学材料。
较一般液晶不同的是它具有螺旋的状的分子取向的排列结构,因此,它除了具有普通液晶具有的光学性质外还具有它本身特有的光学特性。
(1)选择性反射有些胆甾相液晶在白光的照射下,会呈现美丽的色彩。
这是它选择反射某些波长的光的结果。
实验表明,这种反射遵守晶体衍射的布拉格(Bragg)公式。
一级反射光的波长为:λ=2nPsinφ其中:λ为反射波的波长,P为胆甾相液晶的螺距,n为平均折射率,φ为入射波与液晶表面的夹角。
(2)旋光效应在液晶盒中充入向列相液晶,把两玻璃片绕于他们相互垂直的轴相对扭转90°角度,这样向列相液晶的内部就发生了扭曲,于是形成一个具有扭曲排列的向列相液晶的液晶盒。
这样的液晶盒前后放置起偏振片和检偏振片,并使其偏振方向平行。
在不加电场时,一束白光射入,液晶盒使入射光的偏振光轴顺从液晶分子的扭曲而旋转了90°。
因而光进入检偏振片时,由于偏振光轴相互垂直,光不能通过检偏片,液晶盒不透明,外视场呈暗态,增加外电压,超过某一电压值时,外视场呈亮态,由此就可以得到黑底白像若起偏片与检偏片的偏振方向互相垂直,可得到白底黑像。
(3)圆二色性圆二色性指材料选择性吸收或反射光束中两个旋向相反的圆偏振光分量中的一个。
如果一束入射光照射在液晶盒上,位于反射带内与盒中液晶旋向相同的圆偏振光几乎都被反射出去,而旋向相反的圆偏振光几乎都透射过去,这是一个非常罕见的性质,荷兰菲利浦实验室的两位科学家1998年在Nature上撰文说,利用凝胶态液晶(liquid-crystal gels)的圆二色性,可以实现镜面状态和透明状态之间的切换。
二、胆甾相液晶的电光效应液晶的电光效应很多,由于本文主要研究胆甾相液晶,所以下面仅介绍几种常见的胆甾相电光效应。
(1)退螺旋效应对于介电各向异性>0的液晶当垂直于螺旋轴的方向对胆甾相液晶施加一电场时,会发现随着电场的增大,螺距也同时增大,当电场达到某一阈值时,螺距趋于无穷大,胆甾相在电场的作用下转变成了向列相。
选择性反射胆甾相液晶研究进展

选择性反射胆甾相液晶研究进展1. 引言1.1 背景介绍选择性反射胆甾相液晶是一种在液晶领域备受关注的新型材料,具有多种潜在应用价值。
胆甾相液晶在不同温度下会呈现出不同的相态,这种特性使其被广泛应用于光学显示器件、智能材料等领域。
随着科技的发展和对新材料需求的增加,对选择性反射胆甾相液晶的研究也愈加引起人们的关注。
胆甾相液晶的研究意义主要体现在其在光学和电子方面的潜在应用价值。
该材料的特殊结构和性能使其具有较高的光学透明性和反射性能,可用于制备高清晰度、高对比度的液晶显示器。
选择性反射胆甾相液晶还具有快速响应、低功耗等优点,有望在可穿戴设备、智能手机等电子产品中得到广泛应用。
选择性反射胆甾相液晶的研究具有重要的科学意义和应用前景,对其特性和性能的深入探究将有助于推动液晶材料领域的发展,并为相关领域的技术创新提供新的思路与可能性。
1.2 研究意义选择性反射胆甾相液晶是一种特殊的液晶相,具有独特的结构和性质。
对其进行深入研究可以揭示液晶相的形成机制,为新型液晶材料的设计和合成提供理论依据。
选择性反射胆甾相液晶还具有广泛的应用前景,可以用于光学显示器件、光电器件、生物传感器等领域。
研究选择性反射胆甾相液晶的意义在于推动液晶科学的发展,促进技术创新和产业升级。
通过对其特性和性能的深入了解,我们可以更好地利用其优异的光学和电学性质,开发出更加高效、稳定和环保的液晶材料,为人类社会的进步做出贡献。
选择性反射胆甾相液晶的研究具有重要的科学意义和应用价值。
2. 正文2.1 选择性反射胆甾相液晶的特点选择性反射胆甾相液晶是一种在液晶领域具有重要应用前景的新型材料。
其主要特点包括:1. 具有优异的热稳定性:选择性反射胆甾相液晶在高温环境下依然能保持稳定的液晶结构,具有良好的热传导性能,适用于高温条件下的显示器件。
2. 具有高度选择性反射性能:选择性反射胆甾相液晶在特定波长的光线入射时能够实现高度选择性的反射,具有良好的抗干扰能力,适用于各种光学传感器和光学设备。
反射式胆甾相液晶显示器件双稳特性的研究

各个领 域 , 曲 向列 相 液 晶显 示 ( N L 扭 T — CD)超扭 曲 、 向列相 液 晶显示 ( T L D)薄膜 晶体 管液 晶显示 S N— C ,
胆 甾相液 晶显 示器 件。
反射 式胆 甾相 液 晶显 示器 件是 利用 胆 甾相 液晶
件 无法 比拟 的优 点 : 采 用零场 双 稳态显 示 , ① 无需刷
新 , 且不 需要 背光 源 , 并 真正 发挥 了液 晶显示微 功耗 的优 点 i 采用 B a g反射 光 显 示 , ② rg 易于 实现 彩 色 ,
胆 甾相 液 晶具 有三 种 不 同的 分子 排列 结 构 ( 如 图 1, 种 是 平 面 织 构 态 ( l a e t r , 为 P )一 pa r xue)称 n t 态; 第二 种是 焦锥 织构 态 ( c l o i txue)称 为 f a c nc e t r , o
L n - o 一 V Gu - in HU J n to , U Ho g b ,L o qa g 2 u — a ’ HU Yu - u’ , ENG — i z 2 e h i F 一 Qibn ・ GAO e- ig , W iq n ’
(.e a oaoyo p ca Ds l e h oo y Mii r o d c t n H f i 3 0 9 1K ynsy f u ai , ee 2 0 0 ; S py t E o
Ke a e s a b a u g 一ywor s:bi获 l 一 ly;plnart xt r ;f calconi ext r ;r bbig l nm ent d st术 di 一 e一 e o ct u e u n ai 究p 流
选择性反射胆甾相液晶研究进展

选择性反射胆甾相液晶研究进展选择性反射胆甾相液晶是一种特殊的胆甾相液晶,在光学和电学领域具有广泛的应用前景。
本文将从其结构与特性、制备方法、应用方面综述其研究进展。
一、结构与特性选择性反射胆甾相液晶具有胆甾相液晶的双层子结构,第一层是胆甾酯层,第二层是胆甾相层。
其中,胆甾酯层的分子具有强极性和大的正光学旋光度,而胆甾相层则具有高度复杂的结构,其中含有大量氢键和范德华力。
在红外区域的吸收带谱表现出强烈的吸收峰,且在选择性反射天然光中表现出极强的反射性能。
选择性反射胆甾相液晶还具有多种特殊的光学和电学性质,如能在其中固定不变的空间方向,保持其振荡状态;能够显示双向观察效应,即观察者在不同位置看到的图案不同;还能根据外界电场的改变而改变其所反射波的颜色和光强度。
二、制备方法选择性反射胆甾相液晶的制备方法有多种,如单晶生长法、拉伸自组装法、毛细膜扩散法、挤出法等。
其中,单晶生长法是最常用的制备方法之一。
该方法是在温度控制的条件下,通过慢慢降低温度使物质从完全熔化的状态逐渐形成液晶晶体核心,生长为单一的晶体。
这种方法制备的选择性反射胆甾相液晶具有高纯度和优异的光学性能。
同时,采用拉伸自组装法制备的选择性反射胆甾相液晶又具有优异的单一晶体结构和优异的行列性。
毛细膜扩散法在制备过程中,物质经简单的蒸发和扩散后,便能够自发地形成液晶涂层,具有相对简便的操作过程。
挤出法则能够在瞬间制备大量的选择性反射胆甾相液晶。
三、应用方面选择性反射胆甾相液晶由于其独特的结构和特性,使其在生物医学、显示技术、激光技术、光学检测、传感器等领域具有广泛的应用前景。
例如,在生物医学领域,可以利用其特殊的光学性能,制成光学调控的纳米机器人,实现针对细胞的精准操作;在显示技术领域,选择性反射胆甾相液晶能够制成优良的光学显示器,有望替代目前的LED电视。
在激光技术方面,选择性反射胆甾相液晶可以作为光纤激光器的工作介质,在激光成像和激光刻蚀等领域发挥重要作用;而在传感器等领域,它又可以作为光学离子探测器、气体探测器等高灵敏度的检测器。
胆甾相液晶的光学性质

•一、胆甾相液晶的光学性质胆甾相液晶同其他液晶态物质一样,既有液体的流动性、形变性、粘性,又具有晶体光学各向异性,是一种优良的非线性光学材料。
较一般液晶不同的是它具有螺旋的状的分子取向的排列结构,因此,它除了具有普通液晶具有的光学性质外还具有它本身特有的光学特性。
(1)选择性反射有些胆甾相液晶在白光的照射下,会呈现美丽的色彩。
这是它选择反射某些波长的光的结果。
实验表明,这种反射遵守晶体衍射的布拉格(Bragg)公式。
一级反射光的波长为:λ=2nPsinφ其中:λ为反射波的波长,P为胆甾相液晶的螺距,n为平均折射率,φ为入射波与液晶表面的夹角。
(2)旋光效应在液晶盒中充入向列相液晶,把两玻璃片绕于他们相互垂直的轴相对扭转90°角度,这样向列相液晶的内部就发生了扭曲,于是形成一个具有扭曲排列的向列相液晶的液晶盒。
这样的液晶盒前后放置起偏振片和检偏振片,并使其偏振方向平行。
在不加电场时,一束白光射入,液晶盒使入射光的偏振光轴顺从液晶分子的扭曲而旋转了90°。
因而光进入检偏振片时,由于偏振光轴相互垂直,光不能通过检偏片,液晶盒不透明,外视场呈暗态,增加外电压,超过某一电压值时,外视场呈亮态,由此就可以得到黑底白像若起偏片与检偏片的偏振方向互相垂直,可得到白底黑像。
(3)圆二色性圆二色性指材料选择性吸收或反射光束中两个旋向相反的圆偏振光分量中的一个。
如果一束入射光照射在液晶盒上,位于反射带内与盒中液晶旋向相同的圆偏振光几乎都被反射出去,而旋向相反的圆偏振光几乎都透射过去,这是一个非常罕见的性质,荷兰菲利浦实验室的两位科学家1998年在Nature上撰文说,利用凝胶态液晶(liquid-crystal gels)的圆二色性,可以实现镜面状态和透明状态之间的切换。
二、胆甾相液晶的电光效应液晶的电光效应很多,由于本文主要研究胆甾相液晶,所以下面仅介绍几种常见的胆甾相电光效应。
(1)退螺旋效应对于介电各向异性>0的液晶当垂直于螺旋轴的方向对胆甾相液晶施加一电场时,会发现随着电场的增大,螺距也同时增大,当电场达到某一阈值时,螺距趋于无穷大,胆甾相在电场的作用下转变成了向列相。
胆甾相液晶的光学特性_李昌立

第17卷 第3期2002年6月 液 晶 与 显 示Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays Vol .17,No .3 Jun .,2002文章编号:1007-2780(2002)03-0193-06胆甾相液晶的光学特性李昌立,孙 晶,蔡红星,翁占坤,高俊杰(长春光学精密机械学院,吉林长春 130022)摘 要:基于胆甾相液晶的特殊分子结构,综合阐述了胆甾相液晶的旋光性、选择性光散射和偏振光二色性等光学特性,揭示了它的光学特性主要源于它螺旋状的分子结构及其光学各相异性。
关键词:胆甾相液晶;选择性光散射;螺距;布喇格反射中图分类号:O753.2 文献标识码:A 收稿日期:2001-12-02;修订日期:2001-12-261 引 言胆甾相液晶同其他液晶态物质一样,既有液体的流动性、形变性、粘性,又具有晶体的光学各向异性,是一种优良的非线性光学材料[1],具有明显的热光效应、电光效应、电热光效应[2]、磁光效应[3]、压光效应[4,5]等。
较一般液晶不同的是它具有螺旋状分子取向的排列结构,因此,它除了具有普通液晶具有的光学性质外还具有它本身特有的光学特性。
2 胆甾相液晶胆甾相液晶也称螺旋状液晶,是一种在一定温度范围内呈现液晶相的胆甾醇衍生物(酯化物或卤代物)以及分子内具有不对称碳原子的高分子化合物,它具有层状的分子排列结构,层与层间相互平行,其分子细长,长轴具有沿某一优先方向取向,相邻两层分子间的取向不同,一般相差15°左右,且该优先方向取向在空间沿螺旋轴(光轴方向)螺旋状旋转。
因此,各层间的取向渐变可连成一条空间扭曲的螺旋线,该液晶整体形成螺旋结构(如图1)。
设胆甾相液晶的优先方向(指向矢)为n ,螺距为p ,由于在液晶相中,胆甾相结构沿指向矢方向呈周期性变化,且n 和-n 具有等价性,所以,其螺距周期为p 2,其典型值约为0.3μm ,远远大于分子线度,为可见光波长数量级。
胆甾相液晶光子晶体效应的研究

1.2.1 光子晶体概念............................................................................................................................ 1 1.2.2 光子晶体特性............................................................................................................................ 2 1.2.3 光子晶体制备方法 .................................................................................................................... 3 1.2.4 光子晶体的应用........................................................................................................................ 4 1.3 液晶光子晶体及其研究进展 ............................................................................................................... 6 1.4 本文主要研究内容和意义.................................................................................................................... 8
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响∗赵找栗,邓罗根(北京理工大学 理学院物理系,北京 100081)摘要:详细阐述一种理论模型,讨论共面转换(IPS )模式下横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及扭曲角的影响。
利用琼斯矩阵法计算了光正入射情况下未加电场时胆甾相液晶的反射谱。
在上述模型基础上,计算了施加电场后胆甾相液晶的反射峰值波长以及反射带宽随场强的变化关系。
探讨了忽略锚定与强锚定两种边界条件下横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响。
所得结论在理论上证实:共面转换模式下电场可以调谐胆甾相液晶的反射光颜色,从而为基于电控螺距原理的胆甾相液晶反射式彩色显示方案提供了理论上的依据。
关键词:胆甾相液晶,电控螺距,共面转换,琼斯矩阵法PACC: 6130, 4270D, 7820W, 4270Q1. 引言胆甾相液晶的光反射是过去十几年来人们广泛研究的课题之一[1-3]。
由于胆甾相液晶具有独特的光学性质而被广泛应用于显示领域[4-5]。
胆甾相液晶具有螺旋结构,指向矢沿垂直于它的螺旋轴扭转排列。
指向矢扭转π2时螺旋轴上通过的距离称为一个螺距,记作0P 。
与胆甾相液晶具有相同旋向的一定带宽内的圆偏振光能被完全反射。
布拉格反射带宽为0P n ⋅∆=∆λ,n ∆为胆甾相液晶的介电双折射。
反射的中心波长为0P n =λ,平均折射率2/)(e o n n n +=,o n 、e n 分别为液晶中寻常光和非常光的折射率。
1968年Meyer 证实[6],施加垂直于螺旋轴方向的电场会使胆甾相液晶的螺距增加,由布拉格定律可知反射光颜色可以改变。
1970年Kahn 在实验中观察到横向电场作用下胆甾相液晶螺距改变的现象[7]。
2004年Li 小组在实验中观察到横向电场作用下胆甾相液晶反射光颜色改变的现象[8]。
基于上述现象,本文详细阐述一种理论模型,讨论共面转换模式[9-11]下横向电场对平面结构胆甾相液晶螺距以及扭曲角的影响。
利用上述模型,用琼斯矩阵法计算了光正入射情况下胆甾相液晶的反射峰值波长(或是反射光颜色)以及反射带宽随场强的变 化关系。
处理过程中借助了变分法与椭圆积分数学工具。
国家自然科学基金(批准号:10474006)资助的课题。
E-mail: luogen@ 2. 理论模型A. 施加电场后胆甾相液晶的自由能表达式胆甾相液晶弹性能密度表达式为[12] 2320221)(21)(21)(21n n n n n ×∇×++×∇⋅+⋅∇=k q k k U EL , (1) 其中n 代表指向矢,1k 、2k 、3k 分别代表展曲、扭曲、弯曲弹性常数。
螺旋扭曲度00/2P q π=,0P 是未加电场时胆甾相液晶的螺距。
考虑一厚为d 的胆甾相液晶样品盒,指向矢平行于xoy 平面,直流电场沿x 轴方向,螺旋轴沿z 轴方向。
本文中,将胆甾相液晶分为很多层,每层近似认为是取向相同的向列相液晶层。
未施加电场时,胆甾相液晶相邻层之间的夹角是相同的。
施加横向电场后,胆甾相液晶两相邻层间的夹角不再是相同的固定值,有的夹角变大,有的夹角变小。
但平均而言,两相邻层间的夹角变小,因此,在一个2π周期内包含的液晶层数增加,致使螺距增加。
当场强进一步增大到某一临界值S E 时,胆甾相液晶就完全解旋为向列相液晶,如图1所示。
由于指向矢是位置z 的函数,因此在假设z 处的扭曲角为)(z ϕ前提下,指向矢可以表示为)0,sin ,(cos ϕϕ=n , (2)指向矢n 的散度和旋度分别是0=⋅∇n , (3))0,sin ,cos (dzd dz d ϕϕϕϕ−−=×∇n , (4) 由(1)(3)(4)式得到 20221⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=q dz d k U EL ϕ。
(5) 根据电磁理论,静电场能量密度表达式为 E D ⋅=21ES U , (6) 当电极平行于x 轴放置时,场强E 与x 轴平行:)0,0,(E =E , (7)由于胆甾相液晶的各向异性,电位移矢量D 与场强E 是不平行的。
实验室坐标系中,液晶分子的电位移矢量)(E n n E D ⋅∆+=⊥εε。
⊥−=∆εεε//是绝对介电常数各向异性,//ε、⊥ε分别是平行与垂直于分子轴方向的绝对介电常数。
由上面的公式计算可得E D x )sin cos (22//ϕεϕε⊥+=,其中ϕ为液晶分子长轴与实验室坐标系x 轴之间的夹角。
(a )(b )(c )图 1 外加直流电场时胆甾相液晶样品发生的变化: (a )场强0=E ;(b )场强S E E <;(c )场强S E E ≥。
S E 为胆甾相液晶解旋为向列相液晶的临界场强。
S E E ≥S E E <由(6)式,静电场能量密度可进一步简化为E D U x ES 21)(=ϕ, 222//)sin cos (21E ϕεϕε⊥+=, (8) 因此,电场作用下胆甾相液晶静电场能量密度改变为2//222//S 21)sin cos (21E E U E εϕεϕεϕ−+=∆⊥)(, 22sin 21E ϕε∆−=, (9) 式中第一个等号右侧第一项为电场作用下液晶分子重新取向后的静电场能量密度,第二项为施加电场后液晶分子未曾发生扭转时的静电场能量密度。
由(5)(9)两式可以得到胆甾相液晶样品总自由能表达式为∫∫∫Ω⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎣⎡∆−⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=dxdydz E q dz d k U 22202sin 21ϕεϕ, ∫⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎣⎡∆−⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=d xy dz E q dz d k A 022202sin 21ϕεϕ, (10) 式中Ω为液晶盒体积,xy A 为液晶盒xoy 平面上的面积,d 为液晶盒厚度。
B. 横向电场对胆甾相液晶扭曲角及螺距的影响施加电场后取向分布函数)(z ϕ可以通过对自由能U 变分得到[13]。
为数学上的方便,此处认为ϕ是变量,并且有)(ϕz z =。
对(10)式z 变分可以推出ϕϕδϕεϕδϕδϕϕd d z d E d z d dz d k A U d xy ∫⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎣⎡∆−⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=)()0(2222sin 21, (11) 其中)0(ϕ是0=z 处的扭曲角,)(d ϕ是d z =处的扭曲角。
最小自由能条件0=U δ要求)sin 1(122222ϕγϕk k dz d −=⎟⎠⎞⎜⎝⎛, (12) 其中222/E k εγ∆=,2k 是常数项。
以下讨论中考虑多个螺距的情况并且忽略表面锚定,此时螺距连续变化[14]。
因此,施加电场后胆甾相液晶的螺距变为 ∫⎟⎟⎠⎞⎜⎜⎝⎛=πϕϕ20d d z d P , ∫−=2/02/122)sin 1(4πϕϕγk d k , (13) 式中[]∫−=2/02/1221)sin 1/(1)2/,(πϕϕπd k k F 是第一类完全椭圆积分[15]。
积分(10)式可得⎥⎦⎤⎢⎣⎡+−−=)2/,(4)2/,(2221221220220πγπγπk F k P d k k F k P d k P d k q d k q A U xy , (14) 式中d 是胆甾相样品盒厚度。
利用自由能最小化条件0/=∂∂k U 得出)2/,(220ππγk F k q =, (15) (15)式可进一步简化为 )2/,(2220πεπk F k k EP =∆, (16) 其中ϕϕππd k k F 2/12/0222)sin 1()2/,(∫−=是第二类完全椭圆积分[15]。
第一类与第二类完全椭圆积分均可调用Matlab 计算软件中的ellipke 函数求得。
推导出的(16)式即为场强E 与常数k 之间的关系。
(10)式积分与(14)式求偏导过程中用到[])2/,()2/,(1sin 1sin 122/0222ππϕϕϕπk F k F kk d k −=−−∫, (17) )2/,(42πγk F dkdP =, (18) 2224)2/,()2/,(kP k k F dk k dF γππ−=, (19) 由(13)(16)两式可以得到)2/,()2/,(42120πππk F k F P P =, (20) (20)式即为施加电场前后胆甾相液晶螺距之间的关系。
在给定场强E 的情况下,只要通过(16)式得到常数k 的值,就可以通过(20)式得到施加电场后胆甾相液晶的螺距值。
3. 计算结果与讨论A . 未加电场情况下胆甾相液晶的反射特性利用琼斯矩阵法[16]计算未加电场情况下不同胆甾相样品厚度的反射谱,如图2所示。
胆甾相液晶为右旋结构,螺距nm P 3000=,5.1=o n ,8.1=e n 。
胆甾相液晶的上下两端为各向同性的玻璃基板,折射率5.1=g n 。
入射光为平行于螺旋轴方向的右旋圆偏振光。
计算过程中将一个螺距分为200层,因未加电场情况下液晶分子均匀扭曲,所以两相邻液晶层之间的夹角为相同的固定值。
图 2 不同样品厚度胆甾相液晶的反射谱。
入射光为右旋圆偏振光。
当样品厚度为6个螺距时,布拉格反射中心波长为495.2nm ,布拉格反射带宽为91.2nm 。
所得结果与理论公式(0P n ⋅∆=∆λ,0P n =λ)完全吻合(见引言第一小节)。
从图2中可以看出,胆甾相样品螺距数超过6时,计算结果是准确的。
B . 施加电场后胆甾相液晶的反射特性接下来的内容分三部分加以论述:第一部分讨论施加电场后胆甾相液晶螺距的改变;第二部分探讨胆甾相液晶扭曲角随外加直流电场的变化关系;最后一部分计算电场作用下胆甾相液晶反射特性。
施加横向电场后,通过(13)(16)两式可以得到场强E 与胆甾相液晶螺距P 之间的关系,如图3(a )所示。
表1给出了相应的计算数据,表中E 代表场强,1F 、2F 代表第一类、第二类完全椭圆积分,P 代表施加电场后的螺距。
计算过程所采用的胆甾相液晶参数如下:螺距nm P 3000=,N k 122104−×=,0//7.15εε=,06εε=⊥。
0ε为真空中的介电常数。
当1=k 时,由(13)式积分得到螺距P 为无穷大,胆甾相液晶完全解旋为向列相液晶。
由(16)式,当1=k 时,2/12042)/(P k E E S επ∆==。
S E 即为胆甾相液晶—向列相液晶转变的临界场强值。
场强S E E ≥时,胆甾相液晶在电场作用下完全解旋为向列相液晶,如图1(c )所示。
在上述参数情况下,计算得到的m V E S µ/0998.7=。
图3 忽略表面锚定情况下胆甾相液晶螺距随场强的变化关系。
上面部分的计算是忽略表面锚定的情况下胆甾相液晶螺距随场强的变化关系,下面将讨论强锚定的情况。
在强锚定情况下,螺距值不再是连续的,而是离散化的。