电子能谱数据处理方法
X射线光电子能谱数据处理及分峰步骤
4、加峰：
点Add peak，出现小框，在Peak Type处选择s、p、d 、f等峰类型（一般选s），在Position处选择希望的峰位， 需固定时则点fix前小方框，同法还可选半峰宽（FWHM） 、峰面积等。各项中的constraints可用来固定此峰与另一 峰的关系，如Pt4f7/2和Pt4f5/2的峰位间距可固定为3.45，峰 面积比可固定为4:3等。点Delete peak可去掉此峰。然后 再点Add peak选第二个峰，如此重复。
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2、阅读一切好书如同和过去最杰出的 人谈话 。18:2 0:2518: 20:2518 :203/2 2/2022 6:20:25 PM
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4、越是无能的人，越喜欢挑剔别人的 错儿。 18:20:2 518:20: 2518:2 0Tuesday, March 22, 2022
点Data――Export （spectrum），则将拟合好的数据存盘 ，然后在Origin中从多列数据栏打开，则可得多列数据，并 在Origin中作出拟合后的图。
将拟合好的数据重新引回到Origin:
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1、有时候读书是一种巧妙地避开思考 的方法 。22.3. 2222.3. 22Tues day, March 22, 2022
1
Counts pulse counting
0.1 6 0 0 0 0 0 401 2202.52 4127.08 2458.36 2559.72 2523.56 2553.48 2509.8
6、X轴：点A(X)，再点右键，然后点set column values，出 现一个对话框，在from中填1，在to中填401(通道数)，在 col(A)中填BE始-0.05*(i-1)， 或直接填1486.6-KE始- 0.05*(i-1)，最后点do it。
xps分峰处理
xps分峰处理【原创实用版】目录1.XPS 分峰处理的概述2.XPS 分峰处理的原理3.XPS 分峰处理的步骤4.XPS 分峰处理的应用实例5.XPS 分峰处理的优点和局限性正文一、XPS 分峰处理的概述XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy，X 射线光电子能谱）分峰处理是一种对 XPS 数据进行分析的方法，主要用于测量材料表面元素的种类和化学状态。
在实际应用中，样品表面的成分复杂多样，需要通过分峰处理来解析各种元素的信号，从而得到准确的表面成分信息。
二、XPS 分峰处理的原理XPS 分峰处理基于 XPS 数据的特点，通过对数据进行多次平滑、拟合和去趋势处理，从而将原始数据中的各个元素信号分离出来。
分峰处理的核心思想是利用不同元素的能谱形状和强度差异，通过一系列算法将这些差异放大，以便于识别和分离各个元素的信号。
三、XPS 分峰处理的步骤1.数据预处理：对原始 XPS 数据进行基线校正、噪声去除和平滑处理，以提高数据质量。
2.能谱分解：根据样品中元素的种类和能量范围，选择合适的分峰方法对数据进行分解。
常见的分峰方法有峰拟合、峰识别和自动基线校正等。
3.峰强度计算：对分解后的各个元素峰进行强度计算，以便于分析元素的相对含量和化学状态。
4.结果分析：根据分峰处理后的结果，分析样品表面的元素种类、化学状态和分布情况，为材料表面研究提供依据。
四、XPS 分峰处理的应用实例XPS 分峰处理广泛应用于各种材料表面的分析，如金属、氧化物、半导体和聚合物等。
以下是一个具体的应用实例：某金属材料表面需要分析其元素种类和化学状态，采用 XPS 分峰处理技术对表面进行分析。
首先对原始 XPS 数据进行预处理，然后利用分峰方法将数据中的元素信号分离出来。
最后，根据分峰处理后的结果，分析表面元素的种类、化学状态和分布情况，为材料表面研究提供依据。
五、XPS 分峰处理的优点和局限性优点：1.高分辨率：可以准确测量样品表面各种元素的种类和化学状态。
xps分峰处理
xps分峰处理摘要：1.XPS 分峰处理的概念2.XPS 分峰处理的方法3.XPS 分峰处理的应用4.XPS 分峰处理的优势与局限性正文：一、XPS 分峰处理的概念XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy，X 射线光电子能谱）分峰处理是一种对XPS 数据进行分析的方法，主要目的是将复杂的能谱图分解为多个简单的峰，以便于研究各种元素的化学状态和电子结构。
在实际应用中，XPS 分峰处理可以为材料表面分析、腐蚀研究、催化剂表征等领域提供重要信息。
二、XPS 分峰处理的方法XPS 分峰处理主要包括以下几种方法：1.基线校正：通过校正基线，可以消除仪器漂移和噪音对数据分析的影响，提高分峰的准确性。
2.峰形拟合：采用合适的拟合函数对实验数据进行拟合，从而获得各个元素的电子能谱峰。
常见的拟合函数有高斯型、洛伦兹型等。
3.峰面积积分：在完成峰形拟合后，对各个峰进行面积积分，得到各元素的相对原子含量和化学状态信息。
4.峰位置确定：根据元素的特征能量和峰形特征，确定各个峰的位置，从而实现元素的定性分析。
三、XPS 分峰处理的应用XPS 分峰处理技术在许多领域都有广泛的应用，例如：1.材料表面分析：通过对材料表面的元素组成和化学状态进行分析，可以了解材料的腐蚀行为、氧化还原反应等。
2.催化剂表征：通过对催化剂表面的元素组成和电子结构进行分析，可以研究催化剂的活性和稳定性。
3.半导体器件分析：通过对半导体器件表面的元素组成和电子结构进行分析，可以了解器件的性能退化机制和可靠性评估。
四、XPS 分峰处理的优势与局限性XPS 分峰处理技术具有以下优势：1.分辨率高：可以对各种元素进行定性和定量分析。
2.灵敏度高：可以检测到样品表面极低浓度的元素。
3.信息丰富：可以获得元素的化学状态、电子结构等信息。
然而，XPS 分峰处理技术也存在一定的局限性：1.对样品的要求较高：需要样品表面干净、无污染。
电子能谱分析XPS和AES
电子能谱分析XPS和AES电子能谱分析（Electronic Spectroscopy）是一种用来研究材料表面的化学成分和电子结构的技术。
常用的电子能谱分析方法有X射线光电子能谱（X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS）和反射能量损失光谱（Auger Electron Spectroscopy, AES）。
X射线光电子能谱（XPS）是一种通过照射样品表面并测量逸出电子能量来获取有关材料表面成分和电子状态的信息的分析技术。
XPS的原理基于光电效应，即被照射的样品会产生光电子，这些光电子的能量和数量与样品的化学成分和电子状态有关。
通过分析逸出电子的能谱，可以得到材料的化学成分、元素的氧化态和电子能级等信息。
XPS的实验装置主要由以下几个部分组成：X射线源、能谱分析器、逸出电子探测器和数据处理系统。
首先，样品被置于真空室中，并由X射线源产生的X射线照射。
X射线会使样品表面的原子或分子发生光电效应，逸出的光电子经过能谱分析器的光学元件进行能量分析。
最后，逸出电子被探测器捕获，并由数据处理系统进行分析和展示。
XPS的主要应用领域包括材料科学、表面化学和界面物理等。
通过XPS，可以定量确定样品表面的化学成分，并且可以分析不同化学状态的元素。
此外，XPS还可以提供有关样品表面化学反应和电子能带结构等信息。
XPS广泛应用于材料研究、催化剂表征、薄膜和界面研究等领域。
反射能量损失光谱（Auger Electron Spectroscopy, AES）是另一种常用的电子能谱分析方法。
AES是一种利用样品表面产生的俄歇电子进行表征的技术。
与XPS类似，AES也是一种通过照射样品表面并测量逸出电子能谱来获取有关材料表面成分和电子结构的信息。
AES的原理基于俄歇电子效应，即当X射线或电子束照射在样品表面时，被照射的原子会发生电离，产生一个空位。
然后，另一个外层电子会填补进空位，并释放出一个能量等于原位电子之间跃迁能量差的电子，称为俄歇电子。
XPS数据分析方法
XPS数据分析方法XPS数据分析方法指的是通过使用X射线光电子能谱（XPS）来研究材料表面元素的组成、化学状态、分布以及电荷状态等信息的一种分析方法。
XPS是一种非破坏性的表面分析技术，主要用于材料科学、化学、物理、能源等领域的表面和界面分析。
下面是关于XPS数据分析方法的一些内容。
1.XPS原理XPS是基于光电离现象的一种分析技术。
当实验样品暴露在具有一定能量的X射线束下时，样品表面的原子会被激发，其中部分电子会被激发到费米能级以上，形成X射线光电子。
这些光电子经电场作用会被收集并形成能谱。
通过分析能谱可以得到样品表面元素的信息。
2.XPS数据处理XPS实验获得的原始数据包含了来自不同元素的能量信号，以及其他噪声信号。
数据处理旨在提取出有用的能量信号，并将其定性和定量分析。
常见的数据处理步骤包括信号峰形辨认、能量校正、背景修正和分峰拟合等。
3.峰形辨认峰形辨认是将实验数据中的峰与相应的元素进行匹配的过程。
每个元素具有特定的光电子能量，因此可以通过比较实验获得的能谱与已知元素的能谱进行匹配，确定元素的存在。
4.能量校正能谱中的能量量度需要进行校正，以获得准确的能谱峰位置。
能量校正的常用方法是通过硬币吸收边界（coinicidence absorption edge）或内部参考能谱进行校正。
这样可以消除能量测量中的偏差。
5.背景修正实验信号中常常会包含一些背景信号，如弹性散射信号、底部信号等。
这些背景信号对于准确的数据分析来说是干扰因素，需要进行背景修正。
背景修正的方法可以是线性背景修正或曲线拟合法。
6.分峰拟合分峰拟合是基于已知的能量峰进行曲线拟合，以确定元素在样品中的化学状态和相对丰度。
常见的拟合函数包括高斯函数、洛伦兹函数和Pseudo-Voigt函数等。
7.数据分析通过对能谱的峰进行定量分析，可以获得材料表面元素的组成和相对丰度。
此外，还可以通过分析峰的形状和位置得到元素的化学状态信息。
通过与已知物质的对比，可以推测样品的化学成分，并深入了解材料的特性。
X射线光电子能谱(XPS)数据处理方法
优点及特点
固体样品用量小，不需要进行样品前处理，避免了引入 或丢失元素所造成的错误分析 表面灵敏度高，一般信息深度10nm 分析速度快，可多元素同时测定
给出原子序数3-92的元素信息，以获得元素成分分析
给出元素化学态信息，进而分析出元素的化学态或官能团 样品不受导体、半导体、绝缘体的限制等 是非破坏性分析方法。结合离子溅射，可作深度剖析
能谱图
C 1s
40000
Intensity(cps)
20000
N 1s O 1s
0 -200 0 200 400 600 800 1000 1200
Binding Energy(eV)
分峰拟合
生成text: 选择要进行拟合的数据点，copy至txt文本中， 即ABC三列数据(其中B列为空的,只包含两列数据)
分峰拟合
拟合：Optimise All
数据输出：Data中的Export（spetrum），存为.dat格式的ASCII文件
X射线光电子能谱（XPS）
XPS
XPS是一种基于光电效应的电子能谱，也叫做化学分析电子能谱（ESCA）。
基本构造
样品 光电子 能量 分析器
探测器 X射线源 AlK或MgK 数据处理 系统
基本原理
爱因斯坦光电定律: Ek = h－Eb－
用途
元素的定性分析。
根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。
元素半定量分析。
根据光电子谱线强度（光电子峰的面积）反应原子的含量或相对浓度 。
固体表面分析。
包括表面的化学组成或元素组成，原子价态，表面能态分布，测定表面 电子的电子云分布和能级结构等 。
X光电子能谱数据处理
6、作图。 作图。 点击Analysis→smoothing→FFT 7．点击Analysis→smoothing→FFT Filter→5→OK。 Filter→5→OK。
双击左上角的1→移走data1_c→OK 1→移走data1_c→OK。 8、 双击左上角的1→移走data1_c→OK。 双击smoothed smoothed把出现的数据拷贝到新 9、 双击smoothed把出现的数据拷贝到新 建的文本文档中并保存 。 10、打开XPS分峰软件。 XPS分峰软件 10、打开XPS分峰软件。 11、点击data→import ASCII） data→import（ 11、点击data→import（ASCII）→新建 文本文档→打开。 文本文档→打开。
12、点击background，选背景（ 12、点击background，选背景（一般为 background linear）。 linear）。 13、 peak，选择Peak type。 13、add peak，选择Peak type。然后添 加合理的峰位、FWHM和 加合理的峰位、FWHM和L－G值。 14、调节峰位、峰面积、FWHM和 14、调节峰位、峰面积、FWHM和L－G值。 使虚拟的峰位和实际峰位基本重合。 使虚拟的峰位和实际峰位基本重合。
15、分别点击Save XPS、 15、分别点击Save XPS、 Export（spectrum） Export（spectrum）和 clipboard保存图 保存图。 Export to clipboard保存图。 16、 16、打开画图板复制入图形可以得到想要 的数据。 的数据。
XPS原理数据分析方法讲解
XPS原理数据分析方法讲解XPS（X射线光电子能谱）是一种用于表面分析的常用方法，可以用于确定样品中元素的化学状态和测量元素的相对丰度。
本文将讲解XPS的原理和数据分析方法。
1.XPS原理：XPS利用物质表面发射的光电子来研究元素的化学状态和相对丰度。
其原理基于以下两个过程：-光电子发射：当一束X射线照射到样品表面时，光子通过光电效应将电子从样品表面的原子中解离出来。
这些光电子的动能与其所来自的原子的束缚能有关，因此可以通过测量光电子的动能来确定原子的化学状态。
-表面分析：通过测量不同能量的X射线和测量发射光电子的能量和强度，可以得到元素的谱图。
X射线的能量可以调节，从而选取特定能量的X射线与特定元素相互作用，进一步确定元素的化学状态和相对丰度。
2.数据分析方法：XPS谱图包括两个主要部分：能级谱和分析谱。
能级谱用于确定元素的化学状态，分析谱用于计算元素的相对丰度。
-能级谱分析：1）首先，将能级谱分为两个区域：高分辨率核电子谱（Valence Band）和低分辨率核电子谱（Core Level）。
2）高分辨率核电子谱用于确定元素的键合状态和价态。
通过观察能级峰的位置和形状，可以判断原子是否在化合物中。
3）低分辨率核电子谱用于确定元素的元素组成。
通过测量特定能级的光电子峰的相对强度，可以计算元素的相对丰度。
-分析谱分析：1）利用分析谱可以计算元素的相对丰度。
分析谱根据元素的主要光电子峰的能量和强度来建立。
通过测量每个元素的主要光电子峰的峰强和标准物质的峰强，可以计算元素的相对丰度。
2）校正数据。
由于光电子的逃逸深度和电子的信号衰减，测量到的峰强可能与真实丰度有所偏差。
因此，需要进行校正，建立校正曲线，将峰强转换为相对丰度。
3.XPS仪器：XPS仪器由以下几部分构成：-X射线源：提供特定能量的X射线，用于激发样品释放光电子。
-能谱仪：包括投射能量分辨部分和检测器，用于测量发射光电子的能量和强度。
-样品台：用于固定和聚焦样品，可控制样品在X射线照射下的角度和位置。
小木虫emuchnetX射线光电子能谱数据处理及分峰步骤
03
分峰步骤
初步分峰
初步分峰是X射线光电子能谱数据处理的第一步，主要是将原始谱图中的峰进行初步 的分类和识别。
在初步分峰中，需要确定每个峰的位置、强度和半高宽等参数，以便后续的参数调 整和优化。
初步分峰的结果可以为后续的优化分峰参数提供基础数据，提高分峰的准确性和可 靠性。
优化分峰参数
优化分峰参数是X射线光电子能谱数据处理的重要步骤，主要是对初步分峰结果中的参数进行优化和调 整。
未来研究可以进一步探索数据处理及分峰的新算法和技术， 以更好地满足实验需求，推动相关领域的发展。
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感谢观看
在优化分峰参数中，需要综合考虑每个峰的位置、强度、半高宽等参数，以及相邻峰之间的相互关系和 干扰因素。
通过调整参数，可以进一步提高分峰的准确性和可靠性，为最终的分峰结果分析提供更加准确的数据基 础。
最终分峰结果分析
最终分峰结果分析是X射线光电子能谱数据处理 的最后一步，主要是对优化后的分峰结果进行 分析和解释。
校准
对背景校正后的数据进行校准，确保 能量标度的准确性。
谱峰提取
阈值设定
根据信号强度设定阈值，提取出有效的谱峰信息。
峰位确定
通过拟合或识别算法确定谱峰的峰值位置。
谱峰拟合
拟合模型选择
选择合适的拟合模型，如高斯或洛伦兹函数，用于描述谱峰形状。
参数优化
通过迭代算法优化拟合参数，使拟合结果与实际数据相匹配。
手动调整
根据初步拟合结果，手动调整峰位和峰形， 确保每个峰都得到准确的拟合。
质量控制
检查分峰结果，确保每个峰都符合预期，并 对异常数据进行处理。
结果分析实例
元素定性分析
根据分峰结果，确定样品中存在的元素种类。
xps数据的反褶积处理
XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy，X射线光电子能谱）数据的反褶积处理是一种常用的数据分析方法，用于消除样品表面的非均匀性和背景干扰，以获得更准确的能级分布信息。
XPS数据的反褶积处理主要包括以下步骤：
1. 预处理：首先需要对原始XPS数据进行预处理，包括去除背景信号、校正电荷漂移等。
2. 建立模型：根据样品表面的化学成分和电子结构，建立反褶积模型，通常使用傅里叶变换方法。
3. 反褶积：使用反褶积算法对预处理后的数据进行处理，将原始数据映射到反演模型上，以消除样品表面的非均匀性和背景干扰。
4. 分析结果：对反演后的数据进行分析和解释，得到样品表面的化学成分和电子结构信息。
常用的反褶积算法包括Butterworth反褶积、傅里叶反褶积、Bessel反褶积等。
选择合适的反褶积算法需要考虑样品表面的特性、数据采集条件等因素。
需要注意的是，XPS数据的反褶积处理是一项复杂的工作，需要具备相关的化学和物理知识，以及熟练的数据处理技能。
因此，在进行反褶积处理之前，建议先了解相关的理论知识，并参考专业文献和教程进行操作。
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35
NLLSF对话框
点击 打开NLLSF对话框
36
定义参考元谱
参考元谱可从不同的来源获取 l 参考元谱位于多级数据集中：
l
最简单的方法是使用来自于多级数据集中的参考谱。 这类似于TFA中的情形。 如果存在纯组分谱，即可定义其为参考元谱 使用此法时应注意，数据采集参数（通能等）应相 同，以保证好的拟合结果。 可以使用由谱峰拟合得到的合成谱
l
exp[−(1 − m) ⋅ ln 2 ⋅ ( x − x0 )2 / β 2 ] f ( x) = H ⋅ 1 + m ⋅ ( x − x0 )2 / β 2 这里，H=峰高，β=FWHM/2, m=L/G混合比
17
谱峰拟合
拟合方法：
• 首先确定谱峰拟合的范围（标出起点和终点位置） 在峰拟合模式状态下根据需要添加新峰到峰拟合表中。峰参数可修改
l
13
“污染碳” 的 C 1s结合能比较
C (1s) BE of Hydrocarbons 元素 Ag Al As B Be Bi Cd Co Cr Cu Fe Ga Ge Hf In Ir Mg Mn Mo 14 自然氧化物 285.5 286.3 284.6 284.6 285.6 285.4 286.0 285.5 285.1 284.7 285.2 286.1 285.7 286.2 285.4 285.4 286.5 284.8 284.8 离子刻蚀金属 284.7 285.1 284.7 285.2 284.4 284.8 285.0 284.4 284.9 284.7 284.4 285.6 284.5 286.1 284.9 285.4 284.4 286.3 285.2 BE差 0.8 1.2 -0.1 -0.6 1.2 0.6 1 1.1 0.2 ±0.0 0.8 0.5 1.2 0.1 0.5 ±0.0 2.1 -1.5 -0.4 [FO] 元素 Nb Ni Pb Pd Re Rh Sb Sc Se Si Sn Ta Te Tl V W Y Zn Zr C (1s) BE of Hydrocarbons 自然氧化物 285.1 285.4 285.6 285.3 284.5 284.6 285.0 285.9 284.3* 285.7 285.2 284.8 284.8 285.4 285.1 285.0 286.7 285.8 285.9 离子刻蚀金属 284.9 284.9 285.2 284.2 285.0 284.0* 284.4 286.8* 284.2 284.9 284.8 284.6 284.2 285.2 285.2 285.1 286.7 284.9 285.4 BE差 0.2 0.5 0.4 1.1 -0.5 0.6 0.6 -0.9 0.1 0.8 0.4 0.2 0.6 0.2 -0.1 -0.1 ±0.0 0.9 0.5 [FO] [FO] [FO] [FO] [FO]
29
1、目标因子分析(TFA)
l
l l l
当数据中包含有多维谱时 (深度剖析、线扫描、角分辨 XPS等)，通常适合于组合使用目标因子分析 (TFA)和最 小二乘法拟合。用这种方法，谱中细微的差别可用于测 定数据集中不同化学态变化的情形。 某些纯金属峰并非是简单的高斯-洛仑兹峰型，而是难以 拟合的不对称峰型。 TFA假定剖析数据由共同的谱元的线性组合构成。TFA 仅能确定谱元的数目但并不能鉴别它们。 元谱可由TFA定义。比如SiO2/Si的深度剖析，氧化硅的 参考谱取自氧化物层中，而元素硅的参考谱取自溅射后 衬底中的某一级谱。
第七章 数据处理方法
一、谱图分析 二、谱图修正 三、谱峰拟合 四、数值方法（NLLSF与TFA）
1
四、数据处理方法
l 数据处理包括：
谱图分析 l 谱图修正 l 谱峰拟合 l 数值方法（NLLSF与TFA）
l
2
一、谱图分析
l 鉴别谱峰（自动/手动按照能量范围或元素） l 定性分析（元素鉴别、化学态分析） l 定量分析（原子浓度、峰面积、归一化峰
18
谱峰拟合时的考量
l
谱峰拟合时应注意和考虑：
l l l l
子峰的个数依赖于峰形和可能的化学环境,各子峰应有合理的物 理意义； 合理的半高宽(FWHM) , 一般主峰0.8 ～ 1.8 eV； 合理的L/G比 ,一般0.25 ～ 0.35，默认值：0.3； 对双峰还需特别考虑：两个峰间的合理间距和强度比 （可进行关联、固定和约束）
三、谱峰拟合
l
峰拟合可使彼此靠近重叠的峰分别精确测定并且 能够更精确地定量。同时也能够对具有化学位移 的元素不同化学态进行准确的分辨和定量。 可对多个相互重叠峰的谱峰拟合 谱峰拟合参数：峰位中心, 宽度, 高度, 形状L/G 比等 不对称拖尾参数 (混合, 指数, 高度) 交互式; 添加/移动/修改/删除 峰 固定、关联或约束峰参数
30
原理方法（Procedure）
l
TFA选取出剖析中最有意义的层次（level），剖析数据中的每个层 次都用这些元谱的线性或非线性组合来进行拟合。 l 然后计算每个层次的吻合度，并与用户定义的信噪比限值比较。若 此一计算值大于定义的信噪比限值，就认为拟合是满意的。 l 若任一层次不能满意地拟合，则该层次增添作为元谱，然后每一层 次都以此两谱来进行拟合。继续这一过程来增添额外的元谱直到所 有层次都拟合到比信噪比限值更好时为止。必需的谱数即为剖析中 有意义的元谱数。注意作为元谱的这些谱可能实际上不包含纯参考 谱，因而其强度剖析可能会是负值。每个层次元谱的线性组合产生 表观剖析谱。 l 当TFA确定了主元后，它自动用这些元谱执行数据的线性最小二乘 法拟合。
© 2007 XPS International LLC
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Asymmetry of Fe2O3
© 2007 XPS International LLC
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Asymmetry of Co
© 2007 XPS International LLC
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Asymmetry of CoO
© 2007 XPS International LLC
2、本底去除
l 在XPS谱和AES直接谱中，通常为较小的
谱峰叠加在大的本地之上。如果要检查谱 峰的细节，在某些情况下就需要进行本底 去除（如定量时测量谱峰强度时）。 l 最简单的本底去除方法是在用户感兴趣的 谱峰两端指定点间作直线—线性。 l 线性本底通常误差较大，是非物理的。 l 线性本底的改进涉及到的物理真实逼近— Shirly本底。
实验谱图中包含有测量随机噪声。 数据平滑的目的就是这些高频噪声成分而不失真 地保留原始谱图中包含的涉及峰高和峰型的所有 信息。提高谱线的信噪比。 存在两种基本的平滑方法：使用卷积平滑函数与 应用傅里叶分析的频率滤波。 常用第一种平滑方法，尤其是多点移动平滑。 最常用的卷积程序是三次/四次函数—SavitzkyGolay，其次可采用高斯函数。 当平滑点数取谱图中可分辨的最窄峰的FWHM所 含的数据点数时，Savitzky-Golay函数效果最佳 ，失真低。
l
k Q = h (∑ yi ) − 0.5( y x + yk ) i= x
l
因为背景B(x)是未知的待求量,开始无 法计算面积P和Q, 为此首先用常数背 景 B1 作为初值, 计算出P、Q后再计 算出新的背景, 如B2, 如此反复迭代, 直至收敛为止。
10
Smart backgroun
线性本底
非线性本底 - Shirley Method
使用最普遍的非线性背景扣除方法 l 该方法认为能量损失是常数, 谱线上 任一点由非弹性散射电子引起的背景, 只来源于更高动能电子的散射, 正比 于更高动能的积分光电子强度(面积) l 所以任一能量的本底都正比于光电子 能谱中具有较高能量电子的总数目。 l B(x) = b+ ( a- b)Q/(P + Q) 式中：P + Q 为扣除背景后峰的总面积； Q 为动能E 以上的光电子的积分强度
l l
l l l
16
谱峰拟合
快速、通用和交互式的谱峰拟 合工具是数据处理软件的一项 重要组成部分 l 可控制谱峰的数目、峰位置、 峰宽度、罗仑兹/高斯 (L/G) 比 m。本底类型由用户来选择(线 性、Shirley或 Smart)。 l 可进行峰参数的关联和固定， 并且不对称峰需要时也可以拟 合。 l 谱峰拟合函数使用高斯-洛伦兹 （Gaussian – Lorentzian） 乘积函数：
25
Asymmetry of Ni
© 2007 XPS International LLC
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Asymmetry of NiO
© 2007 XPS International LLC
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不对称性峰参数的影响
l
对于简单不对称峰型谱 可引入拖尾函数来拟合 l Y=H[GL+(1-GL)*T]l拖尾函数荷 Nhomakorabea校正方法
l
內标参考
l
利用样品材料中已知状态元素的结合能值作为参考值 进行荷电校准。如用碳校正，即为碳內标。
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衬底参考
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涉及导电衬底上的薄膜研究工作，常以导电衬底元素 的结合能作为绝缘覆盖层材料的参考。
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注入惰性气体
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向样品注入Ar作内标物有良好的效果。Ar具有极好的 化学稳定性，适合于溅射后和深度剖面分析，且操作 简便易行。
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4、荷电校正方法
在实际的XPS分析中，一般采用内标法进行校准。 即在实验条件下，根据试样表面吸附或沉积元素 谱线的结合能，测出表面荷电电势，然后确定其 它元素的结合能。
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外来污染碳氢化合物参考
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用真空系统中最常见的有机污染碳的C 1s的结合能作 为参考，常用284.6 eV至285eV作为参考结合能。以测 得的C1s谱线的结合能与参考值之差为荷电校正值∆， 来校正谱图中其它谱峰的测量结合能值。 尽管外来污染碳作静电荷电校正存在局限性和不确定 性，但它仍是最方便和最常用的技术。