目前样品清洗标准流程
样品处理操作规程
样品处理操作规程1.概述样品处理是指对实验或调查的样品进行预处理，以满足后续实验或调查的要求。
本操作规程旨在规范样品处理的流程和方法，确保数据的准确性和可靠性。
2.设备要求2.1 手套：使用无粉手套，并确保手套干净无破损。
2.2 称量仪器：使用精密电子天平进行样品称量。
2.3 清洁容器：使用洁净的容器，避免污染样品。
2.4 水源：使用去离子水或经处理的超纯水。
3.样品接收与登记3.1 样品接收：接收样品应仔细核对样品名称、数量、接收日期等信息，并确认样品是否完好。
3.2 样品登记：将接收到的样品信息登记在样品登记册上，包括样品编号、来源、接收人、接收日期等信息。
4.样品保存4.1 不同类型样品的不同保存要求：- 液态样品：储存在干燥、密封的容器中，并避免接触阳光直射。
- 固态样品：储存在低温、避光、干燥的环境中。
- 气态样品：置于密封的容器中，保存在合适的温度下。
5.样品处理流程5.1 样品称量：- 使用称量仪器准确称取所需样品，并记录称量重量。
- 避免样品接触手套、皮肤或其他污染源，确保称量准确性。
5.2 样品搅拌：- 对于液态或悬浮态样品，使用适当的搅拌设备进行搅拌，确保样品充分混合。
- 对于固态样品，可使用搅拌棒轻轻搅拌，避免样品飞溅或污染。
5.3 样品过滤：- 当样品存在悬浮固体或不溶性物质时，进行样品过滤以去除杂质。
- 使用合适的滤纸或滤膜，进行过滤操作，避免滤液溢出或污染。
5.4 样品稀释：- 当样品浓度过高时，应适当稀释以符合检测范围。
- 按照预定的稀释比例，将样品与稀释液混合，充分均匀搅拌。
5.5 样品存储：- 经处理的样品应储存在干燥、密封、标识清晰的容器中。
- 注意标注样品的名称、编号、浓度、储存日期等重要信息。
6.安全注意事项6.1 操作过程中应戴好手套，避免样品接触皮肤。
6.2 操作结束后，将废弃物正确分类处理，保持操作区域清洁整洁。
6.3 操作人员应遵守实验室安全规范，注意个人防护，避免事故发生。
取样器具清洁标准操作程序
取样器具清洁标准操作程序--1.目的规范取样工具、容器的清洗、干燥、贮存的过程，保证检测准确性，防止交叉染。
2.依据《药品生产质量管理规范（1998年修订）》及其附录。
3.范围取样用工具、容器。
4.职责4.1 质量保证部负责本文件的制定，并负责本文件执行过程中的协调和解释工作。
4.2 质量控制部负责本文件的执行工作。
4.3 质量保证部负责本文件执行过程中的监督工作。
5.内容5.1 取样器具5.1.1 一般取样器具：称量纸、烧杯、量筒、移液枪、、铝箔、锥形瓶、、镊子等；5.1.2 有热原或微生物限度检测项目物料的取样器具: 移液枪、锈钢饭盒、镊子等；5.2 盛样容器及取样器具使用前处理5.2.1 清洗5.2.1.1 先用纯化水冲净取样器表面，再用纯化水或玻璃清洗剂浸泡10分钟，用试管刷刷净内外器皿壁；5.2.1.2 用纯化水刷洗两次后，用纯化水淋洗三次，洁净标准：水不成股流下，也不在器壁上聚集成水珠；5.2.1.3 有热原要求的须用注射用水刷洗两次，淋洗三次；5.2.2 干燥：自然晾干或放在80℃烘箱内烘干，直至表面无水珠。
5.2.3 需做微生物检查的样品的盛样器及取样容器：灭菌处理。
玻璃器皿需用180℃干热烘烤至少4h或250℃1h，塑料制品须经121℃湿热灭菌30min后使用。
灭菌后器具有效期不得超过48小时。
5.2.4 需检内毒素的样品的容器及取样器具：去热原处理。
取样用tubes应完全浸入30%H2O2至少4小时，放入烘箱中80℃烘干过夜。
玻璃器皿、金属器皿可用0.1M的NaOH 浸泡30min或干热烘烤去热原的方法（180℃至少4h或250℃至少1h）5.3 盛样容器及取样器具贮存：干燥或灭菌后的器具包好存放于专用柜中保存，储存有效期不能超过48小时。
5.4 盛样容器及取样器具使用后处理：一次性使用的器具按一般废弃物处理；玻璃器皿或不锈钢容器具按5.2.1-5.2.2清洗烘干备用，临用前再处理。
目前样品清洗标准流程
有机物杂质，常在晶片表面形成有机物薄膜阻止清洗液到达晶片表面因此有机物的去除常常在清洗工序的第一步进行。
硅晶圆经过SC-1和SC-2溶液清洗后，由于双氧水的强氧化力，在晶圆表面上会生成一层化学氧化层采用化学汽相沉积法（CVD）沉积的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相应的清洗过程中有选择的去除。
清洗步骤：1）Ammonium hydroxide/hydrogen peroxide/DI water mixture (APM; NH4OH/H2O2/H 2O at 65-80℃).APM通常称为SC-1清洗液，其配方为：NH4OH：H2O2：H2O =1：1：5—1：2：7，以氧化和微蚀刻来底切和去除表面颗粒；也可去除轻微有机污染物及部分金属化污染物。
但硅氧化和蚀刻的同时会发生表面粗糙。
2）Hydrochloric acid/hydrogen peroxide/DI water mixture (HPM; HCI/ H2O2/ H2Oat 65-80℃).HPM通常称为SC-2清洗液，其配方为：HCI： H2O2：H2O=1：1：6—1：2：8，可溶解碱金属离子和铝、铁及镁之氢氧化物，另外盐酸中氯离子与残留金属离子发生络合反应形成易溶于水溶液的络合物，可从硅的底层去除金属污染物。
3）Hydrofluoric acid （氢氟酸）or diluted hydrofluoric acid（稀释氢氟酸）(HF or DHF at 20-25℃)蚀刻。
其配方为：HF：H2O=1：2--1：10，主要用于从特殊区域去除氧化物、蚀刻硅二氧化物及硅氧化物，减少表面金属。
稀释氢氟酸水溶液被用以去除原生氧化层及SC-1和SC-2溶液清洗后双氧水在晶圆表面上氧化生成的一层化学氧化层，在去除氧化层的同时，还在硅晶圆表面形成硅氢键，而呈现疏水性（hydrophobic）表面。
备注：1.煮时注意别让样品露出水面，防止表面不均匀氧化2.最好再泡在去离子水中超声清洗其他可选清洗液：3）Sulphuric acid（硫酸）/hydrogen peroxide（过氧化氢）/DI water（去离子水）混合物(SPM;H2SO4/ H2O2/ H2O at 100-130℃)。
目前样品清洗标准流程
有机物杂质，常在晶片表面形成有机物薄膜阻止清洗液到达晶片表面因此有机物的去除常常在清洗工序的第一步进行。
硅晶圆经过SC-1和SC-2溶液清洗后，由于双氧水的强氧化力，在晶圆表面上会生成一层化学氧化层采用化学汽相沉积法（CVD）沉积的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相应的清洗过程中有选择的去除。
清洗步骤：1）Ammonium hydroxide/hydrogen peroxide/DI water mixture (APM; NH4OH/H2O2/H 2O at 65-80℃).APM通常称为SC-1清洗液，其配方为：NH4OH：H2O2：H2O =1：1：5—1：2：7，以氧化和微蚀刻来底切和去除表面颗粒；也可去除轻微有机污染物及部分金属化污染物。
但硅氧化和蚀刻的同时会发生表面粗糙。
2）Hydrochloric acid/hydrogen peroxide/DI water mixture (HPM; HCI/ H2O2/ H2Oat 65-80℃).HPM通常称为SC-2清洗液，其配方为：HCI： H2O2：H2O=1：1：6—1：2：8，可溶解碱金属离子和铝、铁及镁之氢氧化物，另外盐酸中氯离子与残留金属离子发生络合反应形成易溶于水溶液的络合物，可从硅的底层去除金属污染物。
3）Hydrofluoric acid （氢氟酸）or diluted hydrofluoric acid（稀释氢氟酸）(HF or DHF at 20-25℃)蚀刻。
其配方为：HF：H2O=1：2--1：10，主要用于从特殊区域去除氧化物、蚀刻硅二氧化物及硅氧化物，减少表面金属。
稀释氢氟酸水溶液被用以去除原生氧化层及SC-1和SC-2溶液清洗后双氧水在晶圆表面上氧化生成的一层化学氧化层，在去除氧化层的同时，还在硅晶圆表面形成硅氢键，而呈现疏水性（hydrophobic）表面。
备注：1.煮时注意别让样品露出水面，防止表面不均匀氧化2.最好再泡在去离子水中超声清洗其他可选清洗液：3）Sulphuric acid（硫酸）/hydrogen peroxide（过氧化氢）/DI water（去离子水）混合物(SPM;H2SO4/ H2O2/ H2O at 100-130℃)。
塑料样品前处理流程
塑料样品前处理流程包括以下步骤：
1.清洗处理：在塑料生产之前，需要用特殊的洗涤剂清洗原材料，
去除杂质和溶剂残留，保证原材料的纯度和质量。
2.干燥处理：塑料制品在生产中很容易吸水和吸气，这会导致在
成型过程中出现气泡或者缩短制品寿命等问题，因此在制造之
前必须用热风或低温真空等方法将原材料彻底干燥。
3.喷涂处理：对于需要表面涂层的塑料制品，可以在塑料前处理
时进行喷涂处理，此过程需要在塑料表面形成一层涂膜，可保
护塑料不受环境和温度的影响。
4.调色处理：在塑料成型之前，需要对塑料进行调色，在合适的
条件下加入颜料和色母，以改变塑料的颜色和光泽度。
5.改性处理：在塑料加工过程中，添加一些改性剂可以改善塑料
的力学性能，提高光泽度和耐热性能等。
通过以上步骤，可以有效地改善物料品质、提高机械性能、优化表面性能、降低制品缺陷，从而保证制品质量和效率，降低生产成本和节约资源。
样品保存后清洁规程
样品保存后清洁规程一、概述样品保存后的清洁工作对保证样品品质和数据准确性至关重要。
为确保样品保存后的清洁工作能够科学规范进行，制定本清洁规程。
二、清洁工具及材料准备1. 清洁工具：纯净水、洁净刷、清洁纸巾、无纺布、吸水棉、洁净抹布等；2. 清洁材料：清洁剂、无纺布、酒精、去离子水等。
三、清洁步骤1. 样品表面清洁：a. 使用清洁纸巾或洁净抹布轻轻擦拭样品表面的灰尘和污垢；b. 若样品表面有油脂或其他无机物附着，可采用适当的清洁剂进行清洁，避免使用含有有机溶剂的清洁剂，以免对样品造成污染；c. 若样品为敏感材料或需要高度净化，可使用纯净水或去离子水清洁，避免使用含有杂质的水源。
2. 清洁工具清洁：a. 清洁使用过的洁净刷，可用清洁剂或去离子水洗净，然后晾干备用；b. 清洁无纺布、吸水棉、洁净抹布等清洁工具，可用洗涤液或清洁剂加以洗涤，然后用纯净水冲洗干净，晾干备用。
3. 实验室环境清洁：a. 定期清洁实验室的地面、桌面和存放样品的柜子等；b. 遵循实验室通风换气规定，保持实验室内空气清新；c. 定期对实验室设备进行清洁和维护，确保其正常工作。
四、注意事项1. 清洁工作人员应佩戴洁净服，并保持良好的个人卫生习惯，以防止对样品造成二次污染；2. 在清洁过程中，避免使用带有纤维的材料，以免杂质残留；3. 针对不同类型的样品，应选用相应的清洁方法和材料，避免对样品造成损伤或污染；4. 清洁过程中，严禁携带食品和饮料进入实验室，以防止污染样品和实验环境；5. 清洁工具和材料使用后应妥善保管，避免交叉污染。
五、扩展阅读1. 样品保存及传递规程：介绍样品在不同温度、湿度下的保存方法，以及样品的传递流程、规定等；2. 实验室环境管理规程：详细阐述实验室的环境管理要求，包括实验室空气质量、噪音控制等方面的规定。
六、结论本清洁规程详细介绍了样品保存后的清洁工作步骤及注意事项，通过科学的清洁流程和规范的清洁工具和材料的使用，有助于保证样品的品质和数据的准确性，提高实验室工作效率。
水样保存和容器的洗涤规范(标准版)
序号
项目
采样方法
1
水温
在水样采集现场，利用专门水银温度计，直接测量并读取水温。
2
色度
水样采集在容积至少为1L的玻璃瓶内，暗处。在某些条件下，还要避免样品与空气接触，同时要避免温度的变化。
3
臭
6h内完成臭的检验。
4
浊度
水样采集在具磨口塞玻璃瓶中，并尽快测定。否则，将样品存于暗处，在24h内测定。测前激烈振摇并恢复室温。
15
钙、镁
同上。硝酸(ρ=1.40g/mL优级纯)
16
总铬
玻璃瓶，采集时加硝酸酸化使pH<2。尽快测定，如放置，不得超过在24h。
17
总硬度
聚乙烯容器或硬质玻璃瓶。采前用水样冲洗3次。尽快在24h内测定。否则每L水样中加2mL浓硝酸做保存剂(pH约为1.5)。
①采自来水及有抽水设备的井水时，应先放水数分钟，使积留在水管中的杂质流出后，收集水样。②采无抽水设备的井水或江、河、湖等地面水时，将采样设备浸入水中，在水面下20-30cm处采样。
27
化学需
氧量
①快速消解分光光度法：水样采集不应少于100mL，应保存在洁净的玻璃瓶中。采集好的水样应在24h内测定，否则应加入硫酸(ρ=1.84g/mL分析纯)调节水样pH值至小于2。在0℃～4℃保存，一般可保存7天。
②重铬酸盐法：水样存于玻璃瓶，采集水样体积不得少于100mL，尽快分析。否则应加入硫酸(ρ=1.84g/mL分析纯)调节水样pH值至小于2，保存时间≤5天。
22
硝酸盐氮(硝酸盐)
①分光光度法酚二磺酸(GB/T 7480-1987)：聚乙烯瓶或玻璃瓶，保存于4℃，24h内完成分析。
②离子色谱法(HJ/T 84—2001)：水样采集后通过0.45μm微孔滤膜过滤，尽快分析。否则保存于4℃存放，一般不加保存剂。玻璃瓶或聚乙烯瓶存放，保存时间≤24h。
样品处理后清洁规程
样品处理后清洁规程1. 简介样品处理后的清洁是确保实验室工作环境卫生和样本测试准确性的重要步骤。
本文将介绍样品处理后清洁的规程，包括清洁器材、台面和仪器，以确保实验室操作的可靠性和结果的可靠性。
2. 清洁器材样品处理器材的清洁是准确测试的首要保障。
以下是一些必要的步骤：2.1 清洗器材在使用之前，所有器材（如量杯、试管、培养皿等）都需要进行彻底的清洗。
首先，将器材浸泡在温水中，加入少量洗涤剂。
然后用刷子彻底清洗每个器材的内外表面。
最后，用流动的自来水冲洗干净，确保没有残留的洗涤剂。
2.2 消毒器材清洗后的器材需要进行适当的消毒。
可以选择一种适当的消毒方法，如高温灭菌或化学消毒。
确保消毒剂充分接触到器材表面，并按照说明进行操作。
消毒后，用流动的自来水冲洗干净，确保没有残留的消毒剂。
3. 清洁台面实验室台面是进行样品处理的关键区域，因此保持台面清洁是十分重要的。
以下是一些建议的措施：3.1 及时清理在完成每个样品处理步骤后，应立即清理台面。
清除废弃物、洗涤剂和其他污渍。
使用适当的消毒剂擦拭台面，确保彻底清除任何可见的污渍。
3.2 防止交叉污染在处理不同样品时，应注意避免交叉污染。
使用清洁的量杯、试管和其他器材，并在处理不同样品之间进行充分清洗和消毒。
4. 清洁仪器实验室仪器是进行样品处理和测试的重要工具，因此保持仪器清洁十分重要。
以下是一些建议的步骤：4.1 常规清洁定期进行仪器的常规清洁是保持其正常运行和延长使用寿命的关键。
根据每个仪器的使用手册，使用适当的清洁剂和方法进行清洁。
确保在清洁过程中仪器断电。
4.2 避免交叉污染在使用仪器时，尽量避免交叉污染。
使用干净的器材和试剂，并确保对仪器进行彻底的清洁和消毒。
5. 结论样品处理后的清洁是确保实验室操作可靠性和结果准确性的重要环节。
通过正确清洁器材、台面和仪器，能够保持实验室工作环境的卫生和样品测试的准确性。
在进行样品处理后，应严格遵守清洁规程，并根据实验室要求进行适当的清洁和消毒操作，以确保实验室工作的可靠性和结果的可靠性。
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有机物杂质，常在晶片表面形成有机物薄膜阻止清洗液到达晶片表面因此有机物的去除常常在清洗工序的第一步进行。
硅晶圆经过SC-1和SC-2溶液清洗后，由于双氧水的强氧化力，在晶圆表面上会生成一层化学氧化层
采用化学汽相沉积法(CVD沉积的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相应的清洗过程中有选择的去除。
清洗步骤：
1)Ammonium hydroxide/hydrogen peroxide/DI water mixture (APM; NH 4OH/HQ/ HO at 65-80 C).APM 通常称为SC-1 清洗液，其配方为：NHQH HQ: H.Q =1: 1 : 5 —1: 2: 7，以氧化和微蚀刻来底切和去除表面颗粒；也可去除轻微有机污染物及部分金属化污染物。
但硅氧化和蚀刻的同时会发生表面粗糙。
2)Hydrochloric acid/hydrogen peroxide/DI water mixture (HPM; HCI/ H2Q/ H2O at 65-80 C ).HPM 通常称为SC-2清洗液，其配方为：HCI: H2Q: H2Q=1: 1: 6—1: 2:
8,可溶解碱金属离子和铝、铁及镁之氢氧化物，另外盐酸中氯离子与残留金属离子发生络合反应形成易溶于水溶液的络合物，可从硅的底层去除金属污染物。
3)Hydrofluoric acid (氢氟酸)or diluted hydrofluoric acid (稀释氢氟酸)
(HF or DHF at 20-25 C )蚀刻。
其配方为：HF: fQ=1: 2--1 : 10,主要用于从特殊区域去除氧化物、蚀刻硅二氧化物及硅氧化物，减少表面金属。
稀释氢氟酸水溶液被用以去除原生氧化层及SC-1和SC-2溶液清洗后双氧水在晶圆表面上氧化生成的一层化学氧化层，在去除氧化层的同时，还在硅晶圆表面形成硅氢键，而呈现疏水性
(hydrophobic )表面。
备注：1.煮时注意别让样品露出水面，防止表面不均匀氧化
2.最好再泡在去离子水中超声清洗
其他可选清洗液：
3）Sulphuric acid （硫酸）/hydrogen peroxide （过氧化氢）/DI water （去离子水）混合物（SPM;HSQ/ H2Q/ H2O at 100-130 C）。
SPM通常称为SC-3清洗液，硫酸与水的体积比是1: 3，是典型用于去除有机污染物的清洗液。
硫酸可以使有机物脱—水而碳化，而双氧水可将碳化产物氧化成一氧化碳或二氧化碳气体。
4）Ultrapure water （UPW。
通常叫做DI水。