新型微显示技术
microled显示安全标准
一、微LED显示技术简介微LED显示技术是一种新型的显示技术，它采用了微米级小尺寸LED作为显示元素，具有高亮度、高对比度和宽色域等优点，被认为是液晶显示和OLED显示技术的继任者，有望在未来取得较大突破。
微LED显示技术的发展对安全标准提出了新的挑战和要求。
二、微LED显示技术的安全问题1. 蓝光危害问题：微LED显示屏中的蓝光辐射对眼睛有一定程度的伤害，长时间暴露在蓝光下容易导致眼睛疲劳和视网膜损伤，对用户的健康构成潜在风险。
2. 辐射安全问题：微LED显示屏中产生的电磁辐射对人体健康也存在一定的潜在风险，尤其是在长时间接触的情况下，可能会对人体产生不利影响。
三、微LED显示的安全标准1. 对蓝光辐射的控制：为了保护用户的视力健康，微LED显示屏在设计时需要符合相关的蓝光辐射限制标准，有效控制蓝光辐射的强度和时间，降低对眼睛的伤害。
2. 电磁辐射的控制：微LED显示屏在设计和使用过程中需要符合相关的电磁辐射限制标准，降低对人体的辐射影响，保护用户的健康安全。
四、微LED显示技术的安全标准制定与执行1. 研究与制定：相关部门和机构需要进行深入研究，制定出针对微LED显示技术的安全标准，明确蓝光辐射和电磁辐射的限制要求。
2. 监管与执行：相关监管机构需要对微LED显示产品进行严格的检测和监管，确保其符合安全标准要求，并对违规产品进行处罚和下架处理。
五、未来展望微LED显示技术的发展势不可挡，随着技术的成熟和市场的普及，人们对其安全性的关注将越来越高。
随着安全标准的不断完善和执行，微LED显示技术将更好地为用户提供安全可靠的显示体验。
通过以上内容，我们对微LED显示技术的安全标准有了初步的了解。
希望相关部门和机构能够加强对该技术安全标准的研究与制定，保障用户的健康和安全。
希望广大用户在选购微LED显示产品时，注重产品的安全标准和质量，共同维护自身权益和健康。
六、微LED显示技术的安全标准与行业规范1. 国际安全标准：随着微LED显示技术的发展，国际上也需要加强对微LED显示产品的安全标准制定，联合国和国际电工委员会（IEC）等国际组织需要积极主导并参与相关标准的制定，将其纳入国际安全标准体系。
qled光学微腔原理
QLED光学微腔原理一、QLED技术概述QLED，全称为Quantum Dots LED，是一种新型的显示技术，它结合了量子点技术和LED技术，旨在提供更高的色彩纯度、更高的亮度和更长的寿命。
QLED显示屏通过使用量子点材料，能够显示更广的色域，提供更生动的颜色表现。
其工作原理是利用量子点受光后发射特定波长光线的特性，实现精准的光谱调控和色彩管理。
二、光学微腔原理光学微腔是一种在微纳米尺度上对光进行限制和共振的器件。
其主要工作原理是通过精确设计微腔的形状、大小和折射率，使光在特定条件下在腔内共振，从而增强光的局域场强度并实现有效的光能局域化。
这种结构可以显著提高光的利用效率和发光器件的亮度。
三、QLED与光学微腔的结合将QLED技术与光学微腔原理相结合，可以实现一种新型的高效、高亮度的显示技术。
这种结合可以进一步提高QLED的色彩饱和度和亮度，同时降低能耗。
在QLED光学微腔结构中，量子点被置于微腔的共振器中，光在微腔内产生共振，使得QLED的发射光谱变得狭窄且稳定。
此外，这种结构还能通过调控微腔的参数，实现对QLED发射波长的精确调控。
四、QLED光学微腔的优点与挑战优点：1.高色彩饱和度：由于光学微腔的作用，QLED的光谱变得狭窄，从而提高了色彩纯度和饱和度。
2.高亮度：通过共振效应，QLED的光强得到增强，实现了高亮度的显示效果。
3.低能耗：由于光谱窄化和共振效应，QLED的光利用率得到提高，从而降低了能耗。
4.长寿命：QLED本身就具有较长的寿命，结合光学微腔结构后，其稳定性进一步提高。
挑战：1.工艺难度：在制造过程中，需要高度精确地控制微腔的结构参数和量子点的性质，这增加了制造难度和成本。
2.温度稳定性：在实际应用中，温度变化可能会影响QLED和光学微腔的性能，因此需要解决温度稳定性问题。
3.光学损耗：在某些情况下，光学微腔可能会产生额外的光学损耗，这需要进一步研究和优化。
五、未来展望随着科技的不断进步和应用需求的提高，QLED光学微腔技术在未来有望取得更多的突破和发展。
micro led 漏电流 标准
微LED技术是一种新兴的显示技术，它以微米级LED芯片作为光源，可实现更高的分辨率和更广的色域。
这种技术一直备受关注，但同时也面临着一些挑战，其中之一就是漏电流标准的制定和实施。
1. 微LED技术微LED技术是一种新型的显示技术，它采用微米级的LED芯片作为像素点，可以实现高分辨率、高亮度和高对比度的显示效果。
相比传统的液晶和OLED技术，微LED具有更高的潜力和发展前景。
2. 漏电流问题在微LED显示器中，漏电流是一个关键的问题。
由于LED本身的特性，微LED显示器可能出现漏电流现象，这不仅会影响显示效果，还可能对设备的稳定性和安全性造成影响。
3. 标准的重要性针对微LED显示器中的漏电流问题，制定和实施漏电流标准显得尤为重要。
这不仅可以帮助制造商和消费者更好地了解产品的性能和品质，还可以促进整个行业的健康发展。
4. 制定标准的挑战然而，制定微LED显示器漏电流标准并非易事。
由于微LED技术本身就处于不断发展和完善的阶段，相关的测试方法和评价标准也需要不断地进行更新和改进。
微LED显示器的制造和应用环境多种多样，制定一套适用于各种情况的标准也是一个挑战。
5. 个人观点和理解从我个人的观点来看，制定微LED显示器漏电流标准是非常必要的。
只有建立起科学、严谨的标准体系，才能有效地解决漏电流问题，提升产品的品质和用户体验。
当然，这需要行业内各方的努力和合作，希望未来能够看到更多的进展和成果。
总结回顾：微LED技术作为新型的显示技术，具有巨大的发展潜力。
然而，在推动技术发展的过程中，漏电流问题成为一个需要重视的挑战。
为了解决这一问题，制定和实施漏电流标准显得尤为重要。
只有建立起科学、严谨的标准体系，才能够推动微LED技术迈向更广阔的未来。
微LED 技术是一种新兴的显示技术，它使用微米级LED芯片作为光源，能够实现更高的分辨率和更广的色域。
这种技术在智能手机、电视、显示屏等领域有着广泛的应用前景。
然而，微LED技术的发展也面临着一些挑战，其中之一就是漏电流标准的制定和实施。
microled结构原理
microled结构原理MicroLED是一种新兴的显示技术，它的结构原理可以通过以下几个方面来解释和理解。
MicroLED由微小的发光二极管（LED）组成，这些LED被称为MicroLED。
每个MicroLED都是一个独立的发光单元，可以发出自己的光。
与传统的液晶显示器和有机发光二极管（OLED）不同，MicroLED不需要背光源或有机材料，因此具有更高的亮度和更高的对比度。
MicroLED的结构原理与普通LED非常相似。
它由一个正极（阳极）和一个负极（阴极）组成，中间是一个发光层。
当电流通过MicroLED时，负极会向正极注入电子，而正极会向负极注入空穴。
当电子和空穴相遇时，它们会发生复合，并释放出能量。
这个能量会被发光层吸收，从而产生可见光。
第三，MicroLED的结构原理使得它具有许多优点。
首先，由于每个MicroLED都是独立的发光单元，因此可以实现像素级别的控制，显示效果更精确和细腻。
其次，MicroLED具有更高的亮度和更高的对比度，使得图像更加清晰和鲜艳。
此外，MicroLED的响应速度非常快，可以实现更流畅的动态图像显示。
虽然MicroLED技术非常有前景，但目前仍面临一些挑战和限制。
首先，制造MicroLED需要精密的加工工艺，成本较高。
其次，由于MicroLED的尺寸非常小，因此需要高分辨率的驱动电路来控制每个MicroLED的发光。
此外，MicroLED的长期稳定性和寿命也需要进一步改进。
总结起来，MicroLED是一种基于微小发光二极管的新型显示技术，其结构原理通过微小LED的发光和色彩控制来实现。
与传统的显示技术相比，MicroLED具有更高的亮度、更高的对比度和更快的响应速度。
尽管面临一些挑战和限制，但MicroLED仍然被认为是未来显示技术的发展方向之一。
micro led cog 常规制程
Micro LED是一种新型的显示技术，它采用微小的LED芯片作为显示单元，具有高亮度、高对比度、高刷新率和低功耗等优点。
COG（Chip on Glass）是一种常规制程，用于将芯片直接封装在玻璃基板上。
Micro LED的制程过程通常包括以下几个步骤：
1. 原材料准备：准备LED芯片所需的原材料，包括LED芯片、基板、封装材料等。
2. 芯片制备：将LED芯片制备成微小的尺寸，通常采用半导体工艺，包括晶圆制备、薄膜生长、光刻、蚀刻等步骤。
3. 基板准备：准备玻璃基板，通常采用特殊的玻璃材料，具有良好的光透过性和机械强度。
4. COG封装：将制备好的LED芯片直接封装在玻璃基板上，通常采用COG技术，将芯片粘贴在基板上，并使用导线连接芯片和基板。
5. 封装材料：在COG封装完成后，使用封装材料对LED芯片进行保护，以提高其稳定性和可靠性。
6. 测试和调试：对封装好的Micro LED进行测试和调试，确保其正常工作。
需要注意的是，Micro LED的制程相对复杂，需要高精度的设备和工艺控制，目前仍处于发展阶段，尚未实现大规模商业化生产。
四种新型高清显示技术对比
四种新型高清显示技术对比以LCD、PDP、DLP、LCoS为代表的新兴显示技术，代表了数字电视时代电视机技术发展的方向，注定成为显像管电视机的终结者。
数字电视，特别是高清晰度电视机，也注定成为世界电视发展的潮流。
随着我国经济水平的发展，特别是迎合2008年北京奥运会的契机，HDTV节目出现在我们身边的时间并不遥远……以LCD、PDP、DLP、LCoS为代表的新兴显示技术，代表了数宁电视时代电视机技术发展的方向，注定成为显像管电视机的终结者。
数字电视，特别是高清晰度电视机，也注定成为世界电视发展的潮流。
随着我国经济水平的发展，特别是迎合2008年北京奥运会的契机，HDTV节目出现在我们身边的时间并不遥远。
下面将分别介绍LCD、PDP、DLP、LcoS 4种新兴的显示技术的优缺点和前景。
LCD——液晶电视液晶电视和传统的显像管电视机比，液晶电视机具有很多优势：1、显示质量高，无闪烁；2、无电磁辐射；3、画面效果好，无变形，是真正的纯平显示；4、屏幕大小可伸缩性好。
目前最大的LCD显示屏可以大到65英寸，小的却可以使用到数码相机和手机上。
其体积和重量均比CRT要小许多。
5、清晰度高，可真正实现HDTV的效果；6、数字式工作方式，更完美的表现数字图像信号；7、功耗小，只有同面积CRT电视机的1/10~1/7。
相对于同样是平板电视成员的PDP电视，LCD电视也有一些PDP电视所没有的优点：l、使用寿命更长，PDP显示器的标称寿命大多在2.5万~3万小时，而且是不可恢复的，这与LCD 显示器的5万~7.5万小时（可以通过更换背光管恢复）相比要逊色很多；2、比PDP彩电功耗更低，更省电；3、液晶电视作为3C产业融合的重要产品，吸引了众多IT厂商和家电厂商的共同参与，将有助于液晶电视成本的降低，将市场做大。
PDP——等离子电视在平板电视家族中，除了LCD以外，就是PDP了。
PDP，即等离子显示器，是继LCD之后的最新显示技术之一。
等离子电视原理
等离子电视原理
等离子电视是一种利用等离子体原理显示图像的新型显示技术。
它由大屏幕的玻璃板、氙气和氮气混合物等组成。
首先，等离子电视屏幕由数百万个微小的电容构成，每个电容由两个玻璃板和介于之间的等离子体层组成。
等离子体层包含了许多电离的气体分子，通常包括氙气和氮气。
这两种气体在屏幕被加电时会变成等离子体。
当等离子体被加上适当的电压时，它们开始发出紫外线光。
这些紫外线光经过屏幕上的红、绿和蓝色荧光物质的激发后，转变成可见的彩色光。
荧光物质覆盖在玻璃板上，并被分成许多像素，每个像素都能发出不同颜色的光。
当光碰到像素时，它的颜色和亮度根据像素的电压来调整。
每个像素的电压可以通过控制电场被改变，从而改变像素的颜色和亮度。
这使得我们可以在屏幕上显示各种图像和视频。
等离子电视的优点是其高对比度、宽视角、高刷新率和响应速度快。
它们能够产生鲜艳的色彩和清晰的图像，适合用于高清电影和游戏。
然而，等离子电视也有其缺点，比如能耗较高、屏幕容易烧屏，并且较重。
总的来说，等离子电视利用等离子体原理将电流转化为可见光，通过控制像素的电压来显示图像和视频。
它们在大屏幕显示和高品质图像方面有优势，但还需要进一步改进来解决其劣势。
microOLED和microLED的技术区别与应用场景
microOLED和microLED的技术区别与应用场景micro OLED来袭？根据Nikkei 消息，苹果合作伙伴台积电（TSMC）正在开发先进的 micro OLED 屏幕技术，这项技术将应用在传言中的苹果 AR 眼镜Apple Glass。
目前，台积电的 micro OLED 屏幕技术处于试产阶段，这意味着适合消费级产品的大规模量产还需要几年的时间。
与传统便携式电子设备上使用的 LED 面板和 OLED 模组不同的是，micro OLED 技术可以提供更高分辨率、更好的能耗，同时尺寸更小，因此也更适合 AR 设备。
大部分面板厂商都擅长于将屏幕做的越来越大，但AR 眼镜需要更薄、更轻的屏幕。
台积电擅长开发和生产超小尺寸的技术，例如这次的 micro OLED。
Micro-OLED微显示器件采用单晶硅晶圆（Wafer）为背板，具有自发光、厚度薄、质量轻、视角大、响应时间短、发光效率高等特性，而且更容易实现高PPI（像素密度）、体积小、易于携带、功耗低等优异特性，特别适合应用于近眼显示设备。
随着市场应用的持续扩大，对Micro-OLED微显示产品的关注程度日渐提升。
Micro-OLED优势•自发光，色彩效果更丰富•可实现高分辨率•采用全固态器件，工作温度范围宽•抗震性好•响应速度快•发光效率高，能耗低•集成度高•体积小，便于携带Micro-OLED产品特性•色域高•对比度高达10,000:1•电池重量轻•耗电低，比LCD功能耗小20%。
•响应速度快，像素更新所需时间小于1μs什么是Micro LED技术？Micro LED技术，即LED微缩化和矩阵化技术。
指的是在一个芯片上集成的高密度微小尺寸的LED阵列，每个像素都能独立驱动，可看成是户外LED显示屏的微缩版，将像素点距离从毫米级降低至微米级。
Micro LED是一种全新的显示技术，具备高解析度、高亮度、高对比度、高色彩饱和度以及低功耗、反应速度快、厚度薄、寿命长等特性。
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2013-11-17 28
氮化镓基蓝光LED
• 氮化镓基蓝、绿 光AlGaInN-LED 的出现是LED发 展史上的又一里 程碑，使户外全 色显示和半导体 照明成为可能。
2013-11-17 29
9，数字打印全息（DPH）
• 数字打印全息
视频全息显示（Holovideo）
3，全息打印系统
2，绘制全息掩模
2013-11-17 5
CRT （阴极射线管）
A,阴极; B,导电涂层; C,阳极; D,色屏; E,电子束; F,掩模板.
2013-11-17 6
CRT显示器的厚度减少 “short-neck”
• 生产CRT的公司还在继续完善他们的 工艺。
• 阴极（Cathodes）、聚焦栅（focusing grids），透镜（lenses），荧光粉 （phosphors），偏转线圈（deflection yokes）,网格过滤器（screen filters）以及 显示器中其它的组件仍然在不断进行 改进; • 目的是提供更出色的显示效果。厂家 也一直努力把显示器的调节控制改进 的更简便，更易于用户理解和操作， CRT显示器技术仍在不断地改进的。
2013-11-17 8
DLP的基础是DMD
• DMD • Digital • MicrroMirror • Device
2013-11-17 9
DLP显示系统
2013-11-17 10
DLP显示系统
2013-11-17 11
DLP/DMD
DMD
电子控制
• DLP
光学元件
光源
色轮
DMD
2013-11-17 12
阳极 色彩荧 行电极 列电极
2013-11-17 16
AM-FED
• 活性矩阵场发射显示
2013-11-17 17
微锥场发射FED
• FED
2013-11-17 18
5,有机发光二极管 (OLED)
• 有机发光二极管显示 技术的原理是：当用 碳、氧、或氢等有机 材料制成的薄膜受到 电荷的激发时，这些 材料会释放出特定颜 色的光子。 目前这种显示技术的 唯一缺陷是由有机物 老化而导致的设备寿 命较短。
• 对上述几种现代显示技术在结构, 原理和技术特点等方 面作了比较。特别是对液晶硅 显示(LCOS)的结构和原 理以及发展趋势和市场趋向作较详细地分析。
2013-11-17 2
次目
• 几种现代显示技术概述 • 数字硅基反射液晶显示技术
• LCOS 微显示器的构成
• LCOS 微显示器工作原理 • LCOS 微显示器的应用 • LCOS的发展趋势及面临的问题 • LCOS的应用的市场分析
2013-11-17 13
PDP的结构示意图
PDP等离子电视具有无辐射、
图像无闪烁、厚度薄、重量轻、色 彩鲜艳、图像逼真等特点，使用寿 命可达3万小时以上。而且，等离子 电视在屏幕大型化方面相对容易 (42”—65”)
2013-11-17 14
4,场发射显示 器（FED）
色彩单元
• FED 与传统 CRT 有许 多类似的地方。不过与 CRT 不同的是， CRT 仅一把电子枪向屏幕内 表面发射电子，而 FED 可多达几 千万个微锥发 射电子。 由于 FED 采用了多电子 枪技术，显示器物理尺 寸可大幅度变小，从而 摆脱了传统 CRT 技术对 大屏幕电视机重量和屏 幕尺寸的限制。
一种新的微显示技术
数字硅基反射液晶 (LCOS)显示技术的进展
中国科学院广州电子技术研究所
王天及
2013-11-17 1
摘要
• 介绍几种现代显示技术的发展概况。 • 1，阴极射线管 （ CRT ）, 2，数字光处理技术 （DMD-DLP）, 3，等离子显示板（PDP） , 4，场发 射显示器（FED）, 5，有机发光二极管 (OLED), 6,光 栅光阀(GLV)投影显示器, 7,液晶显示系统（LCD）, 8, 全色发光二极管（LED）, 9,数字打印全息图（DPH） 及视频全息（Holovideo）, 10,全息背投屏 （Holoscreen）, 11，液晶硅（LCOS）。
3,等离子显示板
（Plasma Display Panel ，PDP）
前板玻璃 透明电极 介电层 保护层 色彩荧层 间隔肋 玻璃基板 寻址 电极
• PDP 显示器成像原理与氖气 灯或荧光灯工作原理基本一 致，即利用电场激发惰性气 体来发光。在 PDP 显示器里， 惰性气体被夹在两块带透明 电极的玻璃基板之间。 当电压作用于其中一块玻璃 基板上的电极时，由表面放 电产生的紫外线激发涂在另 一块玻璃板内表面的荧光粉 发光，光线穿过玻璃板生成 图像。由于荧光粉被涂成了 红，绿，蓝色，因而生成的 图象是彩色的。
2013-11-17 21
光栅光阀(GLV)投影显示器
• 美国斯坦福大学David Bloom研制成的这 种称之为光栅光阀投影显示器，每帧图像 的像素数可达1920*1080个。该投影机的 核心系统是一小型变形光栅，衍射光是以 不同的衍射角从变形光栅中射出的，用简 单的光学系统加以会聚后就可在屏幕上显 示出高对比度的彩色图像。
2013-11-17 36
新一代背投显示屏
Next Generation Rear Projection Displays
• H
2013-11-17 37
全息背投屏的特点
耐候性 高透光性
高亮度、高对比度
• holo
可触摸 抗UV 易保养
2013-11-17 38
全息背投屏
• 全息
2013-11-17 39
2013-11-17 24
7,LCD显示系统
• 20世纪70年代初，世界上出现 了第一台液晶显示设备，被称 之为TN-LCD（扭曲向列）液晶 显示器； • 当时是单色显示，被推广到电 子表、计算器等领域； • 80年代，STN-LCD（超扭曲向 列）液晶显示器出现，同时 TFT-LCD（薄膜晶体管）液晶 显示器技术被研发出来； • 80年代末90年代初，STN-LCD 及TFT-LCD生产技术成熟， LCD工业开始高速发展。
激 光
2013-11-17 32
10，Holoscreen
• 全息背投屏 Holoscreen是一片半 透明的显示屏幕，可让 观众同时看见屏幕上的 画面与屏幕背后的景物
2013-11-17 33
全息背投屏
• Holoscreen是在一块光洁透 明的有全息图的玻璃板（或 丙烯酸透明板）上显示DLP、 LOCD或LCD投影机的图像。 • 用光敏聚合物 （Photopolymer）制作的全 息图具有棱镜的折射光的能 力。 • 设计投影机以35度角投射至 全息屏上，全息图仅响应该 角度来的光。
2013-11-17 40
(一),数字硅基反射液晶显示技术
• 普通液晶显示器由于采用透射式工作方式， 会造成照明光被吸收从而导致亮度不高，因 此液晶显示器的用途受到一定的限制。 • 而液晶硅显示器由于采用了反射式装置，在 功耗相同的情况下光源产生的光将更多地经 过光学传输介质从而提高亮度。
11,液晶硅 (LCOS)显示
• LCOS 即液晶硅显示,亦称硅晶是一种 新型微显示技 术。LCOS是Liquid Crystal On Silicon的缩写。
• LCOS是一种全新的数码成像技术，也 叫数字硅基反射液晶显示技术，它采 用半导体CMOS集成电路芯片作为反 射式LCD的基片，CMOS芯片上涂有 薄薄的一层液晶硅，控制电路置于显 示装置的后面，可以提高透光率，从 而实现更大的光输出和更高的分辨率。
2013-11-17 25
LCD显示结构
示意图
• LCD工作原理示意图
2013-11-17 26
LCD投影机与LCD-TV
• LCD液晶屏幕具有高亮 度、高对比度 等显著特 点，有16.7百万的显示 色彩，且色彩绚 丽真实。 液晶屏幕的最佳分辨率 达 1024×768，具有非 常高的清晰度，画面无 闪烁,无辐射,寿命长,省 电等优点。
2013-11-17 15
FED门 电子发射微锥
场发射显示器（FED）示意图
金刚石及其相关薄膜冷阴极场发射
的源头创新
• 采用金刚石及其相关薄膜作为发射体的平面型FED 是一个创新。这一源头创新工作是中山大学许宁生 教授1993年在英国完成的。他首次在CVD金刚石薄 膜上发现了大面积电子发射现象。作为发射体的平 板显示器 具有美好的应用前景。 • 采用碳纳米管冷阴极发光管由于其亮度高、色彩饱 和度好、响应快、视角宽等优点，适合高亮度大屏 幕显示。
2013-11-17 3
几种现代显示技术
• 1，阴极射线管 （ CRT ）
• 2，数字光处理技术（DLP） • 3，等离子显示板（PDP）
• 4，场发射显示器（FED）
• 5，有机发光二极管 （OLED） • 6，光栅光阀（GLV）投影显示器 • 7， 液晶显示系统（LCD） • 8， LED大屏幕显示（ LED）
2013-11-17 7
2,数字光处理技术（DLP ）
• 数字光处理技术（ Digital Light Processing ,DLP）是 利用微型反光镜对光进行定 向 反射。这种技术由 Texas 仪器公司首创。 一块 DLP 集成电路表面可 任意集成 800 到一百万块 微型反光镜。微型反光镜定 位后可倾斜 -10 到 +10 度。
2013-11-17 19
OLED
• 右上图拿在手中的为有机 发光器件，厚度极薄，却 可以显示字画，被形象地 成为“电子纸” 。
• 中图为嵌在衣服上的 OLED显示， • 下右边为LCD显示;下左 为OLED.
2013-11-17 20
光栅光阀 (GLV)
• Grating Light Valve 即 光栅光阀由 David Bloom 在 Stanford 大学研制成 功。 • 该集成电路由集成于硅芯 片上的微反射带构成。对 硅芯片施加电场会导致硅 芯片上面的微反射带发生 变形，这就改变了微反射 带的反射参数，从而控制 光的反射成像。