半导体物理学
半导体物理学前置课程

半导体物理学前置课程
半导体物理学前置课程一般包括以下内容:
1. 固体物理学基础知识:晶体结构、晶格振动、电子能带理论、电子自旋、晶格缺陷等。
2. 电磁学基础知识:电场、磁场、电磁辐射等。
3. 量子力学基础知识:量子力学原理、波函数、量子态、哈密顿算符等。
4. 固体能带理论:包括价带和导带的理解、半导体的能带结构、半导体材料的能带间隙等。
5. 简单能带模型:包括紧束缚模型、自由电子气模型、等效质量近似等。
6. 电子与声子的相互作用:介电函数、声子谱、声子与电子的散射等。
7. 电子在晶体中的输运性质:包括导电性、迁移率、扩散、简单的输运方程等。
8. 光电子学基础知识:吸收、发射、散射、色谱、光电子光谱等。
9. pn结和二极管:pn结的形成、Zero bias和封锁态、偏置态、
二极管的I-V特性、二极管的基本应用等。
10. 器件物理:包括MOS结和MOSFET、BJT、HEMT、HBT 等器件的基本原理和工作原理。
以上是一个大致的半导体物理学前置课程的内容,具体课程内容可能会根据不同学校和教师的要求有所不同。
半导体物理学第8版

半导体物理学第8版半导体物理学是研究半导体材料及其性质、行为和应用的学科。
随着半导体技术的不断发展与应用,半导体物理学也成为了现代电子学中的重要分支领域。
半导体物理学的研究对象主要是半导体材料,这些材料具有介于导体和绝缘体之间的特性。
半导体材料的主要特点是在低温下表现为绝缘体,但在高温下或受到外界电场或光照的激励下表现出导体的特性。
这种特性使得半导体材料在电子学和光电子学领域中具有广泛的应用。
在半导体物理学中,研究者主要关注半导体材料的电子结构、载流子输运、能带理论、半导体器件等方面。
电子结构研究揭示了半导体材料中电子的能级分布情况,以及能带间距、禁带宽度等参数的影响。
载流子输运研究则关注电子和空穴在半导体中的运动规律,以及外界电场对其运动的影响。
能带理论是解释半导体材料中电子行为的基础理论,它描述了电子在能带中的分布和运动规律。
半导体器件研究则是将半导体材料制成各种电子器件,如二极管、晶体管、光电二极管等,研究其工作原理和性能。
半导体物理学的研究对现代电子技术的发展起到了重要的推动作用。
半导体材料的特性使得它在电子学中具有广泛的应用。
例如,晶体管作为一种重要的半导体器件,被广泛应用于放大和开关电路中。
光电二极管则利用半导体材料对光的敏感性,实现了光电转换功能。
此外,半导体材料还被应用于光电子学领域,如激光器、太阳能电池等。
半导体物理学的研究也促进了半导体材料的制备技术的发展。
通过研究和理解半导体材料的物理性质,科学家们不断改进半导体材料的制备方法,提高材料的纯度和晶体质量。
这些技术进步为半导体器件的制造提供了可靠的基础,也为电子技术的发展提供了强大的支持。
半导体物理学作为研究半导体材料及其性质、行为和应用的学科,对现代电子学的发展起到了重要的推动作用。
通过对半导体材料的电子结构、载流子输运、能带理论和半导体器件等方面的研究,我们可以深入了解半导体材料的特性和行为,从而推动半导体技术的不断发展与应用。
材料物理学中的半导体物理学基础

材料物理学中的半导体物理学基础半导体是材料物理学中的重要研究领域,它是指在温度低于一定值时,电子和空穴在半导体内的运动形式。
半导体具有众多的应用,如电子器件、光电器件、太阳能电池、光纤通信等。
因此,研究半导体物理学基础对于半导体的开发和利用至关重要。
半导体的能带结构是物理学中的基础概念。
半导体的能带是指在材料中电子的能量状态,可以理解为一段区域,其中电子的能量只能存在于这个区域中。
一般来说,半导体的能带分为价带和导带两部分。
在温度为零时,价带中没有自由电子,导带中也没有空穴。
当外界施加电磁场或者加热半导体材料时,电子从价带上跃迁到导带,这一过程形成了电导率,即电流流动的能力。
在半导体中,价带和导带之间的带隙非常重要。
带隙是指两个能带之间的能量差,其大小决定了电子能否被激发到导带中,并产生电流。
对于氧化物半导体材料,带隙一般约为3.5-4.5电子伏特(eV),而对于硅和锗等元素半导体材料,带隙则较小,约为0.6-1.1电子伏特(eV)。
在半导体材料中,带隙的大小是材料电特性的重要参数之一。
半导体的电导率和自由电子浓度密切相关。
热激发可以使部分价带内的电子跃迁到导带内,形成导电效应。
另外,在加上外部电场的作用下,电子可以被加速到足以克服带隙的极限电压,从而产生电流。
传导带中的电子数目与温度和掺杂浓度有关,一般越高的温度和掺杂浓度会有更多的自由电子,因此,导电效应也会更加显著。
掺杂是半导体物理学中的重要研究领域。
为了使半导体具有更多的自由电子,人们将一些杂质元素质入半导体中,改变其能带结构,从而使其导电性质得到改善。
掺杂可以分为两类,即N型和P型。
在N型半导体中,掺入的杂质元素一般为五价元素,如磷,可以使其失去一个电子,形成自由电子。
而在P型半导体中,掺入的杂质元素一般为三价元素,如硼,可以形成一个空穴,在空穴中存在的电子数目较少,因此可以形成空穴电流。
掺杂的专业术语是替位杂质、替位掺杂,实际上就是使一部分Si或Ge离子受到片上杂质原子的影响而发生质点和电子的复合作用,产生N、P两种导电材料。
半导体物理学题库

半导体物理学题库半导体物理学是研究半导体材料物理性质和内部微观过程的学科,它对于现代电子技术的发展起着至关重要的作用。
为了帮助大家更好地学习和掌握这门学科,我们精心整理了一份半导体物理学题库。
一、选择题1、以下哪种材料不是常见的半导体?()A 硅B 锗C 铜D 砷化镓答案:C解析:铜是导体,不是半导体。
硅、锗和砷化镓都是常见的半导体材料。
2、半导体中载流子的主要类型有()A 电子和空穴B 正离子和负离子C 质子和中子D 原子和分子答案:A解析:在半导体中,参与导电的载流子主要是电子和空穴。
3、本征半导体的电导率主要取决于()A 温度B 杂质浓度C 晶体结构D 外加电场答案:A解析:本征半导体的电导率主要由温度决定,温度升高,本征激发增强,载流子浓度增加,电导率增大。
4、施主杂质在半导体中提供()A 电子B 空穴C 电子和空穴D 既不提供电子也不提供空穴答案:A解析:施主杂质能够释放电子,从而增加半导体中的电子浓度。
5、受主杂质在半导体中提供()A 电子B 空穴C 电子和空穴D 既不提供电子也不提供空穴答案:B解析:受主杂质能够接受电子,从而增加半导体中的空穴浓度。
二、填空题1、半导体的能带结构中,导带和价带之间的能量间隔称为________。
答案:禁带宽度2、常见的半导体晶体结构有________、________和________。
答案:金刚石结构、闪锌矿结构、纤锌矿结构3、本征半导体中,电子浓度和空穴浓度的乘积是一个________。
答案:常数4、半导体中的扩散电流是由________引起的。
答案:载流子浓度梯度5、当半导体处于热平衡状态时,费米能级的位置在________。
答案:禁带中央附近三、简答题1、简述半导体的导电机制。
答:半导体的导电机制主要依靠电子和空穴两种载流子。
在本征半导体中,温度升高时,价带中的电子获得能量跃迁到导带,形成电子空穴对,从而产生导电能力。
在外加电场作用下,电子和空穴分别向相反的方向移动,形成电流。
半导体物理学__基本概念

半导体物理学基本概念有效质量-----载流子在晶体中的表观质量,它体现了周期场对电子运动的影响。
其物理意义:1)有效质量的大小仍然是惯性大小的量度;2)有效质量反映了电子在晶格与外场之间能量和动量的传递,因此可正可负。
空穴-----是一种准粒子,代表半导体近满带(价带)中的少量空态,相当于具有正的电子电荷和正的有效质量的粒子,描述了近满带中大量电子的运动行为。
回旋共振----半导体中的电子在恒定磁场中受洛仑兹力作用将作回旋运动,此时在半导体上再加垂直于磁场的交变磁场,当交变磁场的频率等于电子的回旋频率时,发生强烈的共振吸收现象,称为回旋共振。
施主-----在半导体中起施予电子作用的杂质。
受主-----在半导体中起接受电子作用的杂质。
杂质电离能-----使中性施主杂质束缚的电子电离或使中性受主杂质束缚的空穴电离所需要的能量。
n-型半导体------以电子为主要载流子的半导体。
p-型半导体------以空穴为主要载流子的半导体。
浅能级杂质------杂质能级位于半导体禁带中靠近导带底或价带顶,即杂质电离能很低的杂质。
浅能级杂质对半导体的导电性质有较大的影响。
深能级杂质-------杂质能级位于半导体禁带中远离导带底(施主)或价带顶(受主),即杂质电离能很大的杂质。
深能级杂质对半导体导电性质影响较小,但对半导体中非平衡载流子的复合过程有重要作用。
位于半导体禁带中央能级附近的深能级杂质是有效的复合中心。
杂质补偿-----在半导体中同时存在施主和受主杂质时,存在杂质补偿现象,即施主杂质束缚的电子优先填充受主能级,实际的有效杂质浓度为补偿后的杂质浓度,即两者之差。
直接带隙-----半导体的导带底和价带顶位于k空间同一位置时称为直接带隙。
直接带隙材料中载流子跃迁几率较大。
间接带隙-----半导体的导带底和价带顶位于k空间不同位置时称为间接带隙。
间接带隙材料中载流子跃迁时需有声子参与,跃迁几率较小。
平衡状态与非平衡状态-----半导体处于热平衡态时,载流子遵从平衡态分布,电子和空穴具有统一的费米能级。
《半导体物理学》课件

半导体物理学是现代电子科技和信息 科技的基础,对微电子、光电子、电 力电子等领域的发展具有至关重要的 作用。
半导体物理学的发展历程
19世纪末期
半导体概念的形成,科学家开始认识到 某些物质具有导电性介于金属和绝缘体
之间。
20世纪中叶
晶体管的商业化应用,集成电路的发 明,推动了电子科技和信息科技的发
半导体中的热电效应
总结词
解释热电效应的原理及其在半导体中的应用。
详细描述
当半导体受到温度梯度作用时,会在两端产生电压差 ,这一现象被称为热电效应。热电效应的原理在于不 同温度下,半导体内部载流子的分布不同,导致出现 电势差。热电效应在温差发电等领域有应用价值,可 以通过优化半导体的材料和结构来提高热电转换效率 。
分析器件在长时间使用或恶劣环 境下的性能退化,以提高其可靠 性。
THANKS
THANK YOU FOR YOUR WATCHING
06
半导体材料与工艺
半导体材料的分类和特性
元素半导体
如硅、锗等,具有稳定的化学性质和良好的半导 体特性。
化合物半导体
如砷化镓、磷化铟等,具有较高的电子迁移率和 光学性能。
宽禁带半导体
如金刚石、氮化镓等,具有高热导率和禁带宽度 大等特点。
半导体材料的制备和加工
气相沉积
通过化学气相沉积或物理气相沉积方法制备 薄膜。
05
半导体器件的工作原理
二极管的工作原理
总结词
二极管是半导体器件中最简单的一种 ,其工作原理基于PN结的单向导电性 。
详细描述
二极管由一个P型半导体和一个N型半 导体结合而成,在交界处形成PN结。 当正向电压施加时,电子从N区流向P 区,空穴从P区流向N区,形成电流; 当反向电压施加时,电流极小或无电流 。
半导体物理学刘恩科知识点总结

半导体物理学刘恩科知识点总结半导体是一种由大量导电粒子组成的具有特殊性质,特别是对电流敏感、且不易被杂质和缺陷所掺杂的物质。
半导体又称为绝缘体,但这只是相对而言,它仍然可以被看做导体。
从结构上来说,纯净的半导体也是由两种载流子:导带中的电子和价带中的空穴所组成;另外还存在着三种束缚态:即导带底中的自由电子,价带顶中的空穴和禁带中的空穴。
我们把这样的半导体叫做绝缘体。
现实生活中最常见到的半导体是硅( si)材料,其他常用的材料还包括砷化镓、磷化镓、锑化铟、锗( ge)等等。
硅属于金属氧族元素,化学符号为 Si,常温下硅以单质状态存在,常见的硅材料是一种具有金属光泽的灰黑色固体,无毒无味,比较柔软,容易切割,具有优良的导热性、导电性和延展性,在化工生产中应用很广泛。
硅材料具有“刚柔并济”的特点。
刚性表现在受力之后会马上断裂,如果加入氧、氮等元素,还会形成导电、导热性更好的材料。
柔性则是指当受压或受拉伸时,内部分子的排列顺序容易发生变化,使得分子间的连接变弱甚至断开,从而获得弹性。
总的来说,硅材料兼具导电、耐高温的性能。
此外,将硅与硼、铝等非金属元素掺合后,还可制成性能独特的多种半导体器件,例如红外探测器、光电倍增管、热释电探测器等。
所谓“特殊”就是不能再导电了!为什么呢?答案就在半导体中出现的各类缺陷中。
通俗地讲,半导体就像人体的血液一样,流动着各式各样的“细胞”,它们之间交换的信息都通过载流子传递给了外界环境。
在这些携带着数据信息的“小蝌蚪”(电子)中,除了少量与原料本身的性质直接相关之外,其余的大部分都起到调控作用。
为什么要选择硅作为原材料呢?主要基于几方面的考虑:第一、纯度较高,这里的纯度指的是没有掺杂杂质的硅;第二、物理特性稳定,不怕腐蚀;第三、导电性好,在电路设计中必须要求对电流比较敏感;第四、具有较低的价格。
第五、高温条件下仍然保持优良的稳定性,能够满足大规模集成电路芯片的需要。
正是由于具备了这些先天的优势,使得半导体材料从诞生伊始便迅速崛起,短短百年的时间已经取代了电子技术领域中许多重要的基础性元件。
刘恩科半导体物理学

刘恩科半导体物理学半导体物理学是研究半导体材料及其性质、特性和应用的学科。
刘恩科半导体物理学是以中国科学家刘恩科命名的,他是中国半导体物理学的开拓者和奠基人。
本文将介绍刘恩科半导体物理学的研究内容、重要成果以及对半导体技术发展的贡献。
刘恩科半导体物理学主要研究半导体材料的电学和光学性质,以及半导体器件的物理特性和工作原理。
半导体材料是介于导体和绝缘体之间的一类材料,具有导电能力的同时也能够控制电流流动。
半导体器件是利用半导体材料的特性制成的电子器件,如二极管、场效应晶体管(MOSFET)、光电二极管等。
刘恩科半导体物理学的研究内容包括半导体材料的能带结构、电子与空穴运动、载流子的输运、杂质掺杂、PN结、MOS结构等。
通过对这些基本的物理过程的研究,可以深入理解半导体材料的特性和器件的工作原理,从而推动半导体技术的发展。
刘恩科半导体物理学的重要成果之一是对半导体光电子学的研究。
光电子学是利用光与半导体材料相互作用的现象和机制来实现能量转换和信息处理的学科。
刘恩科在半导体光电子学领域做出了重要贡献,研究了半导体材料的光学性质以及光与电子的相互作用机制,提出了一系列重要理论和实验结果。
这些成果不仅推动了半导体光电子学的发展,也为光电子器件的设计与制造提供了基础。
刘恩科半导体物理学还研究了半导体材料的电子输运性质。
电子输运是指载流子(电子或空穴)在半导体材料中自由移动的过程。
刘恩科通过理论计算和实验研究,揭示了半导体材料中电子输运的机制和规律,为半导体器件的性能优化和电子设备的制造提供了理论依据。
刘恩科半导体物理学对半导体技术的发展产生了深远影响。
半导体技术是现代电子信息技术的基础,广泛应用于计算机、通信、光电子、能源等领域。
刘恩科半导体物理学的研究成果为半导体技术的进步提供了理论支持和实验依据,推动了半导体材料与器件的创新和改进。
刘恩科半导体物理学是一门研究半导体材料及其性质、特性和应用的学科,主要研究半导体材料的电学和光学性质,以及半导体器件的物理特性和工作原理。
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E
= EF
则 则 则
1 f(E) = 2
1 f (E) > 2 1 f (E) < 2
EF
A B C D 0 1/ 2 1 f (E )
E < EF
E > EF
随着温度升高,E>EF的量子态被占据的几率 增大;而E<EF的量子态为空的几率也增大。
A, B,C,D 对 应 0 ,3 0 0 ,1 0 0 0 ,1 5 0 0 k
EF是描述热平衡状态下电子系统性质的一个参考量,称为 费米能级
一、费米分布函数和费米能级
如果将半导体中大量电子的集体看成是一个热力学系统,由统计 就是这个热力学系统的化学势,即 理论可以证明,费米能级 理论可以证明,费米能级就是这个热力学系统的化学势,即
∂F EF = µ = ( )T ∂N
� 处于热平衡状态的电子系统具有统一的EF � 只要知道了EF,在一定温度下,电子在各量子态上的统计分布 也就完全确定了。
GaAs 4.35x1017 7.57x1018
注意有效状态密度与温度相关:
T 32 N C (T ) = N C (300 K )( ) 300
一、能带中的载流子浓度
�有效状态密度与温度有关:
NC ∝ T
3
2
Nv ∝ T
3
2
]假设费米能级 EF位于高于价带顶 0.27eV 处, Si 在T=300K 时, [例题 例题] 假设费米能级E 位于高于价带顶0.27eV 0.27eV处, 处,Si Si在 T=300K时,
价带顶在k=0,而且重空穴带 (mp)h和轻空穴带 (mp)l在布里渊区 近似为球面 。 的中心处重合。它们的等能面可以 的中心处重合。它们的等能面可以近似为球面 近似为球面。 价带顶附近的状态密度:
g v ( E ) = g v ( E ) h + g v ( E )l = 4π V ⋅
32 (2m* ) p
)为: 能量为E的量子态被电子占据的几率f(E f(E)
1 f (E ) = E − EF 1 + exp k 0T
费米分布函数 /费米 -狄拉克分布函数 )称为电子的 称为电子的费米分布函数 费米分布函数/ 费米f(E f(E) 是描写热平衡状态下,电子在允许的量 f(E )的物理意义: 的物理意义:是描写热平衡状态下,电子在允许的量 f(E) 子态上如何分布的一个统计分布规律。
h3
( Ev - E )1 2
32 32 23 m* = m = [( m ) + ( m ) 为价带顶空穴状态密度有效质量 p dp p l p h ]
抛物线 性关系: )与(E-EC)之间有 之间有抛物线 抛物线性关系: � gc(E (E)
* 32 (2mn ) 12 gC ( E ) = 4π V ( E − Ec ) h3
' * 3 2 Ec n 3 Ec
3 E - Ec 1 2 E - Ec + Ec - EF E - EC 2 ∫ ( k0T ) (k0T) exp(− k0T )d( k0T )
E − Ec x= k0T
* n 0 3 32
(2m k T ) n0 = 4π ⋅ h
Ec − E F exp( − ) ∫ x1 2 e − x dx k0T 0
二、玻耳兹曼分布函数
�玻耳兹曼分布函数是对费米分布函数 在E-EF>> koT (高能态)时的近似。 >>k
E
玻耳兹曼近似
koT时,可以得到 当EF-E>> -E>>k
EF
⎛ EF − E ⎞ ⎛ E ⎞ 1 − f ( E ) = exp ⎜ − ⎟ = B exp ⎜ ⎟ k T k T 0 ⎝ ⎠ ⎝ 0 ⎠
这是空穴的玻耳兹曼分布函数
0
f(E)
1/2
1.0
二、玻耳兹曼分布函数
E
fB(E)
EF
EC EF
f(E)
0
EV
f(E)
二、玻耳兹曼分布函数
�EF位于禁带内,且与导带底或价带顶的距离远大于koT �导带中的电子分布用电子的玻耳兹曼分布函数描述: 量子态被电子占据的几率非常小;
)迅速减小,故导带中绝大多数电子分布在导 随着能量E的增大,f(E f(E)
n0 = ∫
' EC
EC
dN 1 = V V
' EC
EC
∫
f ( E ) g ( E ) dE
一、能带中的载流子浓度
(2m ) n0 = 4π ⋅ h (2m ) = 4π ⋅ h
引入中间变量 得到
' * 3 2 Ec n 3 Ec
E − EF ∫ (E − Ec ) exp(− k0T )dE
12
一、导带底附近的状态密度
2、求 dZ 或Z 、求dZ dZ或
①等能面为球面:
1 h2k 2 k=0 ,即 E (k ) = EC + 假设导带底在 假设导带底在k=0 k=0,即 * 2 mn
E,以 k + d k 为半径的球面对应 E+dE 以 k 为半径的球面对应 为半径的球面对应E 为半径的球面对应E+dE
第三章 半导体中载流子的统计分布
第三章 Part 1 3.1 状态密度 3.2 费米能级和载流子的统计规律 3.3 电子和空穴浓度的一般表达式 3.4 本征半导体的载流子浓度 3.5 杂质半导体的载流子浓度 3.6 杂质补偿半导体 3.7 简并半导体
3.1 状态密度
) � 状态密度g(E g(E)
将上式变形
k x2 2mt ( E − Ec ) 2 h
+
2 ky
2mt ( E − Ec ) 2 h
+
k z2 2ml ( E − Ec ) 2 h
=1
E的等能面在 k空间所围成的 s个旋转椭球体积内的量子态 能量为 能量为E 的等能面在k 空间所围成的s 数为
4 2 mt ( E − Ec ) [2 ml ( E − Ec )]1 2 Z ( E ) = 2Vs π 3 h2 h
一、导带底附近的状态密度
则导带底(附近)状态密度为
(8s m ml ) dZ ( E ) gC ( E ) = = 4π V ⋅ ( E − Ec)1 2 dE h
令 ,则 有效质量 有效质量,则
* 3 mn = mdn = ( s 2 mt2 ml )1 ,称
2
2 t 3
12
mdn 为导带底电子状态密度
dZ = 2V × 4πk dk
由 E - k 关系可解得:
∗ n
2
(2m ) ( E - EC ) k= h
2
1
1
2
∗ mn dE kdk = 2 h
一、导带底附近的状态密度
得到
1 (2m ) dZ = 4π V ( E - EC ) 2 dE h 3 ∗ 2 n 3
所以
1 (2m ) g ( E ) = 4π V ( E - EC ) 2 h 3 ∗ 2 n 3
* 32 n 3
(2m ) dZ ( E ) gC ( E ) = = 4π V dE h
( E − Ec)
12
二、价带顶的状态密度
①等能面为球面:
h2k 2 E (k ) = Ev 2m* p
g v ( E ) = 4π V ⋅
②实际材料:
3 2 (2 m * ) p
h3
( Ev - E )1 2
x'
一、能带中的载流子浓度
12 (2m k T ) Ec − EF n0 = 4π ⋅ exp(− )∫ x e− x dx h k0T 0
* n 0 3
32
∞
已知:
∞
∫
0
x 1 2 e − T ) n0 = 2 h
其中
∗ n 0 3
32
Ec − EF Ec - EF exp(− ) = N c exp(− ) k0T k0T
带底附近。 �价带中的情况类似。 玻耳兹曼统计规律 的电子系统为非简并系统 (非简并半导体) �服从 服从玻耳兹曼统计规律 玻耳兹曼统计规律的电子系统为非简并系统 的电子系统为非简并系统(非简并半导体) 费米统计规律 的电子系统为简并性系统 (简并半导体) �服从 服从费米统计规律 费米统计规律的电子系统为简并性系统 的电子系统为简并性系统(简并半导体)
一、费米分布函数和费米能级
分析费米分布函数的性质:
E
1 f (E) = E − EF 1 + exp k0T
当T=0K时,
EF
A
E < EF
E > EF
则 则
f (E) = 1
f (E) = 0
0 1/ 2 1 f (E )
一、费米分布函数和费米能级
1 f (E) = E − EF 1 + exp k0T
一、费米分布函数和费米能级
�
EF是量子态基本上被电子占据或基本上空着的一
个分界线。 � EF的位置比较直观的标志了电子占据量子态的状况 � EF标志着电子填充能级的水平。
二、玻耳兹曼分布函数
koT时,费米分布函数 �当E-EF>> >>k
1 f (E) = E − EF 1 + exp k0T
简化为:
* 2(2π mn k0T )3 2 为导带有效状态密度 Nc = h3
一、能带中的载流子浓度
价带中空穴浓度 为: 同理,可得热平衡状态下非简并半导体的 同理,可得热平衡状态下非简并半导体的价带中空穴浓度 价带中空穴浓度为:
1 p0 = V