光胶基础知识
有机硅光学胶
有机硅光学胶
有机硅光学胶是一种特殊的胶水，主要由有机硅材料制成，其化学结构为Si-O-Si键。
它具有很高的透明度、耐热性和化学稳定性，特别适合用于光学领域。
有机硅光学胶的主要用途包括：
1.光学界面粘合。
有机硅光学胶可以作为光学仪器中光学元件之间的粘合剂，具有优异的光学性能和粘合性能。
2.光学涂层。
有机硅光学胶可以涂覆在光学玻璃表面上，形成透明、耐刮擦、防反射等光学涂层，提高光学器件的传输和反射性能。
3.光学封装。
有机硅光学胶可以封装光学器件，防止灰尘、水分、气体等对光学器件的影响，提高其使用寿命和稳定性。
总的来说，有机硅光学胶在光学器件的加工、制造和维修中都有广泛的应用，是光学产业中不可或缺的材料。
光刻胶基础知识
光刻胶基础知识光刻胶也称光致抗蚀剂（Photoresist,P.R.）。
1.光刻胶类型凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶，简称负胶。
凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为正性光刻胶，简称正胶。
1.光刻胶特性灵敏度灵敏度太低会影响生产效率，所以通常希望光刻胶有较高的灵敏度。
但灵敏度太高会影响分辨率。
通常负胶的灵敏度高于正胶。
分辨率光刻工艺中影响分辨率的因素有：光源、曝光方式和光刻胶本身（包括灵敏度、对比度、颗粒大小、显影时的溶胀、电子散射等）。
通常正胶的分辨率要高于负胶。
2.光刻胶材料光刻胶通常有三种成分：感光化合物、基体材料和溶剂。
在感光化合物中有时还包括增感剂。
3.1负性光刻胶主要有聚肉桂酸系（聚酯胶）和环化橡胶系两大类。
3.2正性光刻胶主要以重氮醌为感光化合物，以酚醛树脂为基体材料。
最常用的有AZ 系列光刻胶。
正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。
3.3 负性电子束光刻胶为含有环氧基、乙烯基或环硫化物的聚合物。
3.4 正性电子束光刻胶主要为甲基丙烯甲酯、烯砜和重氮类这三种聚合物。
最常用的是PMMA胶。
PMMA胶的主要优点是分辨率高。
主要缺点是灵敏度低，在高温下易流动，耐干法刻蚀性差。
3.双层光刻胶技术随着线条宽度的不断缩小，为了防止胶上图形出现太大的深宽比，提高对比度，应该采用很薄的光刻胶。
但薄胶会遇到耐蚀性的问题。
由此出现了双层光刻胶技术，也就是超分辨率技术的组成部分。
汶颢微流控技术公司提供AZ 光刻胶和SU 8光刻胶以及光刻胶去胶液和显影液等芯片实验室周边耗材及配件。
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标签: 光刻胶。
【材料】模切人必须要了解的OCA光学胶特性！
【材料】模切人必须要了解的OCA光学胶特性！OCA光学胶：OCA（Optical ClearAdhhesive）用于胶结透明光学元件（如镜头等）的特种粘胶剂。
要求具有无色透明、光透过率在90%以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点。
简而言之，OCA就是具有光学透明的一层特种双面胶！OCA光学胶是重要触摸屏的原材料之一。
是将光学压克力胶做成无基材，然后在上下底层，再各贴合一层離型薄膜，是一种无基体材料的双面贴合胶带。
它是触控屏之最佳胶粘剂。
其优点是清澈度、高透光性(全光穿透率>99%)、高黏著力、高耐候、耐水性、耐高温、抗紫外线，受控制的厚度，提供均匀的间距，长时间使用不会产生黄化( 黄变 )、剥离及变质的问题。
OCA光学胶分为两大类：一类是电阻式的，一类是电容式的；电阻式的光学胶按厚度不同又可分为50um和25um的，电容式的光学胶分为100um，175um，200um的。
光学胶按照厚度不同可应用于不同的领域其主要用途为：电子纸、透明器件粘结、投影屏组装、航空航天或军事光学器件组装、显示器组装、镜头组装、电阻式触摸屏G+F+F、F+F、电容式触摸屏、面板、ICON及玻璃以及聚碳酸脂等塑料材料的贴合用于胶结透明光学元件（如镜头等）的特种胶粘剂。
要求具有无色透明、光透过率在90%以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点。
有机硅橡胶、丙烯酸型树脂及不饱和聚酯、聚氨酯、环氧树脂等胶粘剂都可胶结光学元件。
在配制时通常要加入一些处理剂，以改进其光学性能或降低固化收缩率。
适合于固定移动机器的显示周边的各种薄膜,屏幕(丙烯酸,玻璃屏幕,触摸屏幕等)。
OCA光学胶气泡的产生和解决的方法OCA光学胶在使用真空贴合机贴合完后，贴合面容易留下气泡。
所以我们应去发现这些OCA光学胶气泡是什么样的。
这样的OCA光学胶气泡又怎样去解决。
挺性型再发气泡：G+G贴合施压后随之对TP 油墨段差产生压力，TP材质挺性不会消失，所以在油墨边缘就会产生挺性型再发气泡，单点压力脱泡可以消除，但TP挺性却永远存在，这就有再次再发的可能性。
光胶的原理
光胶的原理
光胶，是一种用来固定物体或在表面上形成图形的物质。
通常是将树脂或光敏物质涂在玻璃上，然后经加热使其固化，可做成各种形状。
光固化胶通常是以紫外线为光源的，根据不同的要求，可选用不同波长的紫外线。
当紫外光照射在材料上时，紫外线被吸收了，而其它波长的紫外线则会被材料中的自由基所吸收。
此时，自由基数量增多，当达到一定数量时，就会产生“光化学”反应，产生新的自由基。
这些新的自由基又会与其他物质发生反应，形成新的物质。
如此循环往复，便形成了固化物质。
光胶在生产和生活中应用广泛。
例如：在电子工业中用作电路填充、芯片表面粘接、精密仪器制作、金属装饰、玻璃雕刻、雕刻宝石等；在建筑工业中用作模型粘结；在国防工业中用作激光固封；在医疗器械行业中用作外科缝合线等；在化学领域中用作各种反应和化学反应的催化剂。
光胶由光引发剂和光促进剂两部分组成。
光引发剂是使光胶固化的物质，它是由含不同基团的化合物组成的大分子。
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光学胶的折射率
光学胶的折射率
光学胶是涉及光学领域的一种材料，在其中折射率是非常重要的
参数。
下面将分步骤阐述光学胶的折射率。
1.什么是光学胶？
光学胶是一种透明、黏稠的液体，可以在光学元件和器件中发挥
黏合和护封的作用。
光学胶的主要成分是环氧树脂、丙烯酸甲酯、聚
甲基丙烯酸甲酯等。
2.光学胶的折射率是什么？
光学胶的折射率是描述光在光学胶中传播时速度变化的量。
它可
以被用来计算光在光学器件中的传播路径。
3.如何测量光学胶的折射率？
测量光学胶的折射率通常使用两种方法：Abbe折射仪和自动折射仪。
Abbe折射仪是一种传统的方法，利用不同颜色的光线和一系列透
镜来测量折射率。
自动折射仪是一种现代的方法，利用一束单色光和
一个光电二极管来测量折射率。
4.折射率与光学胶的性能有何关系？
光学胶的折射率与其性能密切相关。
例如，在光纤连接器的制造
过程中，必须精确控制光学胶的折射率以确保连接器的性能。
5.如何控制光学胶的折射率？
控制光学胶的折射率可以通过调整光学胶的成分来实现。
在实际
应用中，可以通过添加特定的化学物质或改变光学胶的配比来改变其
折射率。
此外，还可以通过改变光学胶的温度和压力来调整其折射率。
总之，光学胶的折射率是一个重要的物理量，它在光学器件和元
件的制造和应用过程中起着至关重要的作用。
掌握光学胶折射率的测
量和控制方法，可以为光学器件和元件的性能提供保障，推动光学技
术的不断进步。
第四章丝印感光胶及感光膜
+ CH CH2
6+
Cr
hγ
OH
+ C CH2
3+
Cr
O
CH2 CH CH2 C
OH
O
+ 3+
Cr
CH2
CH2 CH2
C
CH
C
CH
O OH
3+
Cr
O
OH
3+
Cr
OH O
O
O
CH
C
C
C
CH2
CH2
CH2
➢ 重氮树脂的感光原理: 重氮盐光分解释放出氮气， 同时生成自由基或正碳阳离子了，生成的自由基 很活泼，引发PVA产生自由基，然后发生自由基反应
五、感光胶的典型配方介绍：
➢ 重铬酸盐感光胶：此类感光胶的感光剂为重铬酸 铵，成膜剂为水溶性高分子物质，如明胶、PVA及 PVAC+PVA等。
明胶感光胶配方：
明胶g 16
柠檬酸g 重铬酸铵g 氨水ml
0.5
4.5
3
水ml 70
PVA感光胶配方：
PVA(1788)g 50
十二烷基磺酸钠g 重铬酸铵g
➢ 助剂：成膜剂和感光剂是配方的主体成分，但有 时为调节主体成分性能的不足，尚需另加一些辅 助剂，如分散剂、着色剂、增感剂、增塑剂、稳 定剂等。
三、感光胶的感光原理：
➢ 重铬酸盐的感光原理：曝光时Cr6+→ Cr3+ ，并与 线性高分子发生络合反应而成为网状结构，其水 溶性下降。显影时，未曝光区被显影液溶解除去， 曝光区保留下来，这样得到阴图浮雕像。为扩大 显影宽容度可用ZnCl2，CaCl2的水溶液作显影剂。 其与PVA的固化反应如下：
光胶的名词解释
光胶的名词解释光胶是一种常见的工艺材料，也称为光敏胶片。
它是一种能够通过紫外线照射而固化的胶体物质，常用于图像制作、艺术设计和工业生产等领域。
光胶最早应用于印刷和照相行业。
在过去的几十年里，许多摄影爱好者都曾使用过胶卷相机，而光胶是其中不可或缺的一部分。
光胶胶片能够记录光线的分布，通过化学处理后形成图像，保存下来。
然而，随着数字相机的普及，胶片相机逐渐退出舞台，光胶在照相领域的应用也减少了。
然而，光胶在其他领域的应用却逐渐扩大。
它被广泛应用于电子制造、材料科学和光学研究等领域。
光胶的固化过程可以通过曝光光源来控制，因此可以用来制作微电子元件、光学元件等微小结构。
同时，光胶还可以用于制作模板，在半导体制造和其他微纳技术中起到重要的作用。
除了工业应用，光胶还逐渐在艺术领域崭露头角。
一些艺术家开始运用光胶技术创作出独特的艺术作品。
他们可以在光胶上进行绘画、雕刻，甚至将其他材料融入其中，创造出具有纹理和层次感的艺术品。
光胶的特性使得艺术家能够充分发挥想象力，创造出多样化的艺术形式。
当然，光胶也有一些缺点。
首先，光胶的固化过程需要一定的时间，这意味着生产效率较低。
此外，光胶处理还需要一些专业的设备和技术，使得成本相对较高。
此外，光胶材料也有一定的稳定性问题，需要注意保存和防护。
因此，在光胶的使用过程中，需要谨慎操作和妥善保养。
随着科技的不断进步和创新，光胶的应用领域还将不断拓展。
例如，一些科学家正在研究利用光胶制造可穿戴设备和柔性电子产品，为人们的生活带来更多便利。
同时，由于光胶的高精度和微小尺寸，它还可以被应用于医学领域，例如用于制作微型器械、医疗传感器等。
总而言之，光胶作为一种特殊材料，具有广泛的应用前景。
它不仅在传统的印刷和照相领域发挥着重要作用，还在工业制造、艺术创作和科学研究等领域中被广泛应用。
随着技术的不断进步，光胶的应用前景将更加广阔，为人们的生活带来更多的创新和可能性。
光胶现象的应用
光胶现象的应用
光胶现象是指当光通过胶体溶液时，由于胶体颗粒大小与光波长相近，导致光在胶体中散射增强，可观察到光散射的现象。
光胶现象广泛应用于科研和技术领域，主要包括以下几个方面：
1. 光学检测：通过测量胶体溶液中光的散射强度和散射角度等参数，可以间接得到胶体颗粒的大小和分布情况，从而用于颗粒分析和测定溶液中的悬浮物质含量。
2. 表面增强拉曼散射（SERS）：利用光胶现象，可以在胶体
表面上形成局部电场增强效应，将待测物质吸附在胶体表面，从而使其拉曼散射强度大幅增强。
SERS技术在化学、生物医
学及环境检测等领域有重要应用，可以用于分析和检测微量物质。
3. 化学传感器：将特定的化学反应与光胶现象相结合，通过胶体溶液中光的散射强度或颜色的变化，可以实现对特定物质的定量检测和分析。
这种基于光胶现象的化学传感器有望在医药、环境监测和食品安全等领域得到广泛应用。
4. 光学材料：利用光胶现象，可以制备出具有特定光学性质的胶体材料。
例如，将胶体颗粒在溶液中自组装形成有序结构，可制备出周期性介电光子晶体。
这种晶体具有光子禁带结构，在某个波长范围内呈现出不同的颜色或反射性能，可用于光学器件和传感器等领域。
总之，光胶现象的应用广泛涉及到光学检测、表面增强拉曼散
射、化学传感器和光学材料等多个领域，为科学研究和技术发展提供了重要工具和方法。
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光胶基础知识
一、光胶的原理：
光胶是利用分子的引力实现镜片与镜片之间的粘合，一般来说两片镜片的光圈只能相差半个圈。
最好一面是高光圈，另一面是低光圈。
二、光胶的目的：
光胶是光学加工中一种必不可少的工序，是为了保证光学镜片在磨砂、抛光下盘后能达到设计图纸要求的光洁度、平行度、角度、光圈、尺寸的一种高精度的上盘方法。
比如12.7×12.7×12.7直角棱镜要求三个面的光圈N为0.5；光洁度为20—10；角精度为45°±3′，90°±30″；塔差为3′；侧垂3′；像这样的镜片就必须用光胶法上盘进行加工，否则就不能达到图纸的要求。
三、光胶的方法：
光胶分两种方法，一种是干光胶、另一种是湿光胶。
比较常用也比较方便的方法是干光胶法，下面分别予以介绍。
1、干光胶法：先复检光胶面，检查表面质量（光胶面不应有过
多的毛道子、水迹、发霉等疵病），然后用粘有特殊油脂、乙
醇的光胶布擦拭靠体、镜片，再用干布擦拭靠体、镜片，再
将擦好的镜片与靠体用掸笔或吹气球将灰尘除去，然后将光
胶面对正，轻轻贴合，当看到有清晰的干涉条纹而无脏物时，
轻轻一压，零件就光胶在靠体上了。
如发现有脏物或白点时，
则应重新光胶。
为使光胶更加牢固，并防止水分渗入，在光
胶接缝处涂以保护胶等。
2、湿光胶法：先复检光胶面，检查表面质量（光胶面不应有过
多的毛道子、水迹、发霉等疵病），然后用粘有乙醇、乙醚混
合液光胶布擦拭靠体、镜片，再用石油醚擦拭靠体、镜片，
再将擦好的镜片与靠体用掸笔或吹气球将灰尘除去，然后将
光胶面对正，轻轻贴合，当看到有清晰的干涉条纹而无脏物
时，轻轻一压，零件就光胶在靠体上了。
如发现有脏物或白
点时，则应重新光胶。
为使光胶更加牢固，并防止水分渗入，
在光胶接缝处涂以保护胶等。
四、光胶的下盘方法：
光胶下盘时可用木锤敲击工件或加温后取下工件，还可以用比较锋利的刀片轻轻地撬工件。