集成封装工艺流程3
封装工艺流程简介 (3)

设备:
封装工艺流程简介
Tape and reel 编带
设备:
描述:
使用卷带包装设备,将单 颗产品用编带材料(卷带+盖 带)进行打卷包装。
封装工艺流程简介
Packing 包装
描述:
通过捆绑/包装以确 保产品在操作,运输的过 程中不受湿气, ESD的侵 袭,同时也确保产品在运 输过程中不受损伤。
封装工艺流程简介
2016-Jan-1
封装工艺流程简介
FOL
IQA SMT Pre-bake
基板收取Βιβλιοθήκη 来料检验IQA表面贴装* 可选 基板烘烤
Taping BG W/M
De-tape
D/S
2/O Fail
QA Pass
DA
DAC
Plasma
圆片收取 来料检验 贴保护膜 背部研磨 圆片装载 去掉保护膜
芯片切割 第二次光学检查
封装工艺流程简介
Baking 烘烤
描述:
PCB需要在做DA之 前做一下烘烤,以去 除PCB中的水分,提高 产品的可靠性能。
设备:
N2以防止PCB氧化
N2 inlet
Carrier Carrier
Outlet
125oC
封装工艺流程简介
Die Attach 装片
描述:
利用银浆或Film的 粘性将切割好的好的 晶粒吸取并粘贴于基 板上,以便于后制程作 业。
等离子清洗示意图
封装工艺流程简介
MD 包封
描述:
将前道完成后的产品 ,使用塑封料把芯片 塑封起来,免受外力损 坏。同时加强器件的 物理特性便于使用。
设备:
封装工艺流程简介
PMC 包封后烘
封装工艺流程

第二章 封装工艺流程
2.2.2减薄工艺
先划片后减薄和减薄划片两种方法
DBG(dicing before grinding) 在背面磨削之前,将硅片 的正面切割出一定深度的切口,然后再进行磨削。
DBT(dicing by thinning) 在减薄之前先用机械的或化学 的方法切割出一定深度的切口,然后用磨削方法减薄到一 定厚度后,采用常压等离子腐蚀技术去除掉剩余加工量。。
芯片凸点金属材料:一般包括金属Au、Cu、Au/Sn、 Pd/Sn。
第二章 封装工艺流程
2.4.2 载带自动键合技术
TAB的关键技术
芯片凸点制作技术
TAB载带制作技术
载带引线与芯片凸点的内引线焊接和载带外引 线焊接技术
第二章 封装工艺流程
2.4.2 载带自动键合技术
TAB的关键技术--芯片凸点制作技术
第二章 封装工艺流程
金凸块制作的传统工艺
金凸块制作的传统工艺: 第一步,对芯片进行清洁处理 第二步,通过真空溅散的方法,在芯片键合的上表面
形成粘着层和阻挡层。粘着层提供IC芯片上的铝键合点与 凸块间良好的键合力与低的接触电阻特性。常用的材料是 Ti、Cr、和Al,这几种金属的与铝和氧化硅的粘着性很好。 扩散阻挡层的作用是阻止芯片上的铝与凸块材料之间的扩 散反应而形成金属间化合物。
将其切割成合适的大小放置于芯片 与基座之间,然后再进行热压接合。采 用固体薄膜导电胶能自动化大规模生产。
导电胶粘贴法的缺点是热稳定性不好,高温下会引 起粘接可靠度下降,因此不适合于高可靠度封装。
第二章 封装工艺流程
玻璃胶粘贴法
与导电胶类似,玻璃胶也属于厚膜导体材料( 后面我们将介绍)。不过起粘接作用的是低温玻璃 粉。它是起导电作用的金属粉(Ag、Ag-Pd、Au、Cu 等)与低温玻璃粉和有机溶剂混合,制成膏状。
封装工艺流程 ppt课件

第二章 封装工艺流程
打线键合的线材与可靠度 (1)合金线材 铝合金线
因纯铝线材太软很少使用。铝合金线标准线材是铝-1% 硅。令你一种是含0.5-1%镁的铝导线。其优点是抗疲劳 性优良,生成金属间化合物的影响小。
金线 纯金线的纯度一般用4个9。为增加机械强度,往往在金
中添加5-10ppm 铍或铜。金线抗氧化性好,常由于超声 波焊接中。
这两种方法都很好地避免了或减少了减薄引起 的硅片翘曲以及划片引起的边缘损害,大大增强了 芯片的抗碎能力。
第二章 封装工艺流程
2.3 芯片贴装 芯片贴装,也称芯片粘贴,是将芯片固定于封装基板或引
脚架芯片的承载座上的工艺过程。
贴装方式
• 共晶粘贴法 • 焊接粘贴法 • 导电胶粘贴法 • 玻璃胶粘贴法
第二章 封装工艺流程
在芯片粘贴时,用盖印、丝网印刷、点胶 等方法将胶涂布于基板的芯片座中,再将芯片 置放在玻璃胶之上,将基板加温到玻璃熔融温 度以上即可完成粘贴。由于完成粘贴的温度要 比导电胶高得多,所以它只适用于陶瓷封装中。 在降温时要控制降温速度,否则会造成应力破 坏,影响可靠度。
第二章 封装工艺流程
2.4 芯片互连 芯片互连是将芯片焊区与电子封装外壳的I/O引线或基
三种导电胶的特点是:化学接合、具有导电功能。
第二章 封装工艺流程
导电胶贴装工艺
膏状导电胶: 用针筒或注射器将粘贴剂涂布到芯
片焊盘上(不能太靠近芯片表面,否则 会引起银迁移现象),然后用自动拾片 机(机械手)将芯片精确地放置到焊盘 的粘贴剂上,在一定温度下固化处理 (150℃ 1小时或186℃半小时)。 固体薄膜:
IC芯片制作完成后其表面均镀有钝化保护层,厚度高于 电路的键合点,因此必须在IC芯片的键合点上或TAB载带的 内引线前端先长成键合凸块才能进行后续的键合,通常TAB 载带技术也据此区分为凸块化载带与凸块化芯片TAB两大类。
集成电路封装技术封装工艺流程介绍

集成电路封装技术封装工艺流程介绍集成电路封装技术是指将芯片封装在塑料或陶瓷封装体内,以保护芯片不受外界环境的影响,并且方便与外部电路连接的一种技术。
封装工艺流程是集成电路封装技术的核心内容之一,其质量和工艺水平直接影响着集成电路产品的性能和可靠性。
下面将对集成电路封装技术封装工艺流程进行介绍。
1. 芯片测试首先,芯片在封装之前需要进行测试,以确保其性能符合要求。
常见的测试包括电性能测试、温度测试、湿度测试等。
只有通过测试的芯片才能进行封装。
2. 芯片准备在封装之前,需要对芯片进行准备工作,包括将芯片固定在封装底座上,并进行金线连接。
金线连接是将芯片的引脚与封装底座上的引脚连接起来,以实现与外部电路的连接。
3. 封装材料准备封装材料通常为塑料或陶瓷,其选择取决于芯片的性能要求和封装的环境条件。
在封装之前,需要将封装材料进行预处理,以确保其表面光滑、清洁,并且具有良好的粘附性。
4. 封装封装是整个封装工艺流程的核心环节。
在封装过程中,首先将芯片放置在封装底座上,然后将封装材料覆盖在芯片上,并通过加热和压力的方式将封装材料与封装底座紧密结合。
在封装过程中,需要控制封装温度、压力和时间,以确保封装材料与芯片、封装底座之间的结合质量。
5. 封装测试封装完成后,需要对封装产品进行测试,以确保其性能和可靠性符合要求。
常见的封装测试包括外观检查、尺寸测量、焊接质量检查、封装材料密封性测试等。
6. 封装成品通过封装测试合格的产品即为封装成品,可以进行包装、贴标签、入库等后续工作。
封装成品可以直接用于电子产品的生产和应用。
总的来说,集成电路封装技术封装工艺流程是一个复杂的过程,需要精密的设备和严格的工艺控制。
只有通过合理的工艺流程和严格的质量控制,才能生产出性能优良、可靠性高的集成电路产品。
随着科技的不断进步,集成电路封装技术也在不断创新和发展,以满足不断变化的市场需求。
相信随着技术的不断进步,集成电路封装技术将会迎来更加美好的发展前景。
封装工艺流程 ppt课件

第二章 封装工艺流程
2.3 芯片贴装 芯片贴装,也称芯片粘贴,是将芯片固定于封装基板或引
脚架芯片的承载座上的工艺过程。
贴装方式
• 共晶粘贴法 • 焊接粘贴法 • 导电胶粘贴法 • 玻璃胶粘贴法
第二章 封装工艺流程
第二章 封装工艺流程
2.4.1 打线键合技术
打线键合技术
超声波键合(Ultrasonic Bonding ,U/S bonding)
热压键合(Thermocompression Bonding T/C bonding) 热超声波键合(Thermosonic Bonding,T/S bonding)
2.4.1 打线键合技术介绍 (2)热压键合
第二章 封装工艺流程
(3)热超声波键合
热超声波键合是热压键合与超声波键合的混合技术。在工 艺过程中,先在金属线末端成球,再使用超声波脉冲进行金 属线与金属接垫之间的接合。
此过程中接合工具不被加热,仅给接合的基板加热(温度维 持在100-150℃)。其目的是抑制键合界面的金属间化合物 (类似于化学键,金属原子的价电子形成键)的成长,和降 低基板高分子材料因高温产生形变。
2.3.3 导电胶粘贴法 导电胶是银粉与高分子聚合物(环氧树脂)的混合物。银
粉起导电作用,而环氧树脂起粘接作用。
导电胶有三种配方: (1)各向同性材料,能沿所有方向导电。 (2)导电硅橡胶,能起到使器件与环境隔 绝,防止水、汽对芯片的影响,同时还可 以屏蔽电磁干扰。 (3)各向异性导电聚合物,电流只能在一 个方向流动。在倒装芯片封装中应用较多。 无应力影响。
集成电路封装技术
集成电路封装的主要流程

集成电路封装的主要流程一、集成电路封装的概述集成电路封装是指将芯片通过一系列工艺步骤,将其封装在塑料、陶瓷或金属外壳中,以保护芯片并方便使用。
封装后的芯片可以直接安装在电路板上,从而实现电子产品的制造。
二、集成电路封装的主要流程1. 芯片切割首先需要将晶圆切割成单个芯片。
这一步骤需要使用专业设备进行操作,以确保切割精度。
2. 焊盘制作接下来需要在芯片上添加焊盘。
焊盘是连接芯片和电路板的重要部分。
通常使用化学蚀刻或光刻技术制作。
3. 封装材料准备根据产品需求选择合适的封装材料,如塑料、陶瓷或金属等。
同时需要准备好其他辅助材料,如导线、引脚等。
4. 芯片安放和连接将焊盘与导线连接,并将芯片安放在封装材料中。
这一步骤通常需要借助自动化设备进行操作。
5. 封装材料固化对于塑料封装,需要进行固化处理。
通常采用高温烘烤或紫外线照射等方式,以确保封装材料的稳定性和可靠性。
6. 引脚整形对于某些封装方式,如QFN、BGA等,需要对引脚进行整形。
这一步骤需要使用专业设备进行操作。
7. 测试和质检完成封装后,需要进行测试和质检。
测试包括功能测试、可靠性测试等,以确保芯片的性能符合要求。
质检则包括外观检查、尺寸测量等,以确保产品符合标准。
8. 包装和出货最后将芯片包装,并出货给客户。
包装方式通常有盘式、管式、卡式等多种选择。
三、集成电路封装的常见类型1. DIP(双列直插式)DIP是一种常见的集成电路封装方式,具有双列引脚,可以直接插入电路板上的孔中。
2. QFP(方形扁平式)QFP是一种较为流行的表面贴装型封装方式,具有方形外观和扁平引脚。
该种封装方式通常用于中小功率芯片。
3. BGA(球形网格阵列式)BGA是一种高密度表面贴装型封装方式,具有球形引脚和网格状排列。
该种封装方式可以实现更高的芯片密度和更好的散热效果。
4. CSP(芯片级封装)CSP是一种新型的封装方式,将芯片直接封装在塑料或陶瓷基板上,无需添加导线和引脚。
芯片封装工艺流程

芯片封装工艺流程芯片封装是集成电路制造中非常重要的一个环节,它直接影响到芯片的稳定性、可靠性和性能。
芯片封装工艺流程是指将芯片封装在塑料、陶瓷或金属封装体内,并进行封装测试,最终形成成品芯片的一系列工艺步骤。
本文将介绍芯片封装的工艺流程及其关键步骤。
首先,芯片封装的工艺流程包括准备工作、封装设计、封装材料准备、封装生产、封装测试和封装成品等步骤。
在准备工作阶段,需要对封装设备进行检查和维护,确保设备正常运行。
同时,需要准备好封装所需的材料和工艺参数,为后续的封装工作做好准备。
其次,封装设计是芯片封装工艺流程中的关键环节。
封装设计需要根据芯片的功能、尺寸和工作环境等要求,选择合适的封装形式和材料。
不同的芯片封装形式包括裸片封装、贴片封装、球栅阵列封装等,而封装材料则包括塑料封装、陶瓷封装和金属封装等。
封装设计的合理与否直接影响到芯片的性能和成本。
接下来,封装材料准备是芯片封装工艺流程中不可或缺的一环。
封装材料的选择和准备需要根据封装设计的要求进行,确保封装材料的质量和稳定性。
在封装生产阶段,需要将芯片放置在封装体内,并通过焊接、封胶等工艺步骤,将芯片与封装体牢固地连接在一起。
随后,封装测试是芯片封装工艺流程中至关重要的一步。
封装测试需要对封装后的芯片进行可靠性、性能和环境适应性等多方面的测试,以确保封装后的芯片能够正常工作并在各种环境下稳定可靠。
最后,封装成品是芯片封装工艺流程的最终目标,经过前期的工艺步骤和测试验证,最终形成符合要求的成品芯片。
总的来说,芯片封装工艺流程是一个复杂而严谨的过程,需要精密的设备、严格的工艺控制和专业的技术人员来保障。
只有通过科学合理的工艺流程和严格的质量控制,才能生产出高质量、高可靠性的芯片产品,满足不同领域的需求。
希望本文对芯片封装工艺流程有所帮助,谢谢阅读。
集成电路封装工艺流程

第二章 封装工艺流程
2.4.1 打线键合技术
打线键合技术
超声波键合(Ultrasonic Bonding ,U/S bonding)
热压键合(Thermocompression Bonding T/C bonding) 热超声波键合(Thermosonic Bonding,T/S bonding)
第二章 封装工艺流程
(2)影响打线键合可靠度因素
封胶和粘贴材料 与线材的反应
金属间化合物的形成
可靠度因素
可靠度常用拉力试验 和键合点的剪切试验 测试检查
第二章 封装工艺流程
2.4.2 载带自动键合技术
载带自动健合技术是在类似于135胶片的柔性载带粘结金属 薄片,(像电影胶片一样卷在一带卷上,载带宽度8-70mm。 在其特定的位置上开出一个窗口。窗口为蚀刻出一定的印刷线路 图形的金属箔片(0.035mm厚)。
第二章 封装工艺流程
2.2.2减薄工艺
先划片后减薄和减薄划片两种方法
DBG(dicing before grinding) 在背面磨削之前,将硅片 的正面切割出一定深度的切口,然后再进行磨削。
DBT(dicing by thinning) 在减薄之前先用机械的或化学 的方法切割出一定深度的切口,然后用磨削方法减薄到一 定厚度后,采用常压等离子腐蚀技术去除掉剩余加工量。。
第二章 封装工艺流程
TAB技术较之常用的引线工艺的优点:
(1)对高速电路来说,常规的引线使用圆形导线,而且引线 较长,往往引线中高频电流的趋肤效应使电感增加,造成信号 传递延迟和畸变,这是十分不利的。TAB技术采用矩形截面的 引线,因而电感小,这是它的优点。
(2)传统引线工艺要求键合面积4mil2,而TAB工艺的内引线 键合面积仅为2mil2这样就可以增加I/O密度,适应超级计算机 与微处理器的更新换代。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
芯片互连(连线技术)
芯片互连是将芯片焊区与电子封装外壳的 I/O引线或基板上的金属焊区相连接。 芯片焊区 芯片互连 I/O引线
半导体失效约有1/4-1/3是由芯片互连所引起, 因此芯片互连对器件可靠性意义重大!
芯片互连常见的方法 引线键合(WB wire bonding) 倒装芯片键合(FCB flip chip bonding,C4) 载带自动键合(TAB tape automate bonding)
拉断(超声压头) 高电压(电弧) 拉断(送丝压头) 拉断 高电压(电弧) 无需加热;对 表面洁净度不 十分敏感; 对表面粗糙度 敏感;工艺控 制复杂 与热压键合法相比 ,可以在较低温度 、较低压力下实现 键合 需要加热;与热压 法相比工艺控制要 复杂些
缺点
其他
适用于单片式LSI
最适合采用Al 丝
适用于多芯片LSI 的内部布线连接
载带自动键合技术
利用搭载有蜘蛛式引脚的的卷带软片以内引脚结合技术 完成与IC芯片的连线,再以外引脚接合技术完成与电子封 装基板的接合。内引线焊接是引线与芯片焊接,外引线焊 接是将引线焊接到外壳或基板焊区。 载带:即带状载体,是指带状绝缘薄膜上载有由覆铜箔 经蚀刻而形成的引线框架,载带一般由聚酰亚胺制作,两 边设有与电影胶片规格相统一的送带孔。带宽有35mm、 48mm、70mm三种规格。
• 热压键合
利用加压和加热,使金属丝与焊区接触面原子间 达到原子引力范围,实现键合。 一端是球形,一端是楔形 ,常用于Au丝键合。 先将金属线穿过毛细管状的键合工具(称为瓷嘴 或焊针),该工具由碳化钨或氧化铝等耐高温材 料制成; 然后再电子点火或氢焰将金属线烧断并利用熔融 金属的表面张力作用使线的末端灼烧成球(直径 约为金属线直径的2-3倍); 键合工具再将金属球压至已经预热到150-250℃ 的第一金属焊垫上进行球形键合。
(2)双层结构载带(Cu-PI双层) 以铜箔帖附于聚亚醯胺、聚酰亚胺或聚酯高分子 膜上组成。 可用两种方法制作。 将高分子材料涂于铜箔上,然后进行蚀刻,窗口 和齿孔用KOH或NaOH腐蚀出来,再用FeCl3腐蚀液将铜 带上所需图形腐蚀出来。 以微影成像与电镀的方法在高分子膜上直接镀成 电路引脚图形。 优点:高温稳定性好,可作电性测试,电性能优良; 缺点:价位高,亦弯曲,容易变形。
引线键合的线材与限制 铝合金线 因纯铝线材太软很少使用。铝合金线标准线材是铝1%硅。另一种是含0.5-1%镁的铝导线。其优点是抗疲劳性 优良,生成金属间化合物的影响小。 金线 纯金线的纯度一般用99.99%。为增加机械强度,往 往在金中添加5-10ppm 铍或铜。金线抗氧化性好,常由于 热压键合与热超声波键合中。 热压键合和金丝球键合主要选用金(Au)丝,超声键合则 主要采用铝(Al)丝和Si-Al丝(Al-Mg-Si、Al-Cu等)
内引线焊接
封胶保护
完成内引脚键合后,芯片与内引脚面或整个IC芯片必须 再涂上一层高分子胶材料保护引脚、凸块与芯片,以避免外 界的压力、震动、水汽等因素造成破坏。 封胶的材料一般为环氧树脂和硅橡胶。用盖印或点胶的 方法涂布,可覆盖整个芯片或仅涂布完成内引脚键合的芯片 表面。
外引线焊接技术
TAB的关键技术 芯片凸点制作技术
1
2
压头下降,焊球被锁定在端部中央
在压力、温度的作用下形成连接
3
4
压头上升
压头高速运动到第二键合点, 形成弧形
第一键合点
第二键合点
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
• 热超声波键合
是热压键合与超声波键合的混合技术。在工艺过程中 ,先在金属线末端成球,再使用超声波脉冲进行金属线与 金属接垫之间的接合。 在超声键合机的基板支持台上引入热压键合法中采用 的加热器,进行辅助加热;键合工具采用送丝压头,并进 行超声振动;由送丝压头将Au丝的球形端头超声热压键合 在基板的布线电极上。 此过程中接合工具不被加热,仅给接合的基板加热( 温度维持在100-150℃)。其目的是抑制键合界面的金属间 化合物的成长,和降低基板高分子材料因高温产生形变。 用于Au和Cu丝的键合。
贴装方式
• 共晶粘贴法 • 焊接粘贴法
• 导电胶粘贴法
• 玻璃胶粘贴法
• 共晶粘贴法
共晶反应
指在一定的温度下,一定成分的液体同时结晶出两种 一定成分的固相反应。所生成的两种固相机械地混合在一 起,形成有固定化学成分的基本组织,被统称为共晶体。 利用金-硅合金在3wt%硅,363℃时产生的共晶反应特 性进行芯片的粘结固着。
• 硅棒制备
• 硅棒切片
• 芯片加工
硅片减薄、切割
硅片背面减技术主要有:
磨削、研磨、化学抛光 干式抛光、电化学腐蚀、湿法腐蚀 等离子增强化学腐蚀、常压等离子腐蚀等 方法:先划片后减薄和减薄划片两种方法
芯片贴装
芯片贴装,也称芯片粘结,是将芯片固定于封 装基板或引脚架芯片的承载座上的工艺过程。
倒装芯片键合技术
倒装芯片键合(FCB)是指将裸芯片面朝下,芯片焊 区与基板焊区直接互连的一种键合方法。 在芯片的接垫上预制焊料凸点,然后将芯片倒臵, 使芯片上的焊料凸点与基板对位,以回流热处理配合焊 锡熔融时的表面张力效应使焊锡成球并完成接合。
TAB技术的关键材料
基带材料:要求耐高温,与金属箔粘贴性好,热匹 配性好,抗化学腐蚀性强,机械强度高,吸水率低。 例如:聚酰亚胺(PI)、聚乙烯对本二甲酸脂(PET)和 苯并环丁烯(BCB) TAB金属材料:要求导电性能好,强度高,延展性、 表面平滑性良好,与各种基带粘贴牢固,不易剥离,易 于用光刻法制作出精细复杂的图形,易电镀Au、Ni、 Pb/Sn焊接材料,例如:Al、Cu。 芯片凸点金属材料:一般包括金属Au、Cu、Au/Sn、 Pd/Sn。
这三种连接技术对于不同的封装形式和集成 电路芯片集成度的限制各有不同的应用范围。 打线键合适用引脚数为3-257;载带自动键 合的适用引脚数为12-600;倒装芯片键合适用的 引脚数为6-16000。可见C4适合于高密度组装。
引线键合技术WB(连线接合) 是将半导体裸芯片(Die)焊区与微电子封装的 I/O引线或基板上的金属布线焊区(Pad)用金属 细丝连接起来的工艺技术。
打线键合技术
超声波键合(U/S bonding 、USB )
热压键合(T/C bonding、 TCB ) 热超声波键合(金丝球)(T/S bonding、 TSB ) 低成本、高可靠、高产量等特点使得WB成为芯片互 连主要工艺方法,用于下列封装: · 陶瓷和塑料BGA、SCP和MCP · 陶瓷和塑料封装QFP · 芯片尺寸封装 (CSP)
超音波的功能: 磨除接垫表面的氧化层与污染; 利用音波弱化效应,促进接合界面动态回复与再结晶 现象从而形成接合。
超声压头
Al 丝
加压 超声波振动
芯片电极
基板电极
1. 定位(第一次键合)
2. 键合
拉引
3. 定位(第2次键合)
4. 键合-切断
超声键合法工艺过程
超声键合
第一键合点
第二键合点
特点: 适合细丝、粗丝及金属扁 带 不需外部加热,对器件无 热影响 可以实现在玻璃、陶瓷上 的连接 适用于微小区域的连接
软质焊料
• 导电胶粘贴法(高分子胶粘结法)
导电胶是银粉与高分子聚合物(环氧树脂)的混合物。 银粉起导电作用,而环氧树脂起粘接作用。 由于高分子材料与铜引脚的热膨胀系数相近,导电胶 法是塑胶封装常用的芯片粘贴法
导电胶粘贴法的缺点是热稳定性不好,高温下会 引起粘接可靠度下降,因此不适合于高可靠度封装。
• 玻璃胶粘贴法
玻璃胶是把起导电作用的金属粉(Ag、Ag-Pd、Au、 Cu等)与低温玻璃粉和有机溶剂混合,制成膏状。 主要用于陶瓷封装,需要严格控制烧结温度 • 用盖印、丝网印刷、点胶等方法将胶涂布 于基板的芯片座中 • 再将芯片置放在玻璃胶之上 • 加热基板除去胶中得有机成分 • 加温到玻璃熔融温度以上即可完成接合 优点:所得芯片封装无空隙、热稳定性优良、低结 合应力以及湿气含量低; 缺点:有机成分与溶剂必须除去,否则危害可靠性。
TAB技术较之常用的引线工艺的优点: 对高速电路来说,常规的引线使用圆形导线,而且引线 较长,往往引线中高频电流的趋肤效应使电感增加,造 成信号传递延迟和畸变,这是十分不利的。TAB技术采用 矩形截面的引线,因而电感小,这是它的优点。 传统引线工艺要求键合面积4mil2,而TAB工艺的内引线 键合面积仅为2mil2这样就可以增加I/O密度,适应超级 计算机与微处理器的更新换代。 TAB技术中使用铜线而不使用铝线,从而改善器件的热耗 散性能。 在芯片最终封装前可进行预测试和通电老化。这样可剔 除坏芯片,不使它流入下一道工序,从而节省了成本, 提高了可靠性。 TAB工艺中引线的键合平面低,使器件薄化。
• 焊接粘贴法
焊接粘贴法是另一种利用合金反应进行芯片粘贴的方法 。优点是热传导性好。
一般工艺方法
将芯片背面淀积一定厚度的Au或Ni,同时在焊盘上淀积 Au-Pd-Ag和Cu的金属层。然后利用合金焊料将芯片焊接在焊 盘上。焊接工艺应在热氮气或能防止氧化的气氛中进行,防 止焊锡氧化及孔洞的形成。 硬质焊料 合金焊料
(3)三层结构载带(Cu-粘贴剂-PI) 比双层带厚,更稳定,较为常用。 制作方法:先以冲模的方法制成高分子 卷带,涂上粘着剂粘接铜箔,再以蚀刻 方法制成电路引脚图形。 优点:胶带和铜之间有很高的结合强度, 且绝缘性能好,吸湿性低,允许电性测 试,适合大规模生产。 缺点:制成复杂,成本高,不适合高温 接合
一般工艺方法
-陶瓷基板芯片座上镀金膜 -将芯片放臵在芯片座上 -热氮气氛中(防氧化)加热并使粘贴表面产生摩擦( 去除粘贴表面氧化层) -约425℃时出现金-硅反应液面,液面移动时,硅逐渐 扩散至金中而形成紧密结合。
预型片法
为获得最佳粘结效果,IC芯片背面常先镀有一 层薄层的金并在基板的芯片承载座上植入预型片 ,预型片一般约25mm厚,面积约为芯片三分之一 的金2wt%硅合金薄片 优点是可以降低芯片粘贴时孔隙平整度不佳而 造成的粘贴不完全的影响。 此方法适用于较大面积的芯片粘贴。