Cell设计光学基础
光学设计基础知识点汇总

光学设计基础知识点汇总光学设计是光学工程领域中的重要组成部分,它关注光的传播、聚焦和分析等过程,以满足特定的设计需求。
本文将对光学设计的基础知识点进行汇总,旨在帮助读者了解光学设计的基本原理和方法。
一、光的传播与折射在光学设计中,光的传播和折射是非常重要的基础知识点。
光的传播遵循直线传播的原则,即光线在均匀介质中直线传播。
当光线从一种介质传播到另一种介质时,会发生折射现象。
折射现象遵循斯涅尔定律,即入射角、折射角和两种介质的折射率之间存在一定的关系。
二、光的反射和镜面成像反射是光学设计中另一个重要的基础知识点。
根据菲涅尔反射定律,光线在平面镜上发生反射时,入射角等于反射角。
基于反射原理,可对镜面成像进行分析。
当光线平行于主光轴入射到凸透镜或凹透镜上时,可利用薄透镜公式计算成像位置和成像大小。
三、透镜和光的成像透镜是光学设计中常用的元件,它可以实现对光的聚焦和分散作用。
根据透镜的形状,可分为凸透镜和凹透镜。
凸透镜可以使光线向主光轴聚焦,有收敛作用;凹透镜则使光线远离主光轴,具有发散作用。
通过透镜公式,我们可以计算出透镜的焦距、物距、像距和成像大小等参数。
四、光的色散和光谱分析光的色散是指光在不同介质中传播时,不同波长的光线受到的折射程度不同,使得白光分解成不同颜色的现象。
通过光谱分析,我们可以获得物质的特征光谱,进而对物质进行分析和识别。
光学设计中经常利用色散现象实现对光的分析和处理。
五、光学元件的设计与优化在光学设计中,为了满足特定的设计需求,需要设计和优化各种光学元件。
光学设计的目标是通过调整元件的形状、材料和参数等因素,使得光线能够达到预定的聚焦效果或光谱分析要求。
常用的设计方法包括几何光学方法、光线追迹法以及优化算法等。
光学设计是一门复杂而精密的学科,需要深入了解光学基础知识和相应的数学物理知识。
通过对光的传播、折射、反射、成像、色散等方面的研究,可以不断提升光学设计的能力和水平。
同时,结合实际应用需求,有效运用光学元件,可以实现各种光学设备和系统的设计与制造。
光学基础知识详细版.pptx

2. 物像关系基础公式
• 高斯公式:
p 为物距,q 为像距,f 为焦距
在一般摄影时像距其实与焦距非常接近, 但是在微距摄影时,像距则可能大于焦距,此 时放大率会超过 1。利用高斯公式其实也可以 导出放大率公式:
放大率 M﹦p/q
2. 色差
• 透镜最主要像差一般为色差,大家都知道三棱 镜会将白光分散为光谱,透镜的侧面看来其实 也像棱镜,所以会有色差,红光波长较长,结 果红光焦点就比蓝光焦点长,因此焦点不在同 一平面上,所以目镜看红光影像清晰,蓝光影 像就不清晰,反之亦然,用没有消色差的透镜 当物镜就会看到物体镶了红边或蓝边,不够清 晰。
称轴线 今后我们主要研究的是共轴球面系统和平面镜、
二、成像基本概念 1、透镜类型 正透镜:凸透镜,中心厚,边缘薄,使光线会聚,也叫会聚透镜
会聚:出射光线相对于入射光线向光轴方向折转
负透镜:凹透镜,中心薄,边缘厚,使光线发散,也叫发散透镜
发散:出射光线相对于入射光线向远离光轴方向折转
2、透镜作用---成像
1. 焦距
在单透镜而言,如果窗外景物够远,那么透镜到倒立影像之距离 可视为焦距。如要更确实的量测,可以对着太阳在地面呈像,再 量测透镜到影像的距离。
• 要知道真正的焦距,还有一个方法,就是用物距与像距来计算, 因为物距与像距的比与物高与像高的比值是一样的,物高可以找 一个已知高度的物体,像高可以量测,物距可以量测,像距就可 以计算出来,而物距超过焦距五十倍以上时,算出来的像距已经 极接近焦距的数值。
第五节 光学系统类别和成像的概念
各种各样的光学仪器 显微镜:观察细小的物体 望远镜:观察远距离的物体
各种光学零件——反射镜、透镜和棱镜
光学系统:把各种光学零件按一定方式组合起来,满足一定的要求
CELL制程简介ppt课件

13
☆ Rinsing(潤濕) or Shower 原理:
14
Cavitations Jet 洗淨原理
上下沖洗基板,水壓越 大則洗淨能力越好。而 氣泡則可以緩衝強大的 水流,避免造成基板的 損傷
水壓:10 ~ 20Kg/cm2
氣泡
Air
15
PI轉寫機
★轉寫機 : 基板進入後, 經過對位, 真空吸著, A輪與P輪(凸版) 展色, 便開始印刷,將PI液均勻的印在基板上為面板最複雜的製程。 ★預烤爐
ITO (0.15μ SiO2 CF (1.30μ
SiO2 Glass (0.7mm)
3
LCD 面 板 構 造 圖
彩色濾光板
上偏光板
液晶層
ITO 電極
上玻璃基板
下玻璃基板 下偏光板 配向膜 間隔劑 液晶分子 框膠
4
LCD 模組分解示意圖
間隔橡膠-X 螺絲
Y-TAB
Y-PCB
AAA AAA
AAA AAAAA
21
刮刀的清潔
用無塵紙沾NMP 擦拭直到刮刀上無殘留PI為止,再用無塵紙沾 酒精擦拭,注意要點是擦拭時須小心不能傷到刀刃部。
PI供給管路的清潔
將NMP裝入鋼瓶中 ,沖洗管路中的PI液然後再將管路中的NMP 噴乾淨,拆下濾心( 此時須注意濾心內的細部零件)泡入NMP溶 劑中。
挑點
目前轉寫工程最棘手的作業,原因是必須靠作業者經驗的累 積才能作好的工作,以目前生產的經驗挑點往往影響不少生產 時間,也會降低良率,提生作業者能力是很重要的。
物的污染源…….等等。 2. 無機污染: 人體的汗、顏料、塵埃、金屬屑……等等。 3. 工程污染: 搬運、裝置運轉、包裝紙材、其他製程殘留
光学设计中必备的理论基础

用
代入物像位置关系式
同时还可得到以下两个关系式:
• 物平面以细光束经球面所成的像 1 . 物平面以细小光束成像
细光束, A—— 》 A' 完善成像 同心球面 A1A A2—— 》曲面 A1'A'A2' 完善成像 由公式, l 变小, l ' 也变小,平面 B1AB2—— 》曲面 B1'A'B2' 不再是平面:像面弯曲
由
得
j 为拉氏不变量,它是表征光学系统性能的重要参数
§ 2-4 反射球面 —— 球面镜 返回本章要点
反射是折射当n'=-n的特殊情况 一.物像公式
由 n'=-n 得
球面镜的光焦度为
二.焦距
f '=f 且与 r 同号。
凹面镜 f’<0 为实焦
点
三 、放大率与拉氏不变量
三种放大率
凸面镜
f’>0 为虚焦 点
对某一环带
称消色差
色差曲线可以画成
形式或
形式,大多数软件是将三种色光球差曲
线画在一起,以主色光像面为基准,称三色球差曲线。 返回本章要点
设
,若对 0.7 带光消色差,则有
本图形由软件 GA 画出
想一想:在消色差环带,F 光与 C 光像点重合,它们能否与 d 光像点重合?为什么? 位置色差是对两种色光而言,在某孔径带校正了位置色差后,两种色光像点与主色光的像点之间的距离称 二级光谱。
• 摄影光学系统的焦距、相对孔径与视场 返回
焦距
远处
决定像的大小: 近处
大视场小:特写镜头,远摄镜头 小视场大:全景镜头,广角镜头
与像面照度有关
大:强光镜头
相对孔径
光学设计需要的知识点

光学设计需要的知识点光学设计是一门综合性的学科,涉及到光学现象、光学元件的设计和制造等方面的知识。
在进行光学设计时,我们需要掌握以下几个主要的知识点:一、光学基础知识在进行光学设计之前,我们需要了解一些光学基础知识,包括光的本质、光的传播方式、光与物质相互作用的基本原理等。
这些知识将对光学设计的理解和应用起到基础性的支撑作用。
二、光学元件的特性光学元件是光学系统中的基本组成部分,因此我们需要了解各种光学元件的特性和工作原理。
比如,透镜的成像原理、棱镜的色散特性、镜面的反射规律等。
这些知识将帮助我们选择合适的光学元件,并进行光学系统的设计和优化。
三、光学系统的构建光学系统是由多个光学元件组成的,它们之间的位置、形状和参数的选择对于光学系统的性能影响很大。
因此,在光学设计中,我们需要了解光学系统的构建原理和常见的光学布局方式,例如正向布局、倒向布局、成像系统布局等。
同时,还需要熟悉光学系统中各个元件之间的关联性和调节方法。
四、光学设计软件的应用光学设计软件是进行光学设计的重要工具,它可以帮助我们进行光学系统的仿真和优化。
因此,我们需要掌握光学设计软件的基本操作和使用技巧,了解如何利用软件对光学系统进行建模、计算和分析。
五、光学制造和测试技术光学设计的最终目标是实际应用,因此我们还需要了解一些光学制造和测试技术。
比如,光学元件的加工工艺、光学表面的质量检测方法、光学系统的调试和测试等。
这些知识将帮助我们更好地将光学设计转化为实际的光学产品。
光学设计作为一个复杂而又有挑战性的领域,需要掌握的知识点众多。
除了上述提到的知识点外,还有很多相关的知识和技术,如非线性光学、光电子学、光学材料等。
只有不断学习和深入理解这些知识,我们才能在光学设计中取得良好的成果。
总结起来,光学设计需要我们掌握光学基础知识、了解光学元件的特性、掌握光学系统的构建方法、熟悉光学设计软件的应用以及了解光学制造和测试技术。
这些知识点的掌握将对我们进行光学设计和优化提供有力的支持,提高光学系统的性能和质量。
光学设计常用知识点归纳

光学设计常用知识点归纳光学设计是光学工程中的重要分支,它涉及到光的传播、折射、反射等现象,并运用这些知识点来设计各种光学系统。
以下是光学设计常用的知识点归纳。
1. 光的基本性质光是一种电磁波,具有粒子和波动性质。
它的主要特性包括光的传播速度、波长、频率和光束的能量等。
光的基本性质对于光学设计起着重要的指导作用。
2. 折射定律折射定律是光学设计中一项重要的基本原理。
它描述了光从一种介质到另一种介质时的折射规律。
根据折射定律,入射光线、折射光线和垂直于界面法线均位于同一平面上,并且入射角与折射角之间满足一定的关系。
3. 反射定律反射定律指出入射角等于反射角,即入射光线和反射光线在反射面上关于法线的角度相等的规律。
反射定律在光学设计中常用于设计反射镜、平面镜等光学元件。
4. 球面折射球面折射是光学设计中经常涉及的一种现象。
当光线从一个介质射向球面时,会产生折射现象。
通过球面折射定律,可以计算出入射光线在球面上的折射角,进而设计合适的球面透镜、球面凸透镜等。
5. 光的色散光的色散是指不同波长的光经过光学介质后发生折射角不同的现象。
这导致光的不同颜色在经过光学系统后会发生色差。
在光学设计中,需要考虑色散对系统性能的影响,并采取相应的补偿措施。
6. 光学成像光学成像是光学设计中的核心内容。
它涉及如何利用光学系统使物体的图像能够清晰地出现在成像平面上。
光学成像涉及到光线的传播路径、透镜的焦距、物体和图像的位置关系等。
7. 光学系统设计光学系统设计是光学设计的一个重要方面。
它要求根据具体需求,结合上述的光学知识点和光学元件的特性,设计出能够满足特定功能需求的光学系统。
在设计过程中需要考虑光线传播、成像质量、系统结构等因素。
总结:光学设计常用的知识点包括光的基本性质、折射定律、反射定律、球面折射、光的色散、光学成像和光学系统设计等。
掌握这些知识点是进行光学设计工作的基础,能够帮助工程师设计出高效、高性能的光学系统。
《Cell工程工艺简介》PPT课件

Brush(滚刷)洗净:
利用滚刷在一定压入量(压力)的条件下,在基板表面旋转时产生的机械剥离力
将异物粒子除去。它针对的主要是大粒径的异物粒子。
7
CJ洗净(Cavitation Jet)
8
Hyper Mix洗净
9
基板干燥方法:
气刀(Air Knife)干燥:气刀是使用高压干燥空气从狭缝中吹出,将停留在基板表
扩大图
CELL
40μm
CELL个数
160,000个/平方inch
CELL深度
10μm
印刷版表面状态:
15
配向膜印刷工艺管理项目:
目的
管理内容
方法
配向材的滴下量
电子天平测量
Anilox Roll的表面状态
用溶剂清洗Anilox Roll上的凹槽
滚轮之间及版胴与基板间的平行度
纸压测定法测滚筒间的平行度;
到更高温度,使溶剂全部挥发,并且配向材固化(亚胺化)形成Polyimide。
印刷时
烧成后
配向膜形成的一般过程
17
其他类型配向材:
印刷时
S1采用混合型配向材
18
烧成设备构成:
冷却部
(6段 空冷)
烧成炉IR Heater
(20段)
IR Heater
基板
搬送Robot
Heater D/A
基板流向
流量、温度控制
其它高分子。
13
配向膜印刷的基本方式:
(凸版印刷)
S1采用方式
<Doctor Roll方式>
PI Dispenser
<Scraper方式>
Doctor Roll
(EPDM)
光学设计基础

实际:LFC LF LC 近轴:lFC lF lC( 近轴区) 即色差在近轴区也存在
编辑版pppt
9
(B)轴外点象差(单色象差)
彗差
编辑版pppt
10
像散、场曲
Xt s XtXs
编辑版pppt
11
畸变
桶形 畸变
yZ编辑版yppZpty
枕形 畸变
12
倍率色差(轴重色差)
yFC yFyC
编辑版pppt
①
Lm 0
系统仅有
初级球差
Lm
4
num 2
4
Lm 0
系统同时具 有初级和二 级球差
L0.707
6
num 2
6
编辑版pppt
44
② SC 0.00~ 00.0 20 525
③
WFC
1
4
~
1
2
编辑版pppt
45
目镜像差容限:
视场中心 2
<30°
30°~60° 60°~
k T'
1.5
nsinU
xt's
因为追迹的光线越多,评价就越精确, 越能反映出象上光强分布的情况。
编辑版pppt
53
例如:入瞳分布400等分
半部为200等分 4个视场 5个色光 5次离焦,找最佳象面
编辑版pppt
19
二、典型光学零件的外形尺寸计算
1. 理想成像理论 2. 渐晕系数 3. 棱镜转像系统 4. 透镜转像系统 5. 场镜
编辑版pppt
20
§3 光学系统初始结构的计算方法
初始结构的计算目的就是要确定系统的 初始结构参数:曲率半径、透镜的厚度、 间隔、玻璃折射率和色散等。它的计算方 法有两种:一种是根据初级像差理论用代 数法求解初始结构;另一种是从已有的专 利文献资料中选择初始结构。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
Luminance
※光电曲线越陡越好?
0.6 0.4 0.2 0 0 1 2 3 4 5 6 7
Applied Voltage
VESA对gamma的定义:
BOEHF 开发中心
-29-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——液晶参数选择:
BOEHF 开发中心
-30-
•
•
•
BOEHF 开发中心
no > ne
no < ne
-6-
Confidential
•
单轴晶体与双轴晶体:单轴晶体 (方解石晶体、石英、红宝石、冰等)、双轴晶体(云母、 蓝宝石、橄榄石、硫黄等)等等。 横波:质点的振动方向与传播方向相互垂直。光是横波。
•
E
H
•
c
偏振光:如果光在传播过程中,只存在某一确定方向的振动,这种光称为线偏振光或完全 偏振光,简称偏振光。 δ=0或
BEW: Blurred Edge Width
BOEHF 开发中心
-21-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——响应时间:
How to improve MPRT: 1. LC material 2. Overdrive 3. Double Frame
BenQ 24寸PVA液 晶显示器,关背光
G Gate Line
D S Data Line
Pixel
Aperture
Black Matrix
Drain Source
TFT channel
Pixel electrode
Data Line
Gate Confidential
BOEHF 开发中心
-4-
TN type TFT_LCD scanning: Charging time VS. holding time, frequency
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——色度:
BOEHF 开发中心
-31-
Confidential
4. 色彩学在TFT_LCD液晶显示中的应用
• 光度学(Photometry): 研究光的发射、传播、吸收和散射等过程,特别针对人眼可感知的光能量计量的科学。 黑体: 完全吸收任何外来波长的辐射的物体。吸收比始终为1。辐射特性可以由普朗克公式来描述:
通常意义上的响应时间Tr+Tf:
tr(上升时间, ton)表示液晶材料在施加电压后透光率由10%增加到90%的时间,tf(下降时间, toff)表示去掉电压后液晶材料透光率从90%减少到10%的时间。
BOEHF 开发中心
-16-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——响应时间:
GTG RT: 灰阶响应时间(GLRT)就是面板在灰阶转换时,即液晶分子在两个不同透光状态(即不同灰阶) 之间转换时,所需要的转换时间.
例:平行光垂直入射到光轴平行界面的单轴负晶体上: AAo’, AAe’,BBo’, BBe’ 即为折射光,由惠更斯作图法可以看出,折射光的方向和入射光方 向相同,但o光,e光速度不同。
BOEHF 开发中心
-11-
Confidential
在液晶盒的关态,从盒下表面出射光线为线偏振光,光在盒内扭曲 旋光需满足的条件为:
Δn是折射率各向异性, 为液晶分子的倾角平均值,d为液晶 层厚度, 为扭曲角 TN盒,光在盒内扭曲光需满足的条件变为:
Δnd>>λ/2被称为莫根条件,例如:d=3um,Δn=0.15,所以 Δnd=0.45um,满足莫根条件。 在莫根条件满足时,关态TN液晶盒内液晶分子形成的是一种扭曲结 构。当对两块玻璃片上的电极加一定大小的电压后,形成垂直于基 板方向的电场,由于Δε>0,液晶分子将随电场方向排列,扭曲结构 消失,导致旋光作用消失。
BOEHF 开发中心
-14-
Conf响应时间:
影响响应时间的因素:电压、旋转粘 度,介电各向异性、gap…
※CRT显像原理 ? 视觉残留、空间混色 Motion Blur
BOEHF 开发中心
-15-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——响应时间:
0 0 64 128 191 255 1.2 1.2 1.2 1.5 9.3 9 14.9 18.2 16.8 24.4 64 19.1 128 21.1 19.7 191 22.4 20.2 20.2 255 4.3 4.3 4.4 4.7
Note: 1. 改善GTG——Overdrive; 2. GLRT不能完全消除Motion Blur: (a) 无法对所有灰阶都进行OD; (b) Hold-type的特性.
BOEHF 开发中心
-17-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——响应时间:
MPRT: 运动图像响应时间(Moving/Motion Picture Response Time)是屏幕在播放动画时,人眼会 观察到的模糊程度。
BOEHF 开发中心
-18-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——响应时间:
为什么液晶显示存在flicker的问题? 液晶分子直流特性:不能够一直固定在某一个电压不变,不然时间久了,即使将 电压取消掉,液晶分子会因为特性的破坏而无法再因应电场的变化来转动,以形 成不同的灰阶。所以每隔一段时间,就必须将电压恢复原状,以避免液晶分子的 特性遭到破坏,但是,要长时间显示相同画面怎么办?
BOEHF 开发中心
-9-
Confidential
惠更斯作图法:
例:平行光垂直入射到光轴垂直界面的单轴负晶体上: AA’,BB’即为折射光,由惠更斯作图法可以看出,光沿着光轴传播时,折射光和入射光在 同一直线上,o光,e光不分开。
BOEHF 开发中心
-10-
Confidential
惠更斯作图法:
新员工培训 Cell光学基础介绍
BOEHF 开发中心
开发1部 Cell设计科 向贤明 2010年 07月 20日
合肥京东方光电科技有限公司
Contents
TN Type TFT_LCD液晶显示基本原理 TN Type TFT_LCD液晶显示的条件与光学性质 TN Type TFT_LCD液晶材料特性以及对器件光学性能的影响 色彩学在TFT_LCD液晶显示中的应用 常见几种液晶显示模式 Jones Matrix of TN Type TFT_LCD
1. 2. 3. 4. 5. 6.
BOEHF 开发中心
-2-
Confidential
1. TN Type TFT_LCD液晶显示基本原理
常白型TN液晶显示:
(被动发光器件)
BOEHF 开发中心
-3-
Confidential
TN type Active Matrix TFT_LCD pixel (Cst on common):
LC type Mj08412 Cell gap (um) 23 Area (mm2) 113 Volatge (V) Capacitance (pF) 0 155.390000 0.2 155.390000 0.4 155.350000 0.6 155.290000 0.8 155.360000 1 155.420000 ……. ……..
BOEHF 开发中心
-12-
Confidential
TN液晶盒穿透率特性及应用:
u=2△nd/λ
※为什么TN通常是Normally white ?
BOEHF 开发中心
-13-
Confidential
3. TN Type TFT_LCD液晶材料特性以及对器件电光特性的影响
液晶液体的流动性和晶体的各向异性; 液晶分类: • • • 按形成方式分类:热致液晶(浓致液晶、两性液晶…); 按几何形状分类:棒状分子(条状、碟状…); 按分子大小分类:小分子(高分子) ※为什么液晶显示器要用TN液晶 ? 理想液晶材料应具备的性能: • 对光、热、化学试剂的稳定性; • 较宽的向列相温度范围; • 较大的介电各向异性; • 合适的折射率各向异性; • 粘度小; • 高阻抗;
( no − ne ) d
= (2k + 1)λ / 4
二分之一波晶片(简称λ/2片),光程差满足:
(no − ne )d
= (2k + 1)λ / 2
= δ 相位差满足:
(2k + 1)π
•
快轴:传播速度快的光的振动方向(轴)。负晶体的e轴,正晶体的o轴。
•
慢轴:传播速度慢的光的振动方向(轴)。负晶体的o轴,正晶体的e轴。
300.0 250.0 200.0
capacitance
150.0 100.0 50.0 0.0 0 2 4 6 Voltage 8 10 12
Ɛ ~>变量
BOEHF 开发中心
-26-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——flicker:
各个灰阶有不同的feed through电压~,Vcom怎么选择? ??中间阶调?? ※为什么在中间阶调调Vcom/flicker? ※ 怎么减小feed through电压的影响?
BOEHF 开发中心
-22-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——视角:
液晶显示器从不同角度观察,其对比度存在差异。导致对 比度视角依赖性的原因是因为液晶双折射的视角依赖性:
光学补偿原理:
WV film--Fuji film
BOEHF 开发中心
-23-
Confidential
液晶材料对器件光学性能的影响——flicker: