半导体物理--第八章 半导体的光电性质及光电效应

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高二物理竞赛课件:半导体的光电效应

高二物理竞赛课件:半导体的光电效应

1.满足能量守恒和动量守恒,电子跃迁必然伴随声子的吸收或发射。
2.吸收能量较小,一般为红外吸收。
3.随着波长的增大,吸收强度增强。
杂质吸收
束缚在杂质能级上的电子或空穴也可以引起光的吸收。电子吸收光子跃迁到导 带;空穴吸收光子跃迁到价带,这种光吸收称为杂质吸收。
由于束缚态没有一定的准动量,电子(空穴)可以跃迁到任意的导带(价带) 能级,因而Fra bibliotek起连续的吸收光谱。
其它吸收过程
波长比本征吸收限λ0长的光波在半导体中往往也能被吸收,这说明除了本征吸 收外还存在其它的光吸收过程,主要有激子吸收,杂质吸收,自由载流子吸收和 晶格振动吸收等。
激子吸收
光子能量小于禁带宽度,价带电子受激发后跃出价带但是未进入导带,仍然受 到空穴的库伦场作用。受激电子和空穴束缚结合在一起,形成激子,这样的光吸 收称为激子吸收。
光电导为: q(nn pp )
实际半导体,本征吸收中,Δn= ΔP,但是并不是光生电子和光生空穴都对光 电导有贡献。
光照经过一定的时间才达到定态光电导;同样光照停止后,光电导逐渐消失。 这种光照下光电导率逐渐上升和光照停止后光电导率逐渐下降的现象,称为光电 导的弛豫现象。
2 PN结的光生伏特效应
激发方式包括:电致发光、光致发光和阴极发光等。
电子从高能级向低能级跃迁时,必然释放一定的能量,如果跃迁 过程伴随着放出光子,这种跃迁称为辐射跃迁。
半导体发光材料,辐射跃迁占优势。
辐射跃迁主要包括以下几种: 1.本征跃迁(带与带之间的跃迁)
导带电子跃迁到价带,与价带空穴相复合,伴随着发射光子,称 为本征跃迁。
发光效率
电子跃迁过程中,除了发射光子的辐射跃迁外,还存在无辐射跃迁。 无辐射复合机理比较复杂,主要有两种: 1.俄歇过程:电子从高能级向低能级跃迁时,将多余的能量传递给第三 个载流子,使其受激跃迁到更高能级。 2.发射热声子:电子和空穴复合,可以将能量转变为晶格振动能量。

半导体的光电效应

半导体的光电效应

半导体的光电效应发布日期:2008-04-25 我也要投稿!作者:网络阅读: 787[ 字体选择:大中小]一、半导体的能带结构按照量子力学理论,由于物质内原子间靠得很近,彼此的能级会互相影响,而使原子能级展宽成一个个能带。

又由于电子是费米子,遵从泡利不相容原理。

电子以能量大小为序,从基态开始,每个量子态上一个电子向上填充,直填到费米能εF为止。

再上面的能级都是空的。

被电子填满的能带叫满带。

满带中的电子如同很多人挤在一个狭小的空间,谁也动不了。

所以,虽然有许多电子,但是不能形成定向移动,因而满带中的电子不是载流子,是不能导电的。

全部空着的能带称为空带。

能带间的间隔叫带隙(用Eg表示)或禁带,禁带不允许有电子存在。

图1所示的是导体、绝缘体、半导体的能带结构示意图。

如图1(a)所示,导体的费米能级εF在一个能带的中央,该能带被部分填充。

由于能带的亚结构之间的能量相差很小,因此这时只需很少的能量(如一外加电场),就能把电子激发到空的能级上,形成定向移动的电流。

这正是具有这种能带结构的物质被称为导体的原因。

如果某一能带刚好被填满,它与上面的空带间隔着一个禁带,此时大于带隙间隔的能量才能把电子激发到空带上去。

一般带隙较大(大于10eV数量级)的物质,被称为绝缘体,如图1(b)所示;而带隙较小(小于1eV数量级)的物质,被称为半导体,如图1(c)所示。

半导体的费米能级位于满带与空带之间的禁带内,此时紧邻着禁带的满带称为价带,而上面的空带称为导带。

如果由于某种原因将价带顶部的一些电子激发到导带底部,在价带顶部就相应地留下一些空穴,从而使导带和价带都变得可以导电了。

所以半导体的载流子有电子和空穴两种。

可见,半导体介于导体与绝缘体之间的特殊的导电性是由它的能带结构决定的。

二、半导体的内光电效应当光照射到半导体表面时,由于半导体中的电子吸收了光子的能量,使电子从半导体表面逸出至周围空间的现象叫外光电效应。

利用这种现象可以制成阴极射线管、光电倍增管和摄像管的光阴极等。

《半导体物理学》课件

《半导体物理学》课件
重要性
半导体物理学是现代电子科技和信息 科技的基础,对微电子、光电子、电 力电子等领域的发展具有至关重要的 作用。
半导体物理学的发展历程
19世纪末期
半导体概念的形成,科学家开始认识到 某些物质具有导电性介于金属和绝缘体
之间。
20世纪中叶
晶体管的商业化应用,集成电路的发 明,推动了电子科技和信息科技的发
半导体中的热电效应
总结词
解释热电效应的原理及其在半导体中的应用。
详细描述
当半导体受到温度梯度作用时,会在两端产生电压差 ,这一现象被称为热电效应。热电效应的原理在于不 同温度下,半导体内部载流子的分布不同,导致出现 电势差。热电效应在温差发电等领域有应用价值,可 以通过优化半导体的材料和结构来提高热电转换效率 。
分析器件在长时间使用或恶劣环 境下的性能退化,以提高其可靠 性。
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06
半导体材料与工艺
半导体材料的分类和特性
元素半导体
如硅、锗等,具有稳定的化学性质和良好的半导 体特性。
化合物半导体
如砷化镓、磷化铟等,具有较高的电子迁移率和 光学性能。
宽禁带半导体
如金刚石、氮化镓等,具有高热导率和禁带宽度 大等特点。
半导体材料的制备和加工
气相沉积
通过化学气相沉积或物理气相沉积方法制备 薄膜。
05
半导体器件的工作原理
二极管的工作原理
总结词
二极管是半导体器件中最简单的一种 ,其工作原理基于PN结的单向导电性 。
详细描述
二极管由一个P型半导体和一个N型半 导体结合而成,在交界处形成PN结。 当正向电压施加时,电子从N区流向P 区,空穴从P区流向N区,形成电流; 当反向电压施加时,电流极小或无电流 。

半导体的光电效应

半导体的光电效应

光明电阻
光谱响应率 时间常数 线性 前历效应 温度特性 常用的光明电阻: 常用的光明电阻: 了解各种光明电阻的特性,用途,使用范围等 了解各种光明电阻的特性,用途,
光敏电阻的偏置电路
基本偏置电路图:
光 明 电 R
p
1 1 R= = G Gd + G p Gd 电 GP S g E S g Φ

RL
1 f = Am
f
A ( f )df
f


0
说明:噪声均方电流或均方电压时,用此等效带宽。
探测器的主要参数 响应率(积分灵敏度) 响应率(积分灵敏度)
Vs = Φ s
Sv

IS Sv = Φs
光谱响应率
探测器在波长为 λ的单色光照射下,输出 的电压 Vs (λ )或电流 I s (λ ) 与入射光功率 Φ S 之比:
E0 Ef
金属表面势垒 E0 W
Ef
W = E0 E f
半导体光电反射
E0
半导体的光电发射逸出供为:
EA
W
w = Eg + E A
(其中EA为电子亲和势) 为电子亲和势)
Eg 半导体光电发射
Ec Ef
注意:在光电效应里面: 注意 在光电效应里面:包括内电光与外电光 在光电效应里面 效应, 效应,都存在着一个阀值波长问题
Vb I = RL + R
P 2
RP VbS g R PV b I ≈ = Φ 2 2 (RL + RP ) (RL + RP ) R
P
= R
2 P
S
g
Φ
常用的偏置方法
恒流偏置:
RL >> RP时 I = S gVb ( RP 2 ) Φ RL

半导体的光学性质和光电与发光现象

半导体的光学性质和光电与发光现象

束缚在杂质能级上的电子或空穴也可以引起光的吸收。

电子可以吸收光子跃迁到导带能级;光电导灵敏度一般定义为单位光照度所引起的光电导。

复合和陷阱效应对光电导的影响少数载流子陷阱作用多数载流子陷阱作用本征光电导的光谱分布指对应于不同的波长,光电导响应灵敏度的变化关系。

杂质光电导对于杂质半导体,光照使束缚于杂质能级上的电子或空穴电离,因而增加了导带或价带的载流子浓度,产生杂质光电导。

4半导体的光生伏特效应当用适当波长的光照射非均匀半导体(pn结等)时,由于内建电场的作用(不加外电场),半导体内部产生电动势(光生电压);如将pn结短路,则会出现电流(光生电流)。

这种由内建场引起的光电效应,称为光生伏特效应。

pn结的光生伏特效应由于pn结势垒区内存在较强的内建场(自n区指向p区),结两边的光生少数载流子受该场的作用,各自向相反方向运动:p区的电子穿过pn结进入n区;n区的空穴进入p区,使p端电势升高,n端电势降低,于是pn结两端形成了光生电动势,这就是pn结的光生伏特效应。

光电池的电流电压特性5半导体发光1.处于激发态的电子可以向较低的能级跃迁,以光辐射的形式释放能量。

也就是电子从高能级向低能级跃迁,伴随着发射光子。

这就是半导体的发光现象。

2.产生光子发射的主要条件是系统必须处于非平衡状态,即在半导体内需要有某种激发过程存在,通过非平衡载流子的复合,才能形成发光。

3.发光过程:电致发光(场致发光)、光致发光和阴极发光。

其中电致发光是由电流(电场)激发载流子,是电能直接转变为光能的过程。

辐射跃迁从高能态到低能态:1.有杂质或缺陷参与的跃迁2.带与带之间的跃迁3.热载流子在带内跃迁上面提到,电子从高能级向较低能级跃迁时,必须释放一定的能量。

如跃迁过程伴随着放出光子,这种跃迁称为辐射跃迁。

光电效应原理

光电效应原理

光电效应原理光电效应是指当金属或半导体表面受到光照射时,会产生电子的释放现象。

这一现象在现代物理学中具有重要的意义,不仅为光电器件的应用提供了理论基础,也对光子的本质和光的粒子性质提供了重要的实验依据。

光电效应的基本原理可以用经典物理学和量子物理学两种理论来解释。

在经典物理学中,光被看作是一种波动,当光照射到金属表面时,光的能量被传递给金属中的自由电子,从而使得电子获得足够的能量跳出金属表面,形成电流。

而在量子物理学中,光被看作是由光子组成的粒子,光子的能量与光的频率成正比,当光子的能量大于金属的功函数时,光子会将其能量转移给金属中的电子,使得电子跳出金属表面。

无论是经典物理学还是量子物理学,光电效应的基本原理都可以用以下公式来描述:E = hf φ。

其中,E为光子的能量,h为普朗克常数,f为光的频率,φ为金属的功函数。

当光子的能量大于金属的功函数时,光电效应就会发生。

光电效应的实验结果表明,光电流的大小与光的强度成正比,与光的频率无关。

这一结果与经典物理学的波动理论相悖,但却与量子物理学的粒子理论相吻合。

这也为量子物理学的发展提供了重要的实验依据。

光电效应在现代科技中有着广泛的应用。

光电效应的发现为光电器件的发展提供了理论基础,如光电池、光电二极管等,这些器件在太阳能利用、光通信、光电显示等领域都有着重要的应用。

此外,光电效应的研究也为量子物理学的发展提供了重要的实验依据,对于人类对光和物质本质的认识具有深远的意义。

总之,光电效应作为现代物理学中的重要现象,不仅为光电器件的应用提供了理论基础,也为量子物理学的发展提供了重要的实验依据。

光电效应的研究不仅有着重要的科学意义,也有着广泛的应用前景。

随着科学技术的不断发展,相信光电效应在未来会有更广泛的应用和更深入的研究。

半导体的光学性质

半导体的光学性质

半导体的光学性质如果用适当波长的光照射半导体,那么电子在吸收了光子后将由价带跃迁到导带,而在价带上留下一个空穴,这种现象称为光吸收。

半导体材料吸收光子能量转换成电能是光电器件的工作基础。

光垂直入射到半导体表面时,进入到半导体内的光强遵照吸收定律:()01x x I I r e α-=-式中,x I 表示距离表面x 远处的光强;0I 为入射光强;r 为材料表面的反射率;α为材料吸收系数,与材料、入射光波长等因素有关.1 本征吸收半导体吸收光子的能量使价带中的电子激发到导带,在价带中留下空穴,产生等量的电子与空穴,这种吸收过程叫本征吸收.要发生本征光吸收必须满足能量守恒定律,也就是被吸收光子的能量要大于禁带宽度g E ,即g h E ν≥,从而有:00 1.24g g g E h hc E m eV E νλμ≥⇒≤=⋅其中h 是普朗克常量,ν是光的频率.c 是光速,ν0:材料的频率阈值,λ0:材料的波长阈值,下表列出了常见半导体材料的波长阀值。

几种重要半导体材料的波长阈值电子被光激发到导带而在价带中留下一个空穴,这种状态是不稳定的,由此产生的电子、空穴称为非平衡载流子。

隔了一定时间后,电子将会从导带跃迁回价带,同时发射出一个光子,光子的能量也由上式决定,这种现象称为光发射。

光发射现象有许多的应用,如半导体发光管、半导体激光器都是利用光发射原理制成的,只不过其中非平衡载流子不是由光激发产生,而是由电注入产生的。

发光管、激光器发射光的波长主要由所用材料的禁带宽度决定,如半导体红色发光管是由GaP 晶体制成,而光纤通讯用的长波长(1。

5μm )激光器则是由Ga x In 1-x As 或Ga x In 1-x As y P 1—y 合金制成的。

2非本征吸收非本征吸收包括杂质吸收、自由载流子吸收、激子吸收和晶格吸收等.2.1杂质吸收杂质能级上的电子(或空穴)吸收光子能量从杂质能级跃迁到导带(空穴跃迁到价带),这种吸收称为杂质吸收。

半导体的光电与发光现象

半导体的光电与发光现象

杂质吸收中的电子跃迁
杂质吸收曲线
5、晶格振动吸收 、
在晶体吸收光谱的远红外区,有时还发现一定的吸收带,这是晶格振动 吸收形成的。在这种吸收中,光子能量直接转换为晶格振动动能。
半导体的发光
半导体中的电子可以吸收一定能量的光子而被激发。同样,处于激发态的电子 也可以向较低的能级跃迁,以光辐射的形式释发能量,也就是电子从高能级向 低能级跃迁,伴随着发射光子,这就是半导体的发光现象。
2、激子吸收 、
实验发现,当光子能量 hv ≥ E g 时,本征吸收形成连续光谱。但在低温时, 在
hv p 时,也出现了一系列吸收线,并发现,对应于这些吸收线并不 Eg
伴有光电导。这种吸收并不引起价带电子直接激发到导带,而形成所谓 “激子吸收”
3、自由载流子吸收 、
与本征跃迁不同,自由载流子吸收中,电子从低能态到较高能态的跃迁是同一能 带内发生的,但也必须满足能量守恒和动量守恒关系。一般是红外吸收。
单位时间内产生的光子数 内部量子效率 = 单位时间内注入的电子 − 空穴对
外部量子效率 =
单位时间内发射到外部的光子数 单位时间内注入的电子 − 空穴对
半导体的光电与发光现象
光在导电媒质中传播时具有衰减现象,即产生光的吸收。半导体材料通常 能强烈地吸收光能,具有数量级为105cm-1的吸收系数。
当一定波长的光照射半导体材料时,电子吸收足够的能量,从价带跃迁到导 带。电子从低能带跃迁到高能带的吸收,相当于原子中的电子从能量较低的能 级跃迁到能级较高能级的吸收。
4、杂质吸收 、
束缚在杂质能级上的电子或空穴也可以引起光的吸收。电子可以吸收光子跃迁 到导带能级;空穴也同样可以吸收光子而跃迁到价带,这种光吸收称为杂质吸 收。
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(2)间接跃迁
跃迁前后能量改变为:
k k
E=E -E h
跃迁前后动量改变为:
hk=hk hq k k q
二. 其他吸收过程 (1)激子吸收 电子和空穴互相束缚形成 一个新的电中性系统。 特点: * h E g * 激子是电中性的。 * 激子能在晶体中运动。 * 激子消失形式:分离;复合
一. 本征吸收 价带电子吸收光子能量后,由价带跃迁到导带中, 这种光吸收过程称为本征吸收。
本征吸收条件: 长波限关系式:
h Eg
h 0=h c
0
=Eg
1.24 m 本征吸收的长波限: 0= Eg
显然,通过测量半导体材料的吸收光谱可以推算出 该材料的禁带宽度。
本征吸收引起的电子带间跃迁必须遵守能量和动 量守恒定律。假如电子跃迁前处于k状态,能量为E, 跃迁后处于k’状态,能量为E’。 由能量和动量守恒定律可得:
=qn0+n n+qp0+pp
附加光电导为:
=q(nn+pp )
实验证明,本征附加光电导往往是由其中一种光 生载流子(非平衡多子)起决定性作用。这是因为非 平衡多子有较长的自由存在时间,而非平衡少子往 往被深杂质能级陷阱住。
因此,对p型半导体有: 附加光电导表示为: 对n型半导体有: 附加光电导表示为:
解得: I ( x) I 0 exp(x) 光强I:单位时间通过单位面积的光子数,即光子流密度。 物理意义:光入射到半导体内被吸收,使光强减小到原值 的1/e时,光波所传播的距离即是吸收系数的倒数。

由电磁理论中麦克斯韦方程组可解得:
2k 4k 所以,吸收系数为: = = c 二、反射系数R和透射系数T
E h h a=E
hk+光子动量 hq=hk
通常, h h a 光子的动量比 hq 小得多,所以
E h=E hk hq=hk
(1)直接跃迁
一个电子只吸收 一个光子,不与 晶格交换能量。
跃迁前后能量改变为:
E=E -E h
跃迁前后动量没有改变:
hk hk
p n =pqp
n p
=nqn
注:光照引起杂质能级上的电子或空穴受激电离也 会产生附加光电导,但相对微弱。
二.
定态光电导及其弛豫过程
定态光电导:稳定光照下半导体所达到的稳定光电导 .
(1)直线性光电导 (小注入--

是定值)
无外场作用时,光照下光生非平衡载流子浓度随 时间的变化率应等于其产生率减去其复合率.
ps=Ip
入时,定态光电导与 光强成线性关系。
同理:
光照稳定状态下的定态光电导为:
s=qI n n+p p
假设
n p
光电导上升过程的函数表示式为:
t = s 1 -exp-

光电导的驰豫现象:光照下光电导率逐渐上升和光照停上后 光电导率逐渐下降的现象。
dnt nt 对非平衡电子: =I- dt n
由初始条件t=0, n=0 ,方程的特解为:
t nt = n I 1-exp - n
这就是光照开始到稳态,光生载流子的变化曲线。 当
t 时,光生载流子达到稳定值 直线性光电导:小注 ns=In
同理可得到光电导变化过程的表达式:
t = s exp-
(2)抛物线性光电导 ( 强注入--

不是定值 )
不考虑复合中心和陷阱的情况下,非平衡载流子(电子) 只有直接复合,其复合率为:源自U=rnn0+p0 +rn
2
当小注入时,复合率与非平衡载流子的浓度成正比, 称为单分子复合过程。 当强注入时,复合率与非平衡载流子的浓度的平方 成正比,称为双分子复合过程。 在强注入下,光生载流子的变化符合下述方程:
• 8.1 半导体的光学常数 • 8.2 半导体的光吸收 • 8.3 半导体的光电导
半导体的光电导 一. 光电导的描述 由光照使半导体产生电子或空穴,引起半导体的 电导率增加的现象称光电导。 暗电导率:
0=qn 0 n+p0 p
设光注入的附加载流子浓度分别为: n 和 p 半导体电导率为:
dnt 2 =I -r n dt
(上升过程)
dn t 2 =r n (下降过程) dt
光照停止后非平衡载流子产生率为零,非平衡载 流子的变化过程可描述为: dnt nt =- dt n 利用初始条件: t=0, n=ns=I n 可解得光生载流子浓度变化表示式为: ;
t t nt = n I exp - =ns exp - n n
2kx I I 0 exp( ) c
R为反射能流密度(光强度)与入射能流密度之比 2 n-1 +k 2 R 2 n+1 +k 2 T为透射能流密度与入射能 流密度之比,由图可知:
T 1 -R exp-ad
2
第八章 半导体的光电性质及光电效应
• 8.1 半导体的光学常数 • 8.2 半导体的光吸收 • 8.3 半导体的光电导
半导体物理
第八章 半导体的光电性质及光电效应
华南理工大学电子与信息学院
第八章 半导体的光电性质及光电效应
• 8.1 半导体的光学常数 • 8.2 半导体的光吸收 • 8.3 半导体的光电导
半导体的光学常数
一、半导体的光吸收系数
光吸收:光子与半导体 中的微粒子相互作用而 引起的能量传递过程。 光衰减过程可描述为: dI I ( x ) dx
(2)自由载流子吸收 电子在导带中不同能级间的跃迁,或空穴 在价带中不同能级间的跃迁。
(3)杂质吸收
杂质能级上的电子(或空穴)吸收光子跃迁到导带 (或价带)能级中,称为杂质吸收。 所以吸收的长波限为: h c =E i
0
(4)晶格吸收 光子能量直接转换为晶格振动能。
第八章 半导体的光电性质及光电效应
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